Die Erfindung betrifft eine Wärmebehandlungsvorrichtung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1, sie betrifft außerdem eine Wärmeentwicklungsvorrichtung zur Verwendung bei einem Aufzeichnungsvorgang, der in einem Trockensystem ausgeführt wird, beispielsweise einem Bildaufzeichnungsvorgang unter Verwendung eines Trockenmaterials, wodurch sich ein Naßprozeß erübrigt.

Eine Bildaufzeichnungsvorrichtung zum Aufzeichnen eines medizinischen Bilds zur Verwendung im Rahmen eines digitalen Radiographiesystems, eines CTs, eines MRs oder dergleichen, wobei von einem Wärmeansammlungs-Fluoreszenzflachstück Gebrauch gemacht wird, ist bereits bekannt. Diese Vorrichtung verwendet ein Naßsystem zum Erzeugen eines reproduzierten Bildes, indem ein Naßprozeß ausgeführt wird, nachdem ein Bild photographisch aufgenommen oder auf einem Silbersalz-Photomaterial aufgezeichnet wurde.

In den vergangenen Jahren hat eine Aufzeichnungsvorrichtung an Aufmerksamkeit gewonnen, die von einem Trockensystem Gebrauch macht, und die eine Naßverarbeitung erübrigt. Diese Aufzeichnungsvorrichtung ist zur Verwendung eines photoempfindlichen und/oder wärmeempfindlichen Aufzeichnungsmaterials oder Films aus einem Wärmeentwicklungs-Photomaterial (im folgenden als „Aufzeichnungsmaterialien" bezeichnet) ausgebildet. Bei einer Aufzeichnungsvorrichtung unter Verwendung des Trockensystems wird ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Laserstrahl in einem Belichtungsbereich bestrahlt (abgetastet), so daß ein latentes Bild entsteht. Anschließend wird das Aufzeichnungsmaterial in einem Wärmeentwicklungsabschnitt in Berührung mit einer Heizvorrichtung gebracht, so daß eine Wärmeentwicklung erfolgt. Dann wird das mit einem darauf ausgebildeten Bild versehene Aufzeichnungsmaterial aus der Vorrichtung ausgetragen.

Das Trockensystem des oben erläuterten Typs ist in der Lage, ein Bild innerhalb kürzerer Zeit zu erstellen als ein Naßprozeß. Darüber hinaus wird das Problem überwunden, Abfallflüssigkeit zu entsorgen, die im Verlauf des Naßprozesses anfällt. Deshalb steht eine zunehmende Nachfrage nach dem Trockensystem zu erwarten.

Das oben beschriebene Trockensystem ist üblicherweise so aufgebaut, daß es einen Wärmeentwicklungsbereich mit einer Heizvorrichtung in Form einer Heiztrommel enthält. Ein um die Oberfläche der Heiztrommel über einen vorbestimmten Winkel geschlungenes Endlosband hält das Aufzeichnungsmaterial, das von der Heiztrommel und dem Endlosband gehalten und transportiert wird. Auf diese Weise erfolgt eine Wärmeentwicklung. Wenn die Spannung des Endlosbands aufgrund einer Wärmebeeinträchtigung oder dergleichen ungleichmäßig wird, läßt sich ein gleichmäßiger Kontakt zwischen dem Aufzeichnungsmaterial und der Heiztrommel nicht erreichen. Dadurch kommt es zu einer unregelmäßigen Entwicklung.

Da Bilder zur Verwendung auf dem medizinischen Gebiet eine hohe Qualität erfordern, besitzen die Aufzeichnungsmaterialien eine beträchtlich hohe Empfindlichkeit. Wenn der Berührzustand mit der Heiztrommel etwas ungleichförmig wird, verschlechtert sich die Bildqualität extrem.

In der Heizvorrichtung bewirkt eine Abnahme der Temperatur in einem Kantenbereich, dem nicht besonders viel Wärme zugeleitet wird, insbesondere bei der Berührung zwischen der Oberfläche des Heizelements und dem eine geringe Temperatur aufweisenden Flachstück, einen Temperaturgradienten des Heizelements in der Richtung, in der das Flachstück transferiert wird. Da der erwähnte Temperaturgradient nicht rasch beseitigt werden kann, kommt es zu Temperaturdifferenzen in der Oberfläche des Flachstücks oder zwischen verschiedenen Flachstücken, wenn ein sequentieller Prozeß abläuft. Hierdurch ergibt sich das Problem, daß die Qualität aufgrund der Wärmebehandlung beeinträchtigt wird.

Wird das Aufzeichnungsmaterial zwischen der Heiztrommel und dem Endlosband gehalten, so ergibt sich das Problem, daß ein Endabschnitt aufgewölbt wird, was zu einer unerwünschten Faltenbildung und Kräuselung führt.

Gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1 offenbart die JP 62 003 255 eine Wärmebehandlungsvorrichtung, in der das Flachstück über die Oberfläche von jeder von zwei Heizelementen mit Hilfe eines Riemens geführt wird. Der Riemen wird über zwei den Heizelementen benachbart angebrachte Rollen geführt. In die Heizelemente sind Thermopaare eingebaut, deren Temperaturen unabhängig voneinander gesteuert werden.

Die US 4 485 294 zeigt eine Entwicklungsvorrichtung, in der ein zu behandelndes Flachstück zwischen einem U-förmigen Heizblech und einem U-förmigen Gehäuse ohne Aufbringung von Druck auf das Flachstück bei dessen Durchlauf an dem U-förmigen Heizelement vorbei transportiert wird. Stromaufwärts bezüglich dem Eingangsbereich des Heizelements befindet sich ein Thermistor.

Die US 5 774 204 zeigt eine Wärmeentwicklungsvorrichtung, in der zu behandelnde Flachstücke mit Hilfe eines Paares von Transport- und Heizrollen geleitet werden. Beim Verlassen der Transport- und Heizrollen wird jedes Flachstück zu einem flachen Heizelement transportiert und von diesem erhitzt, während es mit Hilfe mehrerer flexibler Andrückflachstücke gegen die Oberseite des Heizelements gedrückt wird.

Die US 4 322 158 zeigt eine Entwicklungsvorrichtung, in der ein zu entwickelndes Bahnmaterial zwischen einer ersten Gruppe aus einer Rolle und einem Heizandrückschuh und einer zweiten Gruppe aus einer Rolle und einem aufgeheizten Andrückschuh geleitet wird.

Die WO 97/28488 zeigt eine Wärmebehandlungsvorrichtung, in der ein zu behandelndes Flachmaterial durch eine Gruppe von versetzt angeordneten Walzen geleitet wird. Diese Vorrichtung enthält keine flachen Heizelemente, wie sie in der oben angesprochenen JP 62 003 255 gezeigt sind.

Im Hinblick auf das oben Gesagte ist es Ziel der vorliegenden Erfindung, eine Wärmebehandlungsvorrichtung anzugeben, die in der Lage ist, die Berührung zwischen dem Heizelement und dem Aufzeichnungsmaterial noch weiter zu vergleichmäßigen, welche frei ist vom Auftreten des Haftenbleibens von Staub, von einer unerwünschten Faltenbildung und Kräuselung, und die im Stande ist, eine noch gleichmäßigere Erhitzung zu erreichen und damit ein hochqualitatives Bild, welches frei von unregelmäßiger Entwicklung ist.

Das Ziel läßt sich erreichen durch die Merkmale des Anspruchs 1.

Bevorzugte Ausführungsformen sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.

Die Wärmebehandlungsvorrichtung mit dem oben beschriebenen Aufbau und die Wärmeentwicklungsvorrichtung, die von der Behandlungsvorrichtung Gebrauch macht, sind so ausgebildet, daß sie die entsprechenden Temperaturen der Heizelemente, die in Transferrichtung des Wärmeentwicklungs-Photomaterialflachstücks oder des photoempfindlichen und wärmeempfindlichen Aufzeichnungsmaterialflachstücks aufgeteilt sind, unabhängig voneinander einstellt und steuert. Auf diese Weise läßt sich die Differenz in der Flachstücktemperatur verringern. Darüber hinaus läßt sich eine unregelmäßige Entwicklung, die aufgrund der ungünstigen Wärmebedingungen im Fall des Endlosbands erfolgt, verhindern, wodurch sich eine gleichmäßigere Erhitzung realisieren läßt. Im Ergebnis kann ein hochqualitatives Bild erstellt werden, welches frei ist von einer unregelmäßigen Entwicklung.

1 ist eine schematische Ansicht des Aufbaus einer Wärmebehandlungsvorrichtung gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung.

2 zeigt eine teilweise vergrößerte Ansicht der in 1 gezeigten Plattenheizvorrichtung.

3 zeigt eine schematische Ansicht einer Wärmebehandlungsvorrichtung nach einer zweiten Ausführungsform der Erfindung.

4 zeigt eine schematische Ansicht einer Wärmebehandlungsvorrichtung nach einer dritten Ausführungsform der Erfindung.

5 zeigt eine teilweise vergrößerte Ansicht der in 1 gezeigten Plattenheizvorrichtung.

6 zeigt eine schematische Ansicht einer Wärmeentwicklungsvorrichtung unter Verwendung der Wärmebehandlungsvorrichtung nach der fünften Ausführungsform der Erfindung.

7 zeigt eine vergrößerte Ansicht einer Plattenheizvorrichtung 240a.

8(a) zeigt eine schematische Ansicht einer Wärmebehandlungsvorrichtung mit einem Beispiel für die Drehungen der Andrückwalzen, 8(b) zeigt eine perspektivische Ansicht der Gestalt der Plattenheizvorrichtung, und 8(c) zeigt eine auseinandergezogene perspektivische Ansicht der in 8(a) dargestellten Wärmebehandlungsvorrichtung.

9 zeigt eine perspektivische Ansicht einer weiteren Ausführungsform einer Plattenheizvorrichtung der in 8(c) dargestellten Wärmebehandlungsvorrichtung.

10 zeigt eine schematische Ansicht eines Treiberzustands einer Andrückwalze der Wärmebehandlungsvorrichtung nach der siebten Ausführungsform der Erfindung.

11 zeigt eine schematische Ansicht einer Wärmeentwicklungsvorrichtung unter Verwendung der Wärmebehandlungsvorrichtung nach der achten Ausführungsform der Erfindung, die in 8 gezeigt ist.

12 zeigt eine perspektivische Ansicht der Gestalt einer Wärmebehandlungsvorrichtung nach einer neunten Ausführungsform, vorgesehen zur Verwendung in der Wärmeentwicklungsvorrichtung.

13 zeigt eine schematische Ansicht des inneren Aufbaus der in 12 dargestellten Wärmebehandlungsvorrichtung sowie einer Transferpassage.

14 zeigt eine perspektivische Ansicht des Aufbaus einer Heizeinheit 420B der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung.

15 zeigt ein Diagramm, welches die in 13 dargestellte Wärmebehandlungsvorrichtung entlang der Linie X-X geschnitten darstellt.

16 zeigt eine Horizontalschnittansicht, die einen Bereich einschließlich der Heizeinheit der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung veranschaulicht.

17 zeigt eine Teilperspektivansicht der Wärmebehandlungsvorrichtung nach 12 in einen Zustand, in welchem der äußere Deckel und der Heizelementdeckel beseitigt wurden.

18 zeigt eine vergrößerte Ansicht, die einen Blick auf den Kühlteil der in 13 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung erlaubt.

19 zeigt eine schematische Ansicht des inneren Aufbaus der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung sowie einer Transferpassage. (19 zeigt ein weiteres Beispiel der Ausführungsform nach 13).

20 zeigt eine schematische Ansicht einer Wärmeentwicklungsvorrichtung, die von der Wärmebehandlungsvorrichtung nach der zehnten Ausführungsform der Erfindung gemäß 12 Gebrauch macht.

Unter Bezugnahme auf die Zeichnungen soll die Erfindung nun beschrieben werden.

1 ist ein Diagramm, welches den schematischen Aufbau einer Wärmebehandlungsvorrichtung nach einer ersten Ausführungsform der Erfindung zeigt.

Die Wärmebehandlungsvorrichtung dieser Ausführungsform erwärmt ein Flachstück A, welches einer Wärmebehandlung zu unterziehen ist. Die Wärmebehandlungsvorrichtung nach dieser Ausführungsform beinhaltet drei Plattenheizer 120a, 120b und 120c, die als Heizelemente fungieren, und deren Temperaturen auf Werte angehoben werden, die zur Verarbeitung des Flachstücks A benötigt werden. Darüber hinaus ist eine Transfereinrichtung 126 vorgesehen, welche das Flachstück A gegenüber jedem der Plattenheizer 120a, 120b und 120c relativ bewegt (gleiten läßt), während das Flachstück A in Berührung mit der Oberfläche jedes Plattenheizer 120a, 120b und 120c steht. Darüber hinaus gibt es Andrückwalzen 122a, 122b und 122c als Einrichtung zum Andrücken der Rückseite des Flachstücks A, die von der Oberfläche des Flachstücks A in Berührung mit den Plattenheizern 120a, 120b und 120c abgewandt ist, um Wärme von den Plattenheizern 120a, 120b und 120c auf das Flachstück A zu übertragen.

Jeder der Plattenheizer 120a, 120b und 120c dieser Ausführungsform hat die Form einer flachen Platte. Jeder der Plattenheizer 120a, 120b und 120c beinhaltet ein plattenähnliches Heizelement, welches mindestens eine Heizeinrichtung (beispielsweise einen Nichrom-Draht) enthält, flach ausgebildet, so daß ihre Temperaturen bei der Entwicklungstemperatur für das Flachstück A gehalten werden. Das Material der Oberfläche, die mit dem Flachstück A in Berührung steht, kann einfach ein wärmeleitendes Material sein. Eine Struktur mit einer Gummiheizvorrichtung auf der Rückseite ist möglich. Eine andere Struktur ist ebenfalls möglich, die von Warmluft Gebrauch macht, oder die eine Lampe zum Erhitzen des Flachstücks A beinhaltet. Die Temperatur jeder Heizeinrichtung wird unabhängig gesteuert.

Die Plattenheizer 120a, 120b und 120c brauchen nicht gleiche Länge zu haben. Die Länge läßt sich beliebig wählen, um den Bedingungen für die Wärmebehandlung zu entsprechen. Was die Intervalle zwischen den Heizvorrichtungen angeht, so verschlechtern übermäßig lange Intervalle den Wirkungsgrad bei der Wärmezufuhr zu dem Flachstück. Deshalb wird bevorzugt, daß die Intervalle 50 mm oder weniger groß sind.

Es ist bevorzugt, wenn die Oberfläche jedes der Plattenheizer 120a, 120b und 120c so aufgebracht wird, daß ein verarbeitetes Flachstück mit einer Berührungsfläche des Flachstückmaterials A aus Fluorharz oder der Berührungsfläche mit einer Beschichtung versehen ist, um zu verhindern, daß es beim Transfer des Flachstücks A zu einer Kerbenbildung kommt.

Weiterhin kann die Seite jedes Plattenheizers 120a, 120b und 120c, die in Berührung mit dem Flachstückmaterial A kommt, aus wärmeleitendem Gummi an einer Fläche bestehen, an der eine Fluorharzschicht ausgebildet ist. Mit dem oben beschriebenen Aufbau kann selbst dann, wenn Staub oder Schmutz in den Bereich zwischen dem Flachstück A und jedem der Plattenheizer 120a, 120b und 120c gelangt, die Elastizität des Gummis ein Weißwerden eines Teils bei der Entwicklung oder eine Beschädigung der Oberfläche des Flachstücks A verhindert werden. Darüber hinaus ist die Fluorharz-Schicht wirksam bei der Gewährleistung der Glätte des Flachstücks A. 2 ist eine teilweise vergrößerte Ansicht, die den Plattenheizer 120a zeigt. Wie in 2 gezeigt ist, ist ein Ende eines Einlaßbereichs des Flachstücks A mit einer geneigten Fläche 121 ausgestattet, um das vordere Ende des Flachstücks A unter Vermeidung eines Staus gleitend zu führen. Auch die anderen Plattenheizer 120b und 120c können ähnliche Strukturen besitzen.

Erneut auf 1 bezugnehmend, erfordert die erste Hälfte des Wärmebehandlungsteils 18 eine größere Menge Wärme, um die Temperatur des Flachstücks A anzuheben. Daher ist es bevorzugt, wenn dem im Einlaßbereich des Wärmebehandlungsteils 18 befindlichen Plattenheizer 120a größere Wärme zugeleitet wird. Um das Ausmaß der lokalen Temperaturänderung einzuschränken, ist die Wärmemenge größer als jene der Plattenheizer 120b und 120c, die sich stromabwärts befinden.

Was die Positionen der Temperatursensoren zum Steuern der Temperaturen angeht, so muß der Sensor für jeden Plattenheizer 120a, 120b und 120c vorgesehen sein. Was die Lage angeht, befindet sich der Sensor am hinteren Ende jedes Plattenheizers, um die Temperatur des Flachstücks auf die Solltemperatur zu bringen, weil die Temperatur im stromabwärtigen Bereich höher und eher stabil ist als die Temperatur im stromaufwärtigen Bereich.

Das Flachstück A wird von einem Sammelfach 202 mit Hilfe einer Saugeinheit 201 angesaugt, anschließend wird das Flachstück A über paarweise Walzen 126, die von einer (nicht gezeigten) Dreheinheit gedreht werden, zu dem Wärmebehandlungsteil 18 geleitet. Da die paarweisen Rollen 126 das Flachstück A transferieren, läuft (gleitet) das Flachstück A durch die Räume zwischen den Andrückwalzen 122a, 122b und 122c und die entsprechenden Plattenheizer 120a, 120b und 120c, so daß eine Wärmebehandlung stattfindet.

Das der Wärmebehandlung unterzogene Flachstück A wird über eine Führungswalze 128 ausgetragen.

Um eine Kerbenbildung zu vermeiden, ist es bevorzugt, wenn die Berührung zwischen der Oberfläche des Flachstücks A, die Berührung mit den Plattenheizern 120a, 120b und 120c hat, mit einer Oberfläche, deren Funktion eine Wärmebehandlung erfordert, verhindert wird. Wenn das Flachstück sorgfältig beobachtet werden muß, so muß ein Kontakt der zu beobachtenden Oberfläche mit jedem der Plattenheizer 120a, 120b und 120c verhindert werden.

Die mehreren Andrückwalzen 122a, 122b und 122c sind für die entsprechenden Plattenheizer 120a, 120b bzw. 120c vorgesehen. Die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c sind so angeordnet, daß sie in Berührung mit der jeweiligen Oberfläche jedes Plattenheizers oder mit Zwischenintervallen stehen, die kürzer sind als die Dicke des Flachstücks A entlang der Gesamtlänge der Plattenheizer 120a, 120b und 120c in Transportrichtung des Flachstücks A. Die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c sind in vorbestimmten Mittenabständen für jeden der Plattenheizer vorgesehen.

Das bedeutet: das Flachstück A wird derart angedrückt, daß die Anzahl von Andrückstellen im Einlaßbereich des Wärmebehandlungsteils 18 vergrößert ist. Darüber hinaus werden die Intervalle der Andrückstellen im Einlaßbereich des Wärmebehandlungsteils 18 verkürzt. Im Ergebnis wird derjenige Bereich des Flachstücks, dessen Temperatur angehoben werden soll, stark angedrückt, so daß ein Wölben des Flachstücks verhindert wird. Darüber hinaus kann eine unregelmäßige Temperaturverteilung verhindert werden. Wenn die Einrichtung zum Andrücken des Flachstücks aus den Andrückwalzen 122a, 122b und 122c besteht, wie sie bei dieser Ausführungsform eingesetzt werden, so ist es bevorzugt, wenn die Anzahl von Walzen für den Plattenheizer 120a im Einlaßbereich vergrößert ist, um die Mittenabstände der Walzen zu verkürzen.

Das Drehsystem für die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c kann für jede der Walzen 122 vorgesehen sein. Im Hinblick auf die Kosten und den Platzbedarf der Vorrichtung ist es bevorzugt, wenn ein einziges Drehsystem verwendet wird. Was die Umfangsgeschwindigkeit jeder der Walzen 122 angeht, wird bevorzugt, wenn die Geschwindigkeiten zum stabilen Flachstücktransfer die gleichen sind. Die Geschwindigkeit bestimmt sich durch die Wärmebehandlungsleistung.

Die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c und die Plattenheizer 120a, 120b und 120c bilden eine Flachstücktransferpassage 124. Der Abstand zwischen den Andrückwalzen 122a, 122b und 122c einerseits und den Plattenheizern 120a, 120b und 120c andererseits ist innerhalb der Flachstücktransferpassage 124 kürzer als es der Dicke des Flachstücks A entspricht. Damit läßt sich ein Zustand realisieren, in welchem das Flachstück A glatt gehalten und ein Wölben des Flachstücks A verhindert wird. Die paarweisen Transferwalzen 126 und die Führungswalzen 128, die die Flachstücktransfereinrichtung bilden, befinden sich an den beiden Enden der Flachstücktransferpassage 124.

Als Andrückwalzen können Metallwalzen, Harzwalzen, Gummiwalzen oder dergleichen verwendet werden. Bevorzugt beträgt die Wärmeleitfähigkeit der Andrückwalzen 122 0,1 W/m/1°C bis 200 W/m/°C.

Vorzugsweise sind Wärmeisolierabdeckungen 125a, 125b und 125c zur Wärmeisolierung an Stellen gegenüber den Plattenheizern 120a, 120b und 120c vorgesehen, betrachtet aus der Sicht, in der die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c als Mittelpunkte angeordnet sind.

Wenn das vordere Ende des Flachstücks A in Berührung mit den Andrückwalzen 122a, 122b und 122c tritt, während der Transfer des Flachstücks A abläuft, so wird die Bewegung des Flachstücks A vorübergehend unterbrochen. Wenn die Andrückwalzen 122a, 122b und 122c mit gleichen Mittenabständen voneinander beabstandet sind, wird der gleiche Teil des Flachstücks A bei jeder der Andrückwalzen 122a, 122b und 122c angehalten. Somit wird der vorauslaufende Teil lange Zeit gegen die Plattenheizer 120a, 120b und 120c gedrückt. Im Ergebnis erleidet das Flachstück A manchmal die Entstehung einer unregelmäßigen streifenähnlichen Entwicklung, die sich in Breitenrichtung des Flachstücks A erstreckt. Aus diesem Grund ist es bevorzugt, wenn die Mittenabstände der Andrückwalzen 122a, 122b und 122c ungleichmäßig sind.

Als die Einrichtung zum Transferieren des Flachstücks A werden die paarweisen Transfereinrichtungen 126 verwendet, die benachbart zu der am weitesten stromaufwärts befindlichen Andrückwalze 122a direkt vor den Plattenheizern 120a, 120b und 120c angeordnet sind. Als die erwähnte Transfereinrichtung kann auch die Führungswalze 128 die Transferkraft aufbringen.

3 ist eine schematische Ansicht einer Wärmebehandlungsvorrichtung gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung. Nach 3 sind im Bereich der Plattenheizer 120a, 120b und 120c Zwischenrollen 127 vorgesehen, um den Flachstücktransfer zu unterstützen.

4 ist eine schematische Ansicht einer Wärmebehandlungsvorrichtung nach einer dritten Ausführungsform der Erfindung, die von einem weiteren Aspekt der Einrichtung zum Transportieren des Flachstücks A Gebrauch macht. Die Transporteinheit 150 beinhaltet Plattenheizer 120a, 120b und 120c ähnlich denjenigen der vorhergehenden Ausführungsform. Daher ist nur ein Plattenheizer 120a dargestellt. Die anderen Plattenheizer 120b und 120c haben einen ähnlichen Aufbau.

Ein Transportriemen 156 läuft entlang der Oberfläche einer Antriebswalze 158 und läuft anschließend entlang der Oberfläche einer Trennwalze 154. An der Stelle der Andrückwalze 152 wird das Flachstück A zwischen dem Plattenheizer 120a und dem Transportriemen 156 gehalten. Dabei dient die Transportkraft des Transportriemens 156 zum Transportieren des Flachstücks A. Der Transportriemen 156 besitzt einen Reibungskoeffizienten gegenüber dem Flachstück A, der höher ist als derjenige der Oberfläche des Plattenheizers 120a bezüglich des Flachstücks A. Deshalb kann das Flachstück A zuverlässig transportiert werden, während das Flachstück A auf dem Plattenheizer 120a gleitet. Bei dem obigen Aufbau sind paarweise Zuführwalzen 126 und paarweise Austragwalzen 128 ähnlich angeordnet wie bei der in 1 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung 18. Die Trennwalze 154 veranlaßt den Transportriemen 156, in Berührung mit der Gesamtfläche des Flachstücks A zu treten, um eine ungleichmäßige Verteilung des Drucks auf das Flachstück A zu vermeiden. Damit läßt sich eine ungleichmäßige Erhitzung verhindern.

Die Oberfläche des Transportriemens 156 gegenüber dem Flachstück läßt sich zu einer bürstenähnlichen Form ausbilden. In diesem Fall läßt sich die Transportleistung zusätzlich verbessern. Wenn der Transportriemen 156 eine Permeabilität für Gas besitzt, kann das aufgrund der chemischen Änderung in der Wärmebehandlungsschicht der Oberfläche des Flachstücks A entstehende Gas abgeleitet werden. Hierdurch läßt sich das Haften zwischen dem Flachstück A und dem Plattenheizer verbessern.

Der Grund dafür, daß die Trennwalze 154 vorgesehen ist, besteht darin, vorab den Transportriemen 156 zu lösen und so zu verhindern, daß es zu einem ungleichmäßigen Kontakt zwischen dem Flachstück A und dem Plattenheizer 120a in einem Bereich zwischen den Andrückwalzen 152 kommt. Wenn der Transportriemen 156 für Gas durchlässig ist, kann man die Trennwalze 154 weglassen.

5 ist eine schematische Ansicht des Aufbaus einer Wärmeentwicklungsvorrichtung gemäß der fünften Ausführungsform der Erfindung unter Einsatz der in 1 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung. Wie in 5 zu sehen ist, besteht die Wärmeentwicklungsvorrichtung 10 vornehmlich aus einem Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 12, einem Breiten-Ausrichtungsteil 14, einem Bildbelichtungsteil 16 und einem Wärmebehandlungsteil 18, die in dieser Reihenfolge des Transfers des Wärmeentwicklungs-Photomaterials oder eines photoempfindlichen und wärmeempfindlichen Aufzeichnungsmaterials (im folgenden als „Flachstück A" bezeichnet) angeordnet sind.

Obschon die Wärmeentwicklungsvorrichtung 10 von der in 1 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung Gebrauch macht, kann irgendeine der Wärmebehandlungsvorrichtungen eingesetzt werden, die in den 1 bis 4 dargestellt sind.

Der Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 12 nimmt jeweils ein einzelnes Flachstück A und führt es dem Breiten-Ausrichtungsteil 14 zu, der sich stromabwärts in Transferrichtung des Flachstücks A befindet. Der Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 12 beinhaltet eine Aufzeichnungsmaterial-Zuführeinrichtung, die Ladeteile 22 und 24 sowie Saugbecher 26 und 28 für die Ladeteile aufweist, außerdem paarweise Zuführwalzen 30 und 32, paarweise Transferwalzen 34 und 36 sowie Transferführungen 38, 40 und 42.

Die Ladeteile 20 und 22 sind Teile zum Laden eines Flachstücke A aufnehmenden Magazins 100 an einer vorbestimmten Stelle. Im dargestellten Beispiel sind die beiden Ladeteile 22 und 24 vorhanden. Zur Aufnahme von Flachstücken A, die üblicherweise unterschiedliche Größen aufweisen (beispielsweise Halbschnittgröße für CT oder MRI und Größe B4 für FCR (Fuji Computed Radiography)) dienende Magazine werden in die beiden Ladeteile geladen.

Die Aufzeichnungsmaterialzuführeinrichtung, die für jeden der Ladeteile 22 und 24 vorhanden ist, enthält Saugbecher 26 und 28 zum Ansaugen und Halten des Flachstücks A. Außerdem werden die Saugbecher 26 und 28 von einer bekannten Bewegungseinrichtung, beispielsweise einem Gestängemechanismus, derart bewegt, daß das Flachstück A transferiert wird. Auf diese Weise gelangt das Flachstück A zu den paarweisen Zuführwalzen 30 und 32, die für die Ladeteile 22 und 24 vorhanden sind.

Das Flachstück A enthält das Wärmeentwicklungs-Photomaterial und das photoempfindliche und wärmeempfindliche Aufzeichnungsmaterial.

Das Wärmeentwicklungs-Photomaterial ist ein Aufzeichnungsmaterial, mit dem ein Bild aufgezeichnet (belichtet) wird durch mindestens einen optischen Strahl, zum Beispiel einen Laserstrahl, woraufhin eine Wärmeentwicklung zur Entwicklung von Farbe erfolgt.

Das photoempfindliche und wärmeempfindliche Aufzeichnungsmaterial ist ein Aufzeichnungsmaterial, mit welchem ein Bild mit mindestens einem optischen Strahl, zum Beispiel einem Laserstrahl, aufgezeichnet (belichtet) wird, woraufhin eine Entwicklung erfolgt, damit die Farbe entwickelt wird. Als Alternative dazu wird von einem Wärmemodus (Wärme) oder einem Thermomodus eines Laserstrahls Gebrauch gemacht, um ein Bild aufzuzeichnen und gleichzeitig eine Farbentwicklung durchzuführen, woraufhin zur Fixierung des Bilds eine Ausleuchtung erfolgt.

Das Flachstück A wird in eine Blattform gebracht. Darüber hinaus wird ein Laminat (ein Bündel) in einer Einheit mit 100 Blättern oder dergleichen hergestellt und anschließend mit einem Beutel oder einem Band verpackt, so daß eine Packung 80 erhalten wird.

Das Wärmeentwicklungs-Photomaterial und das photoempfindliche und wärmeempfindliche Aufzeichnungsmaterial werden weiter unten noch beschrieben.

Das Flachstück A im Ladeteil 22, das den paarweisen Zuführwalzen 30 zugeleitet wird, wird von den paarweisen Transferwalzen 34 und 36 dem stromabwärts gelegenen Breiten-Ausrichtungsteil 14 zugeleitet, während das Flachstück A von den Transferführungen 38 und 40 geführt wird. Andererseits wird das im Ladeteil 24 den paarweisen Walzen 32 zugeleitete Flachstück A von paarweisen Walzen 36 dem stromabwärts gelegenen Breiten-Ausrichtungsteil 14 zugeleitet, während das Flachstück A von den Transferführungen 40 und 42 geführt wird.

Der Breiten-Ausrichtungsteil 14 richtet den Bogen A in einer Richtung (im folgenden als „Breitenrichtung" bezeichnet) rechtwinklig zur Transportrichtung aus. Damit führt der Breiten-Ausrichtungsteil 14 eine Ausrichtung des Flachstücks A in den stromabwärts gelegenen Bildbelichtungsteil 16 in der Hauptabtastrichtung durch, das heißt eine sogenannte Seitenbegrenzung. Damit werden die paarweisen Transferwalzen 44 gedreht, um das Flachstück A zu dem stromabwärts gelegenen Bildbelichtungsteil 16 zu transportieren.

Das Verfahren zum Durchführen der seitlichen Begrenzung im Breiten-Ausrichtungsteil 14 ist nicht beschränkt. Beispielsweise kann man von einem Verfahren Gebrauch machen, welches eine Resistplatte in Berührung mit dem einen in Breitenrichtung gelegenen Ende des Flachstücks A und eine Drückeinrichtung zum Drücken des Flachstücks A in Breitenrichtung aufweist, damit das Blatt mit der Endseite an der Begrenzungsplatte anliegt. Ein weiteres Verfahren sieht die Verwendung einer Regis-Platte und einer Führungsplatte oder dergleichen vor, wodurch das breitseitige Ende des Flachstücks A in Transferrichtung eingeschränkt wird, damit das Flachstück A mit der Platte in Berührung tritt, wobei die Platte in Breitenrichtung bewegbar ist entsprechend der Größe des Flachstücks A in Breitenrichtung. Somit läßt sich irgendeines von verschiedenen bekannten Verfahren einsetzen.

Das zu dem Breiten-Ausrichtungsteil 14 geleitete Flachstück A wird in einer Richtung rechtwinklig zur Transportrichtung ausgerichtet, wie es oben beschrieben wurde, anschließend wird es von den paarweisen Transferwalzen 44 zu dem stromabwärts gelegenen Bildbelichtungsteil 16 transportiert.

Der Bildbelichtungsteil 16 ist ein Teil zum Durchführen einer Abtastung und Belichtung mit Hilfe eines Lichtstrahls zum Belichten des Flachstücks entsprechend dem Bild. Der Bildbelichtungsteil 16 beinhaltet eine Belichtungseinheit 46 und eine Nebenabtasttransfereinrichtung 48.

Die Belichtungseinheit 46 ist eine bekannte Lichtstrahl-Abtasteinheit, die einen Lichtstrahl L ablenkt, der entsprechend einem aufzuzeichnenden Bild moduliert wurde, wobei die Abtastung in einer Hauptabtastrichtung (in Breitenrichtung des Flachstücks A) erfolgt, so daß der Lichtstrahl L auf eine vorbestimmte Aufzeichnungsstelle X auftrifft. Die Belichtungseinheit ist je nach Bedarf mit verschiedenen Elementen wie zum Beispiel einer Kollimatorlinse, eines Strahlaufweiters, einer Bildkorrekturoptik und einem Optikweg-Einstellspiegel ausgestattet, wodurch der Lichtstrahl L aus der Lichtquelle geformt wird. Diese Elemente entsprechen einer bekannten Lichtstrahlabtasteinheit.

Der Lichtstrahl L, dessen Impulsbreite nach Maßgabe eines aufzuzeichnenden Bilds moduliert wurde, wird in der Hauptabtastrichtung abgelenkt. Aus diesem Grund wird das Flachstück A von dem Lichtstrahl zweidimensional abgetastet und belichtet, wodurch ein latentes Bild aufgezeichnet wird.

Die vorliegende Erfindung ist so aufgebaut, daß die Pulsbreitenmodulation durch direktes Modulieren der Lichtquelle erfolgt. Die Erfindung kann auf eine andere Einheit angewendet werden, die eine Pulszahlmodulation durchführt. Die vorliegende Erfindung kann Anwendung finden in Verbindung mit einer indirekten Modulationseinheit, die einen externen Modulator aufweist, beispielsweise einen AOM (Akustisch-Optischer Modulator), wenn die Einheit eine Pulsmodulation durchführt.

Das Verfahren zum Aufzeichnen eines Bilds läßt sich durch analoge Intensitätsmodulation bewerkstelligen.

Nachdem auf dem Flachstück A durch den Bildbelichtungsteil 16 ein latentes Bild erzeugt wurde, transferieren die Transferwalzen 64 und 66 das Flachstück A zu dem Wärmebehandlungsteil 18. Zu diesem Zeitpunkt wird Staub an der oberen und unteren Seite des Flachstücks A von einer Staubbeseitigungswalze 136 entfernt.

Wie oben ausgeführt, verwendet der Wärmebehandlungsteil 18 die Wärmebehandlungsvorrichtung nach der ersten Ausführungsform.

Der Wärmebehandlungsteil 18 ist in der oben beschriebenen Weise aufgebaut. Außerdem ist bevorzugt, wenn das Flachstück A vorab auf eine Temperatur nicht oberhalb der Entwicklungstemperatur vor dem Transfer des Flachstücks A in den Wärmebehandlungsteil 18 erwärmt wird. Als Folge davon läßt sich eine unregelmäßige Entwicklung noch sicherer verhindern.

Das aus dem Wärmebehandlungsteil 18 ausgetragene Flachstück A wird durch paarweise Transferwalzen 140 zu einer Führungsplatte 142 geleitet und dann von paarweisen Walzen 144 in ein Fach 146 befördert.

Ein elektrischer Teil 55 zum Treiben jedes der oben beschriebenen Elemente ist in Verbindung mit einem Steuerteil 50 vorgesehen.

Da der Wärmebehandlungsteil 18 von einer hohen Erwärmungstemperatur Gebrauch macht, muß der Leistungsverbrauch im Normalbetrieb minimiert werden. Aus diesem Grund ist es bevorzugt, wenn die Steuerung in der Weise durchgeführt wird, daß ein Vergleich stattfindet zwischen der Soll-Temperatur und der Ist-Temperatur, um eine oder mehrere Heizeinrichtungen innerhalb der zulässigen elektrischen Leistung in absteigender Reihenfolge der Temperaturdifferenz zu speisen.

Um die Verarbeitungsgeschwindigkeit zu steigern, muß der Wärmebehandlungsteil 18 auch die Startzeit oder Anlaufzeit verkürzen. Um dies zu erreichen, ist es bevorzugt, wenn das Verhältnis der elektrischen Kapazität jeder Einrichtung zum Erhitzen jedes Plattenheizers 120a, 120b und 120c und die Wärmekapazität der entsprechenden Plattenheizer 120a, 120b und 120c konstant ist.

6 ist eine schematische Ansicht, die eine Wärmebehandlungsvorrichtung nach einer fünften Ausführungsform der Erfindung zeigt. Gemäß 6 besitzt diese Ausführungsform einen Aufbau, bei dem Plattenheizer 240a, 240b und 240c gebogen ausgebildet sind. Die Plattenheizer 240a, 240b und 240c sowie Walzen 242a, 242b und 242c sind so angeordnet, daß eine durchgehende Kreisbogenform gebildet wird.

Insbesondere beinhaltet eine Wärmebehandlungsvorrichtung 258 die Plattenheizer 240a, 240b und 240c. Darüber hinaus besitzt gemäß Zeichnung die Wärmebehandlungsvorrichtung 258 einen solchen Aufbau, daß die Plattenheizer 240a, 240b und 240c nach oben weisen. Darüber hinaus ist eine Walze 246 vorhanden, die als Transfereinrichtung zum relativen Bewegen (Gleiten) des Flachstücks A dient, während das Flachstück A in Berührung mit den Oberflächen der Plattenheizer 240a, 240b und 240c ist. Darüber hinaus gibt es Andrückwalzen 242a, 242b und 242e, die sich an ausgenommenen Unterseiten der Andrückwalzen 240 befinden, um Wärme von den Plattenheizern 240a, 240b und 240c auf das Flachstück A zu übertragen. Damit erfolgt der Transfer in der Weise, daß das vordere Ende des zu transferierenden Flachstücks A gegen die Andrückwalzen 240 gedrückt wird. Als Folge davon kann ein Aufwölben des Flachstücks A verhindert werden.

Die Andrückwalzen 242a, 242b und 242c und die Plattenheizer 240a, 240b und 240c bilden eine Flachstücktransferpassage 244, deren Intervalle kürzer sind, als es der Dicke des Flachstücks A entspricht, so daß sich ein Zustand realisieren läßt, in welchem das Flachstück A glatt gehalten werden kann. Damit wird ein Aufwölben des Flachstücks A verhindert. Paarweise Zuführwalzen 246 sowie paarweise Austragwalzen 248 sind als Flachstücktransfereinrichtung an den beiden Enden der Flachstücktransferpassage 244 angeordnet.

Bei dieser Ausführungsform befindet sich eine Zwischenwalze 247 zum Unterstützen des Flachstücktransfers zwischen den Plattenheizern 240a, 240 und 240c, ähnlich wie bei dem Aufbau nach 3. Die Zwischenwalze kann weggelassen werden.

Bevorzugt sind Wärmeisolierabdeckungen 245a, 245 und 245c zur Wärmeisolierung benachbart zu den Andrückwalzen 242a, 242 und 242c gegenüber den Plattenheizern 240a, 240 und 240c vorgesehen.

7 ist eine teilweise vergrößerte Ansicht, die den Plattenheizer 240a zeigt. Wie in 7 zu sehen ist, kann die geneigte Oberfläche 241 zum gleitenden Führen des vorderen Endes des Flachstücks A am Ende des Teils des Plattenheizers 240a angeordnet sein, der zur Aufnahme des Flachstücks A dient, um einen Stau des Blatts zu vermeiden. Die anderen Plattenheizer 240 und 240c können einen ähnlichen Aufbau haben.

8(a) bis 8(c) zeigen eine Wärmebehandlungsvorrichtung der sechsten Ausführungsform der Erfindung. 8(a) ist eine schematische Ansicht, die eine Wärmebehandlungsvorrichtung zeigt, die ein Beispiel für einen Drehzustand der Andrückwalzen aufweist. Die Drehwalze 230, die mit ihrer Außenfläche eine Hüllkurve für sämtliche Andrückwalzen 322a, 322 und 322c definiert, befindet sich in Berührung mit jeder dieser Andrückwalzen. Wenn die Drehwalze 230 gedreht wird, können sämtliche Andrückwalzen 322 drehen. Die Außenseiten der Andrückwalzen 322a, 322b und 322c bilden eine bogenförmige Fläche als Passage für das Flachstück A, wobei sich auf der gegenüberliegenden Seite des Flachstücks A in bezug auf die Passage die Plattenheizer 320a, 320 und 320c befinden. Wenn diese ausschließlich aus einem wärmeleitenden Material bestehen, können die Heizwalzen 210a, 210 und 210c auf der Rückseite abgewandt von den Andrückwalzen 322a, 322b und 322c angeordnet sein. Die Plattenheizer 320a, 320, 320c können Heizelemente sein oder können so aufgebaut sein, daß sie Plattenelemente beinhalten, die ihrerseits aus wärmeleitendem Material bestehen und Wärmequellen zugeordnet sind, die zur Erhitzung des Flachstücks A entgegen den Oberflächen der Plattenelemente angeordnet sind.

8(b) ist eine auseinandergezogene perspektivische Ansicht, die die in 8(a) dargestellte Wärmebehandlungsvorrichtung zeigt. Wie in der Zeichnung zu sehen ist, befinden sich die Plattenheizer 320a, 320 und 320c an einer Stelle, in der sie die Drehwalze 230 und die Andrückwalzen 322a, 322 und 322c bedecken. Jeder der Plattenheizer 320a, 320 und 320c bedeckt jede der Andrückwalzen 322a, 322b und 322c, und jeder der Plattenheizer 320a, 320 und 320c ist unabhängig voneinander angeordnet.

8(c) ist eine perspektivische Ansicht von Zuständen der Plattenheizer. Die Oberfläche des Plattenheizers 320a, die mit dem Flachstück in Berührung steht, ist mit einer Vernickelung ausgestattet. Der Plattenheizer 320a, der mit elektrischer Leistung von einem Anschluß 220 gespeist wird, besitzt einen Flachstückeinleitbereich mit großer Dicke. Um das Heizgerät einfach vernickeln zu können, hat die Oberfläche des Plattenheizers 320a, die mit dem Flachstück in Berührung kommt, eine flache Oberfläche. Die anderen Plattenheizer 320 und 320c haben einen ähnlichen Aufbau.

9 ist eine perspektivische Ansicht eines weiteren Beispiels des Plattenheizers der in 8(c) gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung. Der erste Plattenheizer 320a am Einlaßbereich für das Flachstück A ist mit mindestens drei Gummiheizern 211, 212 und 213 ausgestattet, die erhalten werden durch Aufteilen in Breitenrichtung in bezug auf die Transportrichtung des Flachstücks A. Auf diese Weise kann die Temperatur unabhängig für jeden der Gummiheizer 211, 212 und 213 eingestellt werden. Die elektrische Leistungsdichte kann gleichmäßig gemacht werden. Temperatursensoren 221, 222 und 223, die den Heizern 211, 212 und 213 entsprechen, befinden sich auf der stromabwärtigen Seite des Plattenheizers 320a, die mit den Gummiheizern 211, 212 und 213 ausgestattet sind. Um zu verhindern, daß es an den Grenzen der Heizgeräte zu unregelmäßigen Temperaturen kommt, sind die Widerstandsleitungen der benachbarten Heizgeräte in Breitenrichtung in Zickzack-Art verdrahtet.

Im Ergebnis kann die Verteilung der Heizbereiche der Plattenheizer derart gestaltet werden, daß der Temperaturgradient so ausfällt, daß die Temperaturen an den beiden Endbereichen höher sind als die Temperatur in anderen Bereichen, um eine Temperaturabsenkung zu kompensieren, die ihre Ursache hat in der Abstrahlung an den beiden Endbereichen. Wenn daher Flachstücke mit unterschiedlichen Breiten mit Hilfe von Wärme in derselben Vorrichtung entwickelt werden, läßt sich eine Verschlechterung der Temperaturverteilung verhindern.

Die benachbarten Abschnitte unter den Gummiheizern 211, 212 und 213 sind ineinander eingreifend nach An von Kammzähnen ausgebildet, wobei zwischen den Heizeinrichtungen ein vorgegebener Spalt freigelassen ist. Im Ergebnis kann die Beeinflussung der Spalte, bei denen es sich um nicht heizende Bereiche handelt, auf das Flachstück A ausgeschlossen werden. Das heißt, man erzielt eine gleichmäßige Beheizung.

10 ist eine schematische Ansicht eines Beispiels für die Arbeitsweise der Andrückwalze der Wärmebehandlungsvorrichtung gemäß eine siebten Ausführungsform der Erfindung. 10 zeigt den Aufbau der Plattenheizer 360a, 360b und 360c mit einem ähnlichen Aufbau wie die Plattenheizer 320a, 320b und 320c nach 8(a). Ihre Oberflächen, die mit dem Flachstück A in Berührung treten, sind gewölbt. Die obigen Plattenheizer 360a, 360b und 360c und die Walzen 362a, 362b und 362c definieren eine Kreisbogenform und sind sequentiell in dieser Reihenfolge angeordnet. Hierdurch wird ein Flachstück A geleitet.

Da die Plattenheizer 360a, 360b und 360c ähnlich untereinander sind, wird nur der Plattenheizer 360a beschrieben, die übrigen Plattenheizer 360b und 360c haben einen ähnlichen Aufbau.

Im folgenden soll der Aufbau der Wärmebehandlungsvorrichtung 358 näher erläutert werden. Die Passage, durch die das Flachstück A geleitet wird, bildet einen Kreisbogen mit einem vorspringenden Bereich benachbart zu jedem Plattenheizer 360a. Das heißt: der Plattenheizer 360a besitzt eine konkave Form entsprechend der Oberfläche zum Transportieren des Flachstücks A. Ein Endlostransportriemen 366 ist mit Hilfe einer Spannwalze 368 zwischen den Andrückwalzen 362 angeordnet, die gegen die konkave Oberfläche des Plattenheizers 360a vorgespannt sind, um das Flachstück A zu transportieren. An der Stelle der Andrückwalze 362 wird das Flachstück A zwischen dem Plattenheizer 360a und dem Transportband 366 gehalten. Anschließend wird beispielsweise die Spannwalze 368 gedreht, um das Transportband 366 zum Weiterleiten des Flachstücks A zu drehen.

Das Transportband 366 besitzt einen Reibungskoeffizienten bezüglich des Flachstücks A, der größer ist als derjenige der Oberfläche des Plattenheizers 360a bezüglich des Flachstücks A. Daher kann das Flachstück A relativ transportiert (gleitend bewegt) werden, während es in Berührung ist mit dem Plattenheizer 360a, um so zuverlässig transportiert zu werden. Deshalb wird der Transporteur 366 in Berührung mit der Gesamtfläche des Flachstücks A gebracht, so daß auf dieses ein Druck mit einer ungleichmäßigen Verteilung verhindert werden kann. Man kann also eine nicht gleichförmige Erhitzung verhindern.

Als Mittel zum Drehen des Transportbands 366 kann man eine Drehwalze 230 verwenden, wie sie in 8(a) gezeigt ist, um das Drehmoment auf die Andrückwalze 362 zu übertragen.

Die Oberfläche des Transportbands 366 gegenüber dem Flachstücks A kann zu einer bürstenähnlichen Form angehoben sein. Im vorausgehenden Fall kann die Leistungsfähigkeit des Transports zusätzlich gesteigert werden. Wenn das Transportband 366 gaspermeabel ist, kann das aufgrund der chemischen Änderung der Wärmeentwicklungsschicht auf der Oberfläche des Flachstücks A entstehende Gas abgeleitet werden. Im Ergebnis läßt sich das Haften zwischen Flachstück A und Plattenheizer verbessern.

11 ist eine schematische Ansicht des Aufbaus einer Plattenentwicklungsvorrichtung unter Verwendung der Wärmebehandlungsvorrichtung nach der achten Ausführungsform der Erfindung. Wie in 8 gezeigt ist, besteht eine Wärmeentwicklungsvorrichtung 310 hauptsächlich aus einem Aufzeichnungsmaterialzuführteil 12, einem Breiten-Ausrichtungsteil 14, einem Bildbelichtungsteil 16 und einer Wärmebehandlungsvorrichtung 318, die in einer Reihenfolge entsprechend dem Transport eines Wärmeentwicklungs-Photomaterials oder eines photoempfindlichen und thermoempfindlichen Aufzeichnungsmaterials (im folgenden als „Flachstück A" bezeichnet) angeordnet sind.

Diese Ausführungsform unterscheidet sich von der Wärmeentwicklungsvorrichtung gemäß der in 5 gezeigten Ausführungsform dadurch, daß die Wärmebehandlungsvorrichtung eine Bogentyp-Wärmebehandlungsvorrichtung 318 ist. Die anderen Strukturelemente außer der Wärmebehandlungsvorrichtung sind ähnlich wie bei der Wärmeentwicklungsvorrichtung nach der vierten Ausführungsform, weshalb Aufbau und Arbeitsweise nicht noch einmal beschrieben werden.

Die Wärmebehandlungsvorrichtung 318 dieser Ausführungsform hat den in 6 gezeigten Aufbau.

Wie oben beschrieben wurde, ist das Flachstück A ein Wärmeentwicklungs-Photomaterial oder ein photoempfindliches und wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial. Wenn die Wärmeentwicklung jedes der Materialien erfolgt, besitzt jedes Material eine Temperatur, bei der der Entwicklungsvorgang einsetzt. Der aktuelle Entwicklungsprozeß wird bei einer Temperatur in Gang gesetzt, die wesentlich höher ist als die vorstehend genannte Temperatur.

Deshalb ist es bevorzugt, möglichst rasch die Temperatur soweit anzuheben, daß die Entwicklung einsetzt. Wenn der Transfer in der Weise erfolgt, daß die Temperatur auf die Entwicklungsstarttemperatur etwa am Ende des Heizvorgangs ansteigt, der von dem Plattenheizer 320a ausgeführt wird, bleibt die Heiztemperatur auf etwa der Entwicklungsstarttemperatur oder sinkt geringfügig ab, bis das Flachstück A zum nächsten Plattenheizer 320b transportiert wird. Daher dispergiert der Transferdruck etwas. Im Ergebnis streut die Zeit, zu der der Entwicklungsvorgang eingeleitet wird, an jeder Stelle des Flachstücks, was abträglichen Einfluß auf ein Bild hat (es kommt zu einer unregelmäßigen Dichte).

Aus diesem Grund wird der Transfervorgang so eingerichtet, daß die Temperatur an dem ersten Plattenheizer 320a nicht auf die Entwicklungsstarttemperatur angehoben wird. Darüber hinaus wird die Temperatur beim nächsten Plattenheizer 320b auf die Entwicklungsstarttemperatur angehoben. Damit läßt sich der Prozeß der Entwicklung noch exakter steuern.

Dabei ist es bevorzugt, wenn die Temperatur des Flachstücks an der ersten Lücke zwischen den Heizvorrichtungen geringer ist als der Entwicklungsstartpegel, noch mehr bevorzugt erfüllt die Temperatur die Bedingung, daß sie in einem Bereich zwischen einem Pegel oberhalb der Zimmertemperatur von +40° und um –1°C unterhalb der Entwicklungsstarttemperatur liegt. Obschon das obige Verfahren zu einer etwas längeren Entwicklungszeit führt, läßt sich mit den Maßnahmen eine unregelmäßige Wärmeentwicklung vermeiden.

Eine Wärmebehandlungsvorrichtung nach einer neunten Ausführungsform der Erfindung sowie eine Wärmeentwicklungsvorrichtung gemäß der zehnten Ausführungsform unter Einsatz der neunten Ausführungsform wird im folgenden anhand der Zeichnungen erläutert. 12 ist eine perspektivische Ansicht, die die Form der Wärmebehandlungsvorrichtung nach der neunten Ausführungsform der Erfindung zeigt.

Eine Wärmebehandlungsvorrichtung 400 ist aufgeteilt in einen Wärmebehandlungsteil 410 und einen Kühlteil 450. Ein Paar Außenabdeckungen 404 sind an einem Rahmen 402 des Wärmebehandlungsteils 410 an solchen Stellen befestigt, die den beiden seitlichen Enden des Flachstücks A entsprechen, welches transportiert werden soll. Darüber hinaus befinden sich Wärmeelementabdeckungen 412A, 412B, 412C und 412D an den paarweisen Abdeckungen 404 im Bereich der Außenstellen des Wärmebehandlungsteils 410. Die Außenabdeckungen 404 und die Heizelementabdeckungen 412A, 412B, 412C und 412D schützen die inneren Elemente (die weiter unten noch beschrieben werden) einer Heizeinheit, die weiter unten erläutert wird, außerdem den Wärmebehandlungsteil 410, und sie isolieren die Wärme der internen Elemente. Die Oberflächen jeder der Heizelementabdekkungen 412A, 412B, 412C und 412D kann mit einer Füllung ausgestattet sein, um die Bedienungsperson oder andere Personen vor Verbrennungen durch Berührung zu schützen. Das Füllmaterial muß ein haarähnliches Material mit einem Wärmewiderstand bei etwa 150°C haben, beispielsweise kann man 6-Nylon oder 66-Nylon verwenden. Darüber hinaus ist der Kühlteil 450 mit dem stromabwärtigen Bereich des Wärmebehandlungsteils 410 gekoppelt. Darüber hinaus dient eine Abdeckung 452 zur Wärmeisolierung und zur Sicherheit.

13 ist eine schematische Ansicht, die den internen Aufbau und eine Transferpassage der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung zeigt. Die Erwärmungs- und Transferstrukturen in dem Wärmebehandlungsteil 410 sind im wesentlichen die gleichen wie bei der in 6 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung. Das bedeutet: mit Plattenheizern 417A, 417B, 417C und 417D, die gebogene Flächen 424A, 424B, 424C und 424D aufweisen, ausgestattete Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D befinden sich sequentiell unterhalb den Heizelementabdeckungen 412A, 412B, 412C und 412D bei Betrachtung von Stellen stromaufwärts. Die Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D sind entlang den gebogenen Flächen 424A, 424B, 424C und 424D mit mehreren Druckwalzen 422A, 422B, 422C und 422D ausgestattet, so daß der gesamte Körper eine sequentielle Kreisbogenform definiert.

Mitläuferzahnräder 423A, 423B, 423C und 423D befinden sich an den axialen Enden der Andruckwalzen 422A, 422B, 422C und 422D. Ein Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 wird von dem Rahmen 402 an einer Stelle gelagert, an der das Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 in die Andruckwalzen 422A, 422B, 422C und 422D eingreift, so daß die Achse des Andrückwalzen-Antriebszahnrads 408 die Mitte der Kreisbogenkonfiguration der Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D ist. Das Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 ist über ein Mitläuferzahnrad 406 in Dreheingriff mit einem Hauptantriebszahnrad 440, welches sich unterhalb des Wärmebehandlungsteils 410 an dem Rahmen 402 abstützt.

Paarweise Zuführwalzen 416 befinden sich stromaufwärts bezüglich der Heizeinheit 420A, um das Flachstück A zuverlässig in den Wärmebehandlungsteil 410 einzuleiten.

Das Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 kann so aufgebaut sein, daß es die paarweisen Zuführwalzen 416 ebenfalls dreht.

Da das Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 die paarweisen Zuführwalzen 416 und die Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D dreht, läßt sich der Transport des aufgeheizten Flachstücks A glatt abwickeln.

Wenn die Wärmeleitfähigkeit des Andrückwalzen-Antriebszahnrads 408 groß ist, kommt es zu einer starken Wärmeabstrahlung seitens des Wärmebehandlungsteils 410, so daß vorzugsweise ein Material wie beispielsweise ein Harzmaterial (zum Beispiel eine Bakelit-Platte) mit hoher Wärmekapazität verwendet wird. Die glatten Abschnitte können aus Metall oder Glasfasermaterial bestehen, so daß sie eine zufriedenstellende Haltbarkeit aufweisen.

Das Hauptantriebszahnrad 440 überträgt Drehmoment auf das Antriebskraft-Übertragungszahnrad 442A und überträgt ein Drehmoment auf einen Antriebsriemen 444, der unter den Antriebskraft-Übertragungsrädern 442B, 442C, 442D, 442E und 442F angeordnet ist. Auf diese Weise werden die Antriebswalzen und eine Lieferwalze 446 einer Blatteinführwalze 414 sowie der Kühlteil 450 gedreht. Man beachte, daß individuelle Antriebsquellen verwendet werden können.

Paarweise Wärmebehandlungsteil-Austragwalzen 418 sind an stromaufwärtigen Stellen bezüglich der Heizeinheit 420D angeordnet. Der Kühlteil 450 befindet sich in der Nachbarschaft der paarweisen Wärmebehandlungsteil-Austragwalzen 418. Das Flachstück A wird durch eine Blatttransferpassage A1 im Kühlteil 450 transportiert. Anschließend trägt eine Austragwalze 446 das Flachstück A aus, dessen Temperatur auf einen Wert abgesenkt wurde, der nicht höher ist als der der Entwicklung vorausgehende Temperaturwert.

Befindet sich der Wärmebehandlungsteil 410 im Bereitschaftszustand, so werden die drehenden Teile langsam gedreht, um eine Wärmeabweichung unter den Teilen zu vermeiden.

Die Spannungsversorgung, mit der die Heizeinheit versorgt werden kann, läßt sich überwachen, um den Heizwert so zu berechnen, daß man die Versorgungsspannung oder das Erreger/Enterregersystem so einstellen kann, daß der gesamte Heizwert gesteuert werden kann.

14 ist eine perspektivische Ansicht des Aufbaus der Heizeinheit 420B von Heizeinheiten der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung. Da der Aufbau der Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D im wesentlichen der gleiche ist, soll im folgenden nur die Heizeinheit 420B beschrieben werden.

Wie in der Zeichnung dargestellt ist, werden der Plattenheizer 417B und jede Andrückwalze 422B zwischen paarweisen Heizelement-Seitenplatten 421B gehalten. Ein Folgerzahnrad 423B an dem axialen Ende der Andrückwalze 422B befindet sich außerhalb der Heizelement-Seitenplatte 421B. Haltestifte 428B zum Sichern der Heizeinheit 420B an dem Rahmen 402 sind in dem Bereich, in dem sich das Folgerzahnrad 423B befindet, für jede Heizelement-Seitenplatte 421B vorgesehen. Die Andrückwalze 422B ist benachbart zu dem Plattenheizer 417B durch ein Lager 429B gehalten, um gegenüber der Heizelement-Seitenplatte 421B drehbar zu sein. Das Lager 429B wird von einem Belastungselement 426B, das durch die Heizelement-Seitenplatte 421B mit einem Halteelement 427B gehalten wird, in Richtung einer gewölbten Oberfläche 424B des Plattenheizer 417B vorgespannt. Obschon das Halteelement 427B an der Heizelement-Seitenplatte 421B in der Zeichnung mit Schrauben befestigt ist, kann man auch von einer Schweißung oder einem Klebstoff Gebrauch machen.

Das Material für jede Andrückwalze 422A, 422B, 422C und 422D ist Silicium, um eine zufriedenstellende Übertragung und eine zufriedenstellende Wärmeisolierung zu erreichen. Schmiermittel des Lagers 429B besitzt eine Hitzebeständigkeit bis etwa 150°C.

15 ist ein Diagramm der Wärmeentwicklungsvorrichtung nach 13, betrachtet entlang der Linie X-X.

Wie in 13 zu sehen ist, ist die Andrückwalze 422B durch das Lager 429B des Trägerelements 425B, das von der Heizelement-Seitenplatte 421B gesichert wird, drehbar gelagert. Der durch das Trägerelement 425B und das Lager 429B gebildete Aufbau ermöglicht, daß die Welle der Andrückwalze 422B in einer Richtung zu dem Plattenheizer 417B über eine vorbestimmte Distanz bewegt werden kann. Wenn das Flachstück A zu einer Stelle transportiert wurde, die sich zwischen der Andrückwalze 422B und dem Plattenheizer 417B befindet, wird die vorerwähnte Lücke vergrößert. Da das Lager 429B von dem Belastungselement 426B in Richtung des Plattenheizers 417B gedrängt wird, wird auf das Flachstück A ein erforderlicher Druck in der Weise aufgebracht, daß das Flachstück ohne Lücke in Berührung mit dem Plattenheizer 417B gebracht wird.

In einem Zustand, in welchem das Flachstück A nicht eingeführt ist, befinden sich das Andrückwalzen-Antriebszahnrad 408 und das Folgerzahnrad 423B in enger Nachbarschaft ohne gegenseitigen Eingriff. Nach dem Einleiten des Flachstücks A wird die Lücke zwischen der Andrückwalze 422B und dem Plattenheizer 417B vergrößert, wie oben ausgeführt wurde. In diesem Fall wirkt das Folgerzahnrad 423B mit einem Teilkreis des Andrückwalzen-Antriebszahnrads 408 zusammen, und als Ergebnis dieser Anordnung drehen sich die Andrückwalzen, die gerade das Flachstück A nicht halten, nicht. Folglich läßt sich eine Belastung, die zum Drehen des Andrückwalzen-Antriebszahnrads 408 aufzubringen ist, verringern.

Die Lücke zwischen der Andrückwalze 422B und dem Plattenheizer 417B, die in einem Zustand gehalten wird, in welchem das Flachstück A nicht eingeleitet wird, ist etwas kürzer als die Dicke des Flachstücks A. Wenn die Dicke des Flachstücks A 0,2 mm beträgt, ist eine geeignete Lücke etwa 0,15 mm breit. Im obigen Fall ist es bevorzugt, wenn der Abstand, über den die Welle der Andrückwalze 422B bewegt werden kann, etwa 0,05 mm bis 0,65 mm beträgt. Da die Differenz zwischen dem Durchmesser der Andrückwalze 422B und demjenigen des Lagers 429B konstant ist, wird dieser Umstand dazu genutzt, die Genauigkeit der Lücke zwischen der Andrückwalze 422B und dem Plattenheizer 417B zu verbessern.

Der Heizteil des Plattenheizer 417B ist derart ausgebildet, daß eine Platte gegenüber der Andrückwalze 422B vorgesehen ist und eine Silikonkautschuk-Heizvorrichtung mit einem Schichtaufbau mit eingelegtem Heizdrahtmuster an der Rückseite gegenüber der Andrückwalze 422B angebracht ist. Zu diesem Anbringen werden die Metallplatte und die Silikonkautschuk-Heizvorrichtung, die noch nicht vulkanisiert ist, integral miteinander geformt. Auf diese Weise werden in einem Hub die Vulkanisierung der Silikonkautschuk-Heizvorrichtung und das Anbringen der Metallplatte erreicht. Als Ergebnis des oben geschilderten Prozesses werden die Silikonkautschuk-Heizvorrichtung und die Metallplatte in innige Berührung ohne jegliche Lücke miteinander gebracht. Hierdurch läßt sich eine nicht normale Aufheizung vermeiden, die ein Anschmelzen oder Verbrennen des Silikonkautschuks zur Folge hat aufgrund des Entstehens einer Lücke.

16 ist eine Horizontalschnittansicht und zeigt einen Heizeinheitenteil der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung.

14 zeigt den Zusammenhang der Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D unter den Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D. Wie oben beschrieben, wird jede der Andrückwalzen durch Belastungselemente 426A, 426B, 426C und 426D, die an Halteelementen 427A, 427B, 427C und 427D befestigt sind, in eine vorbestimmte Position in Richtung der Plattenheizer 417A, 417B, 417C und 417D gedrängt. Jedes der Belastungselemente 426A, 426B, 426C und 426D ist so aufgebaut, daß es eine Feder aufnimmt und mit einem nicht gezeigten Anschlag zusammenwirkt, der für jedes der Halteelemente 427A, 427B, 427C und 427D vorhanden ist. Auf diese Weise wird jede Andrückwalze vorgespannt.

Die Plattenheizer 417A, 417B, 417C und 417D sind mit Anschlüssen 415A, 415B, 415C und 415D zum Zuspeisen elektrischer Leistung versehen.

Eine Neigung jeder der Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D bewirkt, daß Einflüsse der gewichteten Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D auf die Belastungselemente 426A, 426B, 426C und 426D in unerwünschter Weise voneinander abweichen. Um die Anpreßkraft, die auf das Flachstück A einwirkt, konstant zu machen, muß die Vorspannkraft jedes der Belastungselemente für jede Heizeinheit geändert werden. Deshalb werden die Federn in den Belastungselementen, die gleiche Federkonstante haben, und die Positionen der Anschläge für die Halteelemente 427A, 427B, 427C und 427D derart variiert, daß die erforderliche Vorspannkraft erzielt wird. Bei dem in 14 gezeigten Aufbau befinden sich die Anschläge in ausgeschnittenen Bodenbereichen 436A, 436B, 436C und 436D der Halteelemente 427A, 427B, 427C und 427D. Die Halteelemente an verschiedenen eingeschnittenen Bodenbereichen 436A, 436B, 436C und 436D dienen zur Justierung der Vorspannkraft jedes der Belastungselemente.

17 ist eine teilperspektivische Ansicht und zeigt die in 12 dargestellte Wärmebehandlungsvorrichtung in einem Zustand, in welchem die äußere Abdeckung und die Heizelementabdeckung entfernt sind.

Ausschnitte 432A, 432B, 432C und 432D zum Halten der Heizeinheiten befinden sich an Stellen der Oberfläche des Rahmens 402, an denen die Heizeinheiten angeordnet sind. Damit werden paarweise Trägerstifte 428A, 428B, 428C und 428D für die Heizeinheiten aufgenommen. Feste Platten 430A, 430B, 430C und 430D sind an den jeweils einen paarweisen Trägerstiften vereint. Die festen Platten 430A, 430B, 430C und 430D sind an dem Rahmen 402 derart befestigt, daß die Heizeinheiten an vorbestimmten Stellen festgelegt sind. In der in der Zeichnung dargestellten Struktur ist jede der festen Platten mit einer Fixierschraube gesichert. Die Teile der Trägerzapfen 428A, 428B, 428C und 428D, die Berührung mit dem Rahmen 402 haben, sind aus einem Material mit geringer Wärmeleitfähigkeit gefertigt. Deshalb läßt sich eine unerwünschte Wärmeabstrahlung von den Heizeinheiten verhindern.

Im Ergebnis läßt sich das Anbringen und das Abnehmen der Heizeinheiten an bzw. von dem Rahmen in einfacher Weise durchführen.

Man beachte, daß an das Folgerzahnrad 406 direkt ein Handgriff 406A angebracht ist, damit die Andrückwalze von Hand gedreht werden kann, sollte es zu einem Stau des Flachstücks A kommen.

18 ist eine vergrößerte Ansicht, die den Kühlteil der in 13 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung veranschaulicht.

Jede Kühlwalze 460 des Kühlteils 450 ist so angeordnet, daß der Flachstücktransportpassage A1 für das Flachstück A eine vorbestimmte Krümmung R verliehen wird. Damit wird das Flachstück A mit der vorbestimmten Krümmung R soweit transportiert, bis das Flachstück A auf eine Glasübergangstemperatur des Materials des Flachstücks A abgekühlt ist. Da die Krümmung dem Flachstück A mit Absicht aufgeprägt wird, läßt sich eine unerwünschte Kräuselung des Flachstücks A verhindern, bevor dieses auf die Glasübergangstemperatur abgekühlt ist.

Wenn die Temperatur auf einen Wert gesenkt ist, der nicht höher als die Glasübergangstemperatur ist, läßt sich die Ausbildung einer neuerlichen Kräuselung verhindern. Damit läßt sich die Streuung sich ausbildende Kräuselungen verhindern.

Um eine unerwünschte Änderung der Dichte zu vermeiden, indem die Zeit konstant gemacht wird, bei der die Temperatur auf einen Wert abgesenkt ist, der nicht größer ist als der der Entwicklung vorausgehende Wert, ist es zu bevorzugen, wenn folgender Prozeß durchgeführt wird:

Die Temperatur der Innenatmosphäre jeder der Kühlwalzen 460 und des Kühlteils 450 kann eingestellt werden. Die vorausgehende Einstellung der Temperatur ermöglicht, daß der Zustand unmittelbar nach Beginn des Betriebs der Wärmebehandlungsvorrichtung und ein Zustand, der nach einer ausreichenden Betriebszeit gegeben ist, im wesentlichen gleich sind. Hierdurch läßt sich eine Dichteänderung einschränken.

Wie ebenfalls aus 12 entnehmbar ist, sind für die Kühlabdeckung 452 Öffnungen vorgesehen, wobei die Anzahl dieser Öffnungen in stromabwärtiger Richtung erhöht ist. Damit ist keine Steuereinheit erforderlich, um das Abkühlen entsprechend einer akzeptierbaren Temperaturabsinkkurve durchzuführen. Wenn die Kühlwalze 460 in Form eines Rohrs mit zwei Enden aus einem Material geringer Wärmeleitfähigkeit verwendet wird, läßt sich die Wärmekapazität verringern. Darüber hinaus läßt sich die Differenz der Temperatur zwischen dem Zustand unmittelbar nach Beginn des Betriebs der Wärmebehandlungsvorrichtung und einem Zustand nach ausreichend langer Betriebszeit verringern.

Über die Oberfläche der Kühlwalze 460 ist spiralförmig ein textiler Filz gewickelt. Als Ergebnis dieser Struktur ist ein andauernder Kontakt des Saums des Filzes mit der gleichen Stelle des Flachstücks A möglich. Deshalb verbleibt keinerlei Markierung von dem Saum.

19 ist eine schematische Strukturansicht und zeigt den Innenaufbau und die Transportpassage der Wärmebehandlungsvorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung. Gleiche Elemente der Wärmebehandlungsvorrichtung 470 wie bei der Vorrichtung nach 13 tragen gleiche Bezugszeichen.

In einem von den Heizelementabdeckungen 412A, 412B, 412C und 412D gebildeten Innenbereich besitzen Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D, die Plattenheizer 417A, 417B, 417C und 417D enthalten, jeweils eine gebogene Oberfläche und sind sequentiell ausgehend von einer stromaufwärtigen Stelle angeordnet. Darüber hinaus sind die Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D mit mehreren Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D ausgestattet, die entlang den gekrümmten Oberflächen 424A, 424B, 424C und 424D angeordnet sind. Damit ist die Gesamtform eine Kreisbogenform.

Die Heizeinheiten 420A, 420B, 420C und 420D sind derart aufgebaut, daß Endlostransportbänder 476A, 476B, 476C und 476D, die zwischen den Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D angeordnet sind, zwischen den Plattenheizern 417A, 417B, 417C und 417D und den Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D angeordnet sind. Ähnlich wie bei den Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D, üben Spannwalzen 467A, 467B, 467C und 467D, die von Heizelement-Seitenplatten 421A, 421B, 421C und 421D getragen werden, Spannung auf die Endlostransportbänder 476A, 476B, 476C und 476D aus.

Als Ergebnis der oben geschilderten Struktur wird das Flachstück A unter den Plattenheizern 417A, 417B, 417C und 417D und den Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D an der Stelle jeder der Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D gehalten. Zum Transport des Flachstücks A werden die Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D gedreht.

Als Drehsystem zum Drehen der Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D kann von einer ähnlichen Struktur Gebrauch gemacht werden, wie sie für die in 13 gezeigte Wärmebehandlungsvorrichtung vorgesehen ist, wobei ein Walzendrehzahnrad 408, das drehbar von einem Rahmen 402 gelagert ist, mit den Folgerzahnrädern 423A, 423B, 423C und 423D kämmt, die an dem axialen Ende der Andrückwalzen 422A, 422B, 422C und 422D angeordnet sind. Es kann von einer anderen Struktur Gebrauch gemacht werden, bei der ein Zahnrad ähnlich dem Walzen-Drehantriebszahnrad 408 mit den Spannwalzen 467A, 467B, 467C und 467D zusammenwirkt.

Jeder der Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D besitzt in bezug auf das Flachstück A einen Reibungskoeffizienten, der größer ist als derjenige der Oberfläche jedes der Plattenheizer 417A, 417B, 417C und 417D in bezug auf das Flachstück A. Daher kann das Flachstück A relativ hierzu bewegt (verschoben) werden, so daß es zuverlässig transportiert wird, während das Flachstück Berührung mit der Oberfläche der Plattenheizer 417A, 417B, 417C und 417D hat. Aus diesem Grund werden die Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D in Berührung mit der Gesamtfläche des Flachstücks A gebracht. Im Ergebnis läßt sich eine ungleichmäßige Aufheizung vermeiden.

Die Oberflächen der Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D gegenüber dem Flachstück A können bürstenähnlich erhaben ausgebildet sein. Im obigen Fall läßt sich die Transportleistung noch weiter steigern. Wenn die Transportriemen 476A, 476B, 476C und 476D variabel sind, wird Gas abgeleitet, welches aufgrund einer chemischen Änderung in der Wärmebehandlungsschicht der Oberfläche des Flachstücks A entsteht. Im Ergebnis läßt sich das Haften zwischen dem Flachstück A und dem Plattenheizer zusätzlich verbessern.

20 ist eine schematische Ansicht des Aufbaus einer Wärmeentwicklungsvorrichtung mit der in 12 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung gemäß der zehnten Ausführungsform der Erfindung. Deshalb besteht so wie in 11 die Wärmeentwicklungsvorrichtung 500 hauptsächlich aus einem Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 522, 524, einem Breitenausrichtungsteil 514, einem Bildbelichtungsteil 516 und der Wärmebehandlungsvorrichtung 400, die in der Reihenfolge des Transports eines Wärmeentwicklungs-Photomaterials oder eines photoempfindlichen oder thermoempfindlichen Aufzeichnungsmaterials (im folgenden „Flachstück A") angeordnet sind. Der Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 522, 524 entspricht dem Aufzeichnungsmaterial-Zuführteil 22, 24. Der Breitenausrichtungsteil 514 entspricht dem Breitenausrichtungsteil 14. Der Bildbelichtungsteil 516 entspricht dem Bildbelichtungsteil 16. Die Wärmebehandlungsvorrichtung 400 entspricht der Wärmebehandlungsvorrichtung 18. Das „Flachstück A" wird der Flachstücktransportwalze 414 der Wärmebehandlungsvorrichtung mit Hilfe der Transportwalzen 564 und 566 zugeleitet, nachdem es im Bildbelichtungsteil 516 belichtet wurde. Eine Elektroenergiequelle 555 und ein Steuerteil 550 befinden sich unterhalb der Wärmeentwicklungsvorrichtung.

Die Wärmebehandlungsvorrichtung 400 nach dieser Ausführungsform ist in der in den 12 bis 18 dargestellten Weise angeordnet und ausgebildet. Die übrigen Teile außer der Wärmebehandlungsvorrichtung sind ähnlich jenen der Wärmeentwicklungsvorrichtung nach der ersten Ausführungsform, so daß die Beschreibung der Strukturmerkmale und der Arbeitsweise dieser Teile entfällt.

Die in 8 dargestellte Wärmebehandlungsvorrichtung diente für einen Vergleich zwischen einem Aufbau, bei dem das plattenähnliche Heizelement in drei Abschnitte unterteilt ist (erste Ausführungsform) und einer Struktur, bei der ein Einplatten-Heizelement verwendet wird (Vergleichsbeispiel 1).

Die Wärmebehandlungsvorrichtung nach 6 beinhaltet die Plattenheizer 320a, 320b und 320c, die jeweils eine Oberfläche haben, die in Berührung mit dem Flachstück steht und mit einem Nickelüberzug versehen ist. Um die Dicke jedes der Plattenheizer 320a, 320b und 320c in den Flachstückeinleitbereichen zu vergrößern und ein einfaches Binden der Heizvorrichtung zu erreichen, wird die rückwärtige Seite abgewandt von der Fläche, die in Berührung mit dem Flachstück steht, als flaches Teil ausgebildet. Eine Heizvorrichtung 210 ist eine Gummiheizvorrichtung zum Realisieren einer gleichmäßigen elektrischen Leistungsdichte von 5 kw/m² ohne lokale Streuung.

Die Temperatur der Platte wurde auf 120°C eingestellt. Als die Temperatur auf das vorausgehende Niveau angestiegen war, wurden 20 Halbschnitt-Flachstücke A sukzessive in Abständen von 8 Sekunden zugeführt, damit sie einer Wärmebehandlung ausgesetzt wurden.

Wie aus der Tabelle 1 entnehmbar ist, ermöglichte das Aufteilen der Platte, die Differenz der Temperatur während der Wärmebehandlung im Vergleich zu dem herkömmlichen Aufbau zu reduzieren. Damit ließ sich die Qualität verbessern, die durch die Wärmebehandlung erreicht wurde.

Die in 8 gezeigte Wärmebehandlungsvorrichtung wurde dazu benutzt, einen Vergleich zwischen der Struktur, in der das plattenähnliche Heizelement in drei Abschnitte aufgeteilt war (erste Ausführungsform) und eine Struktur zu machen, bei der ein Einplatten-Heizelement verwendet wurde (Vergleichsbeispiel 1).

Die Temperatur der Platte wurde auf 120°C eingestellt. Als die Temperatur auf den vorhergehenden Wert angestiegen war, wurden sukzessive 20 Halbschnitt-Flachstücke A in Intervallen von 8 Sekunden zugeführt, damit sie einer Wärmebehandlung unterzogen wurden. Die Entwicklungsdauer für das Flachstück betrug 20 Sekunden.

Wie aus Tabelle 2 entnehmbar ist, ermöglichte das Aufteilen der Platte, die Dichtedifferenz als Ergebnis der Wärmeentwicklung zu reduzieren im Vergleich zu der herkömmlichen Struktur. Damit ließ sich die Qualität der Wärmebehandlung verbessern.

Die in 6 dargestellte Wärmebehandlungsvorrichtung wurde hergenommen für einen Vergleich zwischen einer Struktur, bei der das plattenähnliche Heizelement in drei Abschnitte unterteilt war (erste Ausführungsform) und einer Struktur, in der ein Einplatten-Heizelement verwendet wurde (Vergleichsbeispiel 1).

Die Temperatur der Platte wurde eingestellt. Als die Temperatur auf den vorhergehenden Wert angestiegen war, wurden 20 Halbschnitt-Flachstücke A sukzessive in Intervallen von 8 Sekunden zugeführt, damit sie einer Wärmebehandlung unterzogen wurden.

Wie sich aus der Tabelle 3 ergibt, ermöglichte die Aufteilung der Platte, die sich als Ergebnis der Wärmeentwicklung einstellende Dichtedifferenz im Vergleich zur herkömmlichen Struktur zu verringern. Damit wurde die Qualität der Wärmebehandlung verbessert.

Die vierte Ausführungsform der Plattenheizer der in 9 gezeigten Wärmebehandlungsvorrichtung wurde zum Durchführen einer Wärmeentwicklung eingesetzt. Temperatursensoren 221, 222 und 223 entsprechend den Heizgeräten 211, 212 und 213 befinden sich an den hinteren Enden der Platten. Um das Auftreten einer unregelmäßigen Temperatur an den Grenzen zwischen den Heizgeräten zu vermeiden, sind die Widerstandsdrähte der benachbarten Heizgeräte in Breitenrichtung zickzackförmig angelegt. Die Temperatur der Platte wurde auf 120°C eingestellt. Als die Temperatur auf den vorhergehenden Wert gestiegen war, wurden 20 Halbschnitt-Flachstücke A in Intervallen von 8 Sekunden für eine Wärmebehandlung zugeführt. Die Wärmebehandlungsdauer betrug 20 Sekunden. Das Flachstück A besaß eine Halbschnittgröße (14'' × 17") (35,56 × 43,18 cm) oder acht mal zehn (8'' × 10'') (20,32 × 25,40 cm).

Wie sich aus der Tabelle 4 ergibt, wurde die Heizeinrichtung benachbart zum Flachstückeinlaßbereich in drei Abschnitte unterteilt, bei denen es sich um die Heizgeräte 211, 212 und 213 handelt, und zwar in Breitenrichtung. Damit verringerte sich die aus der Wärmeentwicklung resultierende Dichtedifferenz, falls das Flachstück eine andere Breite hatte. Die Qualität der Entwicklung wurde hierdurch verbessert.

Im folgenden wird das Flachstück A beschrieben. Das photographische photoempfindliche Material enthält ein photoempfindliches Material zur Verwendung beim Naßentwicklungsverfahren, bei dem von einer Verarbeitungslösung Gebrauch gemacht wird, die eine Entwicklerlösung und eine Fixierlösung enthält, um ein auf einem photoempfindlichen Material gebildetes latentes Bild in ein sichtbares Bild umzuwandeln. Darüber hinaus enthält das photoempfindliche Material ein Material zur Verwendung bei einem Trockenentwicklungsverfahren, welches von keiner Verarbeitungslösung Gebrauch macht.

Beispiele für die Trockenentwicklung beinhalten folgende Verfahren:

• (1) Ein Verfahren, bei dem ein entsprechend einem Bild belichtetes photoempfindliches Material mit einem Bildaufnahmematerial laminiert wird und das Laminat dann erhitzt wird (und gegebenenfalls mit Druck beaufschlagt wird), damit ein dem auf dem photoempfindlichen Material durch die Belichtung erzeugten latenten Bild entsprechendes Bild auf ein Bildaufnahmematerial übertragen wird (beispielsweise Verfahren gemäß den japanischen Patent-Offenlegungsschriften Nr. 5-113629, Nr. 9-258404, Nr. 9-61978, Nr. 8-62803, Nr. 10-71740, Nr. 9-152705, der japanischen Patentanmeldung Nr. 10-90181, der japanischen Patentanmeldung Nr. 10-13326 und der japanischen Patentanmeldung Nr. 10-18172).
• (2) Ein Verfahren, bei dem ein photoempfindliches, entsprechend einem Bild belichtetes Material mit einem Material laminiert wird, welches verarbeitet werden muß, und das Laminat dann erhitzt wird, so daß ein Bild, welches einem durch die Belichtung auf dem photoempfindlichen Material entstandenen latenten Bild entspricht, auf dem photoempfindlichen Material entsteht (beispielsweise Verfahren nach der japanischen Patent-Offenlegungsschrift Nr. 9-274295 und der japanischen Patentanmeldung Nr. 10-17192).
• (3) Ein Verfahren, bei dem ein photoempfindliches Material mit einer photoempfindlichen Schicht, in der Silberhalogenid als Photokatalysator dient, Silbersalz als bilderzeugende Substanz dient und ein Reduziermittel für Silberionen in einem Bindemittel dispergiert ist, mit einem Bild belichtet wird, woraufhin das photoempfindliche Material auf eine vorbestimmte Temperatur erwärmt wird, so daß ein durch die Belichtung entstandenes latentes Bild zu einem sichtbaren Bild wird (beispielsweise Verfahren, die offenbart sind in „Thermally Processed Silver Systems" (Imaging Processes and Materials) Neblette, Vol. 8, Sturge, V. Walworth and A shepp, S. 2, 1996, Research Disclosure 17029 (1978), EP80376A1, EP803765A1 und japanische Patent-Offenlegungsschrift Nr. 8-211521).
• (4) Ein Verfahren unter Verwendung eines photoempfindlichen und wärmeempfindlichen Aufzeichnungsmaterials, derart angeordnet und ausgebildet, daß eine photoempfindliche und wärmeempfindliche Aufzeichnungsschicht ein Aufzeichnungsmaterial enthält, welches einen durch Elektronen freisetzbaren farblosen Farbstoff enthält, der in auf Wärme ansprechenden Mikrokapseln eingekapselt ist, eine Verbindung, die im selben Molekül eine Elektronenaufnahmestelle besitzt, außerdem einen polymerisierbaren Vinylmonomer-Teil und einen Licht-Polymerisationsinitiator an der Außenseite der Mikrokapseln (beispielsweise ein Verfahren nach der japanischen Patent-Offenlegungsschrift Nr. 4-249251). Als Alternative hierzu beinhaltet ein Verfahren, bei dem eine photoempfindliche und Wärmeempfindliche Aufzeichnungsschicht ein Aufzeichnungsmaterial enthält, welches einen durch Elektronen freisetzbaren farblosen Farbstoff enthält, eingekapselt in eine auf Wärme ansprechende Mikrokapsel, außerdem eine Elektronenaufnahmeverbindung, ein polymerisierbares Vinylpolymer und einen Licht-Polymerisationsinitiator auf der Außenseite der Mikrokapsel (zum Beispiel ein Verfahren nach der japanischen Patent-Offenlegungsschrift Nr. 4-211252).

In der vorliegenden Beschreibung werden die photoempfindlichen Materialien und die Aufzeichnungsmaterialien zur Verwendung bei der Trockenentwicklung kollektiv als „Wärmeentwicklungs-Photomaterial" oder ähnlich bezeichnet. Bei den Trockenentwicklungsverfahren (1) und (2) muß Wasser in geringer Menge eingesetzt werden, um die Entwicklung und Bildentstehung zu begünstigen.

Wie oben beschrieben wurde, sind die Wärmebehandlungsvorrichtung mit dem oben beschriebenen Aufbau und gemäß der Erfindung sowie die Wärmeentwicklungsvorrichtung, die davon Gebrauch macht, derart ausgebildet, daß das Heizelement in der Richtung unterteilt ist, in der ein Wärmeentwicklungs-Photomaterial-Flachstück oder das photoempfindliche und wärmeempfindliche Aufzeichnungsmaterialflachstück transportiert wird, wobei die Temperaturen der entsprechenden Heizelemente unabhängig eingestellt und gesteuert werden. Damit läßt sich die Differenz der Temperatur in dem Flachstück verringern. Darüber hinaus kann eine unregelmäßige Entwicklung verhindert werden, die aufgrund einer Wärmebeeinträchtigung bei Verwendung des Endlosbands entsteht. Außerdem läßt sich eine gleichmäßige Erhitzung erreichen. Im Ergebnis läßt sich ein hochqualitatives Bild frei von Entwicklungs-Unregelmäßigkeiten erhalten.