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Dokumentenidentifikation EP1160799 17.01.2002
EP-Veröffentlichungsnummer 1160799
Titel REAKTIONSVORRICHTUNG FÜR ELEKTRONENSTRAHL-PROJEKTIONSANLAGE
Anmelder Ebara Corp., Tokio/Tokyo, JP
Erfinder DOI, Yoshitaka, Yokosuka-shi, JP;
NOMOTO, Masao, Yokohama-shi, JP;
HAYASHI, Kazuaki, Maebashi-shi, JP;
IZUTSU, Masahiro, Kawasaki-shi, JP;
KAGEYAMA, Yoshiharu, Hiki-gun, JP;
OKAMOTO, Kyoichi, Fujisawa-shi, JP
Vertreter derzeit kein Vertreter bestellt
Vertragsstaaten AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LI, LU, MC, NL, PT, SE
Sprache des Dokument EN
EP-Anmeldetag 11.01.2000
EP-Aktenzeichen 009001611
WO-Anmeldetag 11.01.2000
PCT-Aktenzeichen JP0000065
WO-Veröffentlichungsnummer 0042620
WO-Veröffentlichungsdatum 20.07.2000
EP-Offenlegungsdatum 05.12.2001
Veröffentlichungstag im Patentblatt 17.01.2002
IPC-Hauptklasse G21K 5/00
IPC-Nebenklasse G21K 5/04   B01D 53/32   B01D 53/60   








IPC
A Täglicher Lebensbedarf
B Arbeitsverfahren; Transportieren
C Chemie; Hüttenwesen
D Textilien; Papier
E Bauwesen; Erdbohren; Bergbau
F Maschinenbau; Beleuchtung; Heizung; Waffen; Sprengen
G Physik
H Elektrotechnik

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