Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Hartchromschicht beschrieben, wobei Chrom aus einem Elektrolyt auf ein Werkstück abgeschieden wird, der enthält: (a) Cr(VI)-Verbindung in einer Menge, die 50 g/l bis 600 g/l Chromsäureanhydrid entsprechen; (b) 0,5 g/l bis 10 g/l Schwefelsäure; (c) 1 g/l bis 20 g/l aliphatische Sulfonsäure mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen und (d) 10 g/l bis 200 g/l mindestens einer einen dichten Kathodenfilm ausbildenden Verbindung, ausgewählt unter Ammonium-, Alkali- und Erdalkalimolybdat, Ammonium-, Alkali- und Erdalkalivanadat und Ammonium-, Alkali- und Erdalkalizirkonat. Ferner betrifft die Anmeldung eine nach diesem Verfahren erhältliche strukturierte Hartchromschicht und einen Elektrolyt zur Durchführung des Verfahrens.
Beschreibung[de]
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer
strukturierten Hartchromschicht auf einem Werkstück, dadurch erhältliche strukturierte
Hartchromschichten und einen Elektrolyt zur Durchführung des Verfahrens.
Elektrochemisch bzw. galvanisch abgeschiedene Chromschichten gelten
seit vielen Jahren als Stand der Technik bei funktionellen und dekorativen Einsatzgebieten
und Anwendungen zur Beschichtung von elektrisch leitenden und nicht leitenden Werkstücken.
Der Einsatz strukturierter elektrochemisch erzeugter Hartchromschichten
hat in den vergangenen Jahren und gerade in letzter Zeit zunehmend an Bedeutung
gewonnen. Vor allem der Einsatz funktioneller Strukturen zeigt einen starken Aufwärtstrend.
Typische Anwendungen finden sich bei der Beschichtung von Druckwalzen zu deren besseren
Benetzung mit Farbe, bei Walzen zum Prägen von Blechen, zur Verbesserung des Tiefziehprozesses
für die Autoindustrie und auch beim Lagern zum Schutz vor Verschleiß und der Verminderung
von Reibung.
Die nach dem Stand der Technik eingesetzten strukturierten Schichten
weisen jedoch alle einen ausgeprägten kugeligen Schichtaufbau auf. Die Größe der
Kugelformen schwankt zwischen weniger als 1 &mgr;m und mehreren &mgr;m. Der Bedeckungsgrad
bzw. die Dichte des sphärischen Schichtaufbaus ist je nach Verfahren mehr oder weniger
variirbar.
So werden strukturierte Chromschichten nach DE
33 077 48 A1, DE 42 11 881 A1
und DE 43 34 122 A1 durch Variation
der elektrischen Gleichströme erzeugt, wobei der Aufbau der Strukturen durch Variation
von Stromrampen- und Stromimpulshöhen beeinflußt werden.
Nach DE 44 32 512 A1
werden ebenfalls sphärische Strukturen erzeugt. Hier werden deren Wachstum jedoch
über die Zugabe von Salzen der Elemente Selen oder Tellur zum Verchromungselektrolyten
ermöglicht.
Nach DE 19828545 C1
hat die Zugabe von 2-Hydroxyethansulfonationen zum Elektrolyten in Kombination mit
dessen Temperaturvariation und der Variation des angelegten elektrischen Gleichstroms
ebenfalls kugelige Strukturen zur Folge.
Alle diese aufgeführten strukturierten Chrombeschichtungen besitzen
jedoch die gleiche, mehr oder weniger stark ausgeprägte kugelige Charakteristik,
die nicht für alle Anwendungen geeignet ist. Die Schichten sind zum Teil ungleichmäßig
ausgebildet und der Prozeß zu deren Abscheidung unterliegt einigen nicht sicher
zu kontrollierenden Mechanismen.
Aus der WO 02/38835 A1 ist ein Verfahren zur elektrolytischen Beschichtung
von Werkstoffen bekannt, wobei eine Chromlegierung aus einem Elektrolyten abgeschieden
wird, der wenigstens Chromsäure, Schwefelsäure, ein Isopolyanionen ausbildendes
Metall, eine kurzkettige aliphatische Sulfonsäure, deren Salz und/oder deren Halogenderivat
und Fluoride enthält. Die Ausbildung einer strukturierten Hartchromschicht wird
in diesem Stand der Technik nicht erwähnt.
Der vorliegenden Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
zur Herstellung einer strukturierten Hartchromschicht bereitzustellen, das nicht
die Nachteile des Standes der Technik aufweist.
Erfindungsgemäß wird dies durch ein Verfahren zur Herstellung einer
strukturierten Hartchromschicht erreicht, wobei Chrom aus einem Elektrolyt auf einem
Werkstück abgeschieden wird, der enthält:
(a) Cr(VI)-Verbindung in einer Menge, die 50 g/l bis 600 g/l Chromsäureanhydrid
entsprechen;
(b) 0,5 g/l bis 10 g/l Schwefelsäure;
(c) 1 g/l bis 20 g/l aliphatische Sulfonsäure mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen
und
(d) 10 g/l bis 200 g/l mindestens einer einen dichten Kathodenfilm ausbildende
Verbindung ausgewählt unter Ammonium-, Alkali- und Erdalkalimolybdat, Ammonium-,
Alkali- und Erdalkalivanadat und Ammonium-, Alkali- und Erdalkalizirkonat.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist bestens geeignet, um zur Herstellung
strukturierter Hartchromschichten angewandt zu werden.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird durch eine gezielte Beeinflussung
des sich bei der elektrochemischen Abscheidung von Metallen bildenden Kathodenfilms
eine strukturierte Hartchromschicht erhalten, wobei die Schicht näpfchenförmig und/oder
labyrinthartig und/oder säulenförmig ausgebildet ist.
Löst man Salze in Wasser, so dissoziieren sie in Kationen und Anionen.
Diese dissoziierten Ionen umgeben sich gleichzeitig mit einer Hydrathülle, d.h.
es lagern sich Wassermoleküle (als Dipole) um die Kationen bzw. Anionen an. Während
der Hydratation wird die Ladungszahl der Ionen nicht verändert. Beginnt nun ein
hydratisiertes Metallion unter Stromeinfluß zu wandern, so gerät es in der Nähe
der Kathode in einen Grenzbereich zwischen Elektrolyt und Kathode.
Dieser sogenannte Kathodenfilm befindet sich unmittelbar auf der Oberfläche
des zu beschichtenden Werkstücks, da das Werkstück elektrisch negativ geschaltet
ist. In dieser Phasengrenze werden die im Elektrolyten anwesenden Metallionen durch
Aufnahme von Elektronen, die von der Kathode vom elektrischen Strom angeboten werden,
zunächst ausgerichtet. Unmittelbar auf der Werkstückoberfläche
unter der Diffusionszone befindet sich eine elektrochemische Doppelschicht, auch
„Helmholtzsche Doppelschicht" genannt. Sie ist eine Bezeichnung für die etwa
einige Atom- oder Molekülschichten dicke elektrisch geladene Zone an der Grenzfläche
Elektrolyt/Elektrode. Ihre Bildung ist von Ionen, Elektronen oder gerichteten Dipolmolekülen
abhängig. Sie ist auf der einen Seite positiv, auf der anderen Seite negativ aufgeladen
und verhält sich so wie ein Plattenkondensator mit extrem niedrigem Plattenabstand.
Das so entstandene Metallatom befindet sich nun auf der Werkstückoberfläche. Sein
Zustand ist aber noch nicht mit dem eines Atoms im Metallinneren vergleichbar. Erst
wenn eine sogenannte Wachstumsstelle vorhanden ist, ordnen sich die entstandenen
Atome in das vorhanden Metallgitter ein.
Üblicherweise werden die Abscheidebedingungen der Elektrolyte, wie
chemische Zusammensetzung, Temperatur, Hydrodynamik und elektrischer Strom, so gewählt,
daß eine gleichmäßige Bedeckung des Grundwerkstoffs mit dem abzuscheidenden Metall
erfolgt. Dies bedeutet, daß der Kathodenfilm durch diese Maßnahme so beeinflußt
wird, daß seine Durchlässigkeit für die anwesenden Ionen so gleichmäßig wie möglich
ist.
Das Element Chrom liegt in wäßriger Lösung, im Vergleich zu den meisten
elektrochemisch abscheidbaren Elementen, als negativ geladenes Komplexion hauptsächlich
als Hydrogendichromat in stark saurer Lösung vor.
Das Chrom besitzt in diesem Komplex die Oxidationsstufe 6. Daneben
sind in Elektrolyten auch geringere Mengen an Chrom (III)-Verbindungen enthalten.
Elektrolysiert man eine solche wäßrige Lösung, so bildet sich auf
der Kathode ein fester Film, der eine Chromabscheidung verhindert. Es entsteht lediglich
Wasserstoff, der wegen seines kleinen Radius durch den festen Kathodenfilm hindurchtreten
kann, nicht aber die großen Hydrogendichromationen. Erst durch den Zusatz von Fremdanionen,
z.B. Sulfat und Chlorid, wird der Kathodenfilm für Chromionen durchlässig und es
kommt über verschiedene Oxidationsstufen zur Abscheidung des Chroms (siehe „Chemie
für die Galvanotechnik" Leutze Verlag, 2. Auflage, 1993).
Durch die Zugabe mindestens einer einen dichten Kathodenfilm ausbildenden
Verbindungen zum Elektrolyt wird die Bildung des Kathodenfilms so gesteuert, daß
dieser durchlässig für Chromionen wird, so daß sich zunächst eine sehr dichte Sperrschicht
bildet, welche dann je nach angelegter elektrischer Beschichtungsstromdichte durchschlägt
und den Metallaufbau unterschiedlicher Stärke bzw. Schichtdicke entstehen läßt.
Auf diese Weise werden strukturierte Chromschichten, die näpfchenförmig und/oder
labyrinthartig und/oder säulenförmig ausgebildet sind, erhalten.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhaltene Chromschicht weist
eine hohe Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit, hervorragende Gleiteigenschaften
und Freßbeständigkeit sowie auch ein ästhetisch günstiges Aussehen auf, das kaum
von einer anderen Beschichtung erreicht wird. Durch die näpfchenförmig und/oder
labyrinthartig und/oder säulenförmig strukturierte Hartchromschicht kann sie für
viele funktionelle oder auch dekorative Anwendungen eingesetzt werden. So ist beispielsweise
durch die spezielle Struktur der Schicht ein besseres Aufnahmevermögen von Flüssigkeiten
gewährleistet. Ferner kann der Aufbau eines Gaspolsters ermöglicht sowie eine verbesserte
Verankerungsmöglichkeit für dort einzulagernde Stoffe, z.B. Kunststoffe, Farbstoffe,
Metalle, Keramiken, elektronische Bauelemente, körpereigenes Gewebe als Implantatbeschichtung,
erreicht werden. Des weiteren ermöglicht diese spezielle Struktur durch ihre Oberflächentopographie
gezielte optische Effekte, z.B. hohes Adsorptionsvermögen für Licht- und Wärmestrahlung
beim Einsatz von Solarkollektoren und auch dekorative Anwendungen im Designbereich.
Unter dem Ausdruck „Elektrolyt" im Sinne der vorliegenden Erfindung
werden wäßrige Lösungen verstanden, deren elektrische Leitfähigkeit durch elektrolytisch
Dissoziation in Ionen zustande kommt. Demzufolge weist der Elektrolyt neben den
Komponenten (a) bis (d) und gegebenenfalls weiter vorliegende Zusatzstoffe als Rest
Wasser auf.
Die vorstehend angegebenen Mengen der Komponenten (a) bis (d) beziehen
sich auf den Elektrolyt.
Als Komponente (a) wird vorzugsweise CrO3 eingesetzt, das
sich für die elektrolytische Abscheidung von Chrom als besonders günstig erwiesen
hat.
Eine als Komponente (c) vorzugsweise eingesetzte aliphatische Sulfonsäure
ist Methansulfonsäure. Diese hat sich als besonders günstig für die Ausbildung der
strukturierten Hartchromschichten mit vorstehenden Eigenschaften erweisen.
Als Alkaliionen für die Komponente (d) können Li+, Na+
und K+ eingesetzt werden. Beispiele für Erdalkaliionen sind Mg2+
und Ca2+. In einer bevorzugten Ausführungsform ist die Komponente (d)
(NH4)6Mo7O24·4H2O,
das sich als besonders günstig für die Ausbildung der strukturierten Hartchromschicht
mit vorstehenden Eigenschaften herausgestellt hat.
Der vorstehend näher bezeichnete Elektrolyt ist in einer besonders
bevorzugten Ausführungsform im wesentlichen frei von Fluoriden. Dabei werden als
Fluoride sowohl einfache als komplexe Fluoride verstanden. Liegen im Elektrolyten
Fluoride vor, so wird die Ausbildung der strukturierten Hartchromschicht gestört.
Der Ausdruck „im wesentlichen keine Fluoride" bedeutet demzufolge, daß soviel
Fluorid im Elektrolyten tolerabel ist, daß die Ausbildung der strukturierten Hartchromschicht
nicht beeinflußt wird. Die Menge der Fluoride, die tolerabel sind, können vom Fachmann
leicht ermittelt werden. Als günstig hat es sich erwiesen, wenn nicht mehr als 0,1
g/l im Elektrolyt vorliegt.
Der Elektrolyt kann weiterhin übliche Katalysatoren, die die Chromabscheidung
unterstützen, wie SO42– und/oder Cl–
enthalten. Diese können in üblichen Mengen im Elektrolyt vorliegen.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren werden strukturierte Hartchromschichten,
wie sie vorstehend näher beschrieben wurden, auf Werkstücken ausgebildet. Unter
dem Ausdruck „Werkstück" werden dabei Gegenstände jeglicher Art verstanden,
die mit einer strukturierten Chromschicht ausgestattet werden sollen. Dabei kann
es sich um metallische oder nicht metallische Gegenstände handeln. Soll auf einen
nicht metallischen Gegenstand eine strukturierte Hartchromschicht ausgebildet werden,
so wird dieser zunächst durch Aufbringen eines dünnen Metallfilms elektrisch leitend
gemacht.
Zur Ausbildung der strukturierten Hartchromschicht auf dem Werkstück
wird dieses kathodisch geschaltet und in den Elektrolyten eingetaucht. An das Werkstück
wird ein Gleichstrom, beispielsweise ein pulsierender Gleichstrom mit einer Frequenz
bis 1000 Hz, angelegt. Die Temperatur für die Abscheidung des Chroms kann 45°C
bis 95°C, insbesondere etwa 55°C betragen. Die Zeitdauer der Abscheidung
wird in Abhängigkeit von der gewünschten Dicke der strukturierten Hartchromschicht
gewählt, wobei die Schicht um so dicker wird, je länger die Abscheidung erfolgt.
In einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird
mit einer Stromdichte von 20 A/dm2 bis 200 A/dm2 gearbeitet.
Dadurch werden besonders günstige Strukturen der Hartchromschicht erhalten. Je höher
die Stromdichte gewählt wird, desto dichter werden die hervorstehenden Bereiche
der strukturierten Hartchromschicht.
Die kathodische Stromausbeute bei der Herstellung der strukturierten
Hartchromschicht gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren liegt bei 12% oder weniger.
Ist die Stromausbeute höher, wird die gewünschte Strukturierung der Hartchromschicht
nicht erhalten.
Auf das Werkstück können mehrere Schichten aufgebracht werden, wobei
sich die vorstehend erwähnten strukturierten Hartchromschichten und Schichten, die
aus herkömmlichen Elektrolyten gebildet werden, wechselweise aufeinander abgeschieden
werden können. Beispielsweise kann auf ein Werkstück zunächst die nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren erhältliche strukturierte Hartchromschicht und darauf eine Schicht ausgewählt
unter einer herkömmlichen Chromschicht, Schwarzchromschicht, Kupfer-, Nickel- oder
Zinnschicht aufgebracht werden. Ferner kann zunächst auf dem Werkstück eine herkömmliche
Chrom-, Kupfer- und/oder Nickelschicht aufgebracht werden und darauf die vorstehend
näher beschriebene Hartchromschicht abgeschieden werden.
Direkt auf die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhältliche Hartchromschicht
können weitere, nicht chromhaltige Beschichtungen aufgebracht werden, wie Kupfer,
Nickel, Zinn, Zink, Keramik, Kunststoff, Festschmiermittel, Farbstoffe.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ferner eine strukturierte
Hartchromschicht, wie sie nach dem vorstehend näher beschriebenen erfindungsgemäßen
Verfahren erhältlich ist.
Die strukturierten Hartchromschicht ist – im Gegensatz zu den
Hartchromschichten aus dem Stand der Technik, die einen ausgeprägten kugeligen Schichtaufbau
aufweisen – näpfchenförmig und/oder labyrinthartig und/oder säulenförmig ausgebildet.
Die erfindungsgemäße strukturierte Hartchromschicht weist die im Zusammenhang mit
dem erfindungsgemäßen Verfahren geschilderten Vorteile auf.
Die erfindungsgemäße strukturierte Hartchromschicht kann zur Beschichtung
einer Vielzahl von Werkstücken eingesetzt werden, beispielsweise Kolbenringe, Zylinder,
Kolben, Bolzen, Nockenwellen, Dichtungen, Verbundmaterialien, Ventile, Lager zum
Schutz vor Verschleiß und zur Verminderung der Reibung, Druckzylinder zur besseren
Benetzung mit Farben, Prägewalzen für bessere Tiefziehprozesse für die Automobilindustrie,
in der Solartechnik, für dekorative Anwendungen, in der Medizintechnik, der Mikrotechnik
und der Mikroelektronik.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ferner ein Elektrolyt, enthaltend
(a) Cr(VI)-Verbindung in einer Menge, die 50 g/I bis 600 g/I Chromsäureanhydrid
entsprechen;
(b) 0,5 g/l bis 10 g/l Schwefelsäure;
(c) 1 g/l bis 20 g/l aliphatische Sulfonsäure mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen,
und
(d) 10 g/l bis 200 g/l mindestens einer einen dichten Kathodenfilm ausbildende
Verbindung ausgewählt unter Ammonium-, Alkali- und Erdalkalimolybdat, Ammonium-,
Alkali- und Erdalkalivanadat und Ammonium-, Alkali- und Erdalkalizirkonat
zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Dieser Elektrolyt kann insbesondere zur Herstellung der vorstehend
näher beschriebenen strukturierten Hartchromschichten auf Werkstücken verwendet
werden.
Die vorliegende Erfindung wird in den nachfolgenden Beispielen unter
Bezugnahme auf die Figuren näher erläutert, ohne sie jedoch darauf einzuschränken.
Die 1 bis 8
zeigen Fotografien gemäß den Hartchromschichten aus den Beispielen 1 bis 8.
Beispiel 1:
Ein herkömmlicher Chromelektrolyt folgender Grundzusammensetzung wurde
hergestellt
Ein Warenteil wird nach üblicher Vorbehaltung in
den Elektrolyten eingebracht und bei 55°C mit 40 A/dm2 für 30 min.
beschichtet.
Das unter diesen Bedingungen beschichtete Warenteil weist nach der
Behandlung eine herkömmliche glänzende gleichmäßig ausgebildete Chromschicht auf,
vgl. 1.
Beispiel 2:
Dem Elektrolyten nach Beispiel 1 werden zusätzlich Ammoniummolybdat
(NH4)6Mo7O24·4H2O
100 g/l und Methansulfonsäure 4 g/l zugesetzt. Ein Warenteil wird nach den unter
Beispiel 1 beschriebenen Bedingungen beschichtet. Das so beschriebene Warenteil
weist nach der Behandlung eine strukturierte Chromschicht auf. Diese Chromschicht
weist auf den hervorstehenden Oberflächenbereichen (Traganteil) ein glänzendes Aussehen
auf und in den Vertiefungen der Struktur ist braunfarbener Kathodenfilm bzw. Sperrschicht
erhalten (2).
Beispiel 3:
Ein Warenteil wird nach den Bedingungen aus Beispiel 2 beschichtet.
Es wird jedoch statt mit einer Beschichtungsstromdichte von 40 A/dm2
mit 20 A/dm2 gearbeitet.
Das so beschichtete Warenteil weist nach der Behandlung eine strukturierte
Chromschicht auf. Der Anteil der hervorstehenden, glänzenden Oberflächenbereiche
(Traganteil) ist geringer und der Anteil der tiefen Bereiche ist größer im Vergleich
zu der Strukturschicht aus Beispiel 2 ( 3).
Beispiel 4:
Ein Warenteil wird nach den Bedingungen aus Beispiel 2 beschichtet.
Es wird jedoch statt mit einer Beschichtungsstromdichte von 40 A/dm2
mit 60 A/dm2 gearbeitet.
Das so beschichtete Warenteil weist nach der Behandlung eine strukturierte
Chromschicht auf. Der Anteil der hervorstehenden, glänzenden Oberflächenbereiche
(Traganteil) ist größer und der Anteil der tiefen Bereiche ist geringer im Vergleich
zu der Strukturschicht aus Beispiel 2 (4).
Beispiel 5:
Ein Warenteil wird nach den Bedingungen aus Beispiel 2 beschichtet.
Das so beschichtete Warenteil weist nach der Behandlung eine strukturierte Chromschicht
auf. In einer herkömmlichen Chromelektrolyten aus Beispiel 1 wird nun auf dieser
strukturierten Chromschicht mit Chrom bei 55°C und 50 A/dm2 für 120
min. weiterbeschichtet. Das so beschichtete Warenteil weist eine erhebliche Vergrößerung
der Strukturhöhe auf im Vergleich zu Beispiel 2 (5).
Diese gradierte Schicht besitzt auf der Oberfläche metallurgische
Eigenschaften wie herkömmliches Chrom und ist zusätzlich strukturiert.
Der Vorteil dieses Schichtaufbaus ist darin begründet, daß die Profilhöhe
der Strukturschicht in einem weiten Bereich variiert werden kann, was durch die
ausschließliche Abscheidung nach den Beispielen 2-4 durch deren geringe Schichtwachstumsgeschwindigkeit
begrenzt ist.
Beispiel 6:
Ein Warenteil wird nach den Bedingungen aus Beispiel 2 beschichtet.
Das so beschichtete Warenteil weist nach der Behandlung eine strukturierte Chromschicht
auf. In einem herkömmlichen Schwarzchromelektrolyten wird nun auf dieser strukturierten
Chromschicht eine schwarze chromoxidhaltige Schicht abgeschieden.
Das so beschichtete Warenteil weist eine gleichmäßige, tiefschwarze
Oberfläche mit sehr hohem Lichtberechungsindex auf (6).
Beispiel 7:
Ein Warenteil wird nach den Bedingungen aus Beispiel 2 beschichtet.
Das so beschichtete Warenteil weist nach der Behandlung eine strukturierte Chromschicht
auf. In einem herkömmlichen Zinnelektrolyten wird nun auf dieser strukturierten
Chromschicht eine Zinnschicht abgeschieden, in ausreichender Dicke, um die Vertiefungen
der Strukturchromschicht mit Zinn aufzufüllen.
Das so beschichtete Warenteil besitzt eine Oberfläche welche bei hohem
Verschleißwiderstand ebenfalls sehr gute Gleiteigenschaften besitzt (7).
Beispiel 8:
Ein Warenteil wird nach den Bedingungen aus Beispiel 1 mit einer herkömmlichen
Chromschicht beschichtet.
Anschließend wird mit den Bedingungen aus Beispiel 2 auf die Chromschicht
aus Beispiel 1 eine strukturierte Chromschicht aufgebracht.
Die strukturierte Chromschicht stellt eine Einlaufschicht für die
herkömmliche Chromschicht dar und führt je nach tribologischer Anwendung zu einer
Verbesserung des Schichtsystems (8).
Anspruch[de]
Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Hartchromschicht, wobei
Chrom aus einem Elektrolyt auf ein Werkstück abgeschieden wird, der enthält:
(a) Cr(VI)-Verbindung in einer Menge, die 50 g/l bis 600 g/l Chromsäureanhydrid
entsprechen;
(b) 0,5 g/l bis 10 g/l Schwefelsäure;
(c) 1 g/l bis 20 g/l aliphatische Sulfonsäure mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, und (d) 10 g/l bis 200 g/l mindestens einer einen dichten Kathodenfilm
ausbildende Verbindung ausgewählt unter Ammonium-, Alkali- und Erdalkalimolybdat,
Ammonium-, Alkali- und Erdalkalivanadat und Ammonium-, Alkali- und Erdalkalizirkonat.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Cr(VI)-Verbindung CrO3
ist.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die aliphatische
Sulfonsäure Methansulfonsäure ist.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die einen
dichten Kathodenfilm ausbildende Verbindung (NH4)6Mo7O24·4H2O
ist.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Elektrolyt
im wesentlichen keine Fluoride enthält.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei mit einer
Stromdichte von 20 A/dm2 bis 200 A/dm2 gearbeitet wird.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei mit einer
kathodischen Stromausbeute von 12% oder weniger gearbeitet wird.
Strukturierte Hartchromschicht, erhältlich nach den Verfahren gemäß
einem der Ansprüche 1 bis 7.
Elektrolyt, enthaltend
(a) Cr(VI)-Verbindung in einer Menge, die 50 g/l bis 600 g/l Chromsäureanhydrid
entsprechen;
(b) 0,5 g/l bis 10 g/l Schwefelsäure;
(c) 1 g/l bis 20 g/l aliphatische Sulfonsäure mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, und
(d) 10 g/l bis 200 g/l mindestens einer einen dichten Kathodenfilm ausbildende Verbindung
ausgewählt unter Ammonium-, Alkali- und Erdalkalimolybdat, Ammonium-, Alkali- und
Erdalkalivanadat und Ammonium-, Alkali- und Erdalkalizirkonat zur Durchführung des
Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 7.