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Dokumentenidentifikation DE60005712T2 01.07.2004
EP-Veröffentlichungsnummer 0001242656
Titel VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ZUFÜHREN VON VORLÄUFERN ZU MEHREREN EPITAXIALREAKTOREN
Anmelder Epichem Ltd., Wirral, Merseyside, GB;
IQE PLC, Cardiff, GB
Erfinder RAVETZ, Megan, Chester, GB;
WILLIAMS, Graham, Wirral CH60 6RS, GB;
NELSON, Andrew, Cowbridge, Vale of Glamorgan CF71 7RS, GB;
BLUNT, Roy Trevor, Cwmbran, Gwent NP44 8UB, GB;
WILLIAMS, Howard, Cardiff CF3 1NR, GB;
ODEDRA, Rajesh, Altrincham, Cheshire WA14 5NU, GB
Vertreter Becker, Kurig, Straus, 80336 München
DE-Aktenzeichen 60005712
Vertragsstaaten AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LI, LU, MC, NL, PT, SE
Sprache des Dokument EN
EP-Anmeldetag 03.07.2000
EP-Aktenzeichen 009422601
WO-Anmeldetag 03.07.2000
PCT-Aktenzeichen PCT/GB00/02559
WO-Veröffentlichungsnummer 0001042539
WO-Veröffentlichungsdatum 14.06.2001
EP-Offenlegungsdatum 25.09.2002
EP date of grant 01.10.2003
Veröffentlichungstag der Übersetzung europäischer Ansprüche 06.02.2003
Veröffentlichungstag im Patentblatt 01.07.2004
IPC-Hauptklasse C30B 25/14
IPC-Nebenklasse C23C 16/44   

Beschreibung[de]

Die vorliegende Erfindung betrifft ein verbessertes Verfahren und eine Vorrichtung zum Zuführen von Vorläufern in der Dampfphase zu einer Vielzahl von epitaxialen Reaktorstellen, insbesondere in Bezug auf die Zuführung von metallorganischen Verbindungen.

Es ist in der Halbleiterindustrie für elektronische Vorrichtungen allgemein üblich, mittels eines chemischen Aufdampf-(CVD)Prozesses hergestellt zu werden. Vorläufer (flüssig oder fest) werden in Gasspüler geführt, wobei, bei Gebrauch, ein Trägergas durchgeperlt wird und mit dem Vorläufer durch ein Tauchrohr gesättigt wird. Das Trägergas/Dampfgemisch wird dann bei einer gesteuerten Geschwindigkeit in einen epitaxialen Reaktor geleitet. Derartige Systeme werden zu der Herstellung von sowohl Silizium- als auch Verbindungshalbleitern verwendet, wobei frühe Versionen für einzelne Reaktoren spezifisch sind.

Mit ansteigender Nachfrage nach Halbleitern, anfangs im Siliziumbereich, war es notwendig, Massenverteilungssysteme einzuführen, bei denen ein zentrales Sammelgefäß eine Anzahl von Gasspülern, lokal zu jedem Reaktor, führt. Diese Systeme, die typischerweise zum Zuführen von Tetraethoxysilan (TEOS) verwendet werden, wurden von den Zulieferern von TEOS aktiv vertrieben, aber wurden nur auf die Verteilung von Flüssigkeiten angewendet.

Eine Anzahl von Vorläufern zur Halbleiterherstellung werden jedoch von dem Gasspüler zu ihrem Reaktor in der Gasphase transportiert und bis jetzt wurde ein derartiger Transport auf einer eigenen bzw. einzelnen Basis erreicht. Dies hat offensichtliche Nachteile, wie beispielsweise die Stillstandszeit, die zu der Auswechslung der Gasspüler bei den einzelnen Reaktoren erforderlich ist, und die Kosten in Bezug auf die erhöhte Menge und Komplexität der lokalen Aufnahme und Steuerungsausrüstung, die für jede Chemikalie bei jedem Reaktor erforderlich ist.

Die Herstellung der Ausrüstung für den Transport des Vorläufers von dem Gasspüler zu der Reaktionsstelle muss speziell ausgelegt werden, um sie zum Mitführen der vielen möglicherweise gefährlichen Chemikalien geeignet zu machen, die bei der Halbleiterherstellung verwendet werden, wie beispielsweise Trimethylgallium, Trimethylindium, Trimethylaluminium, Dimethylzink und Triethylgallium. Eine der möglichen Gefahren all dieser Chemikalien ist ihre Pyrophorizität bzw. Selbstentzündlichkeit (d. h. sie entzünden sich bei Kontakt mit Luft spontan).

EPA 069472 (Shinetsu Handotai KK) offenbart ein Verfahren zum Zuführen eines flüssiges Rohmaterialgases (z. B. Trichlorsilan) zu einer Vielzahl von Reaktoren. Ein Trägergas wird durch ein Tauchrohr in ein flüssiges Rohmaterial hindurchgeperlt, das in einem Durchperltank gelagert wird, wobei dadurch ein Gasgemisch gebildet wird. Das gemischte Gas wird einer Kondensationsbehandlung unterworfen und das verflüssigte flüssige Rohmaterial wird zu dem Durchperltank zurückgeführt. Die Kondensationsbehandlung des gemischten Gases wird ausgeführt, wobei deren Druck und Temperatur bei feststehenden Pegeln gesteuert werden, wobei dadurch die Konzentration des gemischten, zu dem Reaktor geführten Gases bei einem feststehenden Pegel gehalten wird.

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein verbessertes Verfahren und eine verbesserte Vorrichtung zum Zuführen von Vorläufern zu einer Reaktorstelle, insbesondere in Bezug auf metallorganische Verbindungen bereitzustellen, die darauf zielt, die vorstehend erwähnten Nachteile zu überwinden.

Dementsprechend stellt ein erster Aspekt der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zum Zuführen einer metallorganischen Verbindung zu einer Vielzahl von Reaktorstellen bereit, wobei das Verfahren den Schritt des Einführens eines Trägergases in einen Behälter der metallorganischen Verbindung, des Aufnehmens der Verbindung in das Gas zur Bildung eines gasförmigen Gemischs, des Transportierens des gasförmigen Gemischs zu einem Sammelgefäß und des selektiven Verteilens des gasförmigen Gemischs an eine oder mehrere einer Vielzahl von Reaktorstellen umfasst, wobei das Verfahren den Schritt des Kondensierens des gasförmigen Gemischs ausschließt.

Ein zweiter Aspekt der vorliegenden Erfindung stellt eine Vorrichtung zum Zuführen einer metallorganischen Verbindung zu einer Vielzahl von Reaktorstellen bereit, wobei die Vorrichtung einen Einlass zur Einführung eines Trägergases in einen Behälter der metallorganischen Verbindung, ein Sammelgefäß zu Lagerung des gasförmigen Gemischs der Verbindung und des Trägergases und einen Auslass zur selektiven Verteilung des gasförmigen Gemischs zu einer oder mehreren einer Vielzahl von Reaktorstellen enthält, wobei die Vorrichtung einen Kondensator zur Kondensation des gasförmigen Gemischs ausschließt.

Vorzugsweise wird die Durchflussgeschwindigkeit des Trägergases und des Trägergas/Vorläufer Gemisches mittels eines Systems aus Massendurchflussreglern gesteuert. Ein erster Massendurchflussregler ist vorzugsweise angeordnet, um die Durchflussgeschwindigkeit des Trägergases in den Behälter zu steuern.

Vorzugsweise wird eine zweite Trägergasquelle in das gasförmige Gemisch nach Aufnehmen des Vorläufers eingeführt. Die Zugabe einer zweiten Trägergasquelle wird vorzugsweise von einem zweiten Massendurchflussregler nach Aufnahme des Vorläufers überwacht, um die Dampfkonzentration unter der Sättigung zu halten, um sicherzustellen, dass der Vorläufer in der Dampfphase bleibt. Zusätzlich oder alternativ kann das System erwärmt werden. Das unterstützt das Halten der Dampfkonzentration unter der Sättigung, um sicherzustellen, dass der Vorläufer in der Dampfphase bleibt. Der zweite Massendurchflussregler wird vorzugsweise mit dem ersten Massendurchflussregler verbunden, sodass die zwei Trägergasflüsse immer in dem gleichen Verhältnis zueinander sind.

Das gasförmige Gemisch wird vorzugsweise zu einem Sammelbehälter zur Lagerung davon transportiert, wobei das Sammelgefäß Mittel zum selektiven Verteilen des Gemischs zu einer Vielzahl von Reaktorstellen aufweist. Das Sammelgefäß wird vorzugsweise mit einem Druckregler bereitgestellt, der mit dem ersten Massendurchflussregler verbunden ist, um die Durchflussgeschwindigkeit des Trägergases in den Behälter zu bestimmen. Der Druck in dem Lagersammelgefäß wird gesteuert, um eine gleichmäßige Lieferung bzw. Zuführung des gasförmigen Gemischs zu den verschiedenen Reaktoren zu ermöglichen. Die Lagerung von Rohmaterial bzw. Massengut in der Gasphase wurde bisher nicht in Bezug auf die Zuführung von Vorläufern zu einer Reaktorstelle verwendet. Bisher war eine Lagerung immer in der Flüssig- oder Festphase.

Das gasförmige Gemisch wird vorzugsweise unter Vakuum oder mittels eines Druckunterschieds aus dem Sammelgefäß zu jeder der Reaktorstellen abgezogen. Vorzugsweise ist jeder Reaktor mit seinem eigenen Massendurchflussregler bereitgestellt, um die Eintrittsgeschwindigkeit des gasförmigen Gemischs in den Reaktor zu bestimmen.

Es wird bevorzugt, dass eine konstante Aufnahme des Vorläufers in das Trägergas durch das Verfahren und die Vorrichtung der vorliegenden Erfindung erreicht wird. Immer noch bevorzugter wird eine konstante Aufnahme über einen breiten Bereich von Durchflussgeschwindigkeiten; wie beispielsweise 0 bis 10 Liter pro Minute, erreicht.

Der Vorläuferbehälter ist vorzugsweise in der Form eines Gasspülers, wobei das Trägergas in den Gasspüler mittels eines Tauchrohrs eingeführt wird. Der Gasspüler ist bevorzugt von einem Temperatur-gesteuerten Ölbad umgeben. Es wird bevorzugt, dass ein Mittel zum Überwachen des Vorläuferpegels in dem Gasspüler bereitgestellt wird (dies kann, zum Beispiel, durch einen Pegelalarm, eine Dosierskala oder eine/einen Gaskonzentrationsüberwachungsvorrichtung/-zähler erreicht werden).

Der Boden des Gasspülers kann mit einer Verengung bereitgestellt werden oder kann ein kleineres Gefäß aufweisen, das darin relativ zu dem Gasspüler angeordnet ist, das, zum Beispiel, in der Form eines Behälters bzw. einer Vorkammer bzw. Vertiefung an dem Boden des Gasspülers ist. Das Ende des Tauchrohrs ist innerhalb der Verengung oder kleineren Gefäßes angeordnet, um sicherzustellen, dass eine konstante Aufnahme des Vorläufers bis zur nahezu vollständigen Verwendung des in dem Gasspüler enthaltenen Vorläufers erreicht wird.

Das Tauchrohr ist vorzugsweise ausgelegt, um eine erhöhte Aufnahmegeschwindigkeit des Vorläufers bereitzustellen. Das Tauchrohr wird vorzugsweise mit einem oder mehreren hohlen Elementen bereitgestellt, die sich im wesentlichen senkrecht von dem Hauptkörper des Tauchrohrs erstrecken, wobei sie bevorzugt an dem Boden davon angeordnet sind. Die Elemente werden bevorzugt mit einer Vielzahl von Löchern in einer oder mehrerer Seiten davon bereitgestellt. Noch bevorzugter wird das Tauchrohr mit einem hohlen Kreuz an dem Boden davon bereitgestellt. Bevorzugt weist jedes Bein des Kreuzes eine Vielzahl von Löchern auf. Noch bevorzugter werden die Löcher an der gleichen Seite jedes Beins bereitgestellt. Diese Auslegung stellt eine kleine Blasengröße zusammen mit einer Wirbelbewegung bereit, um eine hocheffiziente Aufnahme zu ergeben.

Das Trägergas, das den Vorläufer aufnimmt, kann irgendein geeignetes permanentes Gas, wie beispielsweise Wasserstoff, sein. Die Vorrichtung und das Verfahren der vorliegenden Erfindung sind insbesondere zum Zuführen von metallorganischen Verbindungen zu epitaxialen Reaktoren, wie beispielsweise Trimethylgallium, Trimethylindium, Trimethylaluminium, Dimethylzink und Triethylgallium, geeignet.

Für ein besseres Verständnis der vorliegenden Erfindung und um klarer zu zeigen, wie sie zur Wirkung geführt werden kann, wird nun nur beispielhaft Bezug auf die begleitenden Zeichnungen genommen, in denen:

1 ein schematisches Diagramm der Komponenten einer Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist; und

2 ein isometrisches Diagramm eines Gasspülers für eine Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung mit einem entfernten Vorderteil ist, um das Tauchrohr des Gasspülers zu zeigen.

Unter Bezugnahme auf 1 der begleitenden Zeichnungen ist eine Massenverteilungsvorrichtung zum Zuführen eines Vorläufers in der Dampfphase aus einem Massenbehälter 1 zu einer Vielzahl von Reaktorgefäßen 12, 14, 16, 18, 20 gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung veranschaulicht. Ein Fluss 2 aus Trägergas, typischerweise Wasserstoff (aber möglicherweise irgendein permanentes Gas) wird bei einer von dem Massendurchflussregler 4 gesetzten Geschwindigkeit in einen Massengasspüler 1 durch ein Tauchrohr 3 durchgeleitet, das den zu der Vielzahl von epitaxialen Reaktoren zuzuführenden Vorläufer enthält. Der Massengasspüler 1 wird in einem Temperatur-gesteuerten Ölbad 5 gehalten und ist mit einem Pegelalarm 6 ausgerüstet, um eine Anzeige des Füllzustands bereitzustellen. Die Innenauslegung des Massengasspülers (siehe 2) ist derart, um eine konstante Aufnahme über einen breiten Bereich von Durchflussgeschwindigkeiten (0 bis 10 Liter/Min.) sicherzustellen und um eine nahezu vollständige Verwendung der enthaltenen Chemikalie (hinunter bis zu den letzten 2%) zu erreichen.

Der Wasserstoff 2 nimmt den Vorläufer von dem Gasspüler 1 auf und der resultierende Gasstrom wird durch eine weitere Wasserstoffinjektion verdünnt, wobei dieser Fluss von einem Massendurchflussregler 7 gesetzt wird, der in Verhältnis zu dem Massendurchflussregler 4 angeordnet ist. Diese sekundäre Verdünnung ist hauptsächlich erforderlich, um eine Dampfkonzentration unter die Sättigung zu reduzieren, wobei dadurch sichergestellt wird, dass der Vorläufer in der Dampfphase bleibt, wenn er durch das System durchläuft. Alternativ kann dies durch Erwärmen des Systems stromabwärts des Gasspülers oder durch eine Kombination dieser zwei Maßnahmen erreicht.

Das Gasgemisch wird dann in ein zentrales Sammelgefäß 9 geleitet, das mit einem Druckregler 10 ausgerüstet ist, dessen Auslass verwendet wird, um den Hauptwasserstoffmassendurchflussregler 4 zu positionieren. Eine Konzentration des gasförmigen Gemischs in dem Sammelgefäß wird unter Verwendung einer Konzentrationsüberwachungsvorrichtung 8 gemessen. Dampf kann aus dem zentralen Sammelgefäß durch Druckunterschied zu irgendeiner Anzahl an epitaxialen Reaktoren 12, 14, 16, 18, 20 bei Durchflussgeschwindigkeiten abgezogen werden, die von einzelnen Massendurchflussreglern 12a, 14a, 16a, 18a, 20a für jeden Reaktor gesetzt sind.

Es sollte klar sein, dass das Verfahren und die Vorrichtung der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, um irgendeinen Vorläufer in der Dampfphase zu einer Vielzahl von Reaktorstellen zuzuführen, aber die Erfindung ist insbesondere für die Massenverteilung metallorganischer Verbindungen, wie jene, geeignet, die zur Herstellung von Halbleitern verwendet werden. Zum Beispiel umfassen derartige Verbindungen Trimethylgallium, Trimethylindium, Trimethylaluminium, Dimethylzink und Triethylgallium.

Es ist wichtig, dass das Verfahren und die Vorrichtung der vorliegenden Erfindung fähig sind, einen Dampf konstanter Zusammensetzung über einen breiten Bereich an Durchflussgeschwindigkeiten bereitzustellen und dass eine konstante Aufnahme erreicht werden kann, wenn nur 2% restlichen Vorläufers in dem Behälter bleibt. Zudem wird bevorzugt, dass die Zusammensetzung des Vorläufer/Trägergas Gemischs, das zu einer Vielzahl von Reaktorstellen zugeführt wird, von einer einzigen Gaskonzentrationsüberwachunsgvorrichtung überwacht werden kann.

Die Vorrichtung der vorliegenden Erfindung ermöglicht einer Vorläuferchemikalie in der Dampfphase von einem zentralen Sammelgefäß zu einer Vielzahl von Reaktorstellen transportiert zu werden. Einer der von diesem System bereitgestellten Hauptvorteile ist die reduzierte Stillstandszeit, die mit der Auswechselung der Gasspüler für die einzelnen Reaktoren verbunden ist. Ein weiterer Vorteil ist die Reduktion der Quantität, Komplexität und Kosten der lokalen Aufnahme und Steuerungsausrüstung, die für jede Chemikalie bei jedem Reaktor erforderlich sind. Zudem erhöht die Fähigkeit, die pyrophorischen Vorläufer als ein Dampf zuzuführen, die Sicherheit des Systems, weil der Dampf nur eine niedrige Konzentration des Vorläufers (weniger als 5%) im Gegensatz zu der hohen Konzentration (100%) enthält, die für eine Massenflüssigkeitsverteilung erforderlich ist.

Ein wichtiges Merkmal der vorliegenden Vorrichtung ist die Innenauslegung des Massengasspülers 1. Es wird normalerweise sehr schwierig sein, eine konstante Aufnahme und Durchflussgeschwindigkeiten von dem Gasspüler zu erreichen, wenn nur eine kleine Menge an restlichem Vorläufer in dem Gasspülerbehälter bleibt. Die vorliegende Erfindung überwindet dieses Problem, um eine konstante Aufnahme (für Trägergasdurchflussgeschwindigkeiten bis zu 10 Liter/Min.) durch Bereitstellen eines Behälters bzw. einer Vorkammer bzw. Vertiefung oder Verengung in dem Massengefäßgasspüler bereitzustellen. Ein Gasspüler mit einem Volumen von 20 Liter kann zum Beispiel mit einem Behälter bzw. einer Vorkammer bzw. Vertiefung mit einem Volumen von 1 Liter bereitgestellt werden, in den bzw. die das Tauchrohr vorspringt.

Zudem kann der Gasspüler zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung mit einer neuen Tauchrohrkonstruktion bereitgestellt werden, die eine Aufnahme des Vorläufers unterstützt. 2 der begleitenden Zeichnungen veranschaulicht zum Beispiel einen Gasspüler 100, der mit einem Tauchrohr ausgerüstet ist, das einen hohlen Hauptkörper 102 aufweist, der sich im wesentlichen senkrecht abwärts durch die Mitte des Gasspülers erstreckt und mit einem hohlen Kreuz 104 bereitgestellt ist, wobei jedes Bein 104a, 104b, 104c davon sich im wesentlichen senkrecht von dem Hauptkörper erstreckt und vier Löcher 106 aufweist, die alle an der gleichen Seite jedes Beins gebohrt sind. Eine derartige Auslegung stellt eine kleine Gasspülergröße zusammen mit einer Wirbelbewegung sicher, um eine hocheffiziente Aufnahme zu ergeben. Diese Gasspülerauslegung ermöglicht eine viel größere Aufnahmegeschwindigkeit (um 10 Liter/Min.) als sie von einem Gasspüler mit kleinem Volumen erhalten werden kann.


Anspruch[de]
  1. Verfahren zum Zuführen einer metallorganischen Verbindung zu einer Vielzahl von Reaktorstellen, wobei das Verfahren den Schritt des Einführens eines Trägergases in einen Behälter der metallorganischen Verbindung, des Aufnehmens der Verbindung in das Gas zur Bildung eines gasförmigen Gemischs, des Transportierens des gasförmigen Gemischs zu einem Sammelgefäß und des selektiven Verteilens des gasförmigen Gemischs an eine oder mehrere einer Vielzahl von Reaktorstellen umfasst, wobei das Verfahren den Schritt des Kondensierens des gasförmigen Gemischs ausschließt.
  2. Verfahren gemäß Anspruch 1, bei dem die Durchflussgeschwindigkeit des Trägergases und des Trägergas/metallorganische Verbindung Gemisches steuerbar ist.
  3. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, das weiterhin Einführen einer zweiten Trägergasquelle in das gasförmige Gemisch nach Aufnehmen der metallorganischen Verbindung umfasst.
  4. Verfahren gemäß Anspruch 3, bei dem die Zugabe der zweiten Trägergasquelle überwacht wird, um die Dampfkonzentration unter der Sättigung zu erhalten.
  5. Verfahren gemäß irgendeinem der Ansprüche 1 bis 4, das weiterhin den Schritt des Erwärmens des gasförmigen Gemischs umfasst.
  6. Verfahren gemäß irgendeinem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem das gasförmige Gemisch unter Vakuum oder mittels eines Druckunterschieds von dem Sammelgefäß zu jeder der Reaktorstellen gezogen wird.
  7. Verfahren gemäß irgendeinem der vorangehenden Ansprüche, bei dem die Aufnahme der metallorganischen Verbindung in das Trägergas konstant gehalten wird.
  8. Verfahren gemäß Anspruch 7, bei dem eine konstante Aufnahme über Durchflussgeschwindigkeiten erreicht wird, die im Bereich von 0 bis 10 Liter pro Minute liegen.
  9. Verfahren gemäß irgendeinem der vorangehenden Ansprüche, bei dem das Trägergas Wasserstoff ist.
  10. Vorrichtung zum Zuführen einer metallorganischen Verbindung zu einer Vielzahl von Reaktorstellen, wobei die Vorrichtung einen Einlass zur Einführung eines Trägergases (2) in einen Behälter (1) der metallorganischen Verbindung, ein Sammelgefäß zu Speicherung des gasförmigen Gemischs der Verbindung und des Trägergases und einen Auslass zur selektiven Verteilung des gasförmigen Gemischs zu einer oder mehreren einer Vielzahl von Reaktorstellen (12, 14, 16, 18, 20) enthält, wobei die Vorrichtung einen Kondensator zur Kondensation des gasförmigen Gemischs ausschließt.
  11. Vorrichtung gemäß Anspruch 10, bei der ein oder mehrere Massendurchflussregler (4) bereitgestellt sind, um die Durchflussgeschwindigkeit des Trägergases und des gasförmigen Trägergemischs durch die Vorrichtung zu steuern.
  12. Vorrichtung gemäß Anspruch 11, bei der ein erster Massenregler (4) angeordnet ist, um die Durchflussgeschwindigkeit des Trägergases in den Behälter (1) zu steuern.
  13. Vorrichtung gemäß Anspruch 10, 11 oder 12, die weiterhin Mittel zur Einführung einer zweiten Trägergasquelle in das gasförmige Gemisch nach Aufnahme der metallorganischen Verbindung enthält.
  14. Vorrichtung gemäß Anspruch 13, bei der ein zweiter Massendurchflussregler (7) bereitgestellt ist; um die Zugabe der zweiten Trägergasquelle zu überwachen.
  15. Vorrichtung gemäß Anspruch 14, bei der der zweite Massendurchflussregler (7) mit dem ersten Massendurchflussregler (4) verbunden ist.
  16. Vorrichtung gemäß irgendeinem der Ansprüche 10 bis 15, bei der das Sammelgefäß (9) mit einer Druckregler (8) bereitgestellt ist.
  17. Vorrichtung gemäß irgendeinem der Ansprüche 10 bis 16, bei der Mittel bereitgestellt sind, um dem gasförmigen Gemisch zu erlauben, unter Vakuum oder mittels eines Druckunterschieds von dem Sammelgefäß (9) zu jeder der Reaktorstellen (12, 14, 16, 18, 20) gezogen zu werden.
  18. Vorrichtung gemäß irgendeinem der Ansprüche 10 bis 17, bei der jede Reaktorstelle (12, 14, 16, 18, 20) mit ihrem eigenen Massendurchflussregler (12a, 14a, 16a, 18a, 20a) bereitgestellt ist, um die Eintrittsgeschwindigkeit des gasförmigen Gemischs in den Reaktor zu bestimmen.
  19. Vorrichtung gemäß irgendeinem der vorangehenden Ansprüche, bei der der Behälter (1) der metallorganischen Verbindung ein Gasspüler ist, wobei das Trägergas in den Gasspüler mittels eines Tauchrohrs (3) eingeführt wird.
  20. Vorrichtung gemäß Anspruch 19, bei der der Gasspüler von einem Temperatur-gesteuerten Ölbad (5) umgeben ist.
  21. Vorrichtung gemäß Anspruch 19 oder Anspruch 20, bei der der Gasspüler mit Mitteln (6) zum Überwachen des Pegels der metallorganischen Verbindung darin bereitgestellt ist.
  22. Vorrichtung gemäß Anspruch 19, 20 oder 21, bei der der Gasspüler eine Verengung an oder nahe des Bodens davon umfasst, um eine vollständige Verwendung des Vorläufers darin zu unterstützen.
  23. Vorrichtung gemäß irgendeinem der Ansprüche 19 bis 21, bei der der Gasspüler ein oder mehrere hohle Elemente (104a, 104b, 104c) aufweist, die sich senkrecht von dem Tauchrohr (102) erstrecken und in Fluidkommunikation damit stehen, wobei jedes Element eine Öffnung (106) darin aufweist, um die Aufnahme des Vorläufers zu unterstützen.
  24. Vorrichtung gemäß Anspruch 22, bei der der Boden des Gasspülers mit einer Verengung bereitgestellt ist.
  25. Vorrichtung gemäß Anspruch 23, bei der der Boden des Gasspülers ein kleineres Gefäß aufweist, das relativ zu dem Gasspüler angeordnet ist.
  26. Vorrichtung gemäß Anspruch 24 oder Anspruch 25, bei der das Ende des Tauchrohrs innerhalb der Verengung oder kleineren Gefäßes angeordnet ist.
  27. Vorrichtung gemäß Anspruch 23, bei der jedes hohle Element (104a, 104b, 104c) an dem Boden des Tauchrohrs angeordnet ist.
  28. Vorrichtung gemäß Anspruch 23 oder Anspruch 27, bei der jedes Element mit einer Vielzahl von Löchern (106) in einer oder mehreren Seiten davon bereitgestellt ist.
  29. Vorrichtung gemäß den Ansprüchen 23, 27 oder 28, bei der die Elemente ein hohles Kreuz an dem Boden des Tauchrohrs bilden.
  30. Vorrichtung gemäß Anspruch 29, bei der jedes Element des Kreuzes eine Vielzahl von Löchern aufweist.
  31. Vorrichtung gemäß Anspruch 30, bei der die Löcher in der gleichen Seite jedes Elements bereitgestellt sind.
Es folgen 2 Blatt Zeichnungen






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