| Dokumentenidentifikation |
DE10251614A1 19.05.2004 |
| Titel |
Verfahren zur Erzeugung einer definiert eingestellten gleichmäßigen Oberflächenstruktur mit vorgegebener Rauhtiefe auf Bauteilen oder Werkstücken |
| Anmelder |
Kronenberger, Thomas, 63500 Seligenstadt, DE; Kronenberger, Paul, 63500 Seligenstadt, DE; Kronenberger-Wolf, Gabriele, 63456 Hanau, DE |
| Erfinder |
Kronenberger, Thomas, 63500 Seligenstadt, DE; Kronenberger, Paul, 63500 Seligenstadt, DE; Kronenberger-Wolf, Gabriele, 63456 Hanau, DE |
| Vertreter |
Luderschmidt, Schüler & Partner, 65189 Wiesbaden |
| DE-Anmeldedatum |
06.11.2002 |
| DE-Aktenzeichen |
10251614 |
| Offenlegungstag |
19.05.2004 |
| Veröffentlichungstag im Patentblatt |
19.05.2004 |
| IPC-Hauptklasse |
C25D 15/00
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| IPC-Nebenklasse |
C23C 18/16
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| Zusammenfassung |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer gleichmäßig strukturierten, definiert eingestellten Oberflächentopographie mit gemäß Vorgabe definiert einstellbarer Rauhtiefe auf Bauteilen oder Werkstücken. Die bisherigen Verfahren zur Erzeugung gleichmäßiger Oberflächenstrukturen mit vorbestimmter Rauhtiefe erfolgten aufwendig in mehreren Schritten, wobei die einzelnen Verfahrensparameter erst durch umständliche, langwierige Vorversuche ermittelt werden mussten. Es sollte daher ein Verfahren zur Verfügung gestellt werden, mit dem sich auf einem Werkstück oder Bauteil auf einfache Weise präzise Oberflächen mit vorgegebener Topographie und Rautiefe kostengünstig herstellen lassen. Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, dass auf der Werkstückoberfläche aus einem galvanischen oder außenstromlosen Bad, in welchem Teilchen von definierter Form und Größe suspendiert sind, mittels Dispersionsabscheidung eine Schichtmatrix so abgeschieden wird, dass die in die abgeschiedene Schichtmatrix fest eingebetteten Teilchen teilweise noch aus der Oberfläche herausragen. Hierbei lassen sich selbst Teilchen aus einem elektrisch leitenden Material einsetzen, doch müssen dann diese Teilchen, um abgeschieden werden zu können, zuvor einer Mikroverkapselung mit einem elektrisch nicht leitenden Material, vorzugsweise einem Kunststoff, unterzogen werden.
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| Beschreibung[de] |
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Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung rauher
Oberflächen auf Substraten mit elektrisch leitender Oberfläche. Insbesondere betrifft
die Erfindung ein Verfahren zur Erzeugung einer gleichmäßig strukturierten, definiert
eingestellten Oberflächentopographie mit gemäß Vorgabe definiert einstellbarer Rauhtiefe
auf Bauteilen oder Werkstücken.
Im betreffenden Stand der Technik sind sowohl mechanische, als auch
chemische bzw. elektrochemische Verfahren zur gezielten Einstellung von Rauhtiefen
auf Oberflächen von Bauteilen bekannt.
Ein Verfahren zur Erhöhung der Rauhtiefe auf der Oberfläche eines
Substrats besteht im mechanischen Strahlen der Oberfläche vor einer galvanischen
Metallabscheidung. Hierbei wird die Bauteiloberfläche vor der eigentlichen galvanischen
Beschichtung mit Strahlmitteln nach DIN 8201 auf eine solche definierte Ausgangsrauhtiefe
gebracht, daß sich nach der dann anschließenden galvanischen Metallabscheidung eine
gleichmäßige Oberflächenstruktur mit definierter Rauhtiefe einstellt. Diese zuvor
durch Strahlen eingestellte Ausgangsrauhtiefe muß dann entsprechend größer als die
vorgegebene erwünschte Rauhtiefe des fertigen Bauteils sein, da durch die nachfolgende
galvanische Metallabscheidung die Oberflächenunebenheiten wieder mehr oder weniger
undefiniert eingeebnet werden.
Für eine solche, im konkreten Fall zur Erzeugung einer gezielt gleichmäßigen
Oberflächenstruktur mit definierter Rauhtiefe nach der galvanischen Metallabscheidung
erforderliche Ausgangsrauhtiefe lassen sich die Verfahrensparameter nicht berechnen
oder voraussagen. Diese müssen vielmehr im Vorfeld mit aufwendigen Vorversuchen
erst ermittelt werden. Darüber hinaus läßt sich mit Strahlmitteln nicht jede beliebige
Struktur in die Oberfläche einstrahlen und das Ergebnis des Strukturierungsprozesses
ist wesentlich von der Qualität des Werkstücks oder Bauteils abhängig. Bei Einsatz
qualitativ weniger geeigneter Werkstoffe, wie z.B. Bauteilen der Gußqualität GG30,
können sich auf der Oberfläche infolge von Gußinhomogenitäten und Härteschwankungen
Bereiche ausbilden, die selbst nach mehrmaligem Strahlen noch eine ungleichmäßige
Struktur aufweisen. Auch kann Strahlmittel, das unter hohem Druck oder mittels Schleuderrädern
trocken oder naß auf die Oberfläche geschleudert wird, teilweise in die Oberfläche
eindringen und dort hängenbleiben, was dann bei der galvanischen Abscheidung zu
Fehlstellen führt. Schließlich ist bei Einsatz von Strahlmitteln noch vorauszusetzen,
daß wegen der damit verbundenen Gesundheitsrisiken und der Umweltbelastung den Forderungen
der Verordnung über gefährliche Arbeitsstoffe (ArbStoffV) nachgekommen werden muß
und die dafür gültigen Technischen Regeln für gefährliche Arbeitsstoffe (TRgA 503)
eingehalten werden müssen, was das Verfahren arbeitsaufwendig und teuer macht.
Ein anderes Verfahren zur Erzeugung einer gleichmäßigen Oberflächenstruktur
mit vorbestimmter Rauhtiefe besteht im Strukturätzen nach einer galvanischen Metallabscheidung.
Hierbei wird auf der Bauteiloberfläche zunächst eine galvanische Schicht (= Grundschicht)
abgeschieden, welche eine für den folgenden Strukturätzprozeß ausreichende Schichtdicke
aufweisen muß. Auf diese galvanisch abgeschiedene Grundschicht wird, ggf. nach einem
Trocknungsprozess, ein spezieller licht- bzw. UV-empfindlicher Fotolack aufgetragen,
der dann noch mit einer Maske abgedeckt werden kann, wenn nur bestimmte Oberflächenabschnitte
einer Strukturierung unterzogen werden sollen. Beim Belichten härtet der Lack dann
an den dem Licht ausgesetzten Stellen der Oberfläche aus.
Nach Entfernen der unbelichteten Fotolackbereiche auf chemischem oder
mechanischem Wege wird die Bauteiloberfläche dann mit einer Ätzlösung behandelt,
welche den ausgehärteten Fotolack nicht angreift, sondern nur die freiliegenden,
nicht mit Fotolack bedeckten Bereiche der Oberfläche herauslöst bzw. anätzt, wodurch
die Ätzstruktur entsteht. Nach Spülen, Reinigen und Aktivieren der Bauteiloberfläche
kann diese zum Abrunden der entstandenen Ätzstruktur und zum Abdecken der angeätzten
Grundschicht nochmals mit einer zweiten, galvanisch abgeschiedenen Schicht überzogen
werden.
Auch bei diesem Verfahren läßt sich nicht jede beliebige Struktur
in die Oberfläche einätzen und die einzuhaltenden Verfahrensparameter, insbesondere
die Konzentration, Temperatur und Einwirkzeit der Ätzlösung sind nicht berechenbar
und voraussagbar, so daß diese Prozessparameter erst mit aufwendigen Vorversuchen
experimentell ermittelt werden müssen. Darüber hinaus entstehen beim Strukturätzen
neben umweltbelastenden Abwässern, deren Inhaltsstoffe in aufwendigen Verfahren
abgetrennt bzw. ausgefällt werden müssen, Gase und Dämpfe, die eine Abluftreinigung
erforderlich machen.
Ein weiteres Verfahren zur Erzeugung gleichmäßiger Oberflächenstrukturen
mit vorbestimmter Rauhtiefe wird in der DE 42 11
881 beschrieben. Im Zuge einer elektrolytischen Strukturabscheidung werden
zunächst mittels elektrischer Spannungs -oder Stromimpulse auf der Oberfläche des
zu beschichtenden Substrats Keimbildungen des Abscheidungsmaterials erzeugt und
anschließend mittels weiterer Folgeimpulse ein Wachstum der Abscheidungskeime durch
Anlagerung von weiterem Abscheidungsmaterial herbeigeführt. Hierzu ist eine komplizierte
Parameterführung von zeitabhängigen Strom- und Spannungsimpulsfolgen mit linearen
Abschnitten, definierten unterschiedlichen Steigungen, Plateaus, Rückflanken und
jeweiligen entsprechenden Haltezeiten erforderlich. Zwischen den einzelnen Prozeßschritten
sind noch definierte Aufwärm- und Ruhephasen einzuhalten, was dann zu längeren Beschichtungszeiten
führt. Die exakte Einhaltung dieser Verfahrensparameter läßt sich nur mit einer
relativ komplizierten Steuerungs- und Regeltechnik realisieren. Die Einstellung
der Parameter zur Erzielung einer gleichmäßigen Oberfläschenstruktur mit definierter
Rauhtiefe läßt sich aber nicht im Voraus angeben oder berechnen, sondern muß mit
aufwendigen Vorversuchen erst ermittelt werden. Da die Vielzahl an Prozeßschritten
einen hohen Energieaufwand mit sich bringen und umfangreiche Spülschritte erforderlich
machen, was zu einem hohen Verbrauch an Spülwasser und hohen Abwasserbehandlungskosten
führt, ist dieses Verfahren auch relativ umweltbelastend.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur
Verfügung zu stellen, mit dem sich eine gleichmäßige Oberflächenstruktur auf einem
Werkstück oder Bauteil definiert einstellen läßt und mit welchem auf einfache Weise
präzise Oberflächen mit vorgegebener Topographie und Rauhtiefe kostengünstig herstellbar
sind.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß auf der Werkstückoberfläche
aus einem galvanischen oder außenstromlosen Bad, in welchem Teilchen von definierter
Form und Größe aus Metall und/oder einer Metalllegierung und/oder Keramik und/oder
Oxiden und/oder Nitriden und/oder Karbiden und/oder Boriden und/oder Siliciden und/oder
Sulfaten und/oder Kunststoff und/oder Diamant und/oder Graphit und/oder Glimmer
entweder einzeln oder als Gemisch zweier oder mehrerer dieser Teilchenspezies suspendiert
sind, mittels Dispersionsabscheidung eine Schichtmatrix aus Metall und/oder Metalllegierung
mit darin eingelagerten Teilchen so abgeschieden wird, daß die in die abgeschiedene
Schichtmatrix fest eingebetteten Teilchen teilweise noch aus der Oberfläche herausragen.
Werden Teilchen aus einem elektrisch leitenden Material eingesetzt, müssen diese
Teilchen, um abgeschieden werden zu können, zuvor einer Mikroverkapselung mit einem
elektisch nicht leitenden Material, vorzugsweise einem Kunststoff, unterzogen werden.
Bevorzugte oxidische Teilchen sind solche aus Siliciumoxid und/oder
Aluminiumoxid und/oder Titandioxid, bevorzugte Karbidteilchen sind z.B. aus Hartstoffen
wie Siliciumcarbid und/oder Titancarbid, bevorzugtes Nitrid ist Bornitrid, beispielhafte
Kunststoffe sind z.B. Polytetrafluorethylene (PTFE).
Die Ausbildung der gleichmäßigen definiert eingestellten Oberflächenstruktur
mit gemäß Vorgabe definiert einstellbarer Rauhtiefe erfolgt über die während der
galvanischen Abscheidung stattfindende Einlagerung der Partikel in die sich ausbildende
Schichtmatrix. Unter Rauhtiefe wird hierbei die größte Abweichung des Istprofils
vom geometrisch-idealen Profil für die Werkstück- oder Bauteiloberfläche verstanden,
d.h. der größte Abstand zwischen den Spitzen und Tiefen der Oberfläche innerhalb
einer Bezugsstrecke. Sie wird nach DIN 4762 bestimmt.
Die Rauhtiefe und Topographie der Oberfläche wird vom Verbraucher/Kunden/Anwender
vorgegeben. Beispielsweise stellt sich in der Druckindustrie beim beidseitigen Drucken
von Hochglanzprospekten oder -katalogen das Problem, aus verfahrensökonomischen
Gründen die Rüchseite schon bedrucken zu müssen, wenn die Vorderseite noch druckfeucht
ist. Diese noch feuchte Seite muss dann von der Walze (Druckzylinder) so mitgeführt
werden können, dass zum einen keine Seitenreibung auftritt, was zum „Verschmieren"
der schon bedruckten, aber noch feuchten Seite führen würde, zum andern darf die
Oberflächentopographie der Walze nicht so beschaffen sein, dass die dann bedruckte
Rückseite bzw. das Papier nach dem Trocknen sichtbare Druckspuren oder gar Perforationen
aufweist. Die Oberflächentopographie der Druckwalze erfordert daher eine mehr oder
weniger „spitz" zulaufende Form der aus der Walzenoberfläche herausragenden
Teilchen, um eine reibungsfreie Mitführung des einseitig bedruckten, noch feuchten
Papiers zu gewährleisten, wobei andererseits aber eine genügend hohe Flächendichte
der Teilchen mit geeigneter Rauhtiefe eingehalten werden muss, damit nachher keine
Druckspuren erkennbar sind. Diese Anforderungen an die Oberflächentopographie einer
Druckwalze lassen sich mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ohne größeren Aufwand
erbringen.
Unter Topographie wird hierbei das Oberflächenrelief verstanden, welches
von den aus der Oberfläche herausragenden, auf dieser gleichmäßig verteilten, die
Rauhtiefe bestimmenden Teilchen gebildet wird. Unter Oberflächenstrukturierung im
Sinne der Erfindung wird die Gesamtheit von Topographie, Rauhtiefe, Teilchenform
und Teilchenzahl pro Flächeneinheit (Teilchendichte) verstanden.
Die Form der im galvanischen Bad zu suspendierenden Teilchen richtet
sich daher nach der vom Verbraucher gewünschten Oberflächentopographie. Die Form
kann sphärisch, ellipsoid, kubisch, quaderförmig oder unregelmäßig sein, wie sie
gemahlene oder gebrochene Teilchen gewöhnlich aufweisen.
Die Größe der im galvanischen Bad zu suspendierenden Teilchen richtet
sich nach der gewünschten Rauhtiefe. Diese liegt gewöhnlich im Bereich von 5 bis
ca. 30 &mgr;m. Da es nur bei einer Kugelgestalt als rotationssymmetrischem Körper
einen einzigen Durchmesser gibt, wird für die anderen oben genannten Formen zur
Auswahl der gewünschten Teilchengröße immer der größte Durchmesser herangezogen.
Dieser (ebenso wie der Kugeldurchmesser) ist so zu wählen, daß er das 1,5- bis 3-fache,
vorzugsweise das 2- bis 3-fache der vorgegebenen Rauhtiefe beträgt.
Im bisherigen Stand der Technik wurde die Dispersionsabscheidung noch
nicht zur Erzielung einer Oberflächenstrukturierung eingesetzt, auch wurden mittels
Dispersionsabscheidung – ob galvanisch oder außenstromlos – bisher nur
elektisch nichtleitende bzw. nichtmetallische Partikel als disperse Phase mit der
Schichtmatrix abgeschieden. Überraschend hat sich nun gezeigt, daß sich auch metallische,
an sich stromleitende Partikel abscheiden lassen, wenn diese während der Dispersionsabscheidung
in (nicht leitende) Mikrokapseln eingeschlossen sind. Der Einsatz von Mikrokapseln
ist in der Galvanotechnik seit langem bekannt. Hierbei wurden insbesondere mehr
oder weniger flüssige oder gasförmige Inhaltsstoffe, wie z.B. Farbstoffe (Selbstdurchschreibepapier)
oder Motoröl (Schmiermittel) in Mikrokapseln aus Polymermaterial eingeschlossen
und mittels Dispersionsabscheidung abgeschieden, um dann in der abgeschiedenen Oberfläche,
ggf. erst nach teilweiser Abrasion des auf der Oberfläche abgeschiedenen Matrixmaterials,
durch Reibkontakt mit einem Gegenkörper zerstört zu werden und ihren Inhalt freizusetzen.
Da erfindungsgemäß die Mikroverkapselung mit Polymermaterial nur während
der Dispersionsabscheidung von elektrisch leitenden Teilchen aufrechterhalten werden
muß und für die spätere Verwendung des Werkstücks oder Bauteils mit der dann definiert
eingestellten Oberflächenrauhigkeit nicht mehr gebraucht wird, kann das dann auf
den aus der Oberfläche herausragenden metallischen Teilchen noch anhaftende Polymermaterial
der Mikrokapseln vor seinem bestimmungsgemäßen Einsatz durch einfaches Reiben leicht
entfernt werden, zumal die Wandstärke dieser Mikrokapseln nur wenige Nanometer beträgt.
Als Material für eine derartige Mikroverkapselung können Gelatine, Stärke, Cellulose,
Polyester oder Melamin-Harze dienen, die sich in der Galvanotechnik bereits bewährt
haben. Bevorzugtes Material ist ein Melamin-Formaldehyd-Harz.
Das zu beschichtende Werkstück oder Bauteil kann in seinem Kern auch
nichtleitend sein, es muß zur Abscheidung jedoch eine leitende Oberfläche aufweisen.
Vor der galvanischen Dispersionsabscheidung liegt das Werkstück oder Bauteil hinsichtlich
seiner Oberflächenrauhheit und -struktur in dem entsprechend seinem Herstellungsprozeß
(gedrehte Oberfläche bei Drehteilen, Gußoberfläche bei Gußwerkstücken, geschliffene
Oberfläche bei mechanischer Bearbeitung) erhaltenen Originalzustand vor. Zur galvanischen
Dispersionsabscheidung muß die Bauteiloberfläche nur noch in der in der Galvanotechnik
üblichen Weise entfettet und aktiviert (dekapiert) werden. Einer weiteren Vorbehandlung
bedarf es in der Regel nicht. Ggf. kann eine mechanische Behandlung zum Aktivieren
bzw. zum Einhalten geforderter maßlicher Toleranzen erfolgen. Die gezielt gleichmäßige
Oberflächenstruktur mit definiert eingestellter Rauhtiefe wird jedoch ausschließlich
mittels galvanischer oder außenstromloser Dispersionsabscheidung erzeugt.
Als galvanische Bäder können alle in der Galvanotechnik bekannten
Elektrolyte für die galvanische Abscheidung von Metallen und/oder Metalllegierungen
zum Einsatz kommen. Als Abscheidungselektrolyte bevorzugt sind: Chrom- und Chromlegierungselektrolyte,
sowohl als schwefelsaurer als auch mischsaurer Typ (d.h. Mischung von Schwefelsäure
und Hexafluorokieselsäure); Nickel- und Nickellegierungselektrolyte; Cobalt- und
Cobaltlegierungselektrolyte; Kupfer- und Kupferlegierungselektrolyte; Edelmetall-
und Edelmetalllegierungselektrolyte; Zink- und Zinklegierungselektrolyte. Besonders
bevorzugt sind Nickel- und Chromelektrolyte.
Die Schichtdicken für die mittels Dispersionsabscheidung gebildeten
Überzüge liegen vorzugsweise im Bereich von mindestens 7,5 bis ca. 35 &mgr;m, d.h.
sie belaufen sich auf mindestens 50 bis 90%, vorzugsweise 50 bis 75%, des größten
Durchmessers der Teilchen. Neben der oben beschriebenen Auswahl für Größe, Form
und Zusammensetzung der Teilchen sind bevorzugte Parameter, mit denen sich die Oberflächenstruktur
und/oder Rauhtiefe während der Dispersionsabscheidung einstellen lassen:
die Zusammensetzung des Elektrolyten;
die Viskosität des Elektrolyten;
die Expositionszeit des zu beschichtenden Werkstücks/Bauteils im Elektrolyten, d.h.
die Abscheidungsdauer;
die Abscheidungstemperatur,
die kathodische Stromdichte im Elektrolyten;
der pH-Wert;
das Elektrodenmaterial und die Elektrodenabstände;
die Hydrodynamik des Elektrolyten;
der Grad der Rotation des zu beschichtenden Werkstücks/Bauteils; sowie
die Konzentration der Partikel und deren Suspensionsgrad im Elektrolyten.
Alternativ kann die Abscheidung auch aussenstromlos mit Chemisch Nickel
oder Chemisch Kupfer (bzw. mit Legierungselektrolyten derselben) nach im Stand der
Technik bekannten Verfahren erfolgen.
Die Partikelkonzentration im Elektrolyten soll mindestens 5 g/l betragen
und kann biszu 40 g/l reichen; bevorzugt ist eine Konzentration von 10 bis 20 g/l.
Zusammen mit der Rotationsgeschwindigkeit des zu beschichtenden Werkstücks läßt
sich mit der Partikelkonzentration die Flächendichte, d.h. die pro Flächeneinheit
zusammen mit der Schichtmatrix abgeschiedene Anzahl von Teilchen regulieren, während
die Gleichmäßigkeit, mit der die Teilchen abgeschieden werden, mit der Hydrodynamik
der Elektrolytumwälzung in Korrelation steht, welche dafür sorgt, daß die Teilchen
im Elektrolyten möglichst gleichmäßig in Suspension gehalten werden.
Falls die vom Anwender erwünschte Dicke für die auf das Werkstück/Bauteil
aufzutragende Gesamtschicht nicht mit den obigen Bedingungen für die Schichtmatrixdicke
aus der Dispersionsabscheidung vereinbar ist, die sich ja direkt nach der Partikelgröße
und diese wiederum nach der gewünschten Rauhtiefe zu richten hat, sondern vielmehr
eine größere Schichtdicke als mit alleiniger Dispersionsabscheidung erreichbar gewünscht
wird, können zunächst eine oder mehrere Schichten, welche sich auch in ihrer chemischen
Zusammensetzung unterscheiden können, ohne darin dispergierte Teilchen nach herkömmlichen
Verfahren auf die Oberfläche galvanisch oder auch außenstromlos abgeschieden werden.
Dies kann auch aus technischen Gründen dann erforderlich werden, wenn z.B. eine
aus Chrom bestehende Oberflächenschicht mit definierter Rauhtiefe erwünscht ist.
Wie der Fachmann weiß, sind Chromschichten erst ab einer Schichtdicke von ca. 50
&mgr;m korrosionsfest.
Eine weitere Möglichkeit, zwei oder mehrere Schichten aufzutragen,
besteht darin, zunächst mittels Dispersionsabscheidung eine Beschichtung aufzutragen,
welche zunächst gezielt auf eine größere Rauhtiefe als gewünscht eingestellt wird,
um darauf dann mittels einer gewöhnlichen Abscheidung ohne disperse Phase die zuerst
mittels Dispersionabscheidung abgeschiedene Schicht mit größerer als erwünschter
Rauhheit auf die gewünschte Rauhtiefe einzuebnen. Diese beiden Abscheidungsarten
lassen sich in getrennten Bädern durchführen, was insbesondere dann angezeigt ist,
wenn Schichtmatrices unterschiedlicher chemischer Zusammensetzung erwünscht sind.
Im Falle gleicher chemischer Zusammensetzung, wird vorzugsweise aus einem Bad abgeschieden,
indem zunächst die Dispersionsabscheidung unter heftiger Agitation des Elektrolyten
erfolgt, um die Teilchen optimal in Suspension zu halten. Sodann wird die Umwälzung
des Elektrolyten so stark reduziert oder angehalten, dass sich die ursprünglich
im Elektrolyten suspendierten Teilchen absetzen können. Darauf wird dann mit dem
gleichen Elektrolyten eine nunmehr partikelfreie Schicht abgeschieden.
Die Erfindung wird nun anhand der folgenden Beispiele näher erläutert.
Beispiel 1
Ein rotationssymmerisches Bauteil (Walze) aus Stahlguß GG 30, wie
es in der Druckindustrie als Druckzylinder zum Einsatz kommt, soll mit einer galvanisch
aufgebrachten Nickelschicht mit einer Rauhtiefe von 10 &mgr;m beschichtet werden.
Die gewünschte strukturierte Oberfläche soll "noppig" sein, d.h ein kalottenförmiges
Profil aufweisen.
Zuerst werden die nicht zu beschichtenden Teile der Walze abgedeckt
und die zu beschichtenden Oberflächenteile nach den im Stand der Technik gängigen
Verfahren entfettet und aktiviert.
Das galvanische Bad wies folgende Zusammensetzung auf:
Nickelsulfat (NiSO4(6 H2O)
300 g/l
Nickelchlorid (NiCl2(6 H2O)
60 g/l
Borsäure (H3BO3)
45 g/l
Tensid (TBAH)
0,5 ml/l
pH-Wert
4,0
Diesem Elektrolyten wurden in Melamin-Formaldehyd-Harz verkapselte
kugelförmige Ni-Teilchen mit einem Durchmesser von 22 &mgr;m bis zu einer Konzentration
von 14 g/l zugegeben. Die Dispersionsabscheidung erfolgte unter heftiger Agitation
des Elektrolyten bei einer Temperatur von 60°C und einer Stromdichte von 3 A/dm2
über einen Zeitraum von 45 Minuten. Unter den gegebenen Abscheidungsbedingungen
wurde während dieser Zeit eine Schichtmatrix mit einer Dicke von 12 &mgr;m (entsprechend
60% des Partikeldurchmessers) abgeschieden.
Nach der Beschichtung wurde am Werkstück die Rauhtiefe nach DIN 4762
ermittelt. Als Ergebnis wurde ein Wert von 10 ± 2 &mgr;m erhalten. Die Oberflächenstruktur
erwies sich als gleichförmig noppig.
Beispiel 2
Wie in Beispiel 1 sollte ein rotationssymmetrisches Bauteil (Walze)
aus Stahlguß GG 30 jedoch mit einer galvanisch aufgebrachten Chromschicht mit einer
Rauhtiefe von 10 &mgr;m beschichtet werden. Die gewünschte strukturierte Oberfläche
soll ebenfalls "noppig" sein.
Da mit einer wie in Beispiel 1 direkt aufgetragenen Schichtmatrix
aus Chrom keine Schichtdicke von mindestens 50 &mgr;m zu erzielen war, ab welcher
die Chromschicht dem Bauteil erst Korrosionsfestigkeit verleihen würde, wurde zunächst
wie in Beispiel 1 eine Dispersionsabscheidung mit in einem Ni-Elektolyten gemäß Beispiel
1 suspendierten mikroverkapselten sphärischen Chromteilchen mit einem Durchmesser
von 20 &mgr;m unter denselben Reaktionsbedingungen wie in Beispiel 1 durchgeführt.
Die Expositionszeit des Bauteils im Ni-Elektrolyten betrug jedoch 25 Minuten, so
daß eine Schichtmatrix mit einer Dicke von nur 6 &mgr;m abgeschieden wurde und die
entsprechende Rauhtiefe größer als die gewünschte Rauhtiefe von 10 &mgr;m war.
Bei einem Durchmesser von 20 &mgr;m würden die dispers abgeschiedenen
Partikel aus der Schichtmatrix von nur 6 &mgr;m Dicke teilweise wieder "herausfallen".
Daher wurde auf dieser abgeschiedenen ersten Schichtmatrix aus Ni mit mikroverkapselten
Chromteilchen als disperser Phase eine weitere Schicht aus einem Chromelektrolyten,
jedoch ohne darin suspendierte Teilchen, galvanisch abgeschieden.
Dieser Chromelektrolyt wies die folgende Zusammensetzung auf:
Schwefelsäure
ca. 1 % der Chromsäurekonzentration
3-wertiges Chrom
4 g/l
Die galvanische Abscheidung erfolgte bei 50°C bei einer Stromdichte
von 25 A/dm2 über einen Zeitraum von 1 Stunde.
Nach Auftrag dieser zweiten Schicht aus Cr wurde am Werkstück die
Rauhtiefe nach DIN 4762 ermittelt. Als Ergebnis wurde wiederum ein Wert von 10 ±
2 &mgr;m erhalten und die Oberflächenstruktur erwies sich ebenfalls als gleichförmig
noppig.
Die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Erzeugung gleichmäßig
strukturierter Oberflächen mit vorgegebener, definiert eingestellter Rauhtiefe auf
Bauteilen oder Werkstücken gegenüber dem bisherigen Stand der Technik sind in der
geringeren Zahl von Prozeßschritten zu sehen, wobei auch elektrisch leitende Teilchen
nach Mikroverkapselung abgeschieden werden können. Daher kann auf eine Vorbehandlung
durch mechanisches Strahlen der Oberfläche oder eine Nachbehandlung durch Strukturätzen
verzichtet werden. Auch sind keine zeitaufwendigen intermediären Ruhephasen wie
bei der elektrolytischen Strukturabscheidung gemäß DE
42 11 881 erforderlich, ganz abgesehen von der aufwendigen Prozeßführung
und Überwachung. Zur Erzielung einer gewünschten Oberflächenrauheit sind nach dem
erfindungsgemäßen Verfahren nur ein Prozeßschritt, bei zusätzlicher Anforderung
an eine gewünschte Schichtmatrixdicke maximal zwei Prozeßschritte erforderlich.
Dies bedingt einen wesentlich kürzeren Zeitaufwand, um ans Ziel zu gelangen, verbunden
mit wesentlich geringeren Kosten und einer geringeren Umweltbelastung. Darüber hinaus
weisen die erfindungsgemäß abgeschiedenen strukturierten rauben Schichten eine ausgezeichnete
Gleichmäßigkeit auf.
|
| Anspruch[de] |
- Verfahren zur Erzeugung einer gleichmäßigen, definiert eingestellten
Oberflächenstruktur mit gemäß Vorgabe definiert einstellbarer Topographie und Rauhtiefe
auf einem auf seiner Oberfläche elektrisch leitenden Werkstück, dadurch gekennzeichnet,
daß auf der Werkstückoberfläche aus einem galvanischen oder einem außenstromlosen
Bad, in welchem Teilchen von definierter Form und Größe aus Metall und/oder einer
Metallegierung und/oder Keramik und/oder Oxiden und/oder Nitriden und/oder Karbiden
und/oder Boriden und/oder Sliciden und/oder Sulfaten und/oder Kunststoff und/oder
Diamant und/oder Graphit und/oder Glimmer einzeln oder als Gemisch zweier oder mehrerer
dieser Teilchenspezies suspendiert sind, mittels Dispersionsabscheidung eine Schichtmatrix
aus Metall oder einer Metalllegierung mit darin eingelagerten Teilchen abgeschieden
wird, wobei die Form der Teilchen nach der gewünschten Oberflächentopographie ausgewählt
wird und der größte Durchmesser der Teilchen so bemessen ist, dass er das 1,5- bis
3-fache der vorgegebenen Rauhtiefe beträgt.
- Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der größte
Teilchendurchmesser das 2- bis 3-fache der vorgegebenen Rauhtiefe beträgt.
- Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass in Abhängigkeit
von der gewünschten Schichtdicke, vor der Dispersionsabscheidung eine oder mehrere
partikelfreie galvanische oder außenstromlose Schichten aus Metall oder einer Metalllegierung
auf der Werkstückoberfläche abgeschieden werden.
- Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die abgeschiedenen
Schichten eine unterschiedliche chemische Zusammensetzung aufweisen.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß elektrisch leitende Teilchen vor der Dispersionsabscheidung mikroverkapselt
werden.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß solange eine Dispersionschicht abgeschieden wird, bis die Dicke der Schichtmatrix
50 bis 90% des größten Teilchendurchmessers entspricht.
- Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst nur
eine Dispersionsschicht abgeschieden wird, deren Rauhtiefe größer als die gewünschte
Rauhtiefe ist und in einem zweiten Schritt eine partikelfreie galvanische oder außenstromlose
Abscheidung erfolgt, mit welcher die mit der ersten Schichtmatrix abgeschiedene
disperse Phase auf die gewünschte Rauhtiefe eingeebnet wird.
- Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite abgeschiedene
partikelfreie Schicht die gleiche chemische Zusammensetzung aufweist wie die zuerst
mittels Dispersionabscheidung abgeschiedene Schichtmatrix.
- Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, die beiden Schichten
in getrennten Bädern abgeschieden werden.
- Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, die beiden Schichten
im selben Bad abgeschieden werden.
- Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man nach dem
Abscheiden der Dispersionsschicht die im Elektrolyten suspendierten Partikel sich
absetzen läßt und dann aus demselben Elektrolyten eine partikelfreie Schicht abscheidet.
- Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die mittels
Dispersionabscheidung abgeschiedene Schichtmatrix und die danach abgeschiedene partikelfreie
Schicht unterschiedliche chemische Zusammensetzungen aufweisen.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12 dadurch gekennzeichnet,
daß die Teilchen eine sphärische und/oder ellipsoide und/oder kubische und/oder
quaderförmige und/oder unregelmäßig gemahlene oder gebrochene Form aufweisen.
- Verfahren nach Anspruch 5 dadurch gekennzeichnet, daß die Mikroverkapselung
mit polymerem Material erfolgt, ausgewählt aus der Gruppe Gelatine, Stärke, Cellulose,
Polyester, Melaminharze.
- Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das polymere
Material ein Melamin-Formaldehyd-Harz ist.
- Verfahren nach jedem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet,
daß das zu beschichtende Bauteil/Werkstück aus einem elektrisch leitenden Material
besteht.
- Verfahren nach jedem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet,
daß das zu beschichtende Bauteil/Werkstück aus einem elektrisch nicht-leitenden
Kernmaterial besteht, welches auf seiner Oberfläche eine elektrisch leitende Schicht
aufweist.
- Verfahren nach jedem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet,
daß das galvanische Bad für die Dispersionsabscheidung ein Metall- und/oder Metalllegierungselektrolyt
ist, ausgewählt aus der Gruppe Chromelektrolyt, Nickelelektrolyt, Cobaltelektrolyt,
Kupferelektrolyt, Zinkelektrolyt, Edelmetallelektrolyt.
- Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das galvanische
Bad ein Chrom- und/oder Chromlegierungselektrolyt ist.
- Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das galvanische
Bad ein Nickel- und/oder Nickellegierungselektrolyt ist.
- Verfahren nach Anspruch 7 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß das
galvanische Bad für die Dispersionsabscheidung ein Nickelelektrolyt ist und das
galvanische Bad für die partikelfreie Abscheidung ein Chromelektrolyt.
- Verfahren nach jedem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet,
daß die Dispersionsabscheidung aussenstromlos mit Chemisch Nickel oder Chemisch
Kupfer erfolgt.
- Verfahren nach jedem der Ansprüche 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet,
daß die Partikelkonzentration im Bad für die Dispersionsabscheidung 5 bis 40 g/l
beträgt.
Es folgt kein Blatt Zeichnungen
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