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Dokumentenidentifikation DE69010595T2 01.12.1994
EP-Veröffentlichungsnummer 0415252
Titel Vorrichtung zur Bildung einer dünnen Schicht.
Anmelder Taiyo Yuden Co., Ltd., Tokio/Tokyo, JP
Erfinder Sekiguchi, Mikio, c/o Taiyo Yuden Co., Ltd., Taito-ku, Tokyo 110, JP;
Imai, Mizuho, c/o Taiyo Yuden Co., Ltd., Taito-ku, Tokyo 110, JP;
Shiba, Nobuyasu, c/o Taiyo Yuden Co., Ltd., Taito-ku, Tokyo 110, JP;
Iida, Hideyo, c/o Taiyo Yuden Co., Ltd., Taito-ku, Tokyo 110, JP
Vertreter Stahlberg, W., Rechtsanw.; Hoormann, W., Dipl.-Ing. Dr.-Ing., 28209 Bremen; Goddar, H., Dipl.-Phys. Dr.rer.nat.; Liesegang, R., Dipl.-Ing. Dr.-Ing., Pat.-Anwälte, 80801 München; Kuntze, W.; Kouker, L., Dr., Rechtsanwälte; Winkler, A., Dr.rer.nat., Pat.-Anw.; Huth, M., Rechtsanw., 28209 Bremen; Tönhardt, M., Dipl.-Phys. Dr.rer.nat., Pat.-Anw., 40593 Düsseldorf; Ebert-Weidenfeller, A., Dr. jur., 28209 Bremen; Nordemann, A., Dr.jur., 28717 Bremen; Nordemann, W., Prof. Dr.; Vinck, K., Dr.; Hertin, P., Prof. Dr.; vom Brocke, K., 10719 Berlin; Omsels, H., 80801 München; Hummel, H.; Pasetti, M., Dr., 10719 Berlin; Titz, G., Rechtsanwälte, 04103 Leipzig
DE-Aktenzeichen 69010595
Vertragsstaaten DE, FR
Sprache des Dokument En
EP-Anmeldetag 22.08.1990
EP-Aktenzeichen 901160739
EP-Offenlegungsdatum 06.03.1991
EP date of grant 13.07.1994
Veröffentlichungstag im Patentblatt 01.12.1994
IPC-Hauptklasse B05B 13/00
IPC-Nebenklasse C03C 17/00   

Beschreibung[de]

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Bilden von dünnen Filmen und genauer eine Vorrichtung zum Bilden von dünnen Filmen, die einen dünnen Film über der Fläche eines Substrates ausbildet, indem eine zerstäubte Ausgangslösung über die Fläche des erhitzten Substrates gesprüht wird.

Eine herkömmliche Vorrichtung zum Bilden dünner Filme eines Sprühsystems sprüht eine Ausgangslösung, die zuvor präpariert worden ist, über die Fläche eines Substrates, um einen dünnen Film über der Fläche des Substrates auszubilden. Die Vorrichtung zum Bilden von dünnen Filmen ist mit einem Zerstäuber zum Zerstäuben einer Ausgangslösung, die zuvor präpariert worden ist, einer Düse, die oberhalb des Zerstäubers angeordnet ist, um die zerstäubte Ausgangslösung in eine Filmbildungskammer zu spritzen, und einer Ausstoßleitung, die mit der Filmbildungskammer verbunden ist, versehen. Der Zerstäuber umfaßt ein Nebelgehäuse und eine Sprüheinrichtung, die in dem Nebelgehäuse angeordnet ist. Nur ein Nebel mit vergleichsweise kleinen Tröpfchen der Ausgangslösung wird durch die Düse in die Filmbildungskammer gespritzt, und dann wird der Nebel durch die Ausstoßleitung aus der Filmbildungskammer ausgelassen.

Substrate, die in Folge in einer Reihe angeordnet sind, werden mit einer gegebenen Geschwindigkeit aus einer Vorheizkammer durch die Filmbildungskammer zu einem Ausgang bewegt. Während sie durch die Vorheizkammer, die Filmbildungskammer und den Ausgang bewegt werden, werden die Substrate mit einem Heizer erhitzt, der gegenüber den Rückseiten der Substrate angeordnet ist. Während der Nebel der Ausgangslösung durch die Filmbildungskammer entlang den Flächen der erhitzten Substrate strömt, reagiert das in der Lösung enthaltene Material mit Sauerstoff, der in der Luft oder der Feuchtigkeit der Ausgangslösung enthalten ist, und ein erzeugtes Oxyd lagert sich auf den Flächen des Substrates als ein dünner Film ab.

Diese herkömmliche Vorrichtung zum Bilden dünner Filme ist aus der JP-A 69 962/1986 und aus der äquivalenten FR-A 2 570 085 bekannt und trägt und führt das Substrat an seinen gegenüberliegenden Seitenkanten durch die Seitenwände der Filmbildungskammer. Der Abstand zwischen den Seitenwänden der Filmbildungskammer entspricht der Breite des Substrates. Daher ist die Vorrichtung zum Bilden dünner Filme nicht in der Lage, Substrate zu verarbeiten, die eine Breite haben, die sich von einer bestimmten Breite unterscheidet, welche dem Abstand zwischen den Seitenwänden der Filmbildungskammer entspricht.

Die herkömmliche Vorrichtung zum Bilden dünner Filme hat einen Nachteil beim Bilden eines dünnen leitenden Filmes über der Fläche eines Substrates, so wie eines Glassubstrates, bei dem die Dicke des transparenten leitenden Filmes am Umfangsabschnitt im Vergleich zu dem Mittelabschnitt sehr klein ist, wie in Figur 5 (b) gezeigt. Es wird gefolgert, daß ein solcher Nachteil auf die Tatsache zurückzuführen ist, daß die Flußrate pro Einheit Flußdurchgangsfläche des Nebels in der Umgebung der gegenüberliegenden Seitenkanten des Substrates, insbesondere im rückwärtigen Abschnitt der Filmbildungskammer, durch den Widerstand der Seitenwände verkleindert wird, und somit ist die Flußrate des Nebels in der Umgebung der Seitenkante des Substrates kleiner als die des Nebels in dem Mittelabschnitt des Substrates.

Ein solcher transparenter, leitender Film mit unregelmäßiger Dicke bildet Interferrenzränder an den gegenüberliegenden Seiten des Substrates. Ein solcher transparenter, leitender Film ist im Erscheinungsbild unbefriedigend, und die dünneren Abschnitte des transparenten, leitenden Films, der an den gegenüberliegenden Seiten des Substrates gebildet ist, haben nicht die geforderten Eigenschaften. Demgemäß müssen die gegenüberliegenden Seitenabschnitte des Substrates, wo die Dicke des transparenten, leitenden Film außerordentlich klein ist, entfernt werden. Wenn beispielsweise ein Zinnoxydfilm über der Fläche eines Glassubstrates mit der herkömmlichen Vorrichtung zum Bilden dünner Filme gebildet wird, beträgt die Breite der Seitenabschnitte, in denen der Unterschied der Dicke des Zinnoxydfilms von der Dicke des Zinnoxydfilms, der in dem Mittelabschnitt des Substrates gebildet ist, ± 5% ist, so viel wie 30% der Breite der effektiven Filmbildungsfläche des Substrates, die die gegenüberliegenden Seitenkanten des Substrates nicht umfassen, die von den Seitenwänden getragen werden. Daher ist die Breite des praktisch verwendbaren Gebietes des Substrates nur 70% der Breite der effektiven Bildungsfläche. Somit ist die herkömmliche Vorrichtung zum Bilden dünner Filme in der Ausbeute nicht befriedigend.

Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung zum Bilden dünner Filme zur Verfügung zu stellen, die in der Lage ist, einen dünnen Film mit gleichförmiger Dicke über der gesamten Fläche eines Substrates, einschließlich der Seitenabschnitte des Substrates, auszubilden.

Diese Aufgabe wird von einer Vorrichtung wie in Anspruch 1 beansprucht gelöst.

Bei der vorliegenden Erfindung umfaßt eine Vorrichtung zum Bilden dünner Filme einen Zerstäuber zum Zerstäuben einer Ausgangslösung, versehen mit einer Düse, einer Filmbildungskammer, die sich zwischen einem Nebeleinlaß, durch den ein Nebel, welcher durch Zerstäuben der Ausgangslösung erzeugt worden ist, in die Filmbildungskammer geliefert wird, und einem Nebelauslaß, durch den der Nebel, der in die Filmbildungskammer eingegeben worden ist, ausgestoßen wird, erstreckt, Substrat-Zufuhrmitteln zum Einleiten des Substrates, so daß die Filmbildungsfläche des Substrates die Decke der Filmbildungskammer definiert, einem Heizer zum Erhitzen des Substrates und einem Paar von Führungselementen zum Tragen und Führen des Substrates an dessen gegenüberliegenden Abschnitten. Der Abstand zwischen dem Paar von Führungselementen kann einstellbar sein, insbesondere kann er auf die Breite des Substrates eingestellt werden, und somit sind die Führungselemente in der Lage, ein Substrat einer optionalen Breite zu tragen und zu führen, wenn ein dünner Film über der Fläche des Substrates gebildet wird. Somit kann die Vorrichtung zum Bilden dünner Filme zum Ausbilden dünner Filme auf Substraten unterschiedlicher Breiten verwendet werden und ist in der Lage mit einer hohen Betriebsgeschwindigkeit zu arbeiten.

Wenigstens eines der Paare von Führungselementen kann in bezug auf eine Richtung entlang der Breite des Substrates bewegbar sein, um den Abstand zwischen dem Paar von Führungselementen einzustellen.

Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung werden die Substrate innerhalb der Filmbildungskammer mit ihren Filmbildungsflächen im wesentlichen in einer horizontalen Position getragen.

Gemäß der Erfindung ist eine Vorrichtung zum Bilden dünner Filme mit einem Paar von Führungselementen zum Tragen und Führen eines Substrates an dessen gegenüberliegenden Seitenabschnitten versehen und ist dadurch gekennzeichnet, daß die gegenüberliegenden Seitenflächen der Führungselemente, die sich unterhalb der gegenüberliegenden Substrat-Stützflächen desselben erstrecken, voneinander weggeneigt sind.

Im allgemeinen ist die Flußrate pro Einheit Flußdurchlaßfläche eines Nebels der Ausgangslösung in der Umgebung der Seitenwände der Filmbildungskammer kleiner als in dem Mittelabschnitt der Filmbildungskammer, wegen des Widerstandes der Flächen der Seitenwände gegen den Strom des Nebels der Ausgangslösung. Jedoch sind die unteren Seitenflächen der Führungselemente, die sich unterhalb der Substrat-Stützflächen derselben erstrecken, voneinander weggeneigt, so daß der Abstand zwischen den unteren Seitenflächen von den oberen Enden zu den unteren Enden der unteren Seitenflächen hin zunimmt, so daß die Flußrate pro Einheit Flußdurchlaßfläche im wesentlichen gleichmäßig über der gesamten Fläche des Substrates ist. Somit ist die Vorrichtung zum Bilden dünner Filme in der Lage, einen dünnen Film einer gleichförmigen Dicke über der Oberfläche des Substrates zu bilden und ist in der Lage, mit einer hohen Ausbeute zu arbeiten.

Figur 1 ist eine fragmentarische Längsschnittansicht einer Vorrichtung zum Bilden dünner Filme in einer ersten Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung;

Figuren 2 (a) und 2 (b) sind Schnittansichten entlang der Linie A-A in Figur 1, wobei die Ausführungsform der gegenüberliegenden Innenflächen der Substrat-Stütz- und Führungselemente nicht in den Rahmen der angefügten Ansprüche fällt;

Figuren 3 (a) und 3 (b) sind Schnittansichten entlang der Linie B-B in Figur 1;

Figuren 4 (a), 4 (b) und 4 (c) sind Schnittansichten einer Vorrichtung zum Bilden dünner Filme in einer zweiten Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung, ähnlich den Figuren 2 (a) und 2 (b); und Figuren 5 (a) und 5 (b) sind graphische Darstellungen, die die Änderungen der Dicke eines dünnen Filmes zeigen, der über die Fläche eines Substrates mit dem Abstand von einer Seitenkante des Substrates gebildet ist.

Die bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden hiernach mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben, wobei die Figuren 2 (a) und 2 (b) ausgenommen sind.

Es wird sich auf Figur 1 bezogen, in der eine Vorrichtung zum Bilden dünner Filme mit einem Zerstäuber 1 zum Zerstäuben einer Ausgangslösung versehen ist. Eine Düse 3 ist an der oberen Wand des Zerstäubers 1 angebracht, um einen Nebel, der durch Zerstäuben der Ausgangslösung erzeugt worden ist, nach oben in eine Filmbildungskammer 4 zu spritzen, die über dem Zerstäuber 1 angeordnet ist. Eine Ausstoßleitung 5 ist mit dem rechten Ende, wenn wie in Figur 1 gesehen wird, der unteren Wand der Filmbildungskammer 4 verbunden. Der Nebel der Ausgangslösung, der durch die Düse 3 zur Filmbildungskammer 4 geliefert wird, strömt durch die Filmbildungskammer 4 und wird durch die Ausstoßleitung 5 ausgestoßen. Die Filmbildungskammer 4 wird durch eine Trennwand 10 von einer Vorheizkammer 12 getrennt. Eine Nebelführung 11 trennt die Filmbildungskammer 4 von einer Substrat-Zufuhrkammer 13 und leitet den Nebel in Richtung auf die Ausstoßleitung 5.

Wie es in den Figuren 2 (a) und 2 (b) gezeigt ist, hat die Filmbildungskammer 4 die Form eines Tunnels, definiert durch eine Heizstelle 7, die eine Bodenwand bildet, und Führungselemente 14 und 15, die auf den gegenüberliegenden Seiten der Heizstelle 7 stehen und gegenüberliegende Seitenwände bilden. Stützrippen 21 und 22 zum Tragen eines Substrates 6 an den gegenüberliegenden Seiten desselben erstrecken sich jeweils von gegenüberliegenden Seitenflächen der Führungselemente 14 und 15. Das Substrat 6, das auf den Stützrippen 21 und 22 der Führungselemente 14 und 15 getragen ist, bildet die obere Wand der Filmbildungskammer 4. Eine Vielzahl von Substraten 6 ist in Folge in einer Reihe angeordnet und wird mit einer gegebenen Geschwindigkeit durch die Filmbildungskammer von dieser Seite in Richtung auf die andere Seite bewegt, wie es in den Figuren 2 (a) und 2 (b) gesehen wird (von der linken zu der rechten Seite, wenn es wie in Figur 1 gesehen wird). Eine Ausgleichsplatte 8 ist über den Substraten 6 so angeordnet, daß sie sich von der Vorheizkammer 12 durch die Filmbildungskammer 4 und die Substrat-Zufuhrkammer 13 erstreckt. Ein Heizelement 9 ist über der Ausgleichsplatte 8 angeordnet, um die Substrate auf eine gegebene Temperatur zu erhitzen.

Es wird Bezug auf die Figuren 2 (a) und 2 (b) genommen, wo Führungsschienen 18 entlang den gegenüberliegenden Seiten der Heizstelle 7 entlang der Förderrichtung der Substrate 6 gelegt sind. Eine zweistufige Nut 17 ist in der oberen Fläche der Heizstelle 7 gebildet, und eine Heizplatte 16 ist in den oberen Abschnitt der Nut 17 eingepaßt. Die Heizplatte 16 kann entfernt werden, um ein Führungsschienenelement 19 in den unteren Abschnitt der Nut 17 einzupassen, wie in Figur 2 (b) gezeigt. Das Führungsschienenelement 19 ist an seiner oberen Fläche mit einer Führungsschiene 20 ähnlich den Führungsschienen 18 der Heizstelle 7 versehen.

Wenn die Führungselemente 14 und 15 auf die Führungsschienen 18 gelegt werden, die auf den gegenüberliegenden Seiten der Heizstelle 7 vorgesehen sind, wie es in den Figuren 2 (a) und 3 (a) gezeigt ist, können Substrate 6 mit einer vergleichsweise großen Breite auf den Führungselementen 14 und 15 getragen werden. In diesem Zustand ist die Heizplatte 16 in den oberen Abschnitt der Nut 17 eingepaßt, um die obere Fläche der Heizstelle 7 eben zu machen und um einen Spalt einer festen Höhe zwischen der oberen Fläche der Heizplatte 16 und der unteren Fläche des Substrates 6 einzurichten.

Wenn die Heizplatte 16 entfernt wird, wird das Führungsschienenelement 19 in den unteren Abschnitt der Nut 17 eingepaßt, und das Führungselement 14 wird auf die Führungsschiene 20 des Führungsschienenelementes 19 gelegt, wie in den Figuren 2 (b) und 3 (b) gezeigt, so daß Substrate 6 mit einer vergleichsweise geringen Breite auf den Führungselemente 14 und 15 getragen werden können. In diesem Zustand wird eine Heizplatte 16' mit derselben Dicke wie der der Heizplatte 16 und mit einer Breite, die geringer ist als die der Heizplatte 16, in die unbelegten Flächen dere oberen Abschnitte der Nut 17 der Heizstelle 7 eingepaßt, um denselben Spalt zu bilden, wie den, der in den Figuren 2 (a) und 3 (a) gezeigt ist.

Die Figuren 3 (a) und 3 (b) sind Schnittansichten eines Teiles der Vorrichtung zum Bilden dünner Filme, bei der die Spritzöffnung der Düse 3 sich in die Filmbildungskammer 4 öffnet. Beim Bilden eines dünnen Films auf Substraten 6 mit einer vergleichsweise geringen Breite wird die Breite der Spritzöffnung der Düse 3 verkleinert, indem ein Breiteneinstellelement 23 auf einer Seite der Spritzöffnung der Düse 3 angeordnet wird, wie in Figur 3 (b) gezeigt.

Die gegenüberliegenden unteren Flächen der Stützrippen 21 und 22 sind vertieft und haben einen Abstand voneinander, so daß der Abstand zwischen den unteren Flächen der Stützrippen 21 und 22 von den oberen Enden zu den unteren Enden der unteren Flächen 21 und 22 zunimmt. Folglich ist der Nebel der Ausgangslösung, der entlang der gegenüberliegenden Seiten der Substrate 6 strömt, weniger dem Widerstand der Seitenflächen der Führungselemente 14 und 15 gegen den Strom des Nebels ausgesetzt, und somit ist der Unterschied in der Stromrate pro Einheit Flußdurchlaßfläche des Nebels zwischen einem Teil der Filmbildungskammer um den Mittelabschnitt des Substrates und Teilen derselben um die Seitenkanten des Substrates 6 herum nicht sehr groß. Demgemäß wird ein dünner Film einer gleichförmigen Dicke über der gesamten Fläche des Substrates 6 gebildet, und die Dicke von Abschnitten des dünnen Filmes nahe des Seitenkanten des Substrates 6 ist nicht dünner als die eines Abschnittes des dünnen Filmes um den Mittelabschnitt des Substrates 6.

Ein Zinnoxydfilm, d.h. ein transparenter, leitender Film, wurde auf dem Glassubstrat 6 mit der Vorrichtung zum Bilden dünner Filme gebildet, die mit den Führungselementen 14 und 15 mit Stützrippen 21 und 22 mit geneigten unteren Flächen versehen ist. Die Dicke des Zinnoxydfilmes, der in einer 200 mm breiten Filmbildungsfläche gebildet worden ist, nämlich einer Fläche auf der Oberfläche des Glassubstrates 6, der die Kantenabschnitte ausschloß, die auf den Führungselementen 14 und 15 auflagen und nicht dem Nebel der Ausgangslösung ausgesetzt war, wurde gemessen. Die gemessenen Ergebnisse sind in Figur 5 (a) gezeigt. Figur 5 (a) zeigt die Änderung der Dicke des Zinnoxydfilms mit dem Abstand über der Breite des Glassubstrates 6 von einer Seite der Filmbildungsfläche.

Die Ausgangslösung war eine Mischlösung aus 15% SnCl&sub4;, 200% mol NH&sub4;F und 5% Alkohol. Die Ausgangslösung wurde mit einer Zerstäubungsrate von 1 l/Stunde zerstäubt, und der Nebel der Ausgangslösung wurde durch die Düse 3 zu der Filmbildungskammer 4 zusammen mit Luft geliefert, die mit einer Rate von 1 l/min geliefert wurde. Das Substrat 6 wurde durch die Filmbildungskammer in drei Minuten geführt.

Ein Zinnoxydfilm wurde als Kontrolle unter denselben Filmbildungsbedingungen gebildet, mit der Ausnahme, daß die Vorrichtung zum Bilden dünner Filme mit Führungselementen versehen war, die gegenüberliegende, vertikale, flache Flächen hatte. Die Verteilung der gemessenen Werte der Dicke des Zinnoxydfilmes über die Breite des Substrates ist in Figur 5 (b) gezeigt.

Das Verhältnis der Breite eines Abschnitt des Zinnoxydfilms, bei der die Änderung der Dicke des Zinnoxydfilms von der mittleren Dicke des Zinnoxydfilms, der in dem Mittelabschnitt der Filmbildungsfläche gebildet ist, innerhalb von 5% liegt, zu der Breite der Filmbildungsfläche betrug ungefähr 85% für den Zinnoxydfilm, der durch die Vorrichtung zum Bilden dünner Filme der vorliegenden Erfindung gebildet worden ist (Figur 2 (a)) und betrug nur etwa 70% für den Zinnoxydfilm, der mit der Vorrichtung zum Bilden dünner Filme gebildet worden war, der mit den Führungselementen mit gegenüberliegenden, vertikalen, flachen Flächen versehen ist.

Wünschenswerterweise liegt die Höhe der Filmbildungskammer 4, nämlich der Abstand zwischen der Filmbildungsfläche des Substrates 6 und der oberen Fläche der Heizplatte 16 (16') in dem Bereich von 5 bis 80 mm, um es zu ermöglichen, daß der Nebel der Ausgangslösung die Filmbildungsfläche des Substrates 6 für die Reaktion mit einer hohen Wahrscheinlichkeit berührt. Somit ermöglicht es die Filmbildungskammer 4 mit einer Höhe in dem Bereich von 5 bis 80 mm, daß eine geringe Menge der Ausgangslösung mit einer hohen Reaktionsrate reagiert und einen dünnen Film befriedigender Qualität bildet.

Das Tragen des Substrates 6 in der Filmbildungskammer 4 mit seiner Filmbildungsfläche in einer horizontalen Position sorgt für eine Filmbildungsrate über der gesamten Länge der Filmbildungskammer 4. Somit kann ein homogener dünner Film bei einer vergleichsweise geringen Temperatur gebildet werden, wenn die Länge der Filmbildungszone, nämlich die Größe der Filmbildungszone in bezug auf die Bewegung des Substrates, in dem Bereich von 50 bis 300 cm liegt.

Die Figuren 4 (a), 4 (b) und 4 (c) zeigen eine Vorrichtung zum Bilden dünner Filme in einer zweiten Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung. Diese Vorrichtung zum Bilden dünner Filme ist mit Führungselementen 14 und 15 zum Tragen und Führen eines breiteren Substrates 6 versehen. Beim Tragen eines schmaleren Substrates 6 wird das Führungselement 14, wenn es durch ein anderes Führungselement 14' mit einer Breite größer als der des Führungselementes 14 ersetzt wird (Figure 4 (b)), oder ein zusätzliches Führungselement 14" mit dem Führungselement 14 kombiniert (Figure 4 (c)), anstatt das Führungselement 14 zu verschieben. Natürlich ist es auch möglich, beide Führungselemente 14 bzw. 15 gegen Führungselemente mit einer Breite, die größer ist als die der Führungselemente 14 und 15, auszutauschen oder beide Führungselemente 14 bzw. 15 mit den zusätzlichen Führungselementen zu kombinieren.


Anspruch[de]

1. Vorrichtung zum Bilden eines dünnen Films, mit einem Zerstäuber (1) zum Zerstäuben einer Ausgangslösung; einer Filmbildungskammer (4); einer Düse (3), die an dem Zerstäuber (1) befestigt ist und eine Spritzöffnung hat, die sich in die Filmbildungskammer (4) an einem Ende derselben öffnet, um einen Nebel, der durch Zerstäuben der Ausgangslösung gebildet worden ist, in die Filmbildungskammer (4) auszuspritzen; eine Ausstoßleitung (5), die mit dem anderen Ende einer Filmbildungskammer (4) verbunden ist; Substrat-Zufuhrmittel zum Einleiten von Substraten (6) in die Filmbildungskammer (4), so daß die jeweiligen Filmbildungsflächen der Substrate (6) die Decke der Filmbildungskammer (4) bilden; Heizmittel (9) zum Erhitzen der Substrate (6) in der Filmbildungskammer (4); und ein Paar von Führungselementen (14, 15), die einander gegenüberliegend nahe den gegenüberliegenden Seiten der Filmbildungskammer (4) angeordnet sind, um die Substrate (6) zu tragen und zu führen; dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen den jeweiligen unteren Abschnitten der gegenüberliegenden Innenflächen des Paares von Führungselementen (14, 15), die sich unterhalb der Substrate (6) erstrecken, größer ist als der Abstand zwischen den jeweiligen oberen Abschnitten der gegenüberliegenden Innenflächen des Paars von Führungselementen (14, 15), die die Substrate (6) tragen und führen.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen dem Paar von Führungselementen (14, 15) einstellbar ist.

3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eines des Paares von Führungselementen (14, 15) in Richtungen entlang der Breite der Substrate bewegbar ist, die in die Filmbildungskammer (4) eingeleitet werden.

4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Substrate (6) in der Filmbildungskammer (4) mit ihren Filmbildungsflächen im wesentlichen in horizontaler Lage getragen sind.







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