PatentDe  


Dokumentenidentifikation DE10251614A1 19.05.2004
Titel Verfahren zur Erzeugung einer definiert eingestellten gleichmäßigen Oberflächenstruktur mit vorgegebener Rauhtiefe auf Bauteilen oder Werkstücken
Anmelder Kronenberger, Thomas, 63500 Seligenstadt, DE;
Kronenberger, Paul, 63500 Seligenstadt, DE;
Kronenberger-Wolf, Gabriele, 63456 Hanau, DE
Erfinder Kronenberger, Thomas, 63500 Seligenstadt, DE;
Kronenberger, Paul, 63500 Seligenstadt, DE;
Kronenberger-Wolf, Gabriele, 63456 Hanau, DE
Vertreter Luderschmidt, Schüler & Partner, 65189 Wiesbaden
DE-Anmeldedatum 06.11.2002
DE-Aktenzeichen 10251614
Offenlegungstag 19.05.2004
Veröffentlichungstag im Patentblatt 19.05.2004
IPC-Hauptklasse C25D 15/00
IPC-Nebenklasse C23C 18/16   
Zusammenfassung Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer gleichmäßig strukturierten, definiert eingestellten Oberflächentopographie mit gemäß Vorgabe definiert einstellbarer Rauhtiefe auf Bauteilen oder Werkstücken. Die bisherigen Verfahren zur Erzeugung gleichmäßiger Oberflächenstrukturen mit vorbestimmter Rauhtiefe erfolgten aufwendig in mehreren Schritten, wobei die einzelnen Verfahrensparameter erst durch umständliche, langwierige Vorversuche ermittelt werden mussten. Es sollte daher ein Verfahren zur Verfügung gestellt werden, mit dem sich auf einem Werkstück oder Bauteil auf einfache Weise präzise Oberflächen mit vorgegebener Topographie und Rautiefe kostengünstig herstellen lassen. Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, dass auf der Werkstückoberfläche aus einem galvanischen oder außenstromlosen Bad, in welchem Teilchen von definierter Form und Größe suspendiert sind, mittels Dispersionsabscheidung eine Schichtmatrix so abgeschieden wird, dass die in die abgeschiedene Schichtmatrix fest eingebetteten Teilchen teilweise noch aus der Oberfläche herausragen. Hierbei lassen sich selbst Teilchen aus einem elektrisch leitenden Material einsetzen, doch müssen dann diese Teilchen, um abgeschieden werden zu können, zuvor einer Mikroverkapselung mit einem elektrisch nicht leitenden Material, vorzugsweise einem Kunststoff, unterzogen werden.

Beschreibung[de]

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung rauher Oberflächen auf Substraten mit elektrisch leitender Oberfläche. Insbesondere betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Erzeugung einer gleichmäßig strukturierten, definiert eingestellten Oberflächentopographie mit gemäß Vorgabe definiert einstellbarer Rauhtiefe auf Bauteilen oder Werkstücken.

Im betreffenden Stand der Technik sind sowohl mechanische, als auch chemische bzw. elektrochemische Verfahren zur gezielten Einstellung von Rauhtiefen auf Oberflächen von Bauteilen bekannt.

Ein Verfahren zur Erhöhung der Rauhtiefe auf der Oberfläche eines Substrats besteht im mechanischen Strahlen der Oberfläche vor einer galvanischen Metallabscheidung. Hierbei wird die Bauteiloberfläche vor der eigentlichen galvanischen Beschichtung mit Strahlmitteln nach DIN 8201 auf eine solche definierte Ausgangsrauhtiefe gebracht, daß sich nach der dann anschließenden galvanischen Metallabscheidung eine gleichmäßige Oberflächenstruktur mit definierter Rauhtiefe einstellt. Diese zuvor durch Strahlen eingestellte Ausgangsrauhtiefe muß dann entsprechend größer als die vorgegebene erwünschte Rauhtiefe des fertigen Bauteils sein, da durch die nachfolgende galvanische Metallabscheidung die Oberflächenunebenheiten wieder mehr oder weniger undefiniert eingeebnet werden.

Für eine solche, im konkreten Fall zur Erzeugung einer gezielt gleichmäßigen Oberflächenstruktur mit definierter Rauhtiefe nach der galvanischen Metallabscheidung erforderliche Ausgangsrauhtiefe lassen sich die Verfahrensparameter nicht berechnen oder voraussagen. Diese müssen vielmehr im Vorfeld mit aufwendigen Vorversuchen erst ermittelt werden. Darüber hinaus läßt sich mit Strahlmitteln nicht jede beliebige Struktur in die Oberfläche einstrahlen und das Ergebnis des Strukturierungsprozesses ist wesentlich von der Qualität des Werkstücks oder Bauteils abhängig. Bei Einsatz qualitativ weniger geeigneter Werkstoffe, wie z.B. Bauteilen der Gußqualität GG30, können sich auf der Oberfläche infolge von Gußinhomogenitäten und Härteschwankungen Bereiche ausbilden, die selbst nach mehrmaligem Strahlen noch eine ungleichmäßige Struktur aufweisen. Auch kann Strahlmittel, das unter hohem Druck oder mittels Schleuderrädern trocken oder naß auf die Oberfläche geschleudert wird, teilweise in die Oberfläche eindringen und dort hängenbleiben, was dann bei der galvanischen Abscheidung zu Fehlstellen führt. Schließlich ist bei Einsatz von Strahlmitteln noch vorauszusetzen, daß wegen der damit verbundenen Gesundheitsrisiken und der Umweltbelastung den Forderungen der Verordnung über gefährliche Arbeitsstoffe (ArbStoffV) nachgekommen werden muß und die dafür gültigen Technischen Regeln für gefährliche Arbeitsstoffe (TRgA 503) eingehalten werden müssen, was das Verfahren arbeitsaufwendig und teuer macht.

Ein anderes Verfahren zur Erzeugung einer gleichmäßigen Oberflächenstruktur mit vorbestimmter Rauhtiefe besteht im Strukturätzen nach einer galvanischen Metallabscheidung. Hierbei wird auf der Bauteiloberfläche zunächst eine galvanische Schicht (= Grundschicht) abgeschieden, welche eine für den folgenden Strukturätzprozeß ausreichende Schichtdicke aufweisen muß. Auf diese galvanisch abgeschiedene Grundschicht wird, ggf. nach einem Trocknungsprozess, ein spezieller licht- bzw. UV-empfindlicher Fotolack aufgetragen, der dann noch mit einer Maske abgedeckt werden kann, wenn nur bestimmte Oberflächenabschnitte einer Strukturierung unterzogen werden sollen. Beim Belichten härtet der Lack dann an den dem Licht ausgesetzten Stellen der Oberfläche aus.

Nach Entfernen der unbelichteten Fotolackbereiche auf chemischem oder mechanischem Wege wird die Bauteiloberfläche dann mit einer Ätzlösung behandelt, welche den ausgehärteten Fotolack nicht angreift, sondern nur die freiliegenden, nicht mit Fotolack bedeckten Bereiche der Oberfläche herauslöst bzw. anätzt, wodurch die Ätzstruktur entsteht. Nach Spülen, Reinigen und Aktivieren der Bauteiloberfläche kann diese zum Abrunden der entstandenen Ätzstruktur und zum Abdecken der angeätzten Grundschicht nochmals mit einer zweiten, galvanisch abgeschiedenen Schicht überzogen werden.

Auch bei diesem Verfahren läßt sich nicht jede beliebige Struktur in die Oberfläche einätzen und die einzuhaltenden Verfahrensparameter, insbesondere die Konzentration, Temperatur und Einwirkzeit der Ätzlösung sind nicht berechenbar und voraussagbar, so daß diese Prozessparameter erst mit aufwendigen Vorversuchen experimentell ermittelt werden müssen. Darüber hinaus entstehen beim Strukturätzen neben umweltbelastenden Abwässern, deren Inhaltsstoffe in aufwendigen Verfahren abgetrennt bzw. ausgefällt werden müssen, Gase und Dämpfe, die eine Abluftreinigung erforderlich machen.

Ein weiteres Verfahren zur Erzeugung gleichmäßiger Oberflächenstrukturen mit vorbestimmter Rauhtiefe wird in der DE 42 11 881 beschrieben. Im Zuge einer elektrolytischen Strukturabscheidung werden zunächst mittels elektrischer Spannungs -oder Stromimpulse auf der Oberfläche des zu beschichtenden Substrats Keimbildungen des Abscheidungsmaterials erzeugt und anschließend mittels weiterer Folgeimpulse ein Wachstum der Abscheidungskeime durch Anlagerung von weiterem Abscheidungsmaterial herbeigeführt. Hierzu ist eine komplizierte Parameterführung von zeitabhängigen Strom- und Spannungsimpulsfolgen mit linearen Abschnitten, definierten unterschiedlichen Steigungen, Plateaus, Rückflanken und jeweiligen entsprechenden Haltezeiten erforderlich. Zwischen den einzelnen Prozeßschritten sind noch definierte Aufwärm- und Ruhephasen einzuhalten, was dann zu längeren Beschichtungszeiten führt. Die exakte Einhaltung dieser Verfahrensparameter läßt sich nur mit einer relativ komplizierten Steuerungs- und Regeltechnik realisieren. Die Einstellung der Parameter zur Erzielung einer gleichmäßigen Oberfläschenstruktur mit definierter Rauhtiefe läßt sich aber nicht im Voraus angeben oder berechnen, sondern muß mit aufwendigen Vorversuchen erst ermittelt werden. Da die Vielzahl an Prozeßschritten einen hohen Energieaufwand mit sich bringen und umfangreiche Spülschritte erforderlich machen, was zu einem hohen Verbrauch an Spülwasser und hohen Abwasserbehandlungskosten führt, ist dieses Verfahren auch relativ umweltbelastend.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Verfügung zu stellen, mit dem sich eine gleichmäßige Oberflächenstruktur auf einem Werkstück oder Bauteil definiert einstellen läßt und mit welchem auf einfache Weise präzise Oberflächen mit vorgegebener Topographie und Rauhtiefe kostengünstig herstellbar sind.

Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß auf der Werkstückoberfläche aus einem galvanischen oder außenstromlosen Bad, in welchem Teilchen von definierter Form und Größe aus Metall und/oder einer Metalllegierung und/oder Keramik und/oder Oxiden und/oder Nitriden und/oder Karbiden und/oder Boriden und/oder Siliciden und/oder Sulfaten und/oder Kunststoff und/oder Diamant und/oder Graphit und/oder Glimmer entweder einzeln oder als Gemisch zweier oder mehrerer dieser Teilchenspezies suspendiert sind, mittels Dispersionsabscheidung eine Schichtmatrix aus Metall und/oder Metalllegierung mit darin eingelagerten Teilchen so abgeschieden wird, daß die in die abgeschiedene Schichtmatrix fest eingebetteten Teilchen teilweise noch aus der Oberfläche herausragen. Werden Teilchen aus einem elektrisch leitenden Material eingesetzt, müssen diese Teilchen, um abgeschieden werden zu können, zuvor einer Mikroverkapselung mit einem elektisch nicht leitenden Material, vorzugsweise einem Kunststoff, unterzogen werden.

Bevorzugte oxidische Teilchen sind solche aus Siliciumoxid und/oder Aluminiumoxid und/oder Titandioxid, bevorzugte Karbidteilchen sind z.B. aus Hartstoffen wie Siliciumcarbid und/oder Titancarbid, bevorzugtes Nitrid ist Bornitrid, beispielhafte Kunststoffe sind z.B. Polytetrafluorethylene (PTFE).

Die Ausbildung der gleichmäßigen definiert eingestellten Oberflächenstruktur mit gemäß Vorgabe definiert einstellbarer Rauhtiefe erfolgt über die während der galvanischen Abscheidung stattfindende Einlagerung der Partikel in die sich ausbildende Schichtmatrix. Unter Rauhtiefe wird hierbei die größte Abweichung des Istprofils vom geometrisch-idealen Profil für die Werkstück- oder Bauteiloberfläche verstanden, d.h. der größte Abstand zwischen den Spitzen und Tiefen der Oberfläche innerhalb einer Bezugsstrecke. Sie wird nach DIN 4762 bestimmt.

Die Rauhtiefe und Topographie der Oberfläche wird vom Verbraucher/Kunden/Anwender vorgegeben. Beispielsweise stellt sich in der Druckindustrie beim beidseitigen Drucken von Hochglanzprospekten oder -katalogen das Problem, aus verfahrensökonomischen Gründen die Rüchseite schon bedrucken zu müssen, wenn die Vorderseite noch druckfeucht ist. Diese noch feuchte Seite muss dann von der Walze (Druckzylinder) so mitgeführt werden können, dass zum einen keine Seitenreibung auftritt, was zum „Verschmieren" der schon bedruckten, aber noch feuchten Seite führen würde, zum andern darf die Oberflächentopographie der Walze nicht so beschaffen sein, dass die dann bedruckte Rückseite bzw. das Papier nach dem Trocknen sichtbare Druckspuren oder gar Perforationen aufweist. Die Oberflächentopographie der Druckwalze erfordert daher eine mehr oder weniger „spitz" zulaufende Form der aus der Walzenoberfläche herausragenden Teilchen, um eine reibungsfreie Mitführung des einseitig bedruckten, noch feuchten Papiers zu gewährleisten, wobei andererseits aber eine genügend hohe Flächendichte der Teilchen mit geeigneter Rauhtiefe eingehalten werden muss, damit nachher keine Druckspuren erkennbar sind. Diese Anforderungen an die Oberflächentopographie einer Druckwalze lassen sich mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ohne größeren Aufwand erbringen.

Unter Topographie wird hierbei das Oberflächenrelief verstanden, welches von den aus der Oberfläche herausragenden, auf dieser gleichmäßig verteilten, die Rauhtiefe bestimmenden Teilchen gebildet wird. Unter Oberflächenstrukturierung im Sinne der Erfindung wird die Gesamtheit von Topographie, Rauhtiefe, Teilchenform und Teilchenzahl pro Flächeneinheit (Teilchendichte) verstanden.

Die Form der im galvanischen Bad zu suspendierenden Teilchen richtet sich daher nach der vom Verbraucher gewünschten Oberflächentopographie. Die Form kann sphärisch, ellipsoid, kubisch, quaderförmig oder unregelmäßig sein, wie sie gemahlene oder gebrochene Teilchen gewöhnlich aufweisen.

Die Größe der im galvanischen Bad zu suspendierenden Teilchen richtet sich nach der gewünschten Rauhtiefe. Diese liegt gewöhnlich im Bereich von 5 bis ca. 30 &mgr;m. Da es nur bei einer Kugelgestalt als rotationssymmetrischem Körper einen einzigen Durchmesser gibt, wird für die anderen oben genannten Formen zur Auswahl der gewünschten Teilchengröße immer der größte Durchmesser herangezogen. Dieser (ebenso wie der Kugeldurchmesser) ist so zu wählen, daß er das 1,5- bis 3-fache, vorzugsweise das 2- bis 3-fache der vorgegebenen Rauhtiefe beträgt.

Im bisherigen Stand der Technik wurde die Dispersionsabscheidung noch nicht zur Erzielung einer Oberflächenstrukturierung eingesetzt, auch wurden mittels Dispersionsabscheidung – ob galvanisch oder außenstromlos – bisher nur elektisch nichtleitende bzw. nichtmetallische Partikel als disperse Phase mit der Schichtmatrix abgeschieden. Überraschend hat sich nun gezeigt, daß sich auch metallische, an sich stromleitende Partikel abscheiden lassen, wenn diese während der Dispersionsabscheidung in (nicht leitende) Mikrokapseln eingeschlossen sind. Der Einsatz von Mikrokapseln ist in der Galvanotechnik seit langem bekannt. Hierbei wurden insbesondere mehr oder weniger flüssige oder gasförmige Inhaltsstoffe, wie z.B. Farbstoffe (Selbstdurchschreibepapier) oder Motoröl (Schmiermittel) in Mikrokapseln aus Polymermaterial eingeschlossen und mittels Dispersionsabscheidung abgeschieden, um dann in der abgeschiedenen Oberfläche, ggf. erst nach teilweiser Abrasion des auf der Oberfläche abgeschiedenen Matrixmaterials, durch Reibkontakt mit einem Gegenkörper zerstört zu werden und ihren Inhalt freizusetzen.

Da erfindungsgemäß die Mikroverkapselung mit Polymermaterial nur während der Dispersionsabscheidung von elektrisch leitenden Teilchen aufrechterhalten werden muß und für die spätere Verwendung des Werkstücks oder Bauteils mit der dann definiert eingestellten Oberflächenrauhigkeit nicht mehr gebraucht wird, kann das dann auf den aus der Oberfläche herausragenden metallischen Teilchen noch anhaftende Polymermaterial der Mikrokapseln vor seinem bestimmungsgemäßen Einsatz durch einfaches Reiben leicht entfernt werden, zumal die Wandstärke dieser Mikrokapseln nur wenige Nanometer beträgt. Als Material für eine derartige Mikroverkapselung können Gelatine, Stärke, Cellulose, Polyester oder Melamin-Harze dienen, die sich in der Galvanotechnik bereits bewährt haben. Bevorzugtes Material ist ein Melamin-Formaldehyd-Harz.

Das zu beschichtende Werkstück oder Bauteil kann in seinem Kern auch nichtleitend sein, es muß zur Abscheidung jedoch eine leitende Oberfläche aufweisen. Vor der galvanischen Dispersionsabscheidung liegt das Werkstück oder Bauteil hinsichtlich seiner Oberflächenrauhheit und -struktur in dem entsprechend seinem Herstellungsprozeß (gedrehte Oberfläche bei Drehteilen, Gußoberfläche bei Gußwerkstücken, geschliffene Oberfläche bei mechanischer Bearbeitung) erhaltenen Originalzustand vor. Zur galvanischen Dispersionsabscheidung muß die Bauteiloberfläche nur noch in der in der Galvanotechnik üblichen Weise entfettet und aktiviert (dekapiert) werden. Einer weiteren Vorbehandlung bedarf es in der Regel nicht. Ggf. kann eine mechanische Behandlung zum Aktivieren bzw. zum Einhalten geforderter maßlicher Toleranzen erfolgen. Die gezielt gleichmäßige Oberflächenstruktur mit definiert eingestellter Rauhtiefe wird jedoch ausschließlich mittels galvanischer oder außenstromloser Dispersionsabscheidung erzeugt.

Als galvanische Bäder können alle in der Galvanotechnik bekannten Elektrolyte für die galvanische Abscheidung von Metallen und/oder Metalllegierungen zum Einsatz kommen. Als Abscheidungselektrolyte bevorzugt sind: Chrom- und Chromlegierungselektrolyte, sowohl als schwefelsaurer als auch mischsaurer Typ (d.h. Mischung von Schwefelsäure und Hexafluorokieselsäure); Nickel- und Nickellegierungselektrolyte; Cobalt- und Cobaltlegierungselektrolyte; Kupfer- und Kupferlegierungselektrolyte; Edelmetall- und Edelmetalllegierungselektrolyte; Zink- und Zinklegierungselektrolyte. Besonders bevorzugt sind Nickel- und Chromelektrolyte.

Die Schichtdicken für die mittels Dispersionsabscheidung gebildeten Überzüge liegen vorzugsweise im Bereich von mindestens 7,5 bis ca. 35 &mgr;m, d.h. sie belaufen sich auf mindestens 50 bis 90%, vorzugsweise 50 bis 75%, des größten Durchmessers der Teilchen. Neben der oben beschriebenen Auswahl für Größe, Form und Zusammensetzung der Teilchen sind bevorzugte Parameter, mit denen sich die Oberflächenstruktur und/oder Rauhtiefe während der Dispersionsabscheidung einstellen lassen:

die Zusammensetzung des Elektrolyten;

die Viskosität des Elektrolyten;

die Expositionszeit des zu beschichtenden Werkstücks/Bauteils im Elektrolyten, d.h. die Abscheidungsdauer;

die Abscheidungstemperatur,

die kathodische Stromdichte im Elektrolyten;

der pH-Wert;

das Elektrodenmaterial und die Elektrodenabstände;

die Hydrodynamik des Elektrolyten;

der Grad der Rotation des zu beschichtenden Werkstücks/Bauteils; sowie

die Konzentration der Partikel und deren Suspensionsgrad im Elektrolyten.

Alternativ kann die Abscheidung auch aussenstromlos mit Chemisch Nickel oder Chemisch Kupfer (bzw. mit Legierungselektrolyten derselben) nach im Stand der Technik bekannten Verfahren erfolgen.

Die Partikelkonzentration im Elektrolyten soll mindestens 5 g/l betragen und kann biszu 40 g/l reichen; bevorzugt ist eine Konzentration von 10 bis 20 g/l. Zusammen mit der Rotationsgeschwindigkeit des zu beschichtenden Werkstücks läßt sich mit der Partikelkonzentration die Flächendichte, d.h. die pro Flächeneinheit zusammen mit der Schichtmatrix abgeschiedene Anzahl von Teilchen regulieren, während die Gleichmäßigkeit, mit der die Teilchen abgeschieden werden, mit der Hydrodynamik der Elektrolytumwälzung in Korrelation steht, welche dafür sorgt, daß die Teilchen im Elektrolyten möglichst gleichmäßig in Suspension gehalten werden.

Falls die vom Anwender erwünschte Dicke für die auf das Werkstück/Bauteil aufzutragende Gesamtschicht nicht mit den obigen Bedingungen für die Schichtmatrixdicke aus der Dispersionsabscheidung vereinbar ist, die sich ja direkt nach der Partikelgröße und diese wiederum nach der gewünschten Rauhtiefe zu richten hat, sondern vielmehr eine größere Schichtdicke als mit alleiniger Dispersionsabscheidung erreichbar gewünscht wird, können zunächst eine oder mehrere Schichten, welche sich auch in ihrer chemischen Zusammensetzung unterscheiden können, ohne darin dispergierte Teilchen nach herkömmlichen Verfahren auf die Oberfläche galvanisch oder auch außenstromlos abgeschieden werden. Dies kann auch aus technischen Gründen dann erforderlich werden, wenn z.B. eine aus Chrom bestehende Oberflächenschicht mit definierter Rauhtiefe erwünscht ist. Wie der Fachmann weiß, sind Chromschichten erst ab einer Schichtdicke von ca. 50 &mgr;m korrosionsfest.

Eine weitere Möglichkeit, zwei oder mehrere Schichten aufzutragen, besteht darin, zunächst mittels Dispersionsabscheidung eine Beschichtung aufzutragen, welche zunächst gezielt auf eine größere Rauhtiefe als gewünscht eingestellt wird, um darauf dann mittels einer gewöhnlichen Abscheidung ohne disperse Phase die zuerst mittels Dispersionabscheidung abgeschiedene Schicht mit größerer als erwünschter Rauhheit auf die gewünschte Rauhtiefe einzuebnen. Diese beiden Abscheidungsarten lassen sich in getrennten Bädern durchführen, was insbesondere dann angezeigt ist, wenn Schichtmatrices unterschiedlicher chemischer Zusammensetzung erwünscht sind. Im Falle gleicher chemischer Zusammensetzung, wird vorzugsweise aus einem Bad abgeschieden, indem zunächst die Dispersionsabscheidung unter heftiger Agitation des Elektrolyten erfolgt, um die Teilchen optimal in Suspension zu halten. Sodann wird die Umwälzung des Elektrolyten so stark reduziert oder angehalten, dass sich die ursprünglich im Elektrolyten suspendierten Teilchen absetzen können. Darauf wird dann mit dem gleichen Elektrolyten eine nunmehr partikelfreie Schicht abgeschieden.

Die Erfindung wird nun anhand der folgenden Beispiele näher erläutert.

Beispiel 1

Ein rotationssymmerisches Bauteil (Walze) aus Stahlguß GG 30, wie es in der Druckindustrie als Druckzylinder zum Einsatz kommt, soll mit einer galvanisch aufgebrachten Nickelschicht mit einer Rauhtiefe von 10 &mgr;m beschichtet werden. Die gewünschte strukturierte Oberfläche soll "noppig" sein, d.h ein kalottenförmiges Profil aufweisen.

Zuerst werden die nicht zu beschichtenden Teile der Walze abgedeckt und die zu beschichtenden Oberflächenteile nach den im Stand der Technik gängigen Verfahren entfettet und aktiviert.

Das galvanische Bad wies folgende Zusammensetzung auf:

Nickelsulfat (NiSO4(6 H2O) 300 g/l Nickelchlorid (NiCl2(6 H2O) 60 g/l Borsäure (H3BO3) 45 g/l Tensid (TBAH) 0,5 ml/l pH-Wert 4,0

Diesem Elektrolyten wurden in Melamin-Formaldehyd-Harz verkapselte kugelförmige Ni-Teilchen mit einem Durchmesser von 22 &mgr;m bis zu einer Konzentration von 14 g/l zugegeben. Die Dispersionsabscheidung erfolgte unter heftiger Agitation des Elektrolyten bei einer Temperatur von 60°C und einer Stromdichte von 3 A/dm2 über einen Zeitraum von 45 Minuten. Unter den gegebenen Abscheidungsbedingungen wurde während dieser Zeit eine Schichtmatrix mit einer Dicke von 12 &mgr;m (entsprechend 60% des Partikeldurchmessers) abgeschieden.

Nach der Beschichtung wurde am Werkstück die Rauhtiefe nach DIN 4762 ermittelt. Als Ergebnis wurde ein Wert von 10 ± 2 &mgr;m erhalten. Die Oberflächenstruktur erwies sich als gleichförmig noppig.

Beispiel 2

Wie in Beispiel 1 sollte ein rotationssymmetrisches Bauteil (Walze) aus Stahlguß GG 30 jedoch mit einer galvanisch aufgebrachten Chromschicht mit einer Rauhtiefe von 10 &mgr;m beschichtet werden. Die gewünschte strukturierte Oberfläche soll ebenfalls "noppig" sein.

Da mit einer wie in Beispiel 1 direkt aufgetragenen Schichtmatrix aus Chrom keine Schichtdicke von mindestens 50 &mgr;m zu erzielen war, ab welcher die Chromschicht dem Bauteil erst Korrosionsfestigkeit verleihen würde, wurde zunächst wie in Beispiel 1 eine Dispersionsabscheidung mit in einem Ni-Elektolyten gemäß Beispiel 1 suspendierten mikroverkapselten sphärischen Chromteilchen mit einem Durchmesser von 20 &mgr;m unter denselben Reaktionsbedingungen wie in Beispiel 1 durchgeführt. Die Expositionszeit des Bauteils im Ni-Elektrolyten betrug jedoch 25 Minuten, so daß eine Schichtmatrix mit einer Dicke von nur 6 &mgr;m abgeschieden wurde und die entsprechende Rauhtiefe größer als die gewünschte Rauhtiefe von 10 &mgr;m war.

Bei einem Durchmesser von 20 &mgr;m würden die dispers abgeschiedenen Partikel aus der Schichtmatrix von nur 6 &mgr;m Dicke teilweise wieder "herausfallen". Daher wurde auf dieser abgeschiedenen ersten Schichtmatrix aus Ni mit mikroverkapselten Chromteilchen als disperser Phase eine weitere Schicht aus einem Chromelektrolyten, jedoch ohne darin suspendierte Teilchen, galvanisch abgeschieden.

Dieser Chromelektrolyt wies die folgende Zusammensetzung auf:

Chromsäure 260 g/l
Schwefelsäure ca. 1 % der Chromsäurekonzentration 3-wertiges Chrom 4 g/l

Die galvanische Abscheidung erfolgte bei 50°C bei einer Stromdichte von 25 A/dm2 über einen Zeitraum von 1 Stunde.

Nach Auftrag dieser zweiten Schicht aus Cr wurde am Werkstück die Rauhtiefe nach DIN 4762 ermittelt. Als Ergebnis wurde wiederum ein Wert von 10 ± 2 &mgr;m erhalten und die Oberflächenstruktur erwies sich ebenfalls als gleichförmig noppig.

Die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Erzeugung gleichmäßig strukturierter Oberflächen mit vorgegebener, definiert eingestellter Rauhtiefe auf Bauteilen oder Werkstücken gegenüber dem bisherigen Stand der Technik sind in der geringeren Zahl von Prozeßschritten zu sehen, wobei auch elektrisch leitende Teilchen nach Mikroverkapselung abgeschieden werden können. Daher kann auf eine Vorbehandlung durch mechanisches Strahlen der Oberfläche oder eine Nachbehandlung durch Strukturätzen verzichtet werden. Auch sind keine zeitaufwendigen intermediären Ruhephasen wie bei der elektrolytischen Strukturabscheidung gemäß DE 42 11 881 erforderlich, ganz abgesehen von der aufwendigen Prozeßführung und Überwachung. Zur Erzielung einer gewünschten Oberflächenrauheit sind nach dem erfindungsgemäßen Verfahren nur ein Prozeßschritt, bei zusätzlicher Anforderung an eine gewünschte Schichtmatrixdicke maximal zwei Prozeßschritte erforderlich. Dies bedingt einen wesentlich kürzeren Zeitaufwand, um ans Ziel zu gelangen, verbunden mit wesentlich geringeren Kosten und einer geringeren Umweltbelastung. Darüber hinaus weisen die erfindungsgemäß abgeschiedenen strukturierten rauben Schichten eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit auf.


Anspruch[de]
  1. Verfahren zur Erzeugung einer gleichmäßigen, definiert eingestellten Oberflächenstruktur mit gemäß Vorgabe definiert einstellbarer Topographie und Rauhtiefe auf einem auf seiner Oberfläche elektrisch leitenden Werkstück, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Werkstückoberfläche aus einem galvanischen oder einem außenstromlosen Bad, in welchem Teilchen von definierter Form und Größe aus Metall und/oder einer Metallegierung und/oder Keramik und/oder Oxiden und/oder Nitriden und/oder Karbiden und/oder Boriden und/oder Sliciden und/oder Sulfaten und/oder Kunststoff und/oder Diamant und/oder Graphit und/oder Glimmer einzeln oder als Gemisch zweier oder mehrerer dieser Teilchenspezies suspendiert sind, mittels Dispersionsabscheidung eine Schichtmatrix aus Metall oder einer Metalllegierung mit darin eingelagerten Teilchen abgeschieden wird, wobei die Form der Teilchen nach der gewünschten Oberflächentopographie ausgewählt wird und der größte Durchmesser der Teilchen so bemessen ist, dass er das 1,5- bis 3-fache der vorgegebenen Rauhtiefe beträgt.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der größte Teilchendurchmesser das 2- bis 3-fache der vorgegebenen Rauhtiefe beträgt.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass in Abhängigkeit von der gewünschten Schichtdicke, vor der Dispersionsabscheidung eine oder mehrere partikelfreie galvanische oder außenstromlose Schichten aus Metall oder einer Metalllegierung auf der Werkstückoberfläche abgeschieden werden.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die abgeschiedenen Schichten eine unterschiedliche chemische Zusammensetzung aufweisen.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß elektrisch leitende Teilchen vor der Dispersionsabscheidung mikroverkapselt werden.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß solange eine Dispersionschicht abgeschieden wird, bis die Dicke der Schichtmatrix 50 bis 90% des größten Teilchendurchmessers entspricht.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst nur eine Dispersionsschicht abgeschieden wird, deren Rauhtiefe größer als die gewünschte Rauhtiefe ist und in einem zweiten Schritt eine partikelfreie galvanische oder außenstromlose Abscheidung erfolgt, mit welcher die mit der ersten Schichtmatrix abgeschiedene disperse Phase auf die gewünschte Rauhtiefe eingeebnet wird.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite abgeschiedene partikelfreie Schicht die gleiche chemische Zusammensetzung aufweist wie die zuerst mittels Dispersionabscheidung abgeschiedene Schichtmatrix.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, die beiden Schichten in getrennten Bädern abgeschieden werden.
  10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, die beiden Schichten im selben Bad abgeschieden werden.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man nach dem Abscheiden der Dispersionsschicht die im Elektrolyten suspendierten Partikel sich absetzen läßt und dann aus demselben Elektrolyten eine partikelfreie Schicht abscheidet.
  12. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die mittels Dispersionabscheidung abgeschiedene Schichtmatrix und die danach abgeschiedene partikelfreie Schicht unterschiedliche chemische Zusammensetzungen aufweisen.
  13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12 dadurch gekennzeichnet, daß die Teilchen eine sphärische und/oder ellipsoide und/oder kubische und/oder quaderförmige und/oder unregelmäßig gemahlene oder gebrochene Form aufweisen.
  14. Verfahren nach Anspruch 5 dadurch gekennzeichnet, daß die Mikroverkapselung mit polymerem Material erfolgt, ausgewählt aus der Gruppe Gelatine, Stärke, Cellulose, Polyester, Melaminharze.
  15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das polymere Material ein Melamin-Formaldehyd-Harz ist.
  16. Verfahren nach jedem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß das zu beschichtende Bauteil/Werkstück aus einem elektrisch leitenden Material besteht.
  17. Verfahren nach jedem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß das zu beschichtende Bauteil/Werkstück aus einem elektrisch nicht-leitenden Kernmaterial besteht, welches auf seiner Oberfläche eine elektrisch leitende Schicht aufweist.
  18. Verfahren nach jedem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß das galvanische Bad für die Dispersionsabscheidung ein Metall- und/oder Metalllegierungselektrolyt ist, ausgewählt aus der Gruppe Chromelektrolyt, Nickelelektrolyt, Cobaltelektrolyt, Kupferelektrolyt, Zinkelektrolyt, Edelmetallelektrolyt.
  19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das galvanische Bad ein Chrom- und/oder Chromlegierungselektrolyt ist.
  20. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das galvanische Bad ein Nickel- und/oder Nickellegierungselektrolyt ist.
  21. Verfahren nach Anspruch 7 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß das galvanische Bad für die Dispersionsabscheidung ein Nickelelektrolyt ist und das galvanische Bad für die partikelfreie Abscheidung ein Chromelektrolyt.
  22. Verfahren nach jedem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Dispersionsabscheidung aussenstromlos mit Chemisch Nickel oder Chemisch Kupfer erfolgt.
  23. Verfahren nach jedem der Ansprüche 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikelkonzentration im Bad für die Dispersionsabscheidung 5 bis 40 g/l beträgt.
Es folgt kein Blatt Zeichnungen






IPC
A Täglicher Lebensbedarf
B Arbeitsverfahren; Transportieren
C Chemie; Hüttenwesen
D Textilien; Papier
E Bauwesen; Erdbohren; Bergbau
F Maschinenbau; Beleuchtung; Heizung; Waffen; Sprengen
G Physik
H Elektrotechnik

Anmelder
Datum

Patentrecherche


Copyright © 2008 Patent-De Alle Rechte vorbehalten. eMail: info@patent-de.com