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Dokumentenidentifikation DE10238253A1 11.03.2004
Titel UV-Bestrahlungsanlage
Anmelder Advanced Photonics Technologies AG, 83052 Bruckmühl, DE
Erfinder Wirth, Rolf, 83052 Bruckmühl, DE;
Bär, Kai K.O., Dr.-Ing., 83043 Bad Aibling, DE
Vertreter Meissner, Bolte & Partner GbR, 80538 München
DE-Anmeldedatum 21.08.2002
DE-Aktenzeichen 10238253
Offenlegungstag 11.03.2004
Veröffentlichungstag im Patentblatt 11.03.2004
IPC-Hauptklasse G21K 5/00
IPC-Nebenklasse B41F 23/04   B05D 3/06   
Zusammenfassung UV-Bestrahlungsanlage zur Erzeugung eines ausgedehnten, insbesondere mehr als einen Meter breiten, UV-Strahlungsfeldes mit hoher und im wesentlichen räumlich konstanter Strahlungsdichte zur Materialbehandlung eines quasi endlosen, durch das Strahlungsfeld hindurch transportierten Werkstücks mit hochintensiver UV-Strahlung, mit einer Vielzahl von röhrenförmigen UV-Strahlern, die mit ihren Längsachsen parallel zueinander und zur Transportrichtung des Werkstücks angeordnet sind.

Beschreibung[de]

Die Erfindung betrifft eine UV-Bestrahlungsanlage nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.

Derartige UV-Bestrahlungsanlagen sind seit langem bekannt und werden in erheblichen Stückzahlen insbesondere in der Druckindustrie zur UV-Trocknung bzw. Vernetzung von Druckfarben eingesetzt. Von besonderer wirtschaftlicher Bedeutung ist ihr Einsatz in schnelllaufenden Rollen- und Bogenoffset-Druckmaschinen zur Massenproduktion von Druckerzeugnissen mit großer Papierbahnbreite.

Für dieses Einsatzgebiet ist auf Grund der sehr hohen Durchla-ufgeschwindigkeit des das Werksstück darstellenden Druckträgers und des in Transportrichtung beengtem Einbauraumes eine sehr hohe Leistungsdichte in der UV-Strahlungszone gefordert. Das Strahlungsfeld muss zudem eine hinreichende räumliche Homogenität haben, um einerseits den Qualitätsanforderungen den Betreiber zuverlässig zu entsprechen und andererseits Überhitzungen der Druckerzeugnisse und Energieverschwendung zu vermeiden.

Bekannte UV-Bestrahlungsanlagen dieser Art haben einen oder wenige sehr lange UV-Strahler, die mit ihrer Längsachse senkrecht zur Transportrichtung der Druckbahn ausgerichtet sind und deren Länge mindestens so groß wie die Werkstückbreite ist. Üblicherweise ist diesen Strahlern auf der der Druckbahn abgewandten Seite ein Reflektor zugeordnet, der eine zur Erzielung einer vorbestimmten Fokussierung der UV-Strahlung auf die Materialbahn geeignete Krümmung oder Abwinklungen aufweist.

Zur Gewährleistung der erforderlichen mechanischen Stabilität bei den sehr hohen Temperaturen des Metalldampf-Plasmas im Strahler haben die Strahler derartiger UV-Bestrahlungsanlagen einen relativ großen Durchmesser – normalerweise ca. 22 mm – und daher auch eine relativ große Materialdicke der Röhrenwandung. Diese absorbiert in einer an sich unerwünschter Weise einen nennenswerten Anteil der UV-Strahlung in den Absorptionsbanden des Materials. Zudem haben diese Strahler auf Grund ihrer relativ großen Masse eine erhebliche Wärmekapazität und hierdurch bedingte thermische Trägheit, so dass ein schnelles Aus- und Einschalten nur bedingt möglich ist.

Aus Sicherheitsgründen muss es aber in Gesamtanlagen der genannten Art bei einem Materialstillstand möglich sein, die hochintensive UV-Strahlung praktisch trägheitslos abzuschalten. Zudem ist es von erheblicher Bedeutung, dass bei einem Wiederanfahren der Gesamtanlage auch praktisch sofort die benötigte UV-Strahlung mit der vorgegebenen spektralen Verteilung und Energiedichte zur Verfügung steht. Bekannte Bestrahlungsanlagen weisen daher vielfach einen sogenannten Shutter auf, mit dem bei einem Stillstand das Werkstück der Einwirkung der UV-Strahlung durch Abblenden entzogen und dadurch ein Ausschalten der UV-Strahler überflüssig wird. Ein solcher Shutter ermöglicht es auch, die UV-Strahlung beim Wiederanfahren der Anlage sehr schnell wieder auf dem Werkstück bereitzustellen.

Jedoch sind Bestrahlungsanlagen mit beweglichem Shutter konstruktiv aufwändig und dementsprechend kostspielig, und zudem bedürfen die mechanisch bewegten Teile einer speziellen Wartung.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe der Bereitstellung einer verbesserten UV-Bestrahlungsanlage zu Grunde, welche insbesondere ohne Shutter auskommt, kostengünstig herstellbar und flexibel in Anpassung an verschiedene Applikationen ausführbar ist.

Diese Aufgabe wird durch eine UV-Bestrahlungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.

Die Erfindung beruht auf einer grundlegenden Abkehr von den etablierten Konstruktionsprinzipien von UV-Bestrahlungsanlagen für Materialbearbeitungszwecke der oben beschriebenen Art, die auf dem Einsatz nur eines oder jedenfalls weniger UV-Strahler fußen, der/die gesamte Materialbreite abdecken und daher sehr lang sein müssen. Sie beruht auf der Erkenntnis, dass die zur Abdeckung der Materialbreite erforderliche Länge des UV-Strahlungsfeldes auch durch modulare Aneinanderreihung von parallel zur Transportrichtung des Werkstücks orientierten schmalen Strahlungsfeldern realisiert werden kann, die jeweils durch einen kurzen Strahler erzeugt werden.

Diese kurzen Strahler sind bei den üblichen Betriebstemperaturen einer wesentlich geringeren Durchbiegungsgefahr ausgesetzt als die bisher eingesetzten langen Strahler und können daher mit viel geringerem Durchmesser und entsprechend geringerer Wandstärke des Quarzglaskörpers gefertigt werden. Hierdurch und die geringe Länge verringert sich auch die Wärmekapazität ganz erheblich, so dass sehr kurze Aus- und Wiedereinschaltzeiten möglich werden, was wiederum den Verzicht auf Shutter ermöglicht.

Im Rahmen der Erfindung liegt auch eine Kombination von parallel und geneigt, insbesondere senkrecht, zur Transportrichtung des Werkstücks ausgerichteten UV-Strahlern. Es sind vielfältige derartige Kombinationen denkbar, mit denen insbesondere spezielle räumliche Strahlungsdichteverteilungen – beispielsweise zur Vermeidung von Strahlungsdichteabfällen im Kantenbereich des Werkstücks oder mit lokalen Überhöhungen der Strahlungsdichte – realisierbar sind.

Mit der erfindungsgemäß vorgesehenen Vielzahl relativ kurzer UV-Strahler, die grundsätzlich alle einzeln, sinnvoller Weise aber zumindest gruppenweise, ansteuerbar sind, lässt sich insgesamt rein räumlich und erforderlichen falls auch zeitlich leicht und differenziert steuerbares UV-Strahlungsfeld erzeugen. Für spezifische Anwendungen können einzelne Strahler bzw. Strahlengruppen während eines Bearbeitungsprozesses permanent ausgeschaltet bleiben (beispielsweise bei der Behandlung schmalerer Materialbahnen als sonst üblich. Durch kurzzeitige Ausschaltung oder Leistungsverringerung einzelner Strahler bzw. Strahlengruppen lassen sich vorrübergehend Inhomogenitäten des UV-Strahlungsfeldes zielgerichtet erzeugen, um beispielsweise temperaturempfindliche Abschnitte einer Materialbahn zu schonen oder auf vorrübergehende Verringerung der Transportgeschwindigkeit zu reagieren.

Als UV-Strahler (Emitter) werden im Rahmen der vorgeschlagenen Lösung an sich bekannte Plasma-UV-Strahler mit einer Quarzglasröhre eingesetzt, die Metalldampf – insbesondere Quecksilberdampf, ggf. mit Fe Ga oder anderen Metallen dotiert – enthalten. Von besonderem Vorteil ist dabei der Einsatz derartiger Strahler mit gegenüber der Längserstreckung einen rechten oder auch stumpfen Winkel aufweisenden Steckkontakten. In der einfachsten Ausführung können diese abgewinkelten Kontakte durch geeignete Adapter auf in Lampenlängsrichtung verlaufenden Kontakten realisiert sein; bevorzugt ist jedoch eine Lampenausführung mit U- oder L-förmig gebogenem Glaskörper, bei dem die Lampenkontakte von vorneherein die gewünschte Ausrichtung aufweisen.

UV-Strahler mit dieser Kontaktkonfiguration lassen sich in höchst vorteilhafter Weise mit einem auf der vom Werkstück abgewandten Seite des Strahlers angeordneten Reflektor derart kombinieren, dass die Lampenenden außerhalb des Strahlungsfeldes hinter der Reflektoroberfläche und damit in einem relativ kühlen Bereich liegen. Dies wirkt sich in erheblichem Maße lebensdauererhöhend aus – insbesondere dann, wenn der Reflektor und bevorzugt zugleich die Lampenenden aktiv gekühlt werden.

Mit der vorgeschlagenen Konfiguration wird eine Verringerung des Durchmesser des Lampen-Glaskörpers auf ca. 13 mm oder weniger, insbesondere 10 mm oder weniger, möglich. Die Länge der UV-Strahler richtet sich nach den konkreten Anwenderforderungen und wird bei Druckmaschinen wegen der beengten Platzverhältnisse für den Einbau der UV-Bestrahlungsanlage üblicherweise 120 mm nicht übersteigen.

Der erwähnte Reflektor kann in seiner einfachsten Ausführung plan sein, bevorzugt ist aber eine Ausführung mit einer Vielzahl aneinender gereihter Reflektorabschnitte, die jeweils einem UV-Strahler zugeordnet und konkav gekrümmt oder auch annährend W-förmig ausgebildet sind. Eine Verringerung der thermischen Belastung des Werkstücks lässt sich für Fälle, in denen diese Maßnahme angezeigt ist, durch Einsatz eines wellenlängenselektiven (beispielsweise dichroitischen) Reflektors erreichen.

Eine massive Reflektorausführung, beispielsweise als Strangpress- oder Druckgussteil, – weist insbesondere eingearbeitete Kühlfluidkanäle zur Durchströmung mit Kühlwasser oder einem anderem hocheffektiven Kühlfluid auf. Zusätzlich oder alternativ kann, insbesondere für die Lampenenden eine Pressluft- oder Gebläsekühlung vorgesehen sein.

Eine besonders flexibel auf verschiedene Anwendungen konfigurierbare und kostengünstig erstell- und betreibbare Ausführung lässt sich aus derzeitiger Sicht mit einem modularen Aufbau realisieren. Hierbei ist die Vielzahl der UV-Strahler aus mehreren Strahlergruppen zusammengestellt, die jeweils auf einem zusammenhängenden Träger zur mechanischen Fixierung und elektrischen Kontaktierung vollmontiert sind. In einer Fortbildung dieses Gedankens ist jeder dieser Strahlergruppen auch ein eigener Teil-Reflektor zugeordnet, der mit der Strahlergruppe zusammen montiert wird und austauschbar ist. Eine weitere Fortbildung dieses modularen Konzeptes besteht darin, dass den Lampen jeder Strahlergruppe auch ein gemeinsames Vorschaltgerät zugeordnet ist, welches in einer besonders vorteilhaften Ausführung zusammen mit dem Träger und dem Teil-Reflektor als Anlagen-Modul eine mechanische Einheit bildet. Bei der letztgenannten Ausführung lassen sich die Kosten der Stromversorgung und Ansteuerung unter Umständen erheblich senken, womit ein wesentlicher Beitrag zur niedrigen Gestehungs- und Betriebskosten geleistet wird.

Vorteile und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich im übrigen aus den abhängigen Ansprüchen sowie der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele anhand der beigefügten Figuren. Von diesen zeigen:

1 eine perspektivische Darstellung Prinzipskizze einer UV-Bestrahlungsanordnung gemäß einem bevorzugtem Ausführungsbeispiel der Erfindung und

2 eine perspektivische Darstellung einer Strahlergruppe einer UV-Bestrahlungsanordnung gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführung der Erfindung.

1 zeigt in einer vereinfachten perspektivischen Darstellung eine UV-Bestrahlungsanordnung 1 zur Druckfarbentrocknung auf Druckpapier 3 zum Einbau in eine (nicht dargestellte) Bogen- oder Rollenoffset-Druckmaschine. Dargestellt sind die beiden seitlichen Anlagenmodule 1.1 und 1.2 von insgesamt fünf Anlagenmodulen, mit denen eine Druckpapierbreite von 2000 mm mit einem UV-Strahlungsfeld hoher Intensität abgedeckt wird. Die Anlagenmodule sind mit einer Länge von jeweils 120 mm oder weniger zum Einbau in übliche Druckmaschinen geeignet. Ein mit T bezeichneter Pfeil kennzeichnet in der Figur die Transportrichtung des Druckpapiers 3.

Jedes der Anlagenmodule umfasst 15 Hg-Strahler 5 mit einem röhrenförmigen, an den Enden im rechten Winkel zur Längserstreckung umgebogenen Glaskörper und rechtwinklig zur Längserstreckung des Glaskörpers ausgerichteten Steckkontakten 7, die in der Figur nicht näher dargestellt sind. Den Hg-Strahlern fünf eines Anlagenmoduls ist ein gemeinsamer, als massives Al-Strankpressteil ausgebildeter Reflektorköper 9.1 bzw. 9.2 zugeordnet, dessen Reflektoroberfläche durch 15 konkav gekrümmte, annähernd parabolische Reflektorabschnitte 9i gebildet ist. Rückseitig ist jeder Refklektorkörper mit einer Vielzahl von langgestreckten Kühlrippen 9j versehen. An den Enden sind in jedem Reflektorkörper Durchgänge für die Steckkontakte 7 sowie Aussparungen (nicht gesondert bezeichneter) der Kühlrippen 9j zur Schaffung einer planen Auflagefläche für Kontaktleisten 11 vorgesehen.

Zu jedem Anlagenmodul gehören zwei Dreiergruppen von Kontaktleisten 11, die jeweils zum Anschluss von fünf UV-Strahlern 5 an ein allen Strahlern des Anlagemoduls gemeinsames Vorschaltgerät 13 über Kontaktleisten-Anschlüsse 15 dienen. Jedes Vorschaltgerät 13 verfügt über einen eigenen Stromnetzanschluss S und umfasst Leistungsbauelemente zur gemeinsamen Stromversorgung aller UV-Strahler eines Moduls und zur gruppenweise separaten Ansteuerung der den einzelnen Kontaktleisten 11 zugeordneten Strahler.

Mittels einer (nicht dargestellten) Gebläseanordnung wird Kühlluft L zur aktiven Kühlung der UV-Bestrahlungsanlage 1 erzeugt, die in Längsrichtung der Kühlrippen 9j gelenkt wird und diese sowie die Kontaktleisten 11 mit den darin fixierten Lampenenden kühlt.

Die Kontaktleisten 11 sind auf den Reflektorkörpern mechanisch, beispielsweise durch Schraub- oder Klemmverbindungen, lösbar fixiert, und auch die Vorschaltgeräte 13 sind mit dem jeweiligem Reflektorköper mechanisch verbunden, so dass jedes Anlagenmodul eine mechanisch in sich abgeschlossene und separat handhabund austauschbare Baugruppe der UV-Bestrahlungsanlage 1 bildet. Es versteht sich, dass innerhalb der Anlagenmodule jede Kontaktleiste 11 und, unabhängig davon, jeder Strahler 7 einzeln handhabbar ist.

2 zeigt eine Strahlungsquelle 100 zur Erzeugung von Strahlung im UV-Bereich mit hoher Leistungsdichte zu Bearbeitungszwecken mittels Hg-Metalldampflampen 101. Die Strahlungsquelle 100 umfasst im wesentlichen einen Reflektorblock 103 aus Al-Druckguss mit einer Mehrzahl von Reflektorabschnitten 105 einer weiter unten genauer beschriebenen Form, die jeweils einem UV-Strahler 101 zugeordnet sind, und eine Kühlfluid-Zuleitungs-/Abführungsplatte 107, die rückseitig auf den Reflektorblock 103 aufgesetzt ist.

Weiterhin umfasst die Strahlungsquelle 100 eine Kontaktanordnung 109 zur mechanischen Fixierung und elektrischen Kontaktierung der UV-Strahler 101, welche nicht Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist und daher hier nicht genauer beschrieben wird, sowie Ansteuerungs- bzw. Stromversorgungskomponenten 111, die rückseitig auf die Kühlfluid-Zuleitungs-/Abführungsplatte montiert sind. Sowohl die Kühlfluid-Zuleitungs-/Abführungsplatte 107 als auch die Ansteuerungs- bzw. Stromversorgungskomponenten 111 weisen aufeinander abgestimmte Befestigungsmittel zur leichten und schnellen Erstbestückung der Strahlungsquelle in modularer Art und Weise auf, die auch einen unproblematischen Austausch von Komponenten bei Ausfällen oder einer etwaigen Aufrüstung der Bestrahlungsanlage ermöglichen. Hierfür kommen sowohl Schraub- als auch Klemmverbindungen als auch Kombinationen beider in Betracht.

Der Reflektorblock 103 hat – was in den Figuren nicht zu erkennen ist – eine die Reflexionseigenschaften im UV-Bereich verbessernde Oberflächenbeschichtung, und seine Reflektorabschnitte haben (was am besten in 3C zu erkennen ist) im Querschnitt annähernd eine W-Form. In 1 und 3B ist gut zu erkennen, dass der Reflektorblock 103 an seinen Enden viertelkreisförmig abgerundet ausgeführt ist. Diese Formgebung dient zur Anpassung an die Form der an ihren Enden abgebogenen UV-Strahler 101.

Die Kühlfluid-Zuleitungs-/Abführungsplatte 107 ist als annähernd U-förmiges Al-Strangpressteil mit einem ebenen, plattenförmigen Mittelteil 107a (der Basis des "U") und zwei annähernd quadratischen Seitenteilen 107b, 107c (den Schenkeln des "U") mit im Querschnitt kreisförmigen Fluidkanälen 113a, 113b gebildet.

3A bis 3C zeigen die Konstruktion des Reflektorblockes 103 im Einzelnen. 3A zeigt besonders deutlich, dass dieser rückseitig eine großflächige Ausnehmung 103a hat, die durch parallel zueinander in Richtung der Längserstreckung verlaufende Trennrippen 103b in einzelne Kanäle 103c unterteilt ist. Die Ausnehmung 103a ist umgeben von einer Ringnut 103d zur Aufnahme eines (nicht dargestellten) Dichtringes zur Abdichtung der Kühlfluid-Zuleitungs-/Abführungsplatte (1 und 2) gegenüber dem Reflektorblock 103. Gewindebohrungen 103e sind zum Verschrauben des Reflektorblockes mit der Kühlfluid-Zuleitungs-/Abführungsplatte vorgesehen.

Im Mittenbereich des Reflektorblockes 103 ist eine Sensor-Bohrung 103f vorgesehen, mit der der Reflektorblock zur Aufnahme eines Pyrometerelementes für Temperaturmessungen an einem Bearbeitungsgegenstand vorbereitet ist. Die Sensor-Bohrung 103f ist – ebenso wie die großflächige Ausnehmung 103a – von einer Ringnut 103g zur Aufnahme eines Dichtringes umgeben.

Ein erster (in der Figur der linke) Seitenbereich 103h der Ausnehmung 103a steht bei aufgesetzter Kühlfluid-Zuleitungs-/Abführungsplatte 107 mit deren erstem Kühlfluidkanal 113a (1) in Verbindung, während ein zweiter (in der Figur der rechte) Seitenbereich 103i der Ausnehmung 103a mit dem zweiten Kühlfluidkanal 113b der Kühlfluid-Zuleitungs-/Abführungsplatte 107 verbunden ist. Je nach Anschluss einer Kühlfluidquelle (speziell eines Kühlwasseranschlusses) wird über den Kühlfluidkanal 113a als Kühlfluidzuleitung das Kühlfluid dem Bereich 103h als Kühlfluid-Verteilbereich des Reflektorblockes zugeführt und über den zweiten Seitenbereich 103i als Kühlfluid-Sammelbereich des Reflektorblockes und den zweiten Kühlfluidkanal 113b (im erwärmten Zustand) wieder abgeführt oder umgekehrt. Es versteht sich, dass in der Kühlfluid-Zuleitungs-/Abführungsplatte 107 in zum Kühlfluid-Verteilbereich 103h bzw. dem Kühlfluid-Sammelbereich 103i des Reflektorblockes 103 korrespondierender Position Durchgangsöffnungen von den Kühlfluidkanälen 113a, 113b aus vorgesehen sind; diese sind allerdings in den Figuren nicht zu erkennen.

Mit den in den Figuren dargestellten und oben beschriebenen Konfigurationen wird zum einen ein modulares Aufbaukonzept für unterschiedlich ausgedehnt UV-Bestrahlungsanordnungen mit den zugehörigen Stromversorgungs-, Ansteuerungsund Kühleinrichtungen realisiert. Sie bieten andererseits die Gewähr für einen zuverlässigen und energieeffizienten Langzeitbetrieb einer derartigen Bestrahlungsanordnung. Die Ausführung der Erfindung ist indes nicht auf dieses Beispiel beschränkt, sondern ebenso in einer Vielzahl von Abwandlungen möglich, die im Rahmen fachgemäßen Handelns liegen.

1 UV-Bestrahlungsanlage 1.1, 1.2 Anlagenmodule 3 Druckpapier 5 Hg-Strahler 7 Steckkontakt 9.1, 9.2 Reflektorkörper 9i Reflektorabschnitt 9j Kühlrippe 11 Kontaktleiste 13 Vorschaltgerät 15 Kontaktleisten-Anschluß 100 Strahlungsquelle 101 Halogen-Glühfadenlampe 103; Reflektorblock 103a Ausnehmung 103b Trennrippe 103c Kanal 103d, 103g Ringnut 103e Gewindebohrung 103f Sensor-Bohrung 103h Kühlfluid-Verteilbereich 103i Kühlfluid-Sammelbereich 105 Reflektorabschnitt 107; Kühlfluid-Zuleitungs-/Abführungsplatte 107a Mittelteil (Basis) 107b, 107c Seitenteil (Schenkel) 109 Kontaktanordnung 111 Ansteuerungs- bzw. Stromversorgungskomponente L Kühlluft S Stromnetzanschluß T Druckpapier-Transportrichtung

Anspruch[de]
  1. UV-Bestrahlungsanlage zur Erzeugung eines ausgedehnten, insbesondere mehr als einen Meter breiten, UV-Strahlungsfeldes mit hoher und im wesentlichen räumlich konstanter Strahlungsdichte zur Materialbehandlung eines quasi-endlosen, durch das Strahlungsfeld hindurch transportierten Werkstücks mit hochintensiver UV-Strahlung, gekennzeichnet durch, eine Vielzahl von röhrenförmigen UV-Strahlern, die mit ihren Längsachsen parallel zueinander und zur Transportrichtung des Werkstücks angeordnet sind.
  2. UV-Bestrahlungsanlage nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch, eine kombinierte Anordnung mindestens einer ersten Gruppe von parallel zur Transportrichtung des Werkstücks und einer zweiten Gruppe von senkrecht oder schräg zur Transportrichtung verlaufenden röhrenförmigen UV-Strahlern.
  3. UV-Bestrahlungsanlage nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahler als Metalldampf-Mitteldrucklampen, insbesondere vom Typ des Quecksilberstrahlers, ausgebildet sind.
  4. UV-Bestrahlungsanlage nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass den UV-Strahlern auf ihrer vom Werkstück abgewandten Seite ein aktiv gekühlter Reflektor zugeordnet ist.
  5. UV-Bestrahlungsanlage nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet dass die UV-Strahler gegenüber ihrer Längserstreckung abgewinkelte, aus dem Strahlungsfeld hinter den Reflektor verlagerte Steckkontakte aufweisen.
  6. UV-Bestrahlungsanlage nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahler beidseitig gesockelt sind, insbesondere einen im wesentlichen U-förmigen Glaskörper aufweisen.
  7. UV-Bestrahlungsanlage nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet dass die UV- Strahler einseitig gesockelt sind, insbesondere einen im wesentlichen L-förmigen Glaskörper aufweisen.
  8. UV-Bestrahlungsanlage nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Lampendurchmesser der parallel zur Transportrichtung angeordneten, röhrenförmigen UV-Strahler 13 mm oder weniger, insbesondere 10 mm oder weniger beträgt.
  9. UV-Bestrahlungsanlage nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet dass die Gesamtlänge, gemessen als Projektion auf die Transportrichtung, der parallel zur Transportrichtung angeordneten röhrenförmigen UV-Strahler kleiner als 120 mm ist.
  10. UV-Bestrahlungsanlage nach einem der Ansprüche 4-9, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor eine der Strahlenanzahl entsprechende Vielzahl von jeweils einem Strahler zugeordneten, insbesondere Querschnitt annähernd, parabolisch oder elliptisch gekrümmter oder W-förmigen, Reflektorabschnitten aufweist.
  11. UV-Bestrahlungsanlage nach einem der Ansprüche 4 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Reflektor flüssigkeitsgekühlt ist und insbesondere eingearbeitete Kühlflüssigkeitskanäle aufweist.
  12. UV-Bestrahlungsanlage nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vielzahl der mit ihren Längsachsen parallel zur Transportrichtung angeordneten röhrenförmigen UV-Strahler modular aus Strahlengruppen mit jeweils einem zusammenhängenden Träger gebildet ist.
  13. UV-Bestrahlungsanlage nach einem der Ansprüche 4-11 und Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass jeder Strahlengruppe ein Teil-Reflektor zugeordnet ist, der mit der Strahlengruppe zusammen austauschbar ist.
  14. UV-Bestrahlungsanlage nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass den Lampen jeder Strahlengruppe ein gemeinsames Vorschaltgerät zugeordnet ist.
  15. UV-Bestrahlungsanlage nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet dass jeder Träger mit den zugeordneten Lampen, der zugehörige Teil-Reflektor und das den Lampen zugeordnete Vorschaltgerät miteinander mechanisch als Anlagenmodul verbunden sind.
Es folgen 3 Blatt Zeichnungen






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