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Dokumentenidentifikation DE19621874C2 12.10.2000
Titel Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen
Anmelder Forschungszentrum Karlsruhe GmbH, 76133 Karlsruhe, DE
Erfinder Engelko, Vladimir, Dr., St. Petersburg, RU;
Giese, Harald, 76297 Stutensee, DE;
Müller, Georg, 76135 Karlsruhe, DE;
Schalk, Sven, 76139 Karlsruhe, DE;
Schultheiß, Christoph, Dr., 76327 Berghausen, DE;
Würz, Hermann, Dr., 76467 Bietigheim, DE
DE-Anmeldedatum 31.05.1996
DE-Aktenzeichen 19621874
Offenlegungstag 11.12.1997
Veröffentlichungstag der Patenterteilung 12.10.2000
Veröffentlichungstag im Patentblatt 12.10.2000
IPC-Hauptklasse H01J 33/00
IPC-Nebenklasse H01J 3/04   H01J 3/02   H01J 27/08   H01J 37/077   H01J 37/08   

Beschreibung[de]

Die Erfindung betrifft eine Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen.

Eine solche gepulste Strahlquelle findet sowohl in, der Halbleiterindustrie für die Ionenimplantation als auch in der Metallindustrie im Bereich der Oberflächenbehandlung Anwendung. Darüber hinaus ist die Auswirkung der Bestrahlung von Werkstoffoberflächen mit unterschiedlichen Ionensorten seit Jahren Gegenstand intensiver Untersuchungen in einschlägigen Laboratorien weltweit. Untersuchungen aus diesen Laboratorien führten zu den Ergebnissen, daß durch Wahl geeigneter Ionentypen die Abriebs- und Korrosionsbeständigkeit von Metalloberflächen deutlich verbessert werden können.

Ionenquellen haben im Bereich Halbleiterfertigung weite Verbreitung gefunden, nicht so sehr jedoch in anderen industriellen Fertigungsbereichen, wo gezielte Fremdmaterialimplantation für die Verbesserung von Materialeigenschaften wichtig ist.

Gegenüber Galvanikbädern für die Oberflächenveredelung z. B. haben Ionenquellen einige gravierende Nachteile, da sie z. B. zu komplex im Aufbau und der Bedienung sind und in den meisten Fällen keine großflächige Materialbehandlung erlauben.

Der prinzipielle Aufbau und die Funktionsweise solcher gepulsten Strahlungsquellen wird z. B. in dem Aufsatz "Metal Vapor Vacuum Arc Source" von I. G. Brown et al. in Rev. Sci. Instrum. 57 (6), June 1986 auf den Seiten 1069 bis 1084 beschrieben und erläutert. Eine Ausführung der gepulsten Strahlungsquelle mit Mehrkathodenanordnung wird in der US-PS 4,785,220 und in Rev. sci. Instrum. 65 (10) Okt. 1994, 3061-3081 vorgestellt. Diese Gattung von Strahlungsquellen (Quellen des Brown-Typs) gehören zu der Klasse, die das Plasma, aus dem die gewünschten Ionen extrahiert werden sollen, durch eine Bogenentladung im Vakuum erzeugen.

Die Quelle besteht prinzipiell aus drei in einer Vakuum-Kammer untergebrachten Baugruppen (siehe Fig. 1 und 5 in dem zweiten zitierten Rev. Sci. Instrum.), nämlich einer Vakuum- Bogenplasmaquelle, einem Expansionsraum und einem Extraktionssystem.

Die Bogenplasmaquelle besitzt 3 koaxiale Elektroden: eine Anode, eine Kathode und eine Triggerelektrode. Die Bogenentladung wird durch eine Funkenentladung zwischen der Kathode und der Triggerelektrode gezündet. Der hierzu notwendige Triggerimpuls von einigen Mikrosekunden Länge und einer Spannungsamplitude von 10-20 kV wird durch eine Kondensatorentladung produziert, wobei der Kondensator über einen Thyratronschalter und einen Isoliertransformator zwischen Kathode und Triggerelektrode gelegt wird.

Bei der für die Bogenentladung erforderlichen Spannungsquelle handelt sich um eine auf das Niveau der Extraktionsspannung hochgelegte Pulsspannungsquelle (Pulse Forming Line).

Nach dem Zünden der Entladungsstrecke fließt ein Teil der durch die Bogenentladung zwischen Anode und Kathode erzeugten Plasmawolke durch das zentrale Loch in der Anode in Richtung Ionenextraktor.

Das Extraktorsystem besteht aus einer Anordnung von 3 Gittern. Das erste Gitter, d. h. das der Anode am nächsten gelegene, ist mit der Anode über einen Widerstand verbunden, das zweite Gitter erhält eine Vorspannung von -1 kV. Das dritte Gitter liegt auf Erdpotential. Die Ionenbeschleunigungsspannung wird zwischen den ersten beiden Gittern angelegt.

Quellen dieser Art besitzen folgenden Schwachpunkte:

  • a) Kleiner Strahldurchmesser von nur wenigen Zentimetern und daher relativ niedriger Ionenstrom.
  • b) Die Notwendigkeit einer Triggereinheit um die Vakuum-Bogenentladung zu initiieren, bestehend aus Hochspannungsversorgung und Hochspannungstransformator.
  • c) Die Notwendigkeit einer um die Extraktionsspannung hochliegenden Spannungsversorgung für die Vakuum-Bogenentladung.
  • d) Die Notwendigkeit einer Synchronisation zwischen der Initiierung der Bogenentladung und dem Anlegen der Extraktionsspannung (solange die Extraktionsspannung noch nicht anliegt, darf das Bogenplasma nicht in den Extraktorbereich vordringen).
  • e) Der produzierte Ionenstrahl besteht aus nur einer Sorte von Ionen, die durch das Kathodenmaterial der Bogenentladungsstrecke festgelegt ist.
  • f) Inhomogenität der radialen Stromdichteverteilung (typisch Gauss-Profil), bewirkt durch die radiale Inhomogenität des Plasmas aufgrund von Rekombinationseffekten an den umgebenden Wänden.

Der Strahldurchmesser von Quellen des Brown-Typs kann durch eine matrixartige Anordnung vieler solcher Quellen gesteigert werden (siehe o. z. Rev. Sci. Instrum. in Sect. III, Seite 3074, B. Very-broad-beam-operation). Durch Verwendung unterschiedlicher Kathodenmaterialien in den verschiedenen Quellen würde dies auch die Produktion von Misch-Ionenstrahlen ermöglichen. Jedoch würden nach wie vor die Nachteile b), c), d), f) bestehen bleiben.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, in Hinblick auf die Oberflächenbearbeitung von Werkstoffen einen möglichst homogenen, großflächigen Strahl elektrisch geladener Teilchen bereitzustellen.

Eine Quelle gemäß dem Oberbegriff des Anspruch 1 ist die Basis zur Lösung der Aufgabe. Die Lösung der Aufgabe wird schließlich durch eine Quelle mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruch 1 ermöglicht.

Eine Erkenntnis bei der Gestaltung der Anodenanordnung ist, daß der Strahlstrom um 50% bei dem Einbau des Widerstands RAG zwischen dem Anodengitter AG und der Anoden-Entladungselektrode DE erhöht wird. Der Widerstandswert von RAG muß folgende untere Schranke berücksichtigen:



RAG » Te/e IiO (1 - α).

Dabei ist Te die Elektronentemperatur im Plasma, e die Elektronenelementarladung und Ii0 der Ionensättigungsstrom, der sich folgendermaßen berechnet



IiO = 0.49 e ni A √(Te/mi)



mit ni als Ionenteilchendichte, mi der Ionenmasse und A der Anodengitterfläche. α ist die Anodengittertransparenz. (Der Faktor 0.49 stammt aus der Plasma-Theorie.) Unter diesen Voraussetzungen kann das Anodengitter AG das "floating potential" des Anodenplasmas annehmen.

Um zu verhindern, daß während der Zündphase ein wesentlicher Teil der Anodenspannung über den Anodenaußenwiderstand RA abfällt, wird dieser mit dem Kondensator CA überbrückt. Der Wert des Kondensators wird so gewählt, daß er erst dann vollständig geladen ist, wenn der Zündvorgang abgeschlossen ist. Er liegt zwischen den Schranken



T[(RA + R)/RAR] » CA » τ[(RA + R)/RAR].

Dabei ist τ die notwendige Zeitspanne zur Ausbildung der Bogenentladung bzw. der Oberflächenentladung zwischen den Drahtelektroden NE und der Anoden-Entladungselektrode DE. T ist die Dauer des Hochspannungsimpulses. Der gesamte Drahtelektrodenwiderstand ist



R = Ro/n,



wobei n die Gesamtzahl der Drahtelektroden ist.

Der Entladestrom ientl über die parallel liegenden Drahtelektroden NE ist im eingeschwungenen Zustand gleich dem Quotienten U/RA aus angelegter Hochspannung U und dem Außenwiderstand RA. Viele, im Entladungsfall parallel geschaltete Reihenwiderstände RO - um über dem Strahlquerschnitt homogene Strahlverhältnisse zu erreichen, benötigt man viele (n) Drahtelektroden NE und damit entsprechend viele Reihenwiderstände R0 - fallen gegenüber RA nicht ins Gewicht, sie können damit bei der Dimensionierung vernachlässigt werden.

Es ist somit auf einfache Art möglich, über die Wahl von RA im durchgezündeten bzw. eingeschwungenen Fall den Entladestrom ientl und somit die Produktionsrate des Anodenplasmas und hierdurch den von der Quelle gelieferten, dem Entladestrom ientl proportionalen Ionenstrom ii zu steuern. Da, wie bei Quellen dieses Typs üblich, der von der Quelle gelieferte Ionenstrom ii nur etwa 5% des Entladestroms ientl beträgt, bestimmt letzterer im wesentlichen die Gesamtstromaufnahme der Quelle. Dies impliziert, daß RA die Hauptlast für den die Quelle speisenden Pulsgenerator PVG repräsentiert. Ein Abstimmen des Generatorwiderstands Ri des Pulsgenerators PVG auf den Widerstand RA erlaubt somit auf einfache Weise eine spannungsunabhängige Leistungsanpassung zwischen Quelle und Energieversorgung.

Damit die Serienwiderstände R0 keine Metalldampfablagerung erfahren und dadurch nach längerem Betrieb über eine metallisierte Oberfläche kurzgeschlossen werden, sind sie vom Raum der Drahtelektroden NE durch eine dielektrische Platte P abgeschottet. Abhängig von der Polarität der zwischen der Anoden- Entladungselektrode DE und dem Vakuumgefäß angeschlossenen Hochspannungsquelle, liefert die Quelle einen Ionen- oder einen Elektronenstrahl.

Anspruch 2 kennzeichnet die hinlänglich bekannte Pierce-Elektrode, die eine laterale Beschleunigung der Ladungsträger am Rand des Beschleunigungsbereichs zwischen dem Anodengitter AG und den Kathodengitter CG1 unterdrückt.

Das erstes Kathodengitter CG1 am Ende des Beschleunigungsraums ist zur optimalen Strahlführung ebenfalls am Rand mit einer Fokussierelektrode CFE versehen (Anspruch 3).

Ein weiteres, in Strahlrichtung folgendes Kathodengitter CG2 besteht aus einem Material mit hohem Emissionskoeffizient für Sekundärelektronen (Anspruch 4).

Alle Durchführungen zu den verschiedenen Elektroden und der Stromkollektorschiene sind hochspannungsfest, so daß die angelegten Potentiale in Höhe und Vorzeichen beliebig variiert werden können (Anspruch 5).

Anspruch 6 kennzeichnet die Verschließung der Löcher im Anoden-Entladungsgitter DE und die gleichzeitige Führung der jeweiligen Drahtelektrode NE darin mit einem dielektrischen Material, das einen hohen Wasserstoffgehalt hat, so daß je nach angelegten Potentialen ein Protonen- oder Elektronenstrahl erzeugt wird.

Um einen Strahlquerschnitt mit homogen verteilten Ionen zu erzeugen müssen grundsätzlich viele (n) Drahtelektroden aufgestellt werden. Örtlich unterschiedliche Ionensorten im Strahlquerschnitt können über entsprechend örtlich verteilte Drahtelektroden entsprechenden Materials erhalten werden. Damit lassen sich über den Strahlquerschnitt hinweg Verteilungsstrukturen der unterschiedlichen Ionensorten einstellen (Anspruch 7).

Die vorgeschlagene Strahlenquelle hat die folgenden Vorteile:

  • - Verwendung von nur einer Spannungsquelle für die Produktion des die Ionen bzw. Elektronen emittierenden Plasmas und für deren Beschleunigung. Dies führt zu automatischer Synchronisation von Plasmaaufbau und Erscheinen der Beschleunigungsspannung. Hier liegt einer der besonderen Vorteile der Erfindung gegenüber anderen z. Zt. existierenden Ionenquellen, die, wie oben anhand der Brown-Quelle beschrieben, spezielle Vorrichtungen zur Plasma-Initiierung und - Aufrechterhaltung und zur Synchronisation der verschiedenen Prozesse benötigen.
  • - Großer Strahlquerschnitt bis zu Quadratmetern.
  • - Strahlhomogenität über den Strahlquerschnitt leicht optimierbar durch entsprechende Anzahl Plasmaquellen pro Fläche und ihrer Serienwiderstände Ro.
  • - Einfache Steuerbarkeit der Ionen- bzw. Elektronenstromdichte.
  • - Hoher Wirkungsgrad der Raumladungsneutralisation des Ionenstrahls im Driftraum führt zu geringer Strahlauffächerung.
  • - Unabhängigkeit des Innenwiderstandes der Quelle von der angelegten Spannung erleichtert die leistungsmäßige Anpassung der Quelle an die externe Energieversorgung.
  • - Erzeugt werden können sowohl Strahlen von Wasserstoff-, Kohlenstoff-, und unterschiedlichsten Metallionen, als auch Elektronenstrahlen. Des weiteren besteht die Möglichkeit, die genannten Ionen in einem Strahl zu kombinieren.

Die Erfindung wird anhand einer schematischen Darstellung im folgenden weiter erläutert. Es zeigt

Fig. 1 die Ionen/Elektronen-Quelle und

Fig. 2 die Anoden-Entladungselektrode bei Protonen- oder Elektronenproduktion.

Die Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen besteht aus:

  • - Der Vakuumkammer VC mit 4 Hochspannungsdurchführungen F1, F2, F3 und F4.
  • - Der Anoden-Entladungselektrode DE mit einem Raster von Löchern, welche einen Radius r1 und einen gegenseitigen Mittenabstand Δ voneinander haben.

Im Zentrum jedes Loches ist die zugehörige Drahtelektrode NE installiert, deren Material entsprechend der zu produzierenden Ionensorte ausgewählt wird. Jede dieser Drahtelektroden ist über einen Serienwiderstand Ro mit dem Stromkollektor K verbunden. Die mit Bohrungen für die Durchführung der Drahtelektroden versehene dielektrische Platte P trennt den Raum zwischen den Drahtelektroden und den Serienwiderständen.

Im Abstand D von der Anoden-Entladungselektrode DE ist das Anodengitter AG installiert, welches an seiner Peripherie elektrisch leitend in die Anoden-Fokussierelektrode (AFE) ausläuft. Das Anodengitter AG ist mit der Anoden-Entladungselektrode DE über den Widerstand RAG verbunden. Der Anoden-Entladungselektrode DE wird über die Hochspannungsdurchführung F1 der Hochspannungspuls des Pulsspannungsgenerators (PVG) zugeführt.

Die Parallelschaltung aus dem Widerstand Ra und dem Kondensator Ca liegt außerhalb der Vakuumkammer. Diese RC- Kombination ist einerseits über die Hochspannungsdurchführung F2 mit der Stromkollektorschiene und andererseits mit der Vakuumkammer verbunden.

Das erste Kathodengitter CG1 liegt über die Hochspannungsdurchführung F3 an einer negativen Gittervorspannung. An seiner Peripherie besitzt das erste Kathodengitter CG1 die Kathoden-Fokussierelektrode (CFE). Die Form sowohl der Kathoden- als auch der bereits erwähnten Anoden-Fokussierelektrode wird so gewählt, daß eine optimale Strahlführung erreicht wird.

Das zweite Kathodengitter (CG2) ist aus einem Material gefertigt, das einen hohen Emissionskoeffizienten für Sekundärelektronen besitzt (z. B. Nickel). Dieses zweite Gitter wird über die Hochspannungsdurchführung F4 geerdet, oder es wird eine negative Gittervorspannung angelegt. Das hängt von den Erfordernissen des jeweiligen Systems ab.

Soll die Quelle benutzt werden, um einen Protonenstrahl zu produzieren, so werden die Löcher in der Anoden- Entladungselektrode mit axial durchbohrten, dielektrischen Stopfen versehen (siehe Fig. 2), die aus einem Material mit hohem Wasserstoffgehalt gefertigt sind (z. B. Polyäthylen). Die Stopfen haben 2 abgestufte Radien (r1 < r2), deren kleinerer dem Radius der Löcher in der Anoden- Entladungselektrode entspricht. Die Stopfen werden so eingesetzt, daß der Teil mit dem größeren Radius zu den Serienwiderständen R0 hin zeigt.

Mit Hilfe der Fig. 1 und 2, wobei die Fig. 1 zunächst den schematischen Gesamtaufbau und Fig. 2 die Anodenentladungselektrode bei Protoneneproduktion zeigt, wird die Funktionsweise im folgenden näher erläutert:

Ein von dem Pulsspannungsgenerator gelieferter, positiver Hochspannungspuls wird der Anoden-Entladungselektrode zugeführt. Das Auftreten der Hochspannung an der Entladungselektrode führt zur Ausbildung von elektrischen Entladungen zwischen der Elektrode selbst und den in den Löchern installierten Drahtelektroden. Der besondere Zweck der Serienwiderstände R0 in den Zuleitungen der Drahtelektroden liegt darin, auch dann noch einen zum Zünden weiterer Entladungsstrecken ausreichenden Spannungsunterschied zwischen der Entladungselektrode und den Drahtelektroden aufrechtzuerhalten, wenn schon eine signifikante Anzahl von Entladungen gezündet hat. Die Einfügung und richtige Dimensionierung dieser Widerstände garantiert somit ein gleichmäßiges Zündverhalten auch für großflächige Anoden.

Für eine korrekte Funktion der Quelle müssen folgende Bedingungen erfüllt sein:

Der Radius r1 der Löcher in der Anoden-Entladungselektrode DE muß die Bedingung



U/[r1 ln(r1/rNE)] ≥ Eb



erfüllen. Hierbei sind U die angelegte Anodenspannung, rNE der Radius der Drahtelektrode NE und Eb die für die Ausbildung der Bogenentladung erforderliche Feldstärke. Der Radius r2 der dielektrischen Stopfen muß die Bedingung



U/[r2 ln(r2/rNE)] ≤ Eb



erfüllen. In einem Ausführungsbeispiel wurde r2 etwa 30% größer gewählt als r1.

Die Entladung zwischen der Anoden-Entladungselektrode DE und den Drahtelektroden NE führt zur Ausbildung eines Plasmas, welches als Emitter von Ionen und Elektronen fungiert und in den Raum zwischen der Anoden-Entladungselektrode und dem Anodengitter hinein expandiert. Um eine homogene Dichte des Plasmas im Bereich des Anodengitters AG zu erreichen, muß der Abstand Δ zwischen den einzelnen Drahtelektroden NE kleiner sein als der Abstand D zwischen Anoden-Entladungselektrode DE und Anodengitter AG, also



Δ < D.

Hat das Plasma die Löcher im Anodengitter erreicht, so gerät es unter den Einfluß des bereits seit dem Anlegen des Hochspannungspulses bestehenden elektrischen Feldes. Die Feldkräfte extrahieren die geladenen Teilchen (je nach Betriebsart Ionen oder Elektronen) aus dem Plasma und beschleunigen diese in Richtung auf die Kathodengitter CG1 und CG2. Die erzielte Teilchenstromdichte wird durch die Dichte des Anodenplasmas bestimmt.

Experimente haben gezeigt, daß bei der hier präsentierten Quelle die Plasmadichte proportional dem gesamten Entladungsstrom - also der Summe aller die Drahtelektroden durchfließenden Ströme - ist. Der Proportionalitätskoeffizient wird experimentell bestimmt. Er liegt erfahrungsgemäß bei etwa 0.05.

Ein anderer experimenteller Befund ist die Erhöhung des Strahlstroms um 50% bei Verwendung des Widerstandes RAG zwischen dem Anodengitter AG und der Anoden-Entladungselektrode DE. Der Widerstandswert von RAG muß der schon oben aufgeführten Bedingung



RAG » Te/e IiO (1 - α)



genügen, da nur in diesem Fall das Anodengitter AG das "floating potential" des Anodenplasmas annimmt.

Beim Durchgang des Ionenstrahls durch die Kathodengitter trifft ein Teil der Ionen auf die Gitter auf, aus denen sie durch Sekundäremission Elektronen auslösen, die wiederum benötigt werden, um in dem hinter den Kathodengittern liegenden Driftraum die Raumladung des Ionenstrahls zu kompensieren. Liegen beide Kathodengitter CG1 und CG2 auf negativem Potential und erfüllt die Spannungsdifferenz zwischen ihnen die Bedingung



|Ug1 - Ug2| ≥ jil2/(vi)20,



so bewegt sich der Hauptteil der ausgelösten Sekundärelektronen nicht in Richtung Anode sondern mit dem Ionenstrahl, wodurch ein hoher Raumladungs-Neutralisierungsgrad erreicht wird und keine zusätzliche Last für den Pulsspannungsgenerator PVG entsteht. Hierbei ist ji die Ionenstromdichte, 1 der Abstand zwischen den beiden Kathodengittern, vi die der angelegten Anodenspannung entsprechende Ionengeschwindigkeit und ∈o die Vakuum-Dielektrizitätkonstante. Ein typischer Wert für die Spannung des ersten Kathodengitters CG1 ist -1 kV.

Der hohe Raumladungs-Neutralisierungsgrad hat zur Folge, daß der Strahl z. B. zwecks Erreichung höherer Stromdichte ballistisch fokussiert werden kann.

Eine weitere günstige Auswirkung der zwischen den Kathodengittern liegenden Spannung liegt darin, daß die Inhomogenität des elektrischen Feldes nahe der Oberfläche des 1. Kathodengitters gesenkt und dadurch die Strahldiverenz reduziert werden kann.

Produktion unterschiedlicher Ionensorten:

Da die in den Löchern der Anoden-Entladungselektrode DE installierten Drahtelektroden für die Bogenentladungen die Kathoden darstellen, enthält das hierbei entstehende Plasma im wesentlichen Ionen des Drahtlektrodenmaterials. Somit kann durch einfaches Austauschen der Drahtelektroden die mit der Quelle produzierte Ionensorte geändert werden.

Für die Produktion eines Strahls von Kohlenstoffionen werden die Drahtelektroden durch Bündel von Kohlenstoffasern ersetzt.

Produktion eines Strahls von mehreren, unterschiedlichen Ionen:

Bei der Produktion eines Strahls von mehreren, unterschiedlichen Ionen wird die Anzahl der Drahtelektroden eines bestimmten Materials, bzw. die Anzahl der Kohlenstofffaserbündel bzw. die Anzahl der dielektrischen Stopfen entsprechend der gewünschten Strahlzusammensetzung gewählt.

Die Produktion eines Elektronen- anstatt eines Ionenstrahls erfordert keinerlei mechanische Änderungen, sondern lediglich zwei Änderungen in den elektrischen Verbindungen:

  • - Die Polarität des Pulsspannungsgenerators PVG wird invertiert, so daß der Anode nunmehr ein negativer Spannungspuls zugeführt wird.
  • - Beide Kathodengitter werden dann elektrisch mit der Vakuumkammer VC der Quelle verbunden.


Anspruch[de]
  1. 1. Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen, bestehend aus einer in einem Vakuumgefäß untergebrachten Vakuum-Bogenplasmaquelle mit Expansionsraum und einem Extraktionssystem, wobei die Bogenplasmaquelle aus einer geordneten Anordnung von n Drahtelektroden NE besteht, deren Drähte jeweils über einen ohmschen Widerstand R0 an einer Stromkollektorschiene K angeschlossen sind und die mit ihren freien Enden in einem Raster von Löchern in einer Anoden-Entladungselektrode DE jeweils zentral enden, wobei abhängig von der Polarität der die Quelle speisenden Hochspannungsversorgung ein Ionen- oder Elektronenstrahl produziert werden kann, dadurch gekennzeichnet, daß

    ein Anodengitter AG über einen Widerstand RAG mit der Anoden-Entladungselektrode DE unter Berücksichtigung der Schranke



    RAG » Te/e IiO (1 - α)



    [Te = Elektronentemperatur im Plasma; IiO = Ionensättigungsstrom; α = Anodengittertransparenz] verbunden ist,

    die Stromkollektorschiene K über eine Parallelschaltung aus einem Kondensator Ca und einem Widerstand Ra mit der Wand des Vakuumgefäßes verbunden ist,

    die Dimensionierung der elektrischen Baukomponenten Ro, RA, CA der Bedingung



    T[(RA + R)/RAR] » CA » τ[(RA + R)/RAR],



    [mit R = Ro/n; T = Dauer des Hochspannungsimpulses; τ = Zeitspanne zur Ausbildung der Bogenentladung] genügt,

    der Abstand Δ der Löcher in der Anodenentladungselektrode kleiner ist als der Abstand D zwischen der Anoden- Entladungselektrode DE und dem Anodengitter AG,

    eine mit Bohrungen für die Durchführung der Drahtelektroden NE versehene Platte P den Raum zwischen den Enden der Drahtelektroden NE und den Serienwiderständen R0 voneinander abschottet.
  2. 2. Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Anodengitter AG an seiner Peripherie elektrisch leitend in eine Anoden-Fokussierelektrode AFE (Pierce-Elektrode) ausläuft.
  3. 3. Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß beabstandet vom Anodengitter AG in Strahlrichtung ein erstes Kathodengitter CG1 installiert ist, an dessen Peripherie sich eine Kathoden-Fokussierelektrode CFE (Pierce-Elektrode) befindet.
  4. 4. Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein zweites, in Strahlrichtung folgendes Kathodengitter CG2 aus einem Material gefertigt ist, das einen hohen Emissionskoeffizienten für Sekundärelektronen besitzt.
  5. 5. Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Spannungsversorgungen für die Elektroden DE, CG1 und CG2 über Hochspannungsdurchführungen F1, F3 und F4 erfolgt und die Stromkollektorschiene K über eine Hochspannungsdurchführung F2 mit der Parallelschaltung aus dem Kondensator CA und dem Widerstand RA verbunden ist.
  6. 6. Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen nach Anspruch 1, 2 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung eines Protonenstrahls die Löcher in der Anoden-Entladungselektrode DE mit axial durchbohrten, dielektrischen Stopfen oder Pfropfen verstopft sind, die aus einem Material mit hohem Wasserstoffgehalt bestehen und mit denen die jeweilige Drahtelektrode NE axial geführt wird.
  7. 7. Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Drahtelektroden NE zur Erzeugung einer Ionensorte aus ein und demselben oder zur Erzeugung eines in seinem Querschnitt bezüglich der auftretenden Ionensorten homogenen oder strukturierten Ionenstromes aus entsprechend unterschiedlichem Material und entsprechender Anordnung der Drahtelektroden NE besteht.






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