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Dokumentenidentifikation DE1091230T1 20.09.2001
EP-Veröffentlichungsnummer 1091230
Titel Optisches Projektionssystem zur Projektion eines Musters einer Photomaske auf ein Substrat
Anmelder Nikon Corp., Tokio/Tokyo, JP
Erfinder Sasaya, Toshiro, Yokohama, JP;
Ushida, Kazuo, Tokyo, JP;
Suenaga, Yutaka, Yokohama, JP;
Mercado, Romeo I., Fremont, California 94555, US
Vertreter Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser, 80538 München
Vertragsstaaten DE, FR, GB, IT, NL
Sprache des Dokument EN
EP-Anmeldetag 30.10.1995
EP-Aktenzeichen 001275338
EP-Offenlegungsdatum 11.04.2001
Veröffentlichungstag der Übersetzung europäischer Ansprüche 20.09.2001
Veröffentlichungstag im Patentblatt 20.09.2001
IPC-Hauptklasse G02B 13/24
IPC-Nebenklasse G02B 13/14   








IPC
A Täglicher Lebensbedarf
B Arbeitsverfahren; Transportieren
C Chemie; Hüttenwesen
D Textilien; Papier
E Bauwesen; Erdbohren; Bergbau
F Maschinenbau; Beleuchtung; Heizung; Waffen; Sprengen
G Physik
H Elektrotechnik

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