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Dokumentenidentifikation DE69311953T2 05.03.1998
EP-Veröffentlichungsnummer 0566995
Titel Spritzstreckblasverfahren und Vorrichtung
Anmelder Nissei ASB Machine Co., Ltd., Komoro, Nagano, JP
Erfinder Takada, Minoru, Ueda-shi, Nagano-ken, JP;
Satoh, Kouichi, Ueda-shi, Nagano-ken, JP;
Yokobayashi, Kazuyuki, Ueda-shi, Nagano-ken, JP;
Ogihara, Shuichi, Komoro-shi, Nagano-ken, JP
Vertreter Weber & Heim Patentanwälte, 81479 München
DE-Aktenzeichen 69311953
Vertragsstaaten DE, FR, GB, IT
Sprache des Dokument En
EP-Anmeldetag 15.04.1993
EP-Aktenzeichen 931061519
EP-Offenlegungsdatum 27.10.1993
EP date of grant 09.07.1997
Veröffentlichungstag im Patentblatt 05.03.1998
IPC-Hauptklasse B29C 49/06
IPC-Nebenklasse B29C 49/42   

Beschreibung[de]
HINTERGRUND DER ERFINDUNG Bereich der Erfindung:

Die Erfindung betrifft ein Vorformling-Spritzgieß- und Streckblasverfahren und eine Vorrichtung zur kontinuierlichen Durchführung zumindest eines Verfahrensschritts des Spritzgießens, des Blasformens und des Auswerfens eines Vorformlings (Rohling) ständig in einer Stufe.

Beschreibung des Standes der Technik:

Eine typische Einzelstations-Blasformvorrichtung derartigen Typs ist in der japanischen Patentschrift Nr. Sho 53-22069 offenbart. Die Vorrichtung weist ein Maschinenbett mit jeweils einer Spritzgießstation, einer Temperaturregulierungsstation, einer Blasformungsstation und einer Auswurfstation auf, die an vier Seiten des Bettes angeordnet sind. Die Vorrichtung weist ferner eine drehbar oberhalb des Bettes angeordnete Drehscheibe auf. Die Drehscheibe weist vier Halsplatten auf, die an vier Stellen der Drehscheibe angeordnet sind. Die Halsplatte trägt eine Vielzahl von Halsformen, jede zum Halten eines Halses eines Vorformlings oder einer Flasche. Wenn die Drehscheibe schrittweise jeweils 90 gedreht wird, werden die vier Halsplatten sequentiell zu den jeweiligen Stationen bewegt.

Die japanische Patentoffenlegung Nr. Hei 1-275122 beschreibt eine Verbesserung der vorangehend erwähnten Vorrichtung zur Erhöhung der Produktivität pro Zeiteinheit. Bei der verbesserten Vorrichtung sind zwei Bahnen von Halsplatten an der Rotationsscheibe an jeder der vier Stellen darin angeordnet.

Die japanische Patentschrift Nr. Sho 64-3657 beschreibt ein System zum Transportieren einer Vielzahl von Halsform-Bewegungseinheiten entlang einer linearen Bahn anstelle der Drehscheibe. Das System weist eine Spritzgießstation, eine Temperaturregulierungsstation und eine Blasformungsstation auf, welche in einer Linie angeordnet sind. Jede der Halsform-Bewegungseinheiten wird asynchron mit dem Spritzgießzyklus bewegt, um das Festsetzen der Formungszeit zu erleichtem.

In diesem Zusammenhang ist die Flaschenproduktivität pro Zeiteinheit in der Blasformungsvorrichtung abhängig von der Arbeitsgeschwindigkeit der Blasformen in der Blasformungsstation. Es wurde hervorgehoben, daß die vorausgehend erwähnte Blasformungsvorrichung vom Einzelstationstyp eine niedrigere Produktivität als die Blasformungsvorrichtung vom Zweistationentyp besitzt. Die Blasformungsvorrichtung vom Zweitstationentyp weist eine Station zum Spritzgießen eines Vorformlings und eine andere getrennte Station zum Blasformen einer Flasche auf, welche aus dem Vorformling der Spritzgießstation geformt wird. Die Blasformungsvorrichtung vom Zweistationentyp kann einen Vorformling der Blasformungsstation synchron mit dem Blasformungszyklus zuführen und erreicht somit eine relativ hohe Produktivität. Bei der Einzelstations-Blasformungsvorrichtung ist der Formungszyklus jedoch abhängig von einer zum Durchführen des Spritzgießvorgangs erforderlichen Zeit, welche länger als die zur Durchführung des Blasformungsvorgangs erforderliche Zeit ist. Es ist somit unmöglich, den Vorformling synchron mit der Blasformungs-Taktzeit zuzuführen. Folglich kann die Arbeitsgeschwindigkeit der Blasform in der Blasformungsstation nicht verbessert werden.

In der japanischen Patentoffenlegung Nr. Hei 3-159726 haben die Erfinder zur Verbesserung der Arbeitsgeschwindigkeit in der Blasformungsstation ein System vorgeschlagen, um die Halsform-Bewegungseinheiten asynchron mit dem Spritzgießzyklus zu transportieren.

Das vorgeschlagene System weist eine rechtwinklig ausgebildete Fertigungslinie mit einer Vorformling-Spritzgieß-, einer Temperaturregulierungs-, einer Blasformungs- und einer Auswurfstation auf, welche auf der Fertigungslinie entlang einer ihrer Längsseiten angeordnet sind. Die andere Längsseite der Fertigungslinie wird zum Zurückführen der Halsform-Bewegungseinheiten zu der Spritzgießstation verwendet. Das System weist zwei Bahnen von Spritzgießstationen, zwei Bahnen von Temperaturregulierungsstationen und eine Blasformungsstationsbahn auf. Vorformlinge, die in der Spritzgieß- und der Temperaturregulierungsstation spritzgegossen bzw. temperaturreguliert wurden, können auf eine einzige Bahn ausgerichtet und dann in die Blasformungsstation transportiert werden. Somit kann die Arbeitsgeschwindigkeit der Blasformen in der Blasformungsstation verbessert werden.

Wenn jedoch Vorformlinge gleichzeitig in beiden Spritzgießstationen geformt werden, können Vorformlinge von einer der Spritzgießlinien direkt in die Blasformungsstation nur dann transportiert werden, wenn ein anderer Vorformling von der anderen Spritzgießlinie in Wartestellung ist. Das Blasformen wird in der Vorformling-Blasformungsvorrichtung unter Verwendung der im Verfahrensschritt des Spritzgießens erhaltenen latenten Wärme durchgeführt. Die Temperatur des Vorformlings in Wartestellung kann sich daher im Verlauf der Zeit verändern. Es wird daher unmöglich, Flaschen gleichmäßiger Qualität entlang den gesamten Bahnen zu formen.

Somit können Vorformlinge mit der bekannten Technik nicht unter gleichen Bedingungen blasgeformt werden, nachdem sie auf unterschiedlichen Linien jeweils spritzgegossen und temperaturreguliert wurden.

Bei der bekannten Technik müssen des weiteren die Halsformbewegungseinheiten von der Auswurfstation zurück zu den Spritzgießstationen über einen relativ langen Abstand dazwischen geführt werden. Vor jeder der Spritzgießstationslinien müssen die Halsform-Bewegungseinheiten in Wartestellung gehalten werden. Es ist daher erforderlich, mindestens zwei Halsform-Bewegungseinheiten mehr als die Gesamtanzahl der Stationen vorzusehen.

Die in der Blasformungsvorrichtung vom Einzelstationstyp verwendeten Halsformen werden auch als Halshohlformen in den Spritzgießstationen verwendet. Somit ist für die Halsformen eine wesentlich erhöhte Maßgenauigkeit erforderlich, und deren Herstellung ist teuer. Folglich erhöht die höhere Anzahl der Halsformen die Herstellungskosten des gesamten Systems.

Zusammenfassung der Erfindung:

Es ist daher die Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Spritzgießen und Streckblasen vorzusehen, welche die Arbeitsgeschwindigkeit der Blasformen verbessern und eine gleichmäßige Qualität der Hohlkörper aufrechterhalten, indem das Blasformen der Vorformlinge unter gleichen Bedingungen durchgeführt wird, während sie in mehreren Spritzgießstationen geformt werden.

Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Spritzgießen und Streckblasen vorzusehen, welche das Ansteigen der Anzahl von Halsform-Bewegungseinheiten möglichst niedrig halten, um Hohlkörper mit geringeren Kosten zu formen, während die Arbeitsgeschwindigkeit der Blasformen zur Erhöhung der Produktivität verbessert wird.

Eine weitere Zielsetzung der Erfindung ist es, eine Spritzgieß-Streckblasvorrichtung vorzusehen, welche zwei Spritzgießstationen für eine einzige Blasformungsstation aufweist, um die Arbeitsgeschwindigkeit der Blasformen zu verbessern, und um die Anzahl der Formen pro Zeiteinheit zu erhöhen, die gleichmäßige Qualität der Hohlkörper während der Wiederholung des Verfahrensschrittes des Blasformens aufrechtzuerhalten, und des weiteren die kleinste Anzahl Halsform-Bewegungseinheiten oder Halsplatten zu verwenden, um einen verbesserten Nutzeffekt des Transports zu erzielen.

Hierfür schafft die vorliegende Erfindung ein Spritzgieß- Streckblasverfahren zum sequentiellen Umlaufen mehrerer Halsform-Bewegungseinheiten zum Tragen und Transportieren von Halsformen, welche zum Halten der Halsbereiche von Hohlkörpern und Vorformlingen ausgelegt sind, welche zum Formen der Hohlkörper verwendet werden, wenigstens durch eine Station zum Spritzgießen des Vorformlings, eine Blasformungsstation und eine Auswurfstation, wobei der Verfahrensschritt des Spritzgießens des Vorformlings, der Blasformungsschritt zum Blasformen der Hohlkörper aus den Vorformlingen, welche ihre im Verfahrensschritt des Spritzgießens erhaltene latente Wärme aufweisen, und der Verfahrensschritt des Auswerfens des Produktes wiederholt ausgeführt werden, mit den Verfahrensschritten: Bereitstellen von Spritzgießstationen in einer Anzahl M für Blasformungsstationen in einer Anzahl von N mit (M > N ≥ 1); Spritzgießen der Vorformlinge in jeder der Spritzgießstationen zu einer Spritzgieß-Startzeit, welche von denen der anderen Spritzgießstationen um eine Zeit versetzt ist, die N x T/M entspricht, wobei T eine Spritzgieß-Taktzeit in jeder Spritzgießstation ist; sequentielles Bewegen der Halsform- Bewegungseinheiten von den Spritzgießstationen zu der leeren Blasformungsstation, nachdem eine entsprechende Spritzgießstation die Vorformlinge geformt hat; und Blasformen der Vorformlinge zu den Hohlkörpern in den Blasformungsstationen in deren Blasformungs-Taktzeit, welche auf bis zu N x T/M festgesetzt wird.

Die vorliegende Erfindung schafft ferner eine Spritzgießund Streckblasvorrichtung mit mehreren Halsform-Bewegungseinheiten zum Tragen und Transportieren der Haisformen, welche für die Halsbereiche der Hohlkörper und der zum Formen der Hohlkörper verwendeten Vorformlinge ausgelegt sind; Spritzgießstationen in der Anzahl M, wobei jede der Spritzgießstationen ausgelegt ist, die Halsform-Bewegungseinheiten sequentiell aufzunehmen und die Vorformlinge zu einer Spritzgieß-Startzeit spritzzugießen, welche von denen der anderen Spritzgießstationen versetzt ist; Blasformungsstationen in der Anzahl N mit (M > N ≥ 1), wobei jede der Blasformungsstationen ausgelegt ist, die Halsform-Bewegungseinheiten, welche die Vorformlinge mit ihrer beim Spritzgießen erhaltenen latenten Wärme tragen, sequentiell von den Spritzgießstationen aufzunehmen und die Vorformlinge zu den Hohlkörpern blaszuformen; und eine Auswurfstation zum Aufnehmen der Halsform-Bewegungseinheiten, welche jeweils die Hohlkörper sequentiell von den Blasformungsstationen tragen und zum Auswerfen der Hohlkörper aus den Halsform-Bewegungseinheiten, wobei jede der Spritzgiebstationen ausgelegt ist, um die Vorformlinge zu einer Spritzgieß-Startzeit spritzzugießen, welche von denen der anderen Spritzgießstationen um eine Zeit versetzt ist, welche N x T/M entspricht, wobei T eine Spritzgieß- Taktzeit in jeder der Spritzgießstationen ist, die Halsform-Bewegungseinheiten sequentiell von den Spritzgießstationen zu der leeren Blasformstation bewegt werden, nachdem die entsprechende Spritzgießstation Vorformlinge gegossen hat, und die Blasformungsstationen ausgelegt sind, Vorformlinge zu den Hohlkörpern während ihrer Blasformungs- Taktzeit blaszuformen, welche auf bis zu N x T/M festgesetzt ist.

Wenn beispielsweise zwei Spritzgießstationen für eine einzige Blasformungsstation vorgesehen sind, sind die Spritzgieß-Startzeiten der Spritzgießstationen um im wesentlichen die Hälfte der Spritzgieß-Taktzeit T, das ist T/2, unterschiedlich voneinander. Andererseits ist die Blasformungs- Taktzeit der Blasformungsstation auf gleich oder kleiner als T/2 festgesetzt. Der Verfahrensschritt des Blasformens zum Blasformen der Vorformlinge, welche mit einer der Spritzgießstationen geformt wurden, endet, bevor die andere Spritzgießstation das Spritzgießen anderer Vorformlinge beendet hat. Folglich werden die von den zwei Spritzgießstationen mit einem Zeitversatz zu der Blasformungsstation transportierten Vorformlinge direkt unter gleichen Bedingungen blasgeformt. Somit kann die Qualität der blasgeformten Hohlkörper gleichmäßig aufrechterhalten werden.

Vorzugsweise sind bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens die Blasformungs- und die Auswurfstation in der ersten Transportlinie angeordnet, und mehrere zweite Transportlinien sind parallel zu der ersten Transportlinie angeordnet, wobei jede der zweiten Transportlinien eine darauf angeordnete einzige Spritzgießstation aufweist. Dadurch ist es nicht erforderlich, daß die Halsform- Bewegungseinheiten zu den Spritzgießstationen über den längeren Abstand dazwischen zurückgeführt werden, nachdem sie die Auswurfstation passiert haben, wie beim Stand der Technik. Abfolgen von Verfahrensschritten können gleichmäßig einfach durchgeführt werden, indem die gleiche Anzahl von Halsform-Bewegungseinheiten wie die Gesamtanzahl der Stationen umlaufen.

Wenn eine Temperaturregulierungsstation vor der Blasformungsstation vorgesehen ist, wird diese vorzugsweise auf der ersten Transportlinie angeordnet. Wenn die Temperaturregulierungs-Taktzeit an der Temperaturregulierungsstation gleich der Blasformungs-Taktzeit festgesetzt wird, werden Vorformlinge, die in den jeweiligen Spritzgießstationen spritzgegossen wurden, unter gleichen Bedingungen temperaturreguliert und zu der Blasformungsstation transportiert. Des weiteren haben die Transportlinien, die die Stationen verbinden, in einer derartigen Anordnung keine extreme Länge. Daher wird nur eine Halsform-Bewegungseinheit mehr als die Gesamtanzahl der Stationen vorgesehen, um eine Reihe von Verfahrensschritten gleichmäßig durchzuführen.

Alternativ kann eine Blasformungsstation auf der ersten Transportlinie für die Halsform-Bewegungseinheiten angeordnet sein, während die zu der ersten Transportlinie parallelen zweiten Transportlinien eine Auswurfstation und zwei Spritzgießstationen aufweisen können, die von der Auswurfstation gleich beabstandet und parallel zu dieser angeordnet sind. Wenn in diesem Fall fünf Halsform-Bewegungseinheiten für die Gesamtzahl der Stationen gleich vier durch die jeweiligen Stationen umlaufen, kann eine Abfolge von Verfahrensschritten gleichmäßig durchgeführt werden. Wenn die Temperaturregulierungsstation auf der ersten Transportlinie angeordnet ist, und wenn sechs Halsform-Bewegungseinheiten, welche zwischen den Stationen in einer Anzahl gleich fünf umlaufen, kann eine Abfolge von Verfahrensschritten gleichmäßig ausgeführt werden.

Die vorliegende Erfindung sieht des weiteren eine Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung mit zumindest mehreren Halsplatten zum Tragen und Transportieren der Halsformen vor, welche für die Halsbereiche der Hohlkörper und der zum Formen der Hohlkörper verwendeten Vorformlinge ausgelegt sind; zwei Spritzgießstationen zum wechselweisen Aufnehmen der Halsplatten, wobei jede der Spritzgießstationen ausgelegt ist, die Vorformlinge zu einer Spritzgieß-Startzeit spritzzugießen, welche von der der anderen Spritzgießstation im wesentlichen um die Hälfte der Spritzgieß-Taktzeit T versetzt ist; eine Blasformungsstation zum wechselweisen Aufnehmen der Halsplatten, welche die Vorformlinge mit einer beim Spritzgießen erhaltenen latenten Wärme tragen, von den zwei Spritzgießstationen, wobei die Vorformlinge innerhalb der Spritzgieß-Startzeit (T/2) blasgeformt werden; und eine Auswurfstation zum Aufnehmen der Halsplatten, welche die Hohlkörper von der Blasformungsstation trägt, und zum Auswerfen jedes Hohlkörpers aus der jeweiligen Halsform, wobei die Auswurfstation in einem zu den zwei Spritzgießstationen benachbarten Bereich und in einer Mittenposition angeordnet ist, von welcher die Halsplatten mit demselben Abstand von der Auswurfstation zu den zwei Spritzgießstationen bewegt werden.

Die Spritzgieß-Startzeit der zwei Spritzgießstationen sind im wesentlichen um die Hälfte der Spritzgieß-Taktzeit T unterschiedlich voneinander. Die Blasformungsstation, die nach den Spritzgießstationen liegt, weist eine Blasformungs- Taktzeit gleich oder kleiner als T/2 auf. Der Verfahrensschritt des Blasformens, bei welchem Vorformlinge verwendet werden, die von einer der Spritzgießstationen geformt wurden, wird vor dem Ende des Verfahrensschritts des Spritzgießens in der anderen Spritzgießstation abgeschlossen. Vorformlinge, die von den zwei Spritzgießstationen zu der Blasformungsstation zeitversetzt transportiert wurden, können daher von der Blasformungsstation aufgenommen werden und zu Hohlkörpern mit einer gleichmäßigen Qualität unter gleichen Bedingungen blasgeformt werden.

Da die Auswurfstation bei der vorliegenden Erfindung in einem benachbarten Bereich zu den zwei Spritzgießstationen und an einer Mittenposition angeordnet ist, von welcher die Halsplatten von der Auswurfstation zu den zwei Spritzgießstationen über einen gleichen Abstand bewegt werden, kann der Abstand von der Blasformungsstation zu jeder der zwei Spritzgießstationen gleich sein, wie jener von der Blasformungsstation zu der anderen Spritzgießstation. Dies ermöglicht auch, daß dieser Abstand klein ist. Daher kann die Zeitspanne, die zum Bewegen der Halsplatten nach dem Verfahrensschritt des Blasformens und zum Transportieren der Halsplatten zu den Spritzgießstationen erforderlich ist, erhöht werden, um den Transport der Halsplatten innerhalb der festgesetzten Formungs-Taktzeit zu erleichtern.

Da das Gesamtgewicht der Halsplatte und der von der Halsplatte gestützten Halsformen relativ leicht ist, kann die Kraft, die zur Durchführung des Transports der Halsplatten erforderlich ist, bei Zunahme der Transportgeschwindigkeit reduziert werden. Dies sichert ferner einen ausreichenden Transportraum, um die Halsplatten zwischen den Stationen innerhalb einer begrenzten Zeitdauer zu transportieren.

Weitere Einzelheiten der Erfindung sind in den Merkmalen der Unteransprüche definiert.

Kurzbeschreibung der Zeichnungen

Fig. 1 ist eine Draufsicht einer Blasformungsvorrichtung, welche verwendet wird, um das Verfahren der vorliegenden Erfindung durchzuführen.

Fig. 2 ist eine Draufsicht der Halsform-Bewegungseinheit- Transportlinien, die in der Blasformvorrichtung der Fig. 1 verwendet werden.

Fig. 3A bis 3F veranschaulichen jeweils die durch die jeweiligen Stationen umlaufenden Halsform-Bewegungseinheiten an verschiedenen Stellen.

Fig. 4 ist eine Zeittafel, welche das mit der Blasformungsvorrichtung der Fig. 1 durchgeführte Formungsverfahren veranschaulicht.

Fig. 5 ist eine Zeittafel, welche den anderen unterschiedlichen Blasformungsvorgang in der Blasformungsvorrichtung der Fig. 1 veranschaulicht.

Fig. 6 ist eine Draufsicht einer veränderten Blasformungsvorrichtung mit einer einzigen Blasformungsstation und drei Spritzgießstationen.

Fig. 7 ist eine Zeittafel, welche den Betrieb der in Fig. 6 gezeigten Blasformungsvorrichtung veranschaulicht.

Fig. 8 ist eine Draufsicht, welche die Anordnung zweier Spritzgießstationen veranschaulicht, welche unterschiedlich von jener der Fig. 2 ist.

Fig. 9 ist eine Draufsicht einer anderen veränderten Blasformungsvorrichtung, welche zwei Blasformungsstationen und drei Spritzgießstationen aufweist.

Fig. 10 ist eine Draufsicht einer weiteren veränderten Blasformungsvorrichtung, in welcher eine Halsform- Bewegungseinheit mehr als die Gesamtanzahl der Bearbeitungsstationen verwendet wird.

Fig. 11 ist eine schematische Draufsicht einer Ausführungsform einer Blasformungsvorrichtung, welche gemäß der vorliegenden Erfindung gebaut ist.

Fig. 12A und 12B sind eine Draufsicht bzw. eine Frontansicht einer Halsplatte, die durch die Stationen in der Blasformungsvorrichtung der Fig. 11 umläuft.

Fig. 13 ist eine schematische Ansicht, welche das Verfahren eines Transports der Halsplatten in der Blasformungsvorrichtung der Fig. 11 veranschaulicht.

Fig. 14 ist eine Zeittafel der in der Blasformungsvorrichtung der Fig. 11 transportierten Halsplatten.

Fig. 15A bis veranschaulichen schematisch die Arbeitsabläufe 15E und Lagen der Blasformungsvorrichtung zu Zeitpunkten t1 - t5 in Fig. 14.

Fig. 16 ist eine Querschnittsansicht entlang einer Linie P-P in Fig. 11.

Fig. 17 ist eine Querschnittsansicht entlang einer Linie Q-Q in Fig. 11.

Fig. 18 ist eine Querschnittsansicht entlang einer Linie R-R in Fig. 11.

Fig. 19 ist eine schematische Ansicht der Spritzgießstation aus Fig. 1.

Fig. 20 ist eine schematische Ansicht eines Mechanismus zum Öffnen und Schließen der Halsplatten.

Fig. 21 ist eine Detailansicht der ersten Antriebseinheit zur Durchführung der Transportschritte N oder M aus Fig. 13.

Fig. 22 ist eine schematische Ansicht der ersten Transporteinheit zur Durchführung der Transportschritte C, C', L und L' aus Fig. 13.

Fig. 23 ist eine schematische Ansicht des Abstandsänderungsmechanismus in der ersten Transporteinheit der Fig. 22.

Fig. 24 ist eine vergrößerte Ansicht der ersten Dämpfungseinheit in der ersten Transporteinheit.

Fig. 25 ist eine vergrößerte Ansicht der zweiten Antriebseinheit zur Durchführung des in Fig. 13 gezeigten Transportschrittes D.

Fig. 26 ist eine schematische Ansicht der zweiten Transporteinheit zur Durchführung der Transportschritte G und G' in Fig. 13.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN:

Bezug nehmend auf die Fig. 1 und 2 ist darin eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens der vorliegenden Erfindung und insbesondere eines Einzeldurchlauf-Formungsvorgangs mit der darin verwendeten Anordnung von Stationen gezeigt. Die Vorrichtung hat eine im wesentlichen quadratische Konfiguration mit einer darin an einer Mittenposition der quadratischen Konfiguration angeordneten ersten Spritzgießstation 10. Eine zweite Spritzgießstation 12 ist benachbart zu der ersten Spritzgießstation 10, beispielsweise an ihrer linken Seite, angeordnet. Eine Temperaturregulierungsstation 14, eine Blasformungsstation 16 und eine Auswurfstation 18 sind benachbart an der rechten Seite der ersten Spritzgießstation 10 in einer Linie angeordnet. Die Vorrichtung weist fünf Halsform-Bewegungseinheiten 20 auf, welches die gleiche Anzahl wie die Anzahl der Stationen ist. Jede der Halsform-Bewegungseinheiten 20 weist einen Rahmen, eine von dem Rahmen gehaltene Halsplatte und mehrere mit der Halsplatte getragene Halsformen (z.B. acht Halsformen) auf. Jede der Halsformen ist zum lösbaren Halten des Halsbereichs eines Vorformlings oder einer Flasche ausgelegt, und wird auch als Halshohlform in den Spritzgießstationen 10 und 12 verwendet.

Die Halsform-Bewegungseinheiten 20 werden entlang der folgenden Transportbahn bewegt. Die Temperaturregulierungsstation 14, die Blasformungsstation 16 und die Auswurfstation 18 sind auf der ersten Transportlinie 22 angeordnet.

Die zweite und dritte Transportlinie 24 und 26 sind parallel zu der ersten Transportlinie 22 angeordnet. Die erste und zweite Spritzgießstation 10 und 12 sind auf den entsprechenden Transportlinien 24 und 26 angeordnet. Des weiteren ist eine Zuführ- und Transportlinie 28a vorgesehen, um die Halsform-Bewegungseinheiten 20 von der zweiten und dritten Transportlinie 24 und 26 zu der ersten Transportlinie 22 zu führen und zu transportieren. Ähnlich ist eine Rückführ- und Transportlinie 28b vorgesehen, um die Halsform-Bewegungseinheiten 20 von der ersten Transportlinie 22 zurück zu der zweiten und dritten Transportlinie 24 und 26 zu führen.

Die erste und zweite Spritzgießstation 10 und 12 haben den gleichen Aufbau mit einer Spritzgießeinheit 30 oder 32. Daher werden nur die Details der ersten Spritzgießstation 10 nun beschrieben. Zusätzlich zu der Spritzgießeinheit 30 weist die erste Spritzgießstation 10 eine Düsen-berührbare Heißkanalform auf, auf welcher Spritzhohlformen angeordnet sind. Oberhalb der Spritzhohlform sind Spritzkernformen mit den Halsform-Bewegungseinheiten 20 dazwischen angeordnet. Wenn die Spritzhohlformen, Halsformen und Spritzkernformen geklemmt sind, ist die Vorrichtung zum Spritzgießen von Vorformlingen bereit.

Die Temperaturregulierungsstation 14 ist zum Regulieren der Temperatur der spritzgegossenen Vorformlinge auf eine geeignete Strecktemperatur ausgelegt. Die Temperaturreguherungsstation 14 weist einen Temperaturregulierungskern und -topf auf, zwischen welchen die Halsform-Bewegungseinheiten 20 angeordnet sind. Wenn der Temperaturregulierungskern und -topf an richtiger Stelle positioniert sind, kann die Temperatur des Vorformlings außen und innen mit dem Kern und dem Topf reguliert werden.

Die Blasformungsstation 16 ist ausgelegt, um Blasluft in den Vorformling einzuleiten, nachdem seine Temperatur auf eine geeignete Strecktemperatur reguliert wurde. Gleichzeitig bewegt die Blasformungsstation 16 eine Streckstange entlang ihrer Längsachse, um den Vorformling mit der Streckstange, die davor in das Innere des geformten Vorformlings eingeführt wurde, zu einer Flasche zu strecken und blaszuformen. Die Blasformungsstation 16 weist eine Kombination eines Blaskerns mit einer Streckstange und eine Blashohlform auf, zwischen welchen die Halsform-Bewegungseinheiten 20 angeordnet sind.

Die Auswurfstation 18 ist zum Trennen der blasgeformten Flaschen von den Halsformen in den Halsform-Bewegungseinheiten 20 ausgelegt. Insbesondere dann, wenn zwei Hälften einer geteilten Halsform geöffnet werden, kann eine geformte Flasche aus der Halsform entfernt werden.

Die Formungsvorrichtung mit den zwei Spritzgießstationen 10 und 12 kann verwendet werden, wie in Fig. 2 gezeigt ist. Insbesondere kann eine Grundformungseinheit 40 durch die erste Spritzgießstation 10, die Temperaturregulierungsstation 14, die Blasformungsstation 16 und die Auswurfstation 18 gebildet werden, während eine zusätzliche Einheit 42 durch die zweite Spritzgießstation 12 und Bereiche, die teilweise die Transportlinien 28a und 28b definieren, definiert werden. Die Formungseinheit 40 kann nur eine Reihe von Schritten durchführen, die mit dem Spritzgießen des Vorformlings beginnt und beim Entfernen der geformten Flaschen endet. Wenn jedoch die zusätzliche Einheit 42 an die Formungseinheit 40 wie in dem dargestellten Ausführungsbeispiel angeschlossen wird, kann eine Formungsvorrichtung mit einem erhöhten Durchsatz geschaffen werden, welche die Anzahl der geformten Flaschen pro Zeiteinheit erhöht.

Unter Bezugnahme auf die Figuren 3 und 4 wird eine Ausführungsform des mit der vorangehend erwähnten erfindungsgemäßen Vorrichtung durchgeführten Verfahrens beschrieben.

In Fig. 3A bis 3F und 4 bezeichnen Bezugszeichen A-E Halsform-Bewegungseinheiten 20. Fig. 3A zeigt die Startposition jeder der Halsform-Bewegungseinheiten A-E, während Fig. 4 eine Zeittafel darstellt, welche die Positionen der Halsform-Bewegungseinheiten A-E an jeder der Stationen veranschaulicht. In Fig. 4 ist jedoch die erforderliche Zeit zum Umlaufen der Halsform-Bewegungseinheiten zwischen benachbarten Stationen nicht berücksichtigt. In Fig. 4 bezeichnet ein Großbuchstabe "T" eine Spritzgieß-Taktzeit in der ersten und zweiten Spritzgießstation 10 und 12. Die Spritzgieß- Taktzeit T zeigt eine erforderliche Zeit vom Beginn des Klemmens in der ersten oder zweiten Spritzgießstation 10 oder 12 bis zu einer Beendigung des Transports einer neuen Halsform-Bewegungseinheit 20 in diese Spritzgießstation, nachdem der Verfahrensschritt des Spritzgießens beendet wurde, an. Die Spritzgieß-Startzeiten der ersten und zweiten Spritzgießstation 10 und 12 sind um einen Zeitversatz unterschiedlich voneinander, welcher gleich T/2 in der dargestellten Ausführungsform ist. Des weiteren ist in der dargestellten Ausführungsform der Einfachheit halber eine Taktzeit in der Temperaturregulierungsstation 14, Blasformungsstation 16 und Auswurfstation 18 auch gleich dem Zeitversatz t zwischen den Spritzgieß-Startzeiten in der ersten und zweiten Spritzgießstation 10 und 12.

Fig. 3A zeigt die Position jeder der Halsform-Bewegungseinheiten A-E zu einem Zeitpunkt t1 in Fig. 4. Zu diesem Zeitpunkt enthalten die erste und zweite Spritzgießstation 10 und 12 die Halsform-Bewegungseinheiten A bzw. B.

Nach Beendigung des Verfahrensschritts des Spritzgießens in der ersten Spritzgießstation 10 ist die Halsform-Bewegungseinheit A zum Transport bereit. Auf diese Weise laufen die vier Halsform-Bewegungseinheiten A, C, D und E unter Verwendung der in Fig. 3A gezeigten ersten Transportschleife 50 um. Die Halsform-Bewegungseinheiten A - E werden folglich in solche wie in Fig. 3B gezeigte Positionen zu einem Zeitpunkt t2 in Fig. 4 plaziert. Zu diesem Zeitpunkt ist der Verfahrensschritt des Spritzgießens in der zweiten Spritzgießstation 12 beendet, wobei die Halsform-Bewegungseinheit B zum Transport bereit ist. Die zweite Transportschleife 52, die in Fig. 3B gezeigt ist, wird dann verwendet, um die vier Halsform-Bewegungseinheiten A - D zu bewegen. Die Halsform-Bewegungseinheiten A - E werden folglich in solche wie in Fig. 3C gezeigte Positionen, zu einem in Fig. 4 gezeigten Zeitpunkt t3 plaziert.

Nachfolgend wird der Verfahrensschritt des Spritzgießens abwechselnd in der ersten und zweiten Spritzgießstation 10 und 12 in der gleichen Weise durchgeführt und beendet. Die erste und zweite Transportschleife 50 und 52 werden wechselweise verwendet, um die Plazierung der Halsform-Bewegungseinheiten an verschiedenen Positionen durchzuführen, welche in den Figuren 3D - 3F gezeigt sind. In der Lage der Fig. F ist die in der ersten Spritzgießstation 10 bei der Startbedingung verwendete Halsform-Bewegungseinheit A zu der Spritzgießstation durch die Temperaturregulierungsstation 14, die Blasformungsstation 16 und die Auswurfstation 18 zurückgekehrt. Zu diesem Zeitpunkt wird die Halsform-Bewegungseinheit A in die zweite Spritzgießstation 12 plaziert. Während die in der ersten und zweiten Spritzgießstation 10 und 12 erforderliche Spritzgieß-Taktzeit T ist, kann in der dargestellten Ausführungsform der Bewegungstakt der Halsform-Bewegungseinheiten 20 daher jede T/2 durchgeführt werden, indem der Zeitversatz t (=T/2) zur Startzeit des Spritzgießens in der ersten und zweiten Spritzgießstation 10 und 12 festgesetzt wird. Dies bedeutet, daß zwei Verfahrensschritte des Blasformens an der Blasformungsstation 16 innerhalb der Spritzgieß-Taktzeit T realisiert werden können. Dies verdoppelt die Anzahl der Produkte pro Zeiteinheit gegenüber dem Verfahren vom Stand der Technik. Die dargestellte Ausführungsform kann des weiteren auch die Anzahl der Halsform-Bewegungseinheiten 20 reduzieren. Gemäß dem Stand der Technik müssen zwei Spritzgießstationen, zwei Temperaturregulierungsstationen, zwei Blasformungsstationen und zwei Auswurfstationen vorgesehen sein, um die Produktivität aufs Doppelte zu steigern. Folglich werden gemäß der bekannten Technik acht Halsform-Bewegungseinheiten vorhanden sein. Im Gegensatz dazu sind für die dargestellte Ausführungsform nur fünf Halsform-Bewegungseinheiten 20 erforderlich, um die gleiche Produktivität zu sichern. Die Halsformen in den Halsform-Bewegungseinheiten 20 werden auch als Halshohlformen verwendet, und erfordern daher höhere Maßgenauigkeit sowie höhere Herstellungskosten. Die Verwendung der dargestellten Ausführungsform kann die Anzahl der Halsformen reduzieren, während die Produktivität steigt, wodurch eine Reduzierung der Herstellungskosten resultiert.

Fig. 5 ist eine Zeittafel, welche die Details des Verfahrens gemäß der dargestellten Ausführungsform unter Berücksichtigung der Transportzeit zwischen den benachbarten Stationen zeigt. Die Spritzgieß-Taktzeit T ist in T1, T2 und T3 geteilt. T1 zeigt die Zeit an, die vom Beginn des Verfahrensschritts des Klemmens bis zur Beendigung des Verfahrensschritts des Spritzgießens erforderlich ist. T2 zeigt die Zeit an, die erforderlich ist, um einen Vorformling innerhalb der Form zu kühlen, nachdem der Verfahrensschritt des Spritzgießens beendet wurde. T3 zeigt die Zeit an, die vom Entfernen der Halsform-Bewegungseinheit 20 nach Öffnen der Spritzform bis zum Bewegen einer neuen Halsform-Bewegungseinheit 20 in diese Spritzgießstation erforderlich ist. In der dargestellten Ausführungsform wird die Spritzgieß-Taktzeit T auf 16 s festgesetzt, d.h. T1 = T/2. Eine Zeit T4 in der Temperaturregulierungsstation 14 zeigt eine im wesentlichen erforderliche Zeit an, um einen Temperaturregulierungvorgang auszuführen. Diese Zeit T4 beinhaltet eine Zeit, die erforderlich ist, um den Temperaturregulierungstopf und -kern zu schließen, um den Verfahrensschritt der Temperaturregulierung durchzuführen, und dann den Temperaturregulierungstopf und -kern zu öffnen. T5 in der Temperaturregulierungsstation 14 zeigt eine Zeit an, die erforderlich ist, um die Halsform-Bewegungseinheit 20 in und aus der Temperaturregulierungsstation 14 zu bewegen. In der dargestellten Ausführungsform ist die Einstellung T4 + T5 T/2. Aus Fig. 5 wird deutlich, daß zwischen der Beendigung der Spritzgieß-Taktzeit T in den Spritzgießstationen 10 und 12 und der Bewegungs-Startzeit in der Temperaturregulierungsstation 14 eine Zeitverzögerung entsteht. Wie in Fig. 2 gezeigt ist, entsteht diese, weil eine Zeit erforderlich ist, um die Halsform-Bewegungseinheit 20 von den Spritzgießstationen 10 und 12 zu der Temperaturregulierungsstation 14 zu bewegen.

T6 in der Blasformungsstation 16 zeigt eine Zeit an, die erforderlich ist, um den Verfahrensschritt des Blasformens in dieser Station 16 durchzuführen. Mit anderen Worten zeigt eine Zeit T6 eine Zeit an, die erforderlich ist, um die Verfahrensschritte des Klemmens, des Blasformens und Schließens in der Blasformungsstation 16 durchzuführen. T7 in der Blasformungsstation 16 zeigt eine Zeit an, die erforderlich ist, um die Halsform-Bewegungseinheit 20 in und aus der Blasformungsstation 16 zu bewegen. Die Einstellung in der dargestellten Ausführungsform ist T6 + T7 = T/2.

T8 in der Auswurfstation 18 ist eine Zeit, die erforderlich ist, um den Verfahrensschritt des Auswerfens durchzuführen, welcher relativ kurz ist. Die Zeit T9, die erforderlich ist, um den Transport vor und nach dem Verfahrensschritt des Auswerfens durchzuführen, kann daher auf eine relativ lange Dauer verlängert werden. Die Einstellung in der dargestellten Ausführungsform ist T8 + T9 = T/2.

Wie aus den in Fig. 4 und 5 gezeigten Zeittafeln deutlich wird, sollte vorzugsweise eine der Spritzgießstationen 10 oder 12 eine Spritzgieß-Taktzeit T haben, jede der Halsform-Bewegungseinheiten 20 eine Zeit gleich 2,5 T haben, welche zum Umlaufen durch alle Stationen erforderlich ist, und die von der Temperaturregulierungsstation 14, der Blasformungsstation 16 und der Auswurfstation 18 benötigte Bearbeitungszeit sollte innerhalb einer Zeit gleich 1,5 T liegen. Es ist ausreichend, daß die von der Auswurfstation 18 benötigte Zeit einschließlich der Auswurfzeit T8 und der Transportzeiten T9 vor und nach der Auswurfstation T8 T/2 ist. Daher können die Temperaturregulierungsstation 14 und die Blasformungsstation 16 jeweilige Bearbeitungszeiten gleich T/2 haben. Um die Halsform-Bewegungseinheit 20, die aus einer der ersten oder zweiten Spritzgießstationen 10 und 12 transportiert wird, welche bei um den Zeitversatz T2 unterschiedliche Spritzgieß-Startzeiten betrieben werden, immer nach dem Ablauf einer gegebenen Zeitdauer in der Temperaturregulierungsstation 14 zu plazieren, ist es erforderlich, daß die Taktzeiten in der Temperaturregulierungsstation 14 und der nachfolgenden Blasformungsstation 18 innerhalb dem obigen Zeitversatz T/2 liegen. Wenn der jeweilige Vorgang nicht innerhalb dieser Zeitdauer beendet ist, kann die Anzahl der Blasformungsstationen für eine Spritzgießstation erhöht werden. Beispielsweise kann das System drei Spritzgießstationen und zwei Blasformungsstationen aufweisen. Wenn die Taktzeit in der Temperaturregulierungsstation 14 und der Blasformungsstation 16 weiter reduziert werden kann, können drei oder mehr Spritzgießstationen für eine Temperaturregulierungsstation 14 und eine Blasformungsstation 16 vorgesehen werden. Fig. 6 zeigt eine Anordnung, in welcher die erste, zweite und dritte Spritzgießstation 10, 12 und 34 vorgesehen sind. In solch einer Anordnung ist eine weitere zusätzliche Einheit 44 an die Formungseinheit 40 und die zusätzliche Einheit 42 angeschlossen. Der Betrieb der in Fig. 6 gezeigten Formungsvorrichtung ist in einer Zeittafel der Fig. 7 veranschaulicht. Wie dargestellt ist, weist eine der drei Spritzgießstationen 10, 12 und 34 eine von der unmittelbar benachbarten Spritzgießstation um T/3 zeitverzögerte Spritzgieß-Startzeit auf. Die Taktzeit in der Temperaturregulierungsstation 14 und der Blasformungsstation 16 wird festgesetzt, um innerhalb der Zeitverzögerung T/3 beendet zu werden. Auf diese Weise kann die Anzahl von Produkten pro Zeiteinheit um ein Dreifaches höher als beim Stand der Technik sein. Wenn die Anzahl der Halsform-Bewegungseinheiten 20 gleich sechs gleich der Gesamtanzahl der Stationen ist, kann die Anzahl der Halsform-Bewegungseinheiten 20 um die Hälfte geringer als die beim Stand der Technik (6 Einheiten/12 Einheiten) sein.

Es ist zu verstehen, daß die vorliegende Erfindung nicht auf die vorangehend erwähnten Ausführungsformen begrenzt ist, sondern in verschiedenen veränderten Ausführungsformen durchgeführt werden kann, die innerhalb des Umfangs der Erfindung liegen.

Beispielsweise kann eine wie in Fig. 8 dargestellte Anordnung verwendet werden, um die erste und zweite Spritzgießstation 10 und 12 anzuordnen. In dieser Fig. ist die zusätzliche Einheit 42 an der rechten Seite der Formungseinheit 40 angeschlossen. In solch einer Anordnung kann der Abstand von der ersten oder zweiten Spritzgießstation 10 oder 12 zu der Temperaturregulierungsstation 14 auf gleich dem Abstand von der anderen Spritzgießstation 12 oder 10 zu der Temperaturregulierungsstation 14 festgesetzt werden. Ähnlich kann der Rückkehrabstand zwischen der Auswurfstation 18 und der ersten oder zweiten Spritzgießstation 10 oder 12 gleich jenem zwischen der Auswurfstation 18 und der anderen Spritzgießstation 12 oder 10 sein. In solch einer liniensymmetrischen Anordnung kann die Positionsbeziehung zwischen der ersten Transportlinie und der zweiten Transportlinie gleich jener zwischen der ersten Transportlinie und der dritten Transportlinie sein. Daher können zwei Transportschleifen die vollständig gleiche Transport-Taktzeit realisieren.

Wie beschrieben wurde, können drei Spritzgießstationen für zwei Temperaturregulierungsstationen vorgesehen sein. Eine solche Anordnung ist in Figur 9 beispielhaft gezeigt. Das System weist zwei Formungseinheiten 40 auf, wobei eine davon an eine zusätzliche Einheit 42 angeschlossen ist. Der Zeitversatz t der Spritz-Startzeiten in den drei Spritzgießstationen kann auf t = 2T/3 festgesetzt werden. Die Bearbeitungs-Taktzeit in der Temperaturregulierungsstation 14 und Blasformungsstation 16 kann auf kleiner/gleich 2T/3 festgesetzt werden. Kurz, wenn Spritzgießstationen in der Anzahl M für Blasformstationen in der Anzahl N mit (N < M) vorgesehen werden, ist der Unterschied t der Spritzgieß-Startzeit in jeder der Spritzgießstationen t = N x T/M, während die Bearbeitungstaktzeit in der Temperaturregulierungsstation und der Blasformungsstation 14 und 16 auf kleiner/gleich dem Zeitunterschied t festgesetzt wird.

Obwohl die Anzahl der Halsform-Bewegungseinheiten 20 gleich der Gesamtanzahl der Stationen in jedem der in den Figuren 2, 8 und 9 gezeigten Blasformungssystemen festgesetzt wird, kann eine Halsform-Bewegungseinheit 20 mehr als die Gesamtanzahl der Stationen verwendet werden, falls erforderlich. Insbesondere wenn mehrere Spritzgießstationen in der ersten Transportlinie 22 mit unterschiedlichen Transportabständen angeordnet sind, wie in den Figuren 2 und 9 gezeigt ist, kann eine Halsform-Bewegungseinheit 20 mehr vorgesehen werden, um den Transportzyklus glatt durchzuführen. Die überzählige Halsform-Bewegungseinheit 20 kann auf irgendeine andere Transportlinie als die Stationen plaziert werden, beispielsweise in einer Warteposition vor einer Spritzgießstation. Da die Anordnung in jeder der dargestellten Ausführungsformen keine über solch eine lange Entfernung geformte Rückführtransportbahn, wie in der japanischen Offenlegung Nr. Hei 3-159726 beschrieben ist, erfordert, ist es ausreichend, die Anzahl der Halsform-Bewegungseinheiten 20 in der Anzahl gleich der Gesamtanzahl der Stationen + 1 vorzusehen. Dadurch kann die Anzahl teurer Halsform-Bewegungseinheiten 20 auf einem Minimum gehalten werden.

In Fig. 10 ist eine Anordnung gezeigt, in welcher eine Halsform-Bewegungseinheit 20 mehr als die Gesamtanzahl der Bearbeitungsstationen vorgesehen ist. Die Anordnung weist eine Ersatzstation 60 auf, welche in der ersten Transportlinie 22 angeordnet ist. Die Ersatzstation 60 führt keinen wesentlichen Verfahrensschritt durch, sondern ist ausgelegt, um eine Halsform-Bewegungseinheit 20 eine kurze Zeit lang zu halten, bis die Blasformungsstation 14 bereit ist, die Halsform-Bewegungseinheit 20 aufzunehmen. Die Anordnung weist sechs Halsform-Bewegungseinheiten 20 auf. Daher ist immer eine Halsform-Bewegungseinheit 20 mehr auf der Zuführ und Transportlinie 28 oder der Ersatzstation 60 zusätzlich zu fünf Halsform-Bewegungseinheiten 20, welche in den Stationen 10, 12, 14, 16 bzw. 18 angeordnet sind, vorhanden. Kurz bevor der Vorgang in der Blasformungsstation beendet wird, erreicht die überzählige Halsform-Bewegungseinheit 20 die Ersatzstation 60 mit einem Rand.

Die vorliegende Erfindung kann auf eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrensschritts des Blasformens gleich nach dem Verfahrensschritt des Spritzgießens ohne eine Temperaturregulierungsstation 14 angewendet werden. Die vorliegende Erfindung wurde als eine Vielzahl von Spritzgießeinheiten beschrieben, welche unabhängig voneinander an den jeweiligen Spritzgießstationen angeordnet sind, aber sie kann auf eine einzige Spritzgießeinheit angewendet werden, welche wahlweise einer der Spritzgießstationen zugeschaltet werden kann.

Bezieht man sich nun auf Fig. 11, so ist darin die andere Ausführungsform einer gemäß der vorliegenden Erfindung gebauten Formungsvorrichtung gezeigt. Die Formungsvorrichtung weist ein Bett 108 auf, welches eine Halsplatten-Transportbahn definiert. Entlang der Halsplatten-Transportbahn sind zwei Spritzgießstationen 110, eine Temperaturregulierungsstation 112, eine Blasformungsstation 114 und eine Auswurfstation 116 angeordnet. Die zwei Spritzgießstationen umfassen erste und zweite Spritzgießstationen 110a und 110b zum Spritzgießen von Vorformlingen. Die Auswurfstation 116 ist in einem zu der ersten und zweiten Spritzgießstation 110a und 110b benachbarten Bereich und an einer Mittenposition angeordnet, von welcher die Auswurfstation von der ersten und zweiten Spritzgießstation 110a und 110b um den gleichen Halsplatten-Transportabstand beabstandet ist

Fig. 12 zeigt eine Halsplatte 120, welche zum Bewegen durch die jeweiligen Stationen 110 - 116 ausgelegt ist. Fig. 13 zeigt ein Bewegungsverfahren der Halsplatten 120. Unter Bezugnahme auf Fig. 12 weist die Halsplatte 120 ein Paar geteilter Platten 120a und 120b auf, welche voneinander trennbar sind. Die Halsplatte 120 weist ferner eine Vielzahl von Halsform-Montageöffnungen 122 (acht in der dargestellten Ausführungsform) auf, welche darin in gleichen Abständen entlang der Längsachse ausgebildet sind. Die Halsplatte 120 weist des weiteren eine Quernut 124 auf, welche an jedem Ende darin geformt ist. Jede der Quernuten 124 weist darin geformte Positionierlöcher 126 auf. Die Quernuten 124 werden zum Transport der Halsplatten 120 verwendet. Die Halsplatte 120 wird unter Verwendung der ersten Positionierlöcher 126 in der Spritzgießstation 110a und 110b positioniert. Die Halsplatte 120 weist des weiteren zweite Positionierlöcher 128 auf, welche zum Positionieren der Halsplatte 120 in der Blasformungsstation 114 verwendet werden.

Bezug nehmend auf Fig. 13 werden zwei parallele Halsplatten 120 in eine der Stationen 110 - 116 transportiert. Daher kann die erste und zweite Spritzgießstation 110a und 110b zwei Linien von Spritzgießhohlformen aufweisen, wobei jede acht Hohlräume aufweist, so daß sechzehn vorformlinge in einer Pressung spritzgegossen werden können. Daher ist jede der anderen Stationen 112, 114 und 116 auch ausgelegt, sechzehn Vorformlinge oder Flaschen herzustellen. Die Blasformungsstation 114 weist zwei Blashohlformlinien mit jeweils acht Hohlräumen auf.

Wie aus Fig. 13 ersichtlich ist, werden die Halsplatten 120 entlang von Transportschleifen transportiert, welche durch die erste, zweite, dritte und vierte Transportlinie 140 - 146 definiert sind. Die erste Transportlinie 140 weist die erste und zweite Spritzgießstation 110a, 110b und die Auswurfstation 116 auf. In der ersten Transportlinie 140 werden der Transportschritt X und der Transportschritt M oder N durchgeführt, nachdem die geformten Produkte an der Auswurf station 116 ausgeworfen wurden. Die Halsplatten 120 werden dann abwechselnd zu der ersten oder zweiten Spritzgießstation 110a oder 110b bewegt. Die zweite Transportlinie 142 weist die Temperaturregulierungsstation 112 und die Blasformungsstation 114 auf. Die dritte Transportlinie 144 ist zum Bewegen der Halsplatten 120 von der ersten Transportlinie 140 zu der zweiten Transportlinie 142 ausgelegt. Die vierte Transportlinie 146 ist zum Rückführen der Halsplatten 120 von der zweiten Transportlinie 142 zurück zu der ersten Transportlinie 140 ausgelegt.

Buchstaben P1 - P7 in Fig. 13 bezeichnen verschiedene Warte- oder Bereitschaftspositionen der Halsplatten 120. In der dargestellten Ausführungsform wird der Abstand zwischen zwei Paaren benachbarter Halsplatten 120 beim Transportschritt C und L, bei welchen die Halsplatten 120 von der Warteposition P1 oder P2 zu der Warteposition P3 transportiert werden, vergrößert. Im Gegensatz dazu wird der obige Abstand bei einem Transportschritt G, bei welchem die Halsplatten 120 von der Warteposition P4 zu der Warteposition P5 bewegt werden, verkleinert. Die Blasformungsstation 114 formt eine Flasche mit einem Durchmesser, der größer als jener eines spritzgegossenen Vorformlings ist. Daher benötigt die Blasformungsstation 114 einen relativ großen Formöffnungshub. Daher wird der Abstand zwischen zwei Linien von Blashohlformen größer festgesetzt, als jener zwischen zwei Linien von Spritzgießhohlformen in der Spritzgießstation 110. Aus diesem Grund ist der Abstand zwischen jedem Paar benachbarter Halsplatten 120 während des Transports variabel. Mit anderen Worten, der Abstand zwischen dem Paar benachbarter Halsplatten 120 in der ersten und zweiten Spritzgießstation 110a und 110b kann verkleinert werden, um den Abstand der Verbindungsstange zu reduzieren. Als Ergebnis kann verhindert werden, daß eine Halsbewegungsplatte 210, (welche später beschrieben werden wird) zum Halten der Halsplatten 120 verformt wird. Des weiteren führt die Reduzierung des Verbindungsstangen-Abstands zu einer Reduzierung der Abmessungen des Gesamtsystems.

Unter Bezugnahme auf Fig. 14 wird auch das Transportverfahren der Halsplatten 120 beschrieben. In der dargestellten Ausführungsform sind sechs Paar Halsplatten 120 für die Gesamtanzahl der Stationen 110a, 110b, 112, 114 und 116 gleich fünf vorgesehen. Bezugszeichen 1 bis 6 bezeichnen sechs Paar Halsplatten. Wie aus Fig. 14 deutlich wird, sind die erste und zweite Spritzgießstation zum zeitversetzten Spritzgießen von Vorformlingen ausgelegt. Wenn die Spritzgieß-Taktzeit von der Aufnahme der Halsplatten 120 bis zur Entladung der gleichen Halsplatten 120 in jeder der Spritzgießstationen T ist, wird ein Zeitversatz von in etwa T/2 für die Vorformling-Spritzgieß-Startzeit in der ersten und zweiten Spritzgießstation 110a und 110b festgesetzt. Die Bearbeitungszeit in der Temperaturregulierungsstation 112 und der Blasformungsstation 114 wird auf bis zu T/2 festgesetzt. Die Bearbeitungszeit in der Auswurfstation 116 kann eine kurze Zeit sein, die ausreicht, um die Halsplatten 120 zum Entfernen der Flaschen aus den Halsformen zu öffnen, wie vom Stand der Technik wohl bekannt ist.

Unter Bezugnahme auf die Figuren 15A - 15E werden die Zeiten t1 - t5 in Fig. 14 im einzelnen beschrieben.

Zum Zeitpunkt t1 nehmen die erste und zweite Spritzgießstation 110a und 110b jeweils das erste und sechste Halsplattenpaar 1 und 6 an ihren Wartepositionen auf, und plazieren sie in die Anfangs- und Endstufe, wie in Fig. 15A gezeigt ist. Die Auswurfstation 116 bewirkt zu diesem Zeitpunkt, daß Flaschen aus dem zweiten Halsplattenpaar 2 ausgeworfen werden. Weiter sind das dritte, vierte und fünfte Halsplattenpaar 3, 4 und 5, welche an der Blasformungsstation 114, der Temperaturregulierungsstation 112 und der Warteposition P3 plaziert wurden, in ihrem Transportschritt D.

Zum Zeitpunkt t2 befindet sich die erste Spritzgießstation 110a in ihrem Endschritt, wobei das erste Halsplattenpaar 1 verwendet wird, während die zweite Spritzgießstation 110b ihren Spritzgieß-Verfahrensschritt unter Verwendung des sechsten Halsplattenpaares beendet, wobei der Transportschritt B zu der Warteposition P2 durchgeführt wird. Das zweite Halsplattenpaar 2, welches in die Auswurfstation 116 zu einem Zeitpunkt t1 plaziert wurde, macht den Transportschritt X vor dem Zeitpunkt t2 durch und erreicht die Warteposition P7 gegenüberliegend der zweiten Spritzgießstation 110b. So wird der Transportschritt M zur gleichen Zeit wie der obige Schritt B durchgeführt, so daß das zweite Halsplattenpaar 2 in die zweite Spritzgießstation 110b bewegt wird. Die vierten und fünften Halsplattenpaare 4 und 5 machen die Verfahrensschritte in der Blasformungsstation 114 bzw. in der Temperaturregulierungsstation 112 durch. Das dritte Halsplattenpaar 3 hat bereits den Transportschritt G von der Warteposition P4 zu der Warteposition P5 durchgemacht, und wird den Transportschritt H von der Warteposition P5 zu der Auswurfstation 116 durchmachen.

Fig. 15C zeigt den Betriebszustand zu dem Zeitpunkt t3, welcher im wesentlichen der gleiche wie in Fig. 15A ist, mit der Ausnahme, daß die erste Spritzgießstation 110a in ihrer Endstufe ist, während die zweite Spritzgießstation 110b in ihrer Anfangsstufe ist. Das sechste Halsplattenpaar 6, welches von der zweiten Spritzgießstation 110b zu der Warteposition P2 bewegt wurde, macht den Transportschritt L zu der Warteposition P3 durch, bevor der Zeitpunkt t3 erreicht wurde. Zum Zeitpunkt t3 macht das sechste Halsplattenpaar 6 den Transportschritt D zusammen mit dem vierten und fünften Halsplattenpaar 4 und 5 durch. Der Transportschritt L für das sechste Halsplattenpaar 6 wird mit einer ersten Transporteinheit 300 durchgeführt, welche in Fig. 11 gezeigt ist. Die erste Transporteinheit 300 macht den Rückführ-Transportschritt C' zwischen den Zeitpunkten t3 und t4 durch, da es nachfolgend erforderlich ist, die von der ersten Spritzgießstation 110a zu der Warteposition P1 transportierten Halsplattenpaare aufzunehmen. Ähnlich wird eine zweite Transporteinheit 350, die in Fig. 11 gezeigt ist, in dem Transportschritt G zwischen den Wartepositionen P4 und P5 verwendet. Der Rückführ-Transportschritt G' wird zwischen den Zeitpunkten t2 und t3 durchgeführt.

Fig. 15D zeigt den Bearbeitungszustand zum Zeitpunkt t4, welcher ähnlich Fig. 15B ist, mit der Ausnahme, daß das dritte Halsplattenpaar 3, welches in der Warteposition P6 plaziert ist, dann in die erste Spritzgießstation 110a bewegt wird, während gleichzeitig das erste Halsplattenpaar 1, welches in der ersten Spritzgießstation 110a plaziert ist, zu der Warteposition P1 bewegt wird. Zu dem nachfolgenden Zeitpunkt t5 wird die in Fig. 15E gezeigte Bearbeitung durchgeführt. Dies ist vollständig der gleiche Zustand wie jener der Fig. 15A, mit der Ausnahme, daß das Halsplattenpaar mit einem unterschiedlichen Bezugszeichen bezeichnet ist. Die jeweiligen Schritte werden wiederholt, um eine Reihe von Formungszyklen unter Verwendung der Halsplattenpaare 1 bis 6 gemäß dem vorangehend erwähnten Verfahren durchzuführen.

In der vorangehend erwähnten Ausführungsform ist die Auswurfstation 116 in einem zu der ersten und zweiten Spritzgießstation 110a und 110b benachbarten Bereich und an einer Stelle positioniert, von welcher die Auswurfstation 116 um den gleichen Abstand von der ersten und zweiten Spritzgießstation 110a und 110b aus folgendem Grund beabstandet ist: Gleich nachdem die Blasformungsstation 114 den Verfahrensschritt des Blasformens ausgeführt hat, kann das Halsplattenpaar von der Blasformungsstation 114 zu der Warteposition P4 bewegt werden. Die zweite Transporteinheit 350, die das Halsplattenpaar an der Warteposition P4 aufnimmt, kann den Transportschritt H insbesondere gleich nach dem Transportschritt G machen, um das Halsplattenpaar, das von der zweiten Transporteinheit 350 gehalten wird, in die Auswurfstation 116 zu bewegen. Wenn der Rückführschritt G' sofort durchgeführt wird, kann der Vorformling in seine Warteposition vor der Blasformungsstation 114 plaziert werden. Wenn die Auswurfstation 116 sich an der Warteposition P4 oder P5 befindet, braucht das System Zeit, um die zweite Transporteinheit 350 zwischen den Positionen P4 und P5 hin und her zu bewegen zuzüglich der Auswurfzeit. Das bedeutet, daß eine Wartezeit erforderlich ist, um das Halsplattenpaar 120 zu dem unmittelbar nachfolgenden Verfahrensschritt nach dem Verfahrensschritt des Blasformens zu bewegen. In obiger Anordnung können die erste und zweite Spritzgießstation 110a und 110b die Halsplattenpaare 120 gleich nach dem Verfahrensschritt des Spritzgießens aufnehmen. Dies ist möglich, weil die Abstände zwischen der ersten und zweiten Spritzgießstation 110a und 110b und der Blasformungsstation 114 untereinander gleich werden und minimal.

Gemäß der vorliegenden Erfindung können somit die zwei Spritzgießstationen 110a und 110b jeweils den Verfahrensschritt des Spritzgießens des Vorformlings mit dem Zeitversatz T/2 in einer um eine Hälfte kürzeren Zeit als die Spritzgieß-Taktzeit T durchführen. Danach werden die mit den Spritzgieß-Stationen 110a und 110b geformten Vorformlinge zu der nachfolgenden Station unter gleichen Bedingungen transportiert. Die Qualität der Endprodukte oder Flaschen kann daher gleich sein, und die Arbeitseffizienz der Blasformen in der Blasformungsstation 114 kann verdoppelt werden.

Die Stationen und zugeordnete Transporteinrichtung sowie Antriebsbereiche, die in Fig. 11 gezeigt sind, werden auch unter Bezugnahme auf Fig. 16 und die nachfolgenden Figuren beschrieben.

Erste und zweite Spritzgießstationen 110a und 110b

Ein Bett 108 trägt zwei Spritzeinheiten 202 entsprechend den Spritzgießstationen 110a und 110b. Jede der Spritzgießstationen 110a und 110b weisen vier, einen Bereich definierende Zugstangen 200 und eine Spritzhohlform 204 auf, welche innerhalb dieses Bereichs angeordnet ist. Die Spritzhohlform 204 weist einen Heißkanalblock auf, welcher über eine Düse mit der Spritzhohlform 204 verbunden ist, wie in Fig. 16 gezeigt ist. Eine obere Klemmplatte 206, die in vertikaler Richtung bewegbar ist, ist über der Spritzhohlform 204 vorgesehen. Die obere Klemmplatte 206 trägt Spritzkernformen 208. Jede der Spritzgießstationen 110a und 110b weist des weiteren eine Hals-Bewegungsplatte 210 auf, welche an einer erhöhten Position angeordnet ist, in welcher die Halsplatten 120 in die Spritzgießstation transportiert werden. Die Hals-Bewegungsplatte 210 weist Führungsschienen mit C-förmigem Querschnitt (nicht dargestellt) auf, welche an den gegenüberliegenden Seiten der Halsplatte 120 gegenüberstehenden Positionen angeordnet sind, und die zur Aufnahme der Halsplatten 120 von den Wartepositionen P6 oder P7 in Längsrichtung ausgelegt ist. Die erste und zweite Spritzgießstation 110a und 110b weisen des weiteren Stifte auf, welche in die ersten Positionierlöcher 126 in der Halsplatte 120 eingeführt werden. Nachdem die Spritzgießstation 110a oder 110b durch diese Stifte positioniert wurde, werden die obere Klemmplatte 206 und die Hals-Bewegungsplatte 210 nach unten bewegt, um die Spritzformen zu klemmen, so daß die Vorformlinge 130 spritzgegossen werden können.

Temperaturregulierungsstation 112

Die Temperaturregulierungsstation 112 weist ebenfalls Führungsschienen (nicht dargestellt) auf, welche an einer erhöhten Position angeordnet sind, in welche die Halsplatten 120 hereinbewegt werden. Die Führungsschienen sind feststehend. Ein Temperaturregulierungskern 220 ist über den Führungsschienen angeordnet, während unterhalb der Führungsschienen ein Temperaturregulierungstopf 224 angeordnet ist. Der Temperaturregulierungskern 220 kann in Vertikalrichtung mit einem Temperaturregulierungskern-Zylinder 222 bewegt werden, während der Temperaturregulierungstopf 224 mit einem Temperaturregulierungstopf-Zylinder 226 in Vertikalrichtung bewegt werden kann. Wenn der Temperaturregulierungskern 220 nach unten bewegt wird, während der Temperaturregulierungstopf nach oben bewegt wird, können sie dazwischen die Vorformlinge 130 halten, die in die Temperaturregulierungsstation 112 zur Regulierung der Temperatur der Vorformlinge auf einen zum Strecken geeigneten Wert bewegt werden.

Blasformungsstation 114

Die Blasformungsstation 114 weist auch Führungsschienen (nicht dargestellt) zur Aufnahme der Halsplatten 120 auf.

In der Temperaturregulierungsstation und der Blasformungsstation 112 und 114 sind die Halsplatten dazwischen an Endseiten gehalten. Unterhalb der Halsplatten 120 sind eine Blashohlform 230, eine Klemmeinheit 232 und ein Bodenform- Zylinder 234, angeordnet, wie in Fig. 18 gezeigt ist. Die Blashohlform 230 weist ein Paar geteilter Formen auf (nur eine ist dargestellt), welche Blashohlräume 230a aufweisen. Oberhalb der Halsplatten 120 sind eine Blaskern-Antriebseinheit 238 zum Bewegen der Blaskernformen 236 in vertikaler Richtung und Stangen-Antriebszylinder 242 zur Bewegung der Streckstangen 240 in vertikaler Richtung angeordnet. Nachdem die Blashohlformen 230, die Bodenformen (nicht dargestellt), die Blaskernformen 236 und die Streckstangen 240 geklemmt wurden, werden in der Blasformungsstation 114 die Streckstangen entlang ihrer Längsachsen angetrieben und Blasluft wird in das Innere jedes Vorformlings 130 eingeleitet. Auf diese Weise werden die Vorformlinge 130 biaxial gestreckt und zu Flaschen 132 blasgeformt. Es ist zu bemerken, daß die Blasformungsstation 114 Positionierstangen aufweist, die in die zweiten Positionierlöcher 128 in den Halsplatten 120 eingeführt werden.

Auswurfstation 116

Die Auswurfstation 116 weist ein Rahmentragwerk 250, wie in Fig. 19 gezeigt ist, auf. An der Oberseite des Rahmentragwerks 250 sind vier Führungsschienen 252a - 252d angeordnet. Das Rahmentragwerk 250 ist fest mit einem Endlosriemen 258 verbunden, welcher zwischen Antrieb und angetriebenen Riemenscheiben 254, 256 gespannt ist. Wenn diese Riemenscheiben 254 und 256 gedreht werden, kann das Rahmentragwerk 250 in die entgegengesetzten Richtungen bewegt werden, wie in Fig. 19 durch einen doppelendigen Pfeil X gezeigt ist. Unter derartigen Bedingungen, wie in Fig. 19 gezeigt, werden die von der ersten und zweiten Führungsschiene 252a, 252b getragenen Halsplatten 120 in der Auswurfstation 116 in Stellung gebracht, während zwei übrige Halsplatten 120 in Warteposition P7 gebracht werden. Wenn das Rahmentragwerk 250 nach links bewegt wird, wie in Fig. 19 gezeigt ist, werden die Halsplatten 120, die von der dritten und vierten Führungsschiene 252c, 252d gehalten werden, in der Auswurfstation 116 angeordnet, während zwei übrige Halspatten 120 sich in der Warteposition P6 befinden. In einem Bereich unterhalb des Rahmentragwerks 250 und der Auswurfstation 116 gegenüberliegend sind zwei Entladerinnen 260a und 260b angeordnet. Diese Rinnen haben die Funktion, die geformten Flaschen 132 von den Halsplatten 120 auf einen Bandförderer 262 zu führen. Andererseits weist ein Bereich oberhalb der Auswurfstation 116 Auswurfstangen 264, die von einem Auswurfzylinder 266, wie in Fig. 17 gezeigt ist, angetrieben werden, und keilförmige Auswurfnocken 268 auf, die nach unten in Auswurfkerben 129, die in den Halsplatten 120 geformt sind, geführt werden. Die ersten bis vierten Führungsschienen 252a - 252d sind von dem Rahmentraggestell 250 getragen, und können geöffnet werden, so daß dann, wenn die Auswurfstangen 264 und die Auswurfnocken 268 angetrieben werden, jede der Halsplatten 120, welche ein Paar geteilter Platten 120a, 120b aufweist, mit den Führungsschienen geöffnet werden kann.

Wie in Fig. 20 gezeigt ist, weist die vorliegende Ausführungsform einen Mechanismus zum Öffnen und Schließen der Führungsschienen auf, um zu verhindern, daß die Halsplatten 120, die durch Stanzen eine geringe Biegefestigkeit haben, durch das Vortreiben der Auswurfstangen 264 verformt werden. Der Mechanismus weist erste Zahnstangen 272 auf, die jeweils durch einen Halsplatten-Öffnungs- und Schließzylinder 270 angetrieben werden und mit einem ersten Ritzel 274 eingreifen. Ein zweites Ritzel 276 ist koaxial in bezug auf das erste Ritzel 274 montiert und greift mit einer zweiten Zahnstange 278 ein, die an dem Boden jeder der Führungsschienen 252 ausgebildet ist. Die Führungsschienen 252 können folglich durch die erste und zweite Zahnstange 272, 278 und auch durch das erste und zweite Ritzel 274, 276 geöffnet oder geschlossen werden, wenn der Halsplatten-Öffnungs- und Schließzylinder 270 synchron mit der Betätigung der Auswurfstangen 274 betätigt wird. Dadurch kann die Last von den Halsplatten 120 in dem Verfahrensschritt des Auswerfens gelöst werden.

Vorrichtung zur Durchführung der Transportschritte N und M

Wie in den Figuren 11, 16 und 21 gezeigt ist, weist eine derartige Vorrichtung eine erste Schubeinheit 280 und eine erste Dämpfungseinheit 290 auf. Die erste Schubeinheit 280 weist einen Zylinder 282 mit einer Kolbenstange 284 und ein Schubteil 286 auf, welches an dem äußersten Ende der Kolbenstange 284 montiert ist. Das Schubteil 286 wird entlang linearer Führungen bewegt und geführt, um eine Halsplatte 120 an einem Ende in die Warteposition P6 oder P7 zu schieben, so daß alle Halsplatten 120 in der ersten und zweiten Spritzgießstation 110a und 110b vorwärts bewegt werden. Wie in Fig. 21 gezeigt ist, weist das Schubteil 286 eine Schubplatte 286a auf, die eine ausreichende Dicke hat, um in die Nut 124 in der Halsplatte 120 eingeführt zu werden. Die Schubplatte 286a wird in einer Warteposition gegenüberliegend der Nut 124 in der Halsplatte 120 gehalten, wenn die Halsplatte 120 in die Auswurfstation 116 plaziert wird. Wenn die Halsplatte 120 in die von dem Pfeil X in Fig. 13 angezeigte Richtung bewegt wird, wird die Schubplatte 286a in die Nut 124 in der Halsplatte 120 eingesetzt. Danach wird der Zylinder 282 betätigt, um die Kolbenstange 284 so auszufahren, daß die Halsplatte 120 von der Warteposition P6 oder P7 durch das Schubteil 286 und die Schubplatte 286a bewegt wird.

Die erste Dämpfungseinheit 290 befindet sich vor der Halsplatte 120, die durch die erste Schubeinheit 280 den Transportschritt M oder N durchmacht. Die erste Dämpfungseinheit 290 ist auch in der ersten Transporteinheit 300 angeordnet, die die Transportschritte C, C', L und L' durchführt, wie in Fig. 13 gezeigt ist. Die genaue Position der ersten Dämpfungseinheit 290 ist eine dem Vorwärtsende der Transportschritte M oder N gegenüberliegende Position, wie in Fig. 11 gezeigt ist. Die Dämpfungseinheit 290 weist eine bewegbare Platte 292a auf, welche mit einem Zylinder 292 angetrieben wird, und umfaßt eine damit über ein Halteglied 296 verbundene Rückzugplatte 294, wie im Detail in Fig. 24 gezeigt ist. Die Rückzugplatte 294 wird durch das Halteglied 296 ständig in eine mit einem Pfeil in Fig. 24 angezeigte Richtung vorgespannt. Die erste Dämpfungseinheit 290 weist ferner einen Stoßdämpfer 298 auf, welcher damit an einer dem vorderen Ende der Halsplatte 120 gegenüberliegenden Position verbunden ist. Der Zylinder 292 kann vom Kurzhub-Typ (z.B. ungefähr 5 mm Hub) sein, und eine Rückzugplatte 294 wird an einer Warteposition um 5 mm weiter nach vorn als eine Position, in welcher die Halsplatte 120 die Warteposition erreicht, plaziert. Wenn die Halsplatte 120 in diese Position gelangt, paßt die Rückzugplatte 294 in die Nut 124 davon. Dieses Einpassen kann einfach ausgeführt werden, indem die Rückzugplatte 294 mit einer zugespitzten Konfiguration ausgebildet wird, durch welche sie entlang dem nach vorne geneigten Ende 121 der Halsplatte 120 geführt wird, und auch indem das Halteglied 292 nach unten durch eine geeignete Federeinrichtung vorgespannt wird. Sofort nachdem die Rückzugplatte 294 in die Nut 124 einrastet, kann der Zylinder 292 zurückgezogen werden, um jeglichen Aufprall, der beim Anhalten der Halsplatte 120 erzeugt wird, aufzunehmen. Solch eine Stoßaufnahmewirkung kann auch von dem Stoßdämpfer 298 sichergestellt werden.

Vorrichtung zur Durchführung der Transportschritte C, C', L und L'

Diese Transportschritte werden mit der ersten Transporteinheit 300 durchgeführt, die in den Figuren 11, 16, 22 und 23 gezeigt ist. Die erste Transporteinheit 300 kann entlang einer Linearführung 302 hin und her bewegt werden.

Bezug nehmend auf die Figuren 22 und 23 weist die erste Transporteinheit 300 zwei Führungsschienen 306 und 308 zur Aufnahme der Halsplatten 120 in den in Fig. 13 gezeigen Wartepositionen P1 und P2 auf. Entlang der Linearführung 302 befindet sich eine Schraubenwelle 304 zum Bewegen der Führungsschienen 306 und 308. Die Schraubenwelle 304 wird von einem Servomotor 310 angetrieben. Eine der Führungsschienen 306 hält eine Kugelmutter-Anordnung 312 fest, welche mit der Schraubenwelle 306 verschraubt ist. Die andere Führungsschiene 308 wird nicht direkt durch die Schraubenwelle 304 angetrieben, und weist einen Bereich 314 auf, der mit der Linearführung 302 geführt ist.

Wie beschrieben wurde, ist der Abstand zwischen einem Paar benachbarter Halsplatten 120 während eines Transports von den Wartepositionen P1 und P2 zu der Warteposition P3 variabel. Dazu sind die Schraubenwellen 316 vorgesehen, um den Abstand zwischen den zwei Führungsschienen 306 und 308 zu verändern. Die Führungsschiene 306 hat einen Lagerbereich 318 für die Schraubenwelle 316, während die andere Führungsschiene 308 eine Kugelmutter-Anordnung 319 aufweist, welche mit der Schraubenwelle 316 verschraubt ist.

Nachdem die zwei Führungsschienen 306 und 308 das Paar Halsplatten 120 an der Warteposition P1 oder P2 erreicht haben, werden die Abstands-Veränderungs-Schraubenwellen 316 durch einen Servomotor 313 während des Transports zu der Warteposition P3 unter der Wirkung des Servomotors 310 angetrieben. Als Ergebnis kann der Abstand zwischen dem Paar Halsplatten 120 vergrößert werden. Wenn bei den Rücklaufschritten C' und L' die Schraubenwellen 316 in entgegengesetzte Richtung gedreht werden, kann der Abstand verkleinert werden.

Vorrichtung zur Durchführung des Transportschrittes D

Wie in den Figuren 18 und 25 gezeigt ist, weist diese Vorrichtung eine zweite Schubeinheit 320 und eine zweite Dämpfungseinheit 340 auf. Die zweite Schubeinheit 320 wird mit einem Zylinder 322 angetrieben, um ein Schubteil 324 vorwärts zu bewegen. Das Schubteil 324 ist zum Schieben des rückwärtigen Endes der Halsplatte 120 ausgelegt, die sich in der Warteposition P3 befindet, so daß alle sechs Halsplatten 120, die sich in der Warteposition P3, der Temperaturregulierungsstation 112 und der Blasformungsstation 114 befinden, vorwärts bewegt werden. Wie in Fig. 25 gezeigt ist, weist ein Mechanismus zum Antreiben des Schubteils 324 eine Zahnstange 326 auf, welche vorwärts und rückwärts durch eine Stange 322a in einem Zylinder 322 verfahren wird. Die Zahnstange 326 greift mit einem Ritzel 328 ein, welches in bezug auf eine erste Riemenscheibe 330a koaxial fest montiert ist. Eine zweite Riemenscheibe 330b ist in bezug auf eine dritte Antriebsscheibe 330c koaxial und zur Rotation mit der dritten Riemenscheibe 330c montiert. Zwischen der ersten und zweiten Riemenscheibe 330a und 330b ist ein Riemen 332 gespannt. Eine vierte Riemenscheibe 330d ist an einer Position angeordnet, die von der dritten Riemenscheibe 330c um einen Abstand, der im wesentlichen dem Hub des Schubteils 324 entspricht, beabstandet. Das Schubteil 324 ist fest an einem Riemen 334 montiert, welcher zwischen der dritten und vierten Riemenscheibe 330c und 330d gespannt ist.

Die zweite Dämpfungseinheit 340 ist an der in Fig. 13 gezeigten Warteposition P4 angeordnet. Die zweite Dämpfungseinheit 340 weist einen Dämpfungsblock 342 auf, der die Rückzugplatte 294 und den Stoßdämpfer 298 in der ersten Dämpfungseinheit 290 aufweist. Die zweite Dämpfungseinheit 340 ist jedoch durch einen Hub entsprechend der Länge der Halsplatte 120 in Längsrichtung bewegbar, mehr als die Kurzhub-Bewegung wie in der ersten Dämpfungseinheit 290. Dafür ist ein Arm 346 vorgesehen, welcher mit einem stangenlosen Zylinder 344 angetrieben wird. Der Arm 346 ist fest mit dem Dämpfungsblock 342 verbunden.

Um den Transportschritt D der Fig. 13 durchzuführen, wird die zweite Schubeinheit 320 angetrieben, um die in der Warteposition P3 vorhandenen Halsplatten 120 am rückwärtigen Ende zu schieben. Dazu ist die zweite Dämpfungseinheit 340 in ihrer Warteposition benachbart zu dem Ausgang der Blasformungsstation 114. Wenn die in der Blasformungsstation 114 vorhandenen Halsplatten 120 weg bewegt werden, greift die Rückzugplatte 294 des Dämpfungsblocks 342 in die Nut 124 der Halsplatte 120 ein. In solch einem Zustand wird der stangenlose Zylinder 344 betätigt, um die Halsplatten 120 mit einer geringfügig niedrigeren Geschwindigkeit als die des Zylinders 322 zurückzuziehen. Indem die Bewegung entlang der Transportbahn durchgeführt wird, können drei in Längsrichtung miteinander verbundene Halsplatten 120 sicher bewegt werden. Durch Zuweitbewegen der zweiten Dämpfungseinheit 340 kann das vordere Ende der in der Warteposition P4 sich befindlichen Halsplatten 120 von dem vorderen Ende der Halsplatten 120 in der Blasformungsstation 114 um einen geringen Abstand getrennt werden.

Vorrichtung zur Durchführung der Transportschritte G und G's

Diese Transportschritte werden durch Bewegen der zweiten Transporteinheit 350 entlang einer Linearführung 352, wie beschrieben, durchgeführt. Wie in den Fig. 11, 18 und 26 gezeigt ist, ist die zweite Transporteinheit 350 zum Antreiben zweier Führungsschienen 356 und 358 über eine Schraubenwelle 354, die mit einem Servomotor 360 drehend angetrieben wird, wie in der ersten Transporteinheit 300, ausgelegt. Die Führungsschiene 356 weist eine Kugelmutter- Anordnung 362 auf, welche mit der Schraubenwelle 354 geschraubt wird. Jede der Führungsschienen 356 und 358 wird mit einem Bereich 364, der durch die Linearführung 352 geführt wird, geformt. Der Abstand zwischen einem Paar Halsplatten 120 in der zweiten Transporteinheit 350 wird unterschiedlich von dem der ersten Transporteinheit 300 verändert. Zwischen den zwei Führungsschienen 356 und 358 sind zwei Führungsschafte 366 gespannt. Druck-Schraubenfedern 368 sind zwischen den Führungsschienen 356 und 358 und durch die Führungsschafte 366 hindurchführend angeordnet.

Der Abstand zwischen dem von den Führungsschienen 356 und 358 gehaltenen Paar Halsplatten 120 ist normalerweise zum Auseinanderziehen mit den Druck-Schraubenfedern 368 gehalten. Die Stoßdämpfer 370 und 372 sind an den entgegengesetzten Enden auf der zweiten Transporteinheit 350 angeordnet. Wenn der in Fig. 13 gezeigte Transportschritt G ausgeführt wird, wird die Führungsschiene 356 weiter bewegt, nachdem die andere Führungsschiene 358 den Stoßdämpfer 372 erreicht hat. So kann der obige Abstand, wie durch die strichpunktierte Linie in Fig. 26 gezeigt ist, verkleinert werden.

Vorrichtung zur Durchführung des Transportschrittes H

Der Transportschritt H wird mit einer dritten Schubeinheit 380 und einer dritten Dämpfungseinheit 390, wie in Fig. 17 gezeigt ist, durchgeführt. Die dritte Schubeinheit 380 ist zum Schieben eines Schubteils 384 ausgelegt, welches mittels eines stangenlosen Zylinders 382 an das rückwärtige Ende der in der Warteposition P5 sich befindenden Halsplatten 120 angetrieben wird. Die dritte Dämpfungseinheit 390 ist ähnlich der ersten Dämpfungseinheit 290 und weist eine Rückzugplatte 294 und einen Stoßdämpfer 298 auf, welche in Fig. 17 weggelassen sind. Die dritte Dämpfungseinheit 390 dient dazu, die in die Auswurfstation 116 transportierten Halsplatten 120 an einer Stelle zu puffern, bevor die Halsplatten 120 ihre Warteposition erreichen, beispielsweise 5 mm vor der Warteposition.

Vorrichtung zur Durchführung des Transportschrittes X

Der Transportschritt X wird durch wechselweises Bewegen des Rahmentragwerks 250 zu den Wartepositionen P6 und P7 in der Auswurfstation 116 durchgeführt, nachdem der Verfahrensschritt des Auswerfens beendet wurde.

Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die dargestellten Ausführungsformen beschränkt, und kann mit verschiedenen Veränderungen, die innerhalb des Umfangs der Erfindung liegen, durchgeführt werden. Obwohl die Ausführungsformen beschreiben wurden, die eine gleichzeitige Bewegung der zwei Halsplatten 120 zu den jeweiligen Stationen 110a, 110b, 112, 114 und 116 auszuführen, kann eine einzige Halsplatte 120 zu der entsprechenden Station bewegt werden. Die beschriebenen Vorrichtungen zur Durchführung der in Fig. 13 gezeigten jeweiligen Transportschritte können durch jedes andere Antriebssystem ersetzt werden. Des weiteren kann die Temperaturregulierungsstation 112 bei Durchführung der vorliegenden Erfindung weggelassen werden.


Anspruch[de]

1. Spritzgieß- und Streckblasverfahren zum sequentiellen Umlaufen mehrerer Halsform-Bewegungseinheiten zum Tragen und Transportieren von Halsformen, welche zum Halten der Halsbereiche von Hohlkörpern und Vorformlingen ausgelegt sind, welche zum Formen der Hohlkörper verwendet werden, wenigstens durch eine Station zum Spritzgießen des Vorformlings, eine Blasformungsstation und eine Auswurfstation, wobei der Verfahrensschritt des Spritzgießens des Vorformlings, der Blasformungsschritt zum Blasformen der Hohlkörper aus den Vorformlingen, welche ihre im Verfahrensschritt des Spritzgießens erhaltene latente Wärme aufweisen, und der Verfahrensschritt des Auswerfens des Produktes wiederholt ausgeführt werden,

mit den Verfahrensschritten:

-Bereitstellen von Spritzgießstationen in einer Anzahl M für Blasformungsstationen in einer Anzahl von N mit (M> N≥1),

-Spritzgießens der Vorfarmlinge in jeder der Spritzgießstationen zu einer Spritzgieß-Startzeit, welche von denen der anderen Spritzgießstationen um eine Zeit versetzt ist, die N x T/M entspricht, wobei T eine Spritzgieß-Taktzeit in jeder Spritzgießstation ist,

-sequentielles Bewegen der Halsform-Bewegungseinheiten von den Spritzgießstationen zu der leeren Blasformungsstation, nachdem eine entsprechende Spritzgießstation die Vorformlinge geformt hat, und

-Blasformen der Vorformlinge zu den Hohlkörpern in den Blasformungsstationen in deren Blasformungs-Taktzeit, welche auf bis zu N x T/M festgesetzt wird.

2. Spritzgieß- und Streckblasverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Blasformungsstation in einer Anzahl N=1 und die Auswurfstation in einer ersten Transportlinie für die Halsform-Bewegungseinheiten angeordnet werden, und daß eine der Spritzgießstationen in jeder der Transportlinien in der Anzahl M parallel zu der ersten Transportlinie angeordnet wird, wobei die Halsform-Bewegungseinheiten, deren Anzahl (M+2) beträgt, was der Gesamtanzahl der Stationen entspricht, zwischen den Stationen umlaufen.

3. Spritzgieß- und Streckblasverfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Anzahl der Halsform-Bewegungseinheiten, welche zwischen den Stationen umlaufen (M+3) beträgt, was der Gesamtzahl der Stationen plus eins entspricht, und daß eine der Halsform-Bewegungseinheiten an irgendeiner der Transportlinien in einer Warteposition abgestellt wird, welche von der Position der Stationen verschieden ist.

4. Spritzgieß- und Streckblasverfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,

daß weiter eine Temperaturregulierungsstation zum Regulieren der Temperatur der spritzgegossenen Vorformlinge auf eine geeignete Strecktemperatur vorgesehen wird,

daß eine Temperaturregulierungs-Taktzeit in der Temperaturregulierungsstation auf bis zu T/M festgesetzt wird, und

daß die Anzahl der zwischen den Stationen umlaufenden Halsform-Bewegungseinheiten (M+3) beträgt, was der Gesamtzahl der Stationen einschließlich der Temperaturregulierungsstation entspricht.

5. Spritzgieß- und Streckblasverfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Anzahl der Halsform-Bewegungseinheiten, welche zwischen den Stationen umlaufen (M+4) beträgt, was der Gesamtzahl der Stationen plus eins entspricht, und daß eine der Halsform-Bewegungseinheiten an irgendeiner der Transportlinien in einer Warteposition abgestellt wird, welche von der Position der Stationen verschieden ist.

6. Spritzgieß- und Streckblasverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,

daß die Blasformungsstation mit der Anzahl N=1 in einer ersten Transportlinie für die Halsform-Bewegungseinheiten angeordnet wird, und

daß die Auswurfstation und die Spritzgießstationen mit der Anzahl M=2 an einer zweiten Transportlinie angeordnet werden, welche sich parallel zu der ersten Transportlinie erstreckt,

daß die zwei Spritzgießstationen mit demselben Abstand von der Auswurfstation entfernt sind und sich parallel zueinander erstrecken, und

daß fünf der Halsform-Bewegungseinheiten für die Stationen in der Gesamtzahl von vier zwischen den Stationen umlaufen, und eine der Halsform-Bewegungseinheiten an irgendeiner der Transportlinien in einer Warteposition angeordnet wird, welche von der Position der Stationen verschieden ist.

7. Spritzgieß- und Streckblasverfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,

daß weiter eine Temperaturregulierungsstation an der ersten Transportlinie zum Regulieren der Temperatur der spritzgegossenen Vorformlinge auf eine geeignete Strecktemperatur vorgesehen wird,

daß eine Temperaturregulierungs-Taktzeit in der Temperaturregulierungsstation auf bis zu T/2 festgesetzt wird,

daß die Anzahl der zwischen den Stationen umlaufenden Halsform-Bewegungseinheiten sechs beträgt, was der Gesamtzahl der Stationen einschließlich der Temperaturregulierungsstation plus eins entspricht, und

daß eine der Halsform-Bewegungseinheiten an irgendeiner der Transportlinien in einer Warteposition abgestellt wird, welche von der Position der Stationen verschieden ist.

8. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung mit:

- mehreren Halsform-Bewegungseinheiten zum Tragen und Transportieren der Halsformen, welche für die Halsbereiche der Hohlkörper und der zum Formen der Hohlkörper verwendeten Vorformlinge ausgelegt sind,

- Spritzgießstationen in der Anzahl M, wobei jede der Spritzgießstationen ausgelegt ist, die Halsform-Bewegungseinheiten sequentiell aufzunehmen und die Vorformlinge zu einer Spritzgieß-Startzeit spritzzugießen, welche von denen der anderen Spritzgießstationen versetzt ist,

- Blasformungsstationen in der Anzahl N mit (M> N≥1), wobei jede der Blasformungsstationen ausgelegt ist, die Halsform-Bewegungseinheiten, welche die Vorformlinge mit ihrer beim Spritzgießen erhaltenen latenten Wärme tragen, sequentiell von den Spritzgießstationen aufzunehmen und die Vorformlinge zu den Hohlkörpern blaszuformen, und

- Auswurfstationen in der Anzahl N zum Aufnehmen der Halsform-Bewegungseinheiten, welche jeweils die Hohlkörper sequentiell von den Blasformungsstationen tragen und zum Auswerfen der Hohlkörper aus den Halsform-Bewegungseinheiten, wobei:

- jede der Spritzgießstationen ausgelegt ist, um die Vorformlinge zu einer Spritzgieß-Startzeit spritzzugießen, welche von denen der anderen Spritzgießstationen um eine Zeit versetzt ist, welche N x T/M entspricht, wobei T eine Spritzgieß-Taktzeit in jeder der Spritzgießstationen ist,

- die Halsform-Bewegungseinheiten sequentiell von den Spritzgießstationen zu der leeren Blasformstation bewegt werden, nachdem die entsprechende Spritzgießstation einen Vorformling gegossen hat, und

- die Blasformungsstationen ausgelegt sind, die Vorformlinge zu den Hohlkörpern während ihrer Blasformungs-Taktzeit blaszuformen, welche auf bis zu N x T/M festgesetzt ist.

9. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,

daß weiter Temperaturregulierungsstationen in der Anzahl N zum sequentiellen Aufnehmen der Halsform-Bewegungseinheiten von den Spritzgießstationen in der Anzahl M und zum Regulieren der Temperatur der spritzgegossenen Vorformlinge auf eine geeignete Strecktemperatur vorgesehen sind, und

daß eine Temperaturregulierungs-Taktzeit in jeder Temperaturregulierungsstation auf bis zu N x T/M festgesetzt ist.

10. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,

daß die Halsform-Bewegungseinheiten Halsplatten bei M=2 sind,

daß die Spritzgieß-Startzeit sich von der der anderen Spritzgießstationen um im wesentlichen die Hälfte einer Spritzgieß-Taktzeit T bei N=1 unterscheidet, wobei die Vorformlinge zu den Hohlkörpern innerhalb (T/2) blasgeformt werden, und

daß eine Auswurfstation zum Auswerfen der Hohlkörper aus den Halsformen vorgesehen ist, wobei die Auswurfstation in einem zu den zwei Spritzgießstationen benachbarten Bereich und in einer Mittenposition angeordnet ist, von der die Halsplatten mit demselben Abstand von der Auswurfstation zu den zwei Spritzgießstationen bewegt werden.

11. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,

daß die Anzahl der Halsplatten, welche zwischen den Stationen umlaufen, vier beträgt, was der Gesamtzahl der Stationen plus eins entspricht, und

daß eine der Halsplatten an irgendeiner der Transportlinien in einer Warteposition angeordnet ist, welche von der der Stationen verschieden ist, während die anderen drei Halsplatten in den entsprechenden Stationen gehalten sind.

12. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,

daß weiterhin eine Temperaturregulierungsstation zum Regulieren der Temperatur der spritzgegossenen Vorformlinge auf eine geeignete Strecktemperatur vorgesehen ist, und

daß die Anzahl der Halsplatten, welche zwischen den Stationen umlaufen, fünf beträgt, was der Gesamtzahl der Stationen plus eins entspricht, und

daß eine der Halsplatten an irgendeiner der Transportlinien in einer Warteposition abgestellt ist, welche von der der Stationen verschieden ist, während die anderen vier Halsplatten an den entsprechenden Stationen gehalten sind.

13. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Stationen eine Führungsschieneneinrichtung aufweist, um die Halsplatten zum Hintransportieren, Abtransportieren und Anhalten zu tragen.

14. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,

daß jede der Halsplatten eine Positionierlocheinrichtung aufweist, und

daß jede der Stationen eine Zapfeneinrichtung aufweist, welche in die Positionierlocheinrichtung eingesteckt ist, um die Halsplatte an richtiger Stelle zu positionieren.

15. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet,

daß weiter zwei Gruppen von Führungsschieneneinrichtungen vorgesehen sind, um die Halsplatten zum Stoppen, Hintransportieren und Abtransportieren zu tragen, wobei jede Führungsschieneneinrichtung eine Führungschiene, welche gegenüber irgendeiner der zwei Spritzgießstationen angeordnet ist, und eine andere Führungsschiene aufweist, welche gegenüber der Auswurfstation angeordnet ist, und

daß eine Antriebseinrichtung zum Antreiben der zwei Gruppen von Führungsschieneneinrichtungen in einer Richtung senkrecht zu der Transportrichtung der Halsplatten vorgesehen ist, so daß eine der Führungsschieneneinrichtungen wechselweise der entsprechenden Spritzgiestation der zwei Spritzgießstationen gegenüberliegt.

16. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,

daß weiter eine erste Transportlinie mit zwei der Spritzgießstationen und der Auswurfstation vorgesehen ist,

daß eine zweite Transportlinie mit wenigstens einer Spritzgießstation vorgesehen ist,

daß eine dritte Transportlinie zum Zuführen und Transportieren der Halsplatten von der ersten Transportlinie zu der zweiten Transportlinie vorgesehen ist, daß eine vierte Transportlinie zum Rückholen der Halsplatten von der zweiten Transportlinie zu der ersten Transportlinie vorgesehen ist, wobei die erste, zweite, dritte und vierte Transportlinie eine Transportschleife bilden,

daß eine erste Transporteinheit vorgesehen ist, die entlang der dritten Transportlinie hin und her bewegbar ist und zum Zuführen der Halsplatten von der ersten Transportlinie zu der zweiten Transportlinie dient, und daß eine zweite Transporteinheit vorgesehen ist, welche entlang der vierten Transportlinie hin und her bewegbar ist und zum Zuführen der Halsplatten von der zweiten Transportlinie zu der ersten Transportlinie dient.

17. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß weiter eine Temperaturregulierungsstation an der zweiten Transportlinie zum Regulieren der Temperatur der spritzgegossenen Vorformlinge auf eine geeignete Strecktemperatur vorgesehen ist.

18. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet,

daß weiter eine Antriebs- und Transporteinrichtung an der ersten und zweiten Transportlinie zum gleichzeitigen Transportieren mehrerer Halsplatten bei aneinander liegenden Enden entlang derselben Linie vorgesehen ist, und

daß die Antriebs- und Transporteinrichtung eine Drückeinrichtung zum Drücken der, in Transportrichtung gesehen, hinteren Enden der Halsplatten und eine Einrichtung zum Zurückziehen der, in Transportrichtung gesehen, vorderen Enden der Halsplatten aufweist.

19. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,

daß weiter zwei Reihen von Spritzgießhohlformen vorgesehen sind, welche in der Spritzgießstation unterhalb der Position angeordnet sind, in der die Halsplatten angehalten werden, und

daß zwei Reihen von Blashohlformen vorgesehen sind, welche in der Blasformungsstation unterhalb der Position angeordnet sind, in welcher die Halsformen angehalten werden, und

daß die Anzahl der Gruppen von Halsplatten, welche zwischen den Stationen umlaufen, fünf beträgt, was der Gesamtzahl der Stationen plus eins entspricht, wobei jede Gruppe von Halsplatten zwei Halsplatten aufweist, die parallel zueinander liegen und gleichzeitig transportiert werden.

20. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet,

daß der Reihenabstand zwischen zwei Reihen von Spritzgießhohlformen kleiner ist als der zwischen zwei Reihen von Blashohlformen, und

daß die erste Transporteinheit ausgelegt ist, den Reihenabstand zwischen den zwei Halsplatten zeitgleich mit dem Transportieren entlang der dritten Transportlinie zu erhöhen, und

daß die zweite Transporteinheit ausgelegt ist, um den Reihenabstand zwischen den zwei Halsplatten zeitgleich mit dem Transportieren entlang der vierten Transportlinie zu verringern.

21. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet,

daß weiter zwei Reihen von Spritzgießhohlformen vorgesehen sind, welche in der Spritzgießstation unterhalb der Position angeordnet sind, in welcher die Halsplatten angehalten werden, und

daß zwei Reihen von Dlashohlformen vorgesehen sind, die in der Blasformungsstation unterhalb der Position angeordnet sind, in welcher die Halsplatten angehalten werden, und

daß die Anzahl der Gruppen von Halsplatten, welche zwischen den Stationen umlaufen, sechs ist, was der Gesamtzahl der Stationen einschließlich der Temperaturregulierungsstation plus eins entspricht, wobei jede Gruppe der Halsplatten zwei Halsplatten aufweist, die parallel zueinander angeordnet sind und gleichzeitig transportiert werden.

22. Spritzgieß- und Streckblasvorrichtung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet,

daß der Reihenabstand zwischen zwei Reihen von Spritzgießhohlformen kleiner ist als der zwischen zwei Reihen von Blashohlformen,

daß die erste Transporteinheit ausgelegt ist, den Reihenabstand zwischen zwei Halsplatten zeitgleich mit dem Transportieren entlang der dritten Transportlinie zu erhöhen, und

daß die zweite Transporteinheit ausgelegt ist, um den Reihenabstand zwischen den zwei Halsplatten zeitgleich mit dem Transportieren entlang der vierten Transportlinie zu verringern.







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