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Dokumentenidentifikation DE10393212T5 29.09.2005
Titel Drehantriebsvorrichtung und -verfahren
Anmelder Tokyo Electron Ltd., Tokio/Tokyo, JP
Erfinder Sato, Hideaki, Tosu, Saga, JP
Vertreter HOFFMANN & EITLE, 81925 München
DE-Aktenzeichen 10393212
Vertragsstaaten AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW, AP, EA, EP, OA
WO-Anmeldetag 12.09.2003
PCT-Aktenzeichen PCT/JP2003/011732
WO-Veröffentlichungsnummer 2004025820
WO-Veröffentlichungsdatum 25.03.2004
Date of publication of WO application in German translation 29.09.2005
Veröffentlichungstag im Patentblatt 29.09.2005
IPC-Hauptklasse H02P 5/00

Beschreibung[de]
TECHNISCHES GEBIET

Diese Erfindung betrifft eine Drehantriebsvorrichtung und ein Drehantriebsverfahren und genauer gesagt eine Drehantriebsvorrichtung und ein Drehantriebsverfahren, die während des Betriebs der Vorrichtung auf einen Spannungsabfall reagieren können.

STAND DER TECHNIK

Beispielsweise befördert eine Vorrichtung zur Herstellung von Halbleitereinrichtungen ein zu bearbeitendes Objekt wie beispielsweise einen Halbleiterwafer und ein LCD-Substrat (im folgenden "einen Wafer o. ä.") von einem Ein- und Ausladebereich hin zu einem Bearbeitungsbereich, beispielsweise zu einem Reinigungs-/Trocknungsbereich, unter Verwendung eines Transportmechanismus. Bei diesem Reinigungs/Trocknungsbereich wird ein mittels eines mit einem Drehmechanismus ausgestatteten Rotor gehaltener Wafer o. ä. gereinigt, um Verunreinigungen wie beispielsweise Partikel, organische Verunreinigungen und metallische Unreinheiten sowie nach dem Ätzen verbliebene Polymere von dem Wafer o. ä. unter Zufuhr einer bestimmten chemischen Flüssigkeit, unter Zufuhr von de-ionisiertem Wasser, oder dergleichen zu entfernen. Nach dem Entfernen wird der Wafer o. ä. durch Entfernen von Tröpfchen von diesem Wafer o. ä. unter Zufuhr von Inertgas, beispielsweise Stickstoffgas (N2), flüchtigem und hydrophilem IPA Dampf, etc. getrocknet. Anschließend wird ein Vorgang zum Aufnehmen des Wafers o. ä. von dem Reinigungs/Trocknungsbereich und Weiterbefördern des Wafers o. ä. zu dem Ein- und Ausladebereich mittels des Transportmechanismus ausgeführt.

Bei einer solchen Halbleiter-Herstellvorrichtung wird natürlich ein mittels einer Versorgungsspannung von einer Energiequelle her angetriebener Motor (eine Drehantriebsvorrichtung) in einem Rotor als Antriebsquelle für den Transportmechanismus verwendet.

Übrigens tritt während des Betriebs der Vorrichtung eine Situation auf, dass die Spannungsversorgung für den Motor abfällt. In einer solchen Situation wird die Bearbeitung unmittelbar ausgesetzt, um den Rotor und den Transportmechanismus zu schützen. Der Stillstand der Bearbeitung kann jedoch dazu führen, dass sich die Qualität des Wafers verschlechtert.

Daher ist bis jetzt ein Verfahren verwendet worden, das, wenn die Spannungsversorgung aufgrund beispielsweise eines Stromausfalls abfällt, der Bearbeitungszustand abgespeichert wird mittels einer Energiequelle, die über eine Reserve-Energieversorgung versorgt wird, und wenn der Spannungsabfall ausgeräumt ist, wird die Bearbeitung von neuem gestartet, während Bezug auf die Daten des gespeicherten Bearbeitungszustands genommen wird. Dieses Verfahren ist beispielsweise in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 2723764, Absätze 0011, 0024 bis 0028 und 0031 und Fig. 4 und 5, offenbart. Außerdem ist auch ein Verfahren bekannt, dass, wenn ein Stromausfall auftritt, der Transport von Wafern o. ä. oder die Bearbeitung aufrecht erhalten wird mittels einer Notstromversorgung von einer Notstromquelle her. Dieses Verfahren ist beispielsweise offenbart in der japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 10-150014, Absätze Nr. 0033, 0040 und 0041 sowie 5.

Bei dem oben erwähnten Verfahren, dass der Bearbeitungszustand mittels der über die Reserve-Stromversorgung versorgten Energiequelle abgespeichert wird, wenn die Versorgungsspannung abfällt, und dass der Bearbeitungszustand aufrecht erhalten wird, während Bezug genommen wird auf Daten des abgespeicherten Bearbeitungszustands, wenn der Spannungsabfall ausgeräumt ist, bestehen jedoch noch Probleme: Da der Betrieb (der Antrieb) der Vorrichtung angehalten wird, wenn die Versorgungsspannung abfällt, und der Betrieb (der Antrieb) wieder gestartet wird, wenn der Spannungsabfall ausgeräumt ist, ist der Antriebszeitraum der Vorrichtung verlängert, so dass ihr Durchsatz reduziert ist. Außerdem können die Wafer o. ä. bei einem Halt der Drehung eines Antriebsbereichs der Vorrichtung, insbesondere während seiner beschleunigenden Drehung oder Drehung mit hoher Geschwindigkeit, aufgrund einer Schwingung der Vorrichtung beschädigt werden. In gleicher Art und Weise hat das andere Verfahren, bei welchem der Bearbeitungsvorgang unter Zufuhr des Notstroms von der Notstromquelle her bei einem Stromausfall weitergeführt wird, Probleme, obwohl hier nicht das Problem besteht, dass der Bearbeitungszeitraum spürbar verlängert wird: Da der Antrieb der Vorrichtung beim Übergang von der Hauptstromversorgung zu der Notstromversorgung zu einem temporären Halt gelangt, ist der Antriebszeitraum ebenfalls verlängert, so dass der Durchsatz sich verringert. Wie oben erwähnt, können die Wafer o. ä. außerdem beim Anhalten der Drehung eines Antriebsbereichs der Vorrichtung, insbesondere während seiner beschleunigenden Drehung oder Drehung mit hoher Geschwindigkeit, aufgrund einer Schwingung der Vorrichtung beschädigt werden.

Ein Abfall der Spannungsversorgung ergibt sich übrigens nicht nur bei einem Stromausfall. Er kann sich auch aus einem momentanen Blackout ergeben, wo die Spannung sofort abfällt und die Energieversorgung anschließend wiederhergestellt (Energie wieder zugeführt) wird. Die Vorrichtung ist normalerweise dazu standardisiert, mit einem solchen momentanen Blackout umgehen zu können.

Auch im Fall eines solchen momentanen Blackouts verursacht der Halt des Antriebs der Vorrichtung eine Verlängerung des Antriebszeitraums und eine Verminderung des Durchsatzes. Außerdem besteht ein Problem, dass ein Halt in dem Drehantrieb dazu führt, dass die Wafer o. ä. aufgrund einer Schwingung beschädigt werden können.

Unter den oben beschriebenen Umständen ist es das Ziel der vorliegenden Erfindung, eine Verlängerung des Antriebszeitraums durch Steuern der Drehung einer Vorrichtung entsprechend einem Spannungsabfall während des Antriebs der Vorrichtung zu unterdrücken, um den Durchsatz der Vorrichtung zu verbessern und eine Schwingung der Vorrichtung aufgrund ihres Anhaltens in der Drehung während es Spannungsabfalls zu unterdrücken.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNG

Gemäß einem ersten Merkmal der vorliegenden Erfindung wird eine Drehantriebsvorrichtung mit einem Motor geschaffen, der sich zumindest bei einer hohen und einer geringen Geschwindigkeit dreht, einem Kreis zum Erzeugen eines Drehmoments des Motors mittels einer Versorgungsspannung von einer Energiequelle her, einem Motorsteuerkreis zum Steuern der Drehung des Motors, einem Drehzahlerfasser zum Erfassen einer Drehgeschwindigkeit des Motors und Übertragen eines Erfassungssignals an den Motorsteuerkreis, und einer Steuerung, um die Drehgeschwindigkeit des Motors und dessen Drehzahl an den Motorsteuerkreis und von diesem weg zu liefern, wobei der Kreis zur Erzeugung des Drehmoments einen Spannungsdetektor zum Erfassen einer Stufe der Versorgungsspannung und eines Zeitraums eines Spannungsabfalls beinhaltet, welcher Spannungsdetektor eine Information über den Spannungsabfall an die Steuerung liefert, die Steuerung eine Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung speichert, welche einen Spannungsabfall und einen Zeitraum dieses Spannungsabfalls unter einem momentanen Blackout hat, der innerhalb eines vorbestimmten Zeitraums ausgeräumt werden kann, und eine Drehsteuerungsmuster-Information des Motors entsprechend dieser Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung, und zwar im Vorhinein, und die Steuerung die Drehung des Motors beim Vergleichen der Information über den Spannungsabfall, der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und der Drehsteuerungsmuster-Information des Motors miteinander steuert.

Da die Drehantriebsvorrichtung einen Spannungsabfall während der Drehung des Motors erfassen kann und außerdem die Drehung des Motors entsprechend dem Spannungsabfall steuern kann, wenn er von dem momentanen Blackout herrührt, ist es möglich, eine Verlängerung des Antriebszeitraums des Motors zu unterdrücken, und es ist auch möglich, den Durchsatz der Vorrichtung zu verbessern.

Das zweite Merkmal der Erfindung besteht darin, dass, wenn der Spannungsdetektor während der beschleunigenden Drehung des Motors einen Spannungsabfall erfasst, die Steuerung Steuerungssignale der abbremsenden Drehung des Motors und der anschließenden Drehung des Motors bei einer konstanten Geschwindigkeit ausgibt.

Wenn ein Spannungsabfall während der beschleunigenden Drehung des Motors auftritt, wird daher die Drehung des Motors einmal abgebremst und anschließend auf einer konstanten Geschwindigkeit gehalten, auf der Grundlage der Steuerungssignale des Steuerungsmittels. Es ist möglich, das Auftreten von Schwingungen aufgrund des Stillstands des Motors zu unterdrücken. Daher wird es beispielsweise bei der Anwendung der Drehantriebsvorrichtung auf eine Bearbeitungsvorrichtung zum Halten von in einer Drehung zu bearbeitenden Objekten möglich, eine Beschädigung der Objekte zu reduzieren, die bearbeitet werden sollen.

Das dritte Merkmal der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass die Vorrichtung ein Drehsteuerungsmuster des Motors aufstellt, welches Bereiche einer beschleunigenden Drehung, einer konstanten Drehung mit hoher Geschwindigkeit sowie einer Einspritzdüse abbremsenden Drehung hat, wobei, wenn der Spannungsdetektor während der beschleunigenden Drehung des Motors einen Spannungsabfall erfasst, die Steuerung die folgenden Steuerungssignale ausgibt: abbremsende Drehung des Motors, anschließende Drehung des Motors bei konstanter Geschwindigkeit, und, nach der Wiederherstellung der Energieversorgung, beschleunigende Drehung des Motors.

Wenn ein Spannungsabfall auftritt während der beschleunigenden Drehung des Motors, wird daher die Drehung des Motors einmal abgebremst und anschließend auf einer konstanten Geschwindigkeit gehalten, auf der Grundlage der Steuerungssignale des Steuerungsmittels. Nach dem Wiederaufbau der Spannungsversorgung wird die Drehung des Motors wieder beschleunigt auf der Grundlage der Steuerungssignale des Steuerungsmittels. So ist es möglich, das Auftreten von Schwingungen aufgrund des Stillstands des Motors zu unterdrücken, und es ist auch möglich, die Drehsteuerung des Motors gemäß dem Drehsteuerungsmusters des Motors zu bewirken, das zuvor erstellt wurde. Demzufolge wird es beispielsweise bei der Anwendung der Drehantriebsvorrichtung auf eine Bearbeitungsvorrichtung, die zu bearbeitenden Objekte in der Drehung hält, möglich, eine Beschädigung der zu bearbeitenden Objekte zu vermindern, und es wird auch möglich, die Qualität der zu bearbeitenden Objekte zu verbessern.

Das vierte Merkmal der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass die Vorrichtung ein Drehsteuerungsmuster des Motors aufstellt, welches Bereiche einer beschleunigenden Drehung, einer konstanten Drehung der Motorgeschwindigkeit und einer abbremsenden Drehung hat, wobei, wenn der Spannungsdetektor während der beschleunigenden Drehung des Motors einen Spannungsabfall feststellt, das Steuerungsmittel die folgenden Steuerungssignale ausgibt: abbremsende Drehung des Motors, anschließende Drehung des Motors bei konstanter Geschwindigkeit, und, nach der Wiederherstellung der Energieversorgung, Kompensieren der beschleunigenden Drehung des Motors bei dem Spannungsabfall.

Wenn ein Spannungsabfall während der beschleunigenden Drehung des Motors auftritt, wird daher die Drehung des Motors einmal abgebremst und anschließend auf einer konstanten Geschwindigkeit gehalten, auf der Basis der Steuerungssignale des Steuerungsmittels. Nach dem Wiederaufbau der Spannungsversorgung wird die beschleunigende Drehung beim Spannungsabfall kompensiert auf der Basis der Steuerungssignale des Steuerungsmittels. Es ist möglich, das Auftreten von Schwingungen aufgrund des Stillstands des Motors zu unterdrücken, und es ist auch möglich, die beschleunigende Drehung beim Spannungsabfall zu kompensieren. Demzufolge wird es beispielsweise bei der Anwendung der Drehantriebsvorrichtung auf eine Bearbeitungsvorrichtung, die zu bearbeitenden Objekte in der Drehung hält, möglich, eine Beschädigung der zu bearbeitenden Objekte zu vermindern, und auch möglich, die Qualität der zu bearbeitenden Objekte zu verbessern.

Das fünfte Merkmal der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass die beschleunigende Drehung des Motors nach der Wiederherstellung der Energieversorgung ausgeführt wird durch Steigern eines Beschleunigungsverhältnisses der beschleunigenden Drehung des Motors in dem Drehsteuerungsmuster bis zu einem Endzeitpunkt der beschleunigenden Drehung des Motors in dem eingestellten Drehsteuerungsmuster.

Das sechste Merkmal der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass bei der Vorrichtung eingestellt ist, dass die beschleunigenden Drehung des Motors nach dem Wiederherstellung der Energieversorgung der beschleunigenden Drehung des Motors des eingestellten Drehsteuerungsmusters entspricht, und dass ein Zeitraum der konstanten Hochgeschwindigkeitsdrehung des Motors gleich einem Zeitraum der konstanten Hochgeschwindigkeitsdrehung des Motors in dem eingestellten Drehsteuerungsmuster ist, und ein Abbremsverhältnis der abbremsenden Drehung des Motors erhöht ist, so dass ein Endzeitpunkt der abbremsenden Drehung des Motors mit einem Endzeitpunkt der abbremsenden Drehung des Motors in dem eingestellten Drehsteuerungsmuster zusammenfällt.

Das siebte Merkmal der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass bei der Vorrichtung die beschleunigende Drehung des Motors nach der Wiederherstellung der Energieversorgung auf einer höheren Geschwindigkeit gehalten wird als die Geschwindigkeit der konstanten Hochgeschwindigkeitsdrehung des Motors in dem eingestellten Drehsteuerungsmuster, und nachdem der Motor bei der höheren Geschwindigkeit gedreht worden ist, der Motor abgebremst wird, um so mit einem Endzeitpunkt der abbremsenden Drehung des Motors in dem eingestellten Drehsteuerungsmuster zusammenzufallen.

Gemäß dem fünften, sechsten und siebten Merkmal der Erfindung ist es möglich, die Zuverlässigkeit der Vorrichtung weiter zu verbessern, da die Steuerung gemäß dem erstellten Drehsteuerungsmuster des Motors realisiert werden kann durch geeignetes Steuern eines Beschleunigungsverhältnisses der beschleunigenden Drehung nach dem Wiederaufbau der Spannungsversorgung, der Drehzahl, der Periode bzw. des Zeitraums etc. der konstanten Hochgeschwindigkeitsdrehung oder der abbremsenden Drehung nach dem Wiederaufbau der Spannungsversorgung.

Das achte Merkmal der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass bei der Vorrichtung, wenn der Spannungsdetektor einen Spannungsabfall während der beschleunigenden Drehung des Motors erfasst, die Steuerungsmittel die folgenden Signale ausgeben: abbremsende Drehung des Motors, anschließend Drehung des Motors bei konstanter Geschwindigkeit, und Anhalten der Drehung des Motors, wenn ein Zeitraum des momentanen Blackouts überschritten ist.

Wenn ein Spannungsabfall auftritt, wird so die Drehung des Motors einmal abgebremst und anschließend auf einer konstanten Geschwindigkeit gehalten, auf der Basis der Steuerungssignale des Steuerungsmittels. Nachdem die Zeit einen Zeitraum des momentanen Blackouts überschritten hat, wird die Drehung des Motors angehalten auf der Basis der Steuerungssignale des Steuerungsmittels. Bei dem Spannungsabfall aufgrund des Blackouts ist es daher möglich, das Auftreten von Schwingungen aufgrund des Stillstands des Motors zu unterdrücken. Außerdem ist es auch möglich, die Zuverlässigkeit der Vorrichtung zu verbessern.

Das neunte Merkmal der vorliegenden Erfindung besteht in dem Vorsehen einer Drehantriebsvorrichtung mit einem Motor, der sich zumindest bei einer hohen und einer geringen Geschwindigkeit dreht, einem Kreis zum Erzeugen eines Drehmoments des Motors mittels einer Versorgungsspannung von einer Energiequelle her, einem Motorsteuerkreis zum Steuern der Drehung des Motors, einem Drehzahlerfasser zum Erfassen einer Drehgeschwindigkeit des Motors und Übertragen eines Erfassungssignals an den Motorsteuerkreis, und einer Steuerung, um die Drehgeschwindigkeit des Motors und dessen Drehzahl an den Motorsteuerkreis und von diesem weg zu liefern, der Kreis zur Erzeugung des Drehmoments einen Spannungsdetektor beinhaltet zum Erfassen einer Stufe der Versorgungsspannung und eines Zeitraums des Spannungsabfalls, welcher Spannungsdetektor eine Information über den Spannungsabfall direkt an den Motorsteuerkreis übermittelt, der Motorsteuerkreis eine Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung speichert, mit einem Spannungsabfall und einem Zeitraum des Spannungsabfalls unter einem momentanen Blackout, der innerhalb eines vorbestimmten Zeitraums ausgeräumt werden kann, die Steuerung eine Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors entsprechend der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung speichert, welche Information über das Drehsteuerungsmuster zuvor an den Motorsteuerkreis ausgegeben worden ist, und der Motorsteuerkreis die Drehung des Motors auf der Grundlage eines Vergleichs der Information über den Spannungsabfall, der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und der Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors miteinander steuert.

Das zehnte Merkmal der vorliegenden Erfindung besteht in dem Vorsehen eines Drehantriebsverfahrens für eine Drehantriebsvorrichtung mit einem Motor, der zumindest bei einer hohen und einer niedrigen Geschwindigkeit dreht, einem Kreis zum Erzeugen eines Drehmoments des Motors mittels einer Versorgungsspannung von einer Energiequelle, und einem in diesem Kreis zur Erzeugung des Drehmoments angeordneten Spannungsdetektor, um eine Stufe der Spannungsversorgung und einen Zeitraum eines Spannungsabfalls zu erfassen, mit den folgenden Schritten: Speichern einer Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung mit dem Spannungsabfall und dem Zeitraum des Spannungsabfalls unter einem momentanen Blackout, der innerhalb eines vorbestimmten Zeitraums ausgeräumt werden kann, und Speichern einer Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors entsprechend dieser Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung, und zwar im vorhinein, und Erhalten einer von dem Spannungsdetektor erfassten Information über den Spannungsabfall und weiter Steuern der Drehung des Motors auf der Grundlage eines Vergleichs der Information über den Spannungsabfall, der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und der Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors miteinander.

Das elfte Merkmal der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass der Schritt des Vergleichens der Information über den Spannungsabfall, der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und der Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors miteinander ausgeführt wird mittels einer Steuerung, die dazu ausgestaltet ist, sowohl eine Drehgeschwindigkeit des Motors als auch dessen Drehzahl an einen Motorsteuerkreis auszugeben und von dort zu empfangen, um den Motor durch den Kreis zur Erzeugung des Drehmoments zu steuern.

Das zwölfte Merkmal der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass der Schritt des Vergleichens der Information über den Spannungsabfall, der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und der Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors miteinander ausgeführt wird mittels des Motorsteuerkreises zum Steuern des Motors durch den Kreis zur Erzeugung des Drehmoments.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

1 ist eine perspektivische Ansicht, die ein Wafer-Reinigungssystem zeigt, das eine Drehantriebsvorrichtung der vorliegenden Erfindung verwendet,

2 ist eine schematische Draufsicht des in 1 dargestellten Reinigungssystems,

3 ist eine Seitenansicht des in 1 dargestellten Reinigungssystems,

4 ist eine weitere Seitenansicht des in 1 dargestellten Reinigungssystems,

5 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Rotor zeigt, welcher einen Servomotor der vorliegenden Erfindung verwendet,

6A, 6B, 6C und 6D sind erläuternde Ansichten, die Bewegungszustände des Rotors zeigen,

7 ist eine Schnittansicht eines Verwendungszustands des Rotors,

8 ist ein Blockdiagramm, das einen Steuerungsbereich des Servomotors darstellt, welcher den Rotor antreibt,

9 ist ein Graph, der die Beziehung zwischen einer Nennspannung und einem Spannungsabfall des Servomotors zeigt,

10A, 10B und 10C sind Graphen, die ein Beispiel von Antriebsmustern des Servomotors zeigen, wobei 10A eine Beziehung zwischen einer Drehgeschwindigkeit und der Zeit bei einem Drehsteuerungsmuster in einem normalen Zustand zeigt, 10B eine Beziehung zwischen einer Spannung, die teilweise einen Spannungsabfall beinhaltet, und der Zeit zeigt, und 10C ein Graph ist, der eine Beziehung zwischen einer Drehgeschwindigkeit, die den Spannungsabfall hat, und der Zeit zeigt,

11A, 11B und 11C sind Graphen, die jeweils Beziehungen zwischen der Drehgeschwindigkeit und der Zeit in den anderen Drehsteuerungsmustern des Servomotors zeigen, und

12 ist ein Blockdiagramm, das ein weiteres Beispiel des Steuerungsbereichs des Servomotors zeigt, welcher den Rotor antreibt.

BEVORZUGTE AUSFÜHRUNGSFORMEN ZUM VERKÖRPERN DER ERFINDUNG

Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden im folgenden genau mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen beschrieben. Hier erläutert wird die Anwendung der Drehantriebsvorrichtung der vorliegenden Erfindung auf ein Reinigungssystem, das den Transport, die Reinigung und das Trocknen von Halbleiterwafern (im folgenden als "Wafer" bezeichnet) konsistent und in Chargen ausführt (Batch-System).

Wie in den 1 bis 4 dargestellt, besteht das oben beschriebene Reinigungssystem 1 hauptsächlich aus einem FOUP-Ein- und Ausladebereich 2, der mit FOUP-Stufen 2a bis 2c zum Anbringen von FOUPs F (FOUP: Front Opening Unified Pod) versehen ist, in welchen jeweils eine Vielzahl von Wafern W aufgenommen werden kann; aus einer Reinigungseinheit 3 zum Ausführen eines Reinigungsvorgangs der Wafer W; aus einer Wafer-Beförderungseinheit 4, die zwischen dem FOUP-Ein- und Ausladebereich 2 und der Reinigungseinheit 3 vorgesehen ist, um einen Transport der Wafer W zu bewirken; und einer Chemikalien-Aufbewahrungseinheit 4 zum Aufbewahren einer chemischen Flüssigkeit für den Reinigungsvorgang.

Außerdem ist im oberen Bereich der Reinigungseinheit 3 eine Energieversorgungsbox 6 für verschiedene Arten von elektrischen Antriebsmechanismen und elektronische Steuerungseinheiten in dem Reinigungssystem 1 vorgesehen und eine Temperatursteuerungsbox 7 zum Steuern der Temperaturen der jeweiligen Einheiten, die das Reinigungssystem 1 bilden. Wiederum ist in dem oberen Bereich der Wafertransfereinheit 4 eine Displaybox 9 zum Steuern verschiedener Arten von Anzeigetafeln in dem Reinigungssystem 1 vorgesehen und eine Steuerungsbox 10 für den Transfermechanismus, in welcher sich eine Steuerungseinheit für einen Wafertransfermechanismus 16 in der Wafertransfereinheit 4 befindet. Außerdem ist in dem oberen Bereich der Chemikalien-Aufbewahrungseinheit 5 eine Hitzeauslassbox 8 zum Sammeln von Ablasswärme der jeweiligen Boxen und Ableiten dieser Wärme vorgesehen.

Die an den FOUP-Stufen 2a bis 2c anzubringenden FOUP F ist so ausgebildet, dass sie die Aufnahme einer Vielzahl von Wafern W, beispielsweise von fünfundzwanzig Wafern, in vorbestimmten Abständen ermöglicht, während die jeweiligen Vorder- und Rückseiten der Wafer in einer horizontalen Anordnung gehalten werden. Die FOUP F ist an einer Seite mit einer Wafer-Ein- und Ausladeöffnung zum Ein- und Ausladen der Wafer W versehen. Die FOUP F ist ausgestattet mit einem Deckelkörper 11 zum Öffnen und Verschließen der Wafer-Ein- und Ausladeöffnung. Dieser Deckelkörper 11 ist so ausgebildet, dass er an der FOUP F anbringbar und von ihr lösbar ist dank eines Öffnungs- und Schließmechanismus 15 für den Deckelkörper, der noch später erwähnt ist.

Fensterbereiche 12a bis 12c sind in einer Trennwand 12 zwischen der Wafertransfereinheit 12 und dem FOUP-Ein- und Ausladebereich 2 vorgesehen. Außenumfangsbereiche der Wafer-Ein- und Ausladeöffnungen, die in den FOUPs F ausgebildet sind, verschließen die Fensterbereiche 12a bis 12c. Die FOUPs F sind an den FOUP-Stufen 2a bis 2c unter der Bedingung angebracht, dass die Öffnungs- und Schließmechanismen 15 für die Deckelkörper ein lösbares Anbringen der Deckelkörper 11 an den FOUPs ermöglichen (siehe 4).

Innerhalb der Trennwand 12 (in der Wafertransfereinheit 4) sind bei jeweiligen Positionen der Fensterbereich 12a bis 12c die Öffnungs- und Schließmechanismen 15 für die Deckelkörper vorgesehen, mit Verschlüssen 13a bis 13c zum Öffnen und Schließen der Fensterbereiche 12a bis 12c und Anhebemechanismen zum Bewegen der Verschlüsse 13a bis 13c nach oben und unten, beispielsweise Luftzylinder 14. Die Öffnungs- und Schließmechanismen 15 für die Deckelkörper sind ausgestattet mit nicht dargestellten Mitteln zum Ergreifen der Deckelkörper, beispielsweise Absorptionskissen, wodurch die Deckelkörper 11 der FOUPs F sich zusammen mit den Verschlüssen 13a bis 13c nach oben und unten bewegen können.

In der Wafertransfereinheit 4 ist ein Wafer-Erfassungsmechanismus 110 zum Zählen der Anzahl von Wafern W in der FOUP F so angeordnet, dass er an jeden der Öffnungs- und Schließmechanismen 15 für die Deckelkörper angrenzt. Dieser Wafer-Erfassungsmechanismus 110 ist ausgestattet mit einem opaken Lichtsensor 111, der besteht aus eine Emitter, der beispielsweise eine Infrarotlaser verwendet, und einem Empfänger. Während der opake Lichtsensor 111 dazu gebracht wird, hin zu einer Z-Richtung (einer vertikalen Richtung) entlang einer Führung 112 mittels eines Motors 113 abzutasten (Abtastbewegung), wird die Emission eines Infrarotlasers hin zu den Wafern W ausgeführt, während von den Endflächen der Wafer W reflektiertes Licht empfangen wird. Demzufolge wird es möglich, die Anzahl der Wafer W zu erfassen, die in der FOUP F aufgenommen sind, und auch ihre Anordnungszustände, beispielsweise ob die Wafer W in der FOUP in vorbestimmten Abständen untergebracht sind und zueinander parallel sind oder nicht, ob zwei Wafer W einander überlappen, ob die Wafer in der FOUP schräg zu ihrer Abweichung auf Stufen angeordnet sind, ob Wafer W von einer vorbestimmten Position in der FOUP F hervorstehen, etc.

Beim Anbringen des Wafer-Erfassungsmechanismus 110 an dem Wafertransfermechanismus 16, damit der Wafer-Erfassungsmechanismus 110 zusammen mit dem Wafertransfermechanismus 16 beweglich ist, braucht der Wafer-Erfassungsmechanismus 110 nur an einer Position angeordnet zu sein. Alternativ können beispielsweise ein Sensor zum Erkennen der Anzahl von Wafern W, die untergebracht sind, und ein Sensor zum Erfassen des Zustands der Wafer W, die untergebracht sind, unabhängig voneinander angeordnet sein. Der Wafer-Erfassungsmechanismus 110 kann auch an dem Öffnungs- und Schließmechanismus 15 für den Deckelkörper angebracht sein.

An dem Deckel der Wafertransfereinheit 4 ist eine Filter/Belüftereinheit (FFU) 24a vorgesehen, um die Wafertransfereinheit 4 mit frischer Luft zu versorgen. Unter der Bedingung, dass die Fensterbereiche 12a bis 12c geöffnet sind, strömt ein Teil der herabströmenden Luft von dieser FFU 24a auswärts über die Fensterbereiche 12a bis 12c und in die FOUPs F hinein, die an den FOUP-Stufen 2a bis 2c angebracht sind. Da die Wafer W in den FOUPs F mit frischer Luft versorgt werden, wird demzufolge verhindert, dass Partikel an den Wafern W anhaften. Wenn ein Ionisierer (nicht dargestellt) in einem unteren Bereich der FFU 24a vorgesehen ist, wird es übrigens möglich, elektrische Ladungen von dem Wafern W zu entfernen.

Der Wafertransfermechanismus 16 in der Wafertransfereinheit 4 beinhaltet einen Linear-Antriebsmechanismus 19 mit einer Führung, der sich in einer horizontalen X-Richtung erstreckt, eine Vielzahl von Klemmen, beispielsweise fünfundzwanzig Transferklemmen 17a, 17b, von denen jede einen Wafer W hält, Halterungen 18a, 18b, die die jeweiligen Transferklemmen 17a, 17b halten, einen Schiebemechanismus 20 zum Bewegen der Transferklemmen 17a, 17b und der Halterungen 18a, 18b in der horizontalen Richtung (Längsrichtung der Transferklemmen 17a, 17b), einen Tisch 21, der eine Drehung des Schiebemechanismus 21 in einer horizontalen Ebene ermöglicht, einen Drehmechanismus 22 zum Verdrehen (Verkippen) des Tisches 21 sowie einen Anhebemechanismus, beispielsweise einen Luftzylinder 23, zum Bewegen einer oberen Teils oberhalb des Drehmechanismus 22 nach oben und unten. Ein Servomotor (eine Drehantriebsvorrichtung), welcher eine Drehantriebsquelle für einen später noch erwähnten Rotor 36 ist, steht zur Verfügung für eine Drehantriebsquelle für den Drehmechanismus 22 etc., der diesen Wafertransfermechanismus 16 bildet.

Wie oben erwähnt, ist es, da der Wafertransfermechanismus 16 beispielsweise mit den Transferklemmen 17a, 17b in zwei Verzweigungen versehen ist, möglich, die Transferklemmen 17a so einzusetzen, dass unbearbeitete Wafer W befördert werden, und die anderen Transferklemmen 17b dazu einzusetzen, bearbeitete Wafer W zu befördern. Demzufolge ist es möglich, das Auftreten einer Situation zu verhindern, dass Partikel, etc., die an den unbearbeiteten Wafern W angehaftet waren, an dem Transferarm anhaften und anschließend an den bearbeiteten Wafern W. Da das Vorsehen der Transferklemmen 17a, 17b in den zwei Verzweigungen außerdem eine Beförderung der nächsten unbearbeiteten Wafer W zu der Reinigungseinheit 3 unmittelbar nach dem Aufnehmen der bearbeiteten Wafer W von der Reinigungseinheit 3 ermöglichen, ist es möglich, den Durchsatz zu verbessern.

Beim Befördern des Wafers W zwischen der FOUP F oder dem später erwähnten Rotor 36 und den Transferklemmen 17a, 17b ist es notwendig, die Transferklemmen 17a, 17b um einen vorbestimmten Abstand aufwärts und abwärts zu bewegen. Dieser Anhebevorgang der Transferklemmen 17a, 17b kann mittels des Anhebemechanismus 23 ausgeführt werden. Alternativ können Anhebemechanismen zum Bewegen der Transferklemmen 17a, 17b aufwärts und abwärts in den jeweiligen Halterungen 18a, 18b vorgesehen sein.

Dank des Wafertransfermechanismus 16, der wie oben beschrieben aufgebaut ist, können die Transferklemmen 17a, 17b Zugang zu jeder FOUP F haben, die an den FOUP-Stufen 2a bis 2c angebracht ist, und zu dem Rotor 36, so dass der Wafer W zwischen der an den FOUP-Stufen 2a bis 2c angebrachten FOUP F und dem Rotor 36 befördert werden kann, während der Wafer W horizontal gehalten wird.

Zusätzlich könnte, da der Wafertransfermechanismus 16 die Transferklemmen 17a, 17b punktsymmetrisch zueinander um den Drehmittelpunkt des Tisches 21 herum angeordnet hat, um den Tisch 21 unter der Bedingung keiner Erstreckung oder Verlängerung des Schließmechanismus 20 zu drehen, einen Bereich von Spuren der Transferklemmen 17a, 17b bei der Drehung verengen, selbst wenn die Transferklemmen 17a, 17b die Wafer W halten. So ist es möglich, einen Raum zu vermindern, der von der Wafertransfereinheit 4 in dem Reinigungssystem 1 eingenommen wird.

Eine Trennwand 25 zwischen der Wafertransfereinheit 4 und der Reinigungseinheit 3 ist mit einem Fensterbereich 25a zum Transport der Wafer W versehen. Dieser Fensterteil 25a ist so ausgestaltet, dass er sich öffnet und schließt durch einen Verschluss 26, der aufwärts und abwärts beweglich ist aufgrund eines Anhebemechanismus, beispielsweise eines Luftzylinders 26b (siehe 2 bis 4). In diesem Fall ist der Verschluss 26 auf der Seite der Wafertransfereinheit 4 angeordnet. Alternativ kann der Verschluss auch auf der Seite der Reinigungseinheit 3 angeordnet sein.

Mit dem oben beschriebenen Aufbau ermöglicht die Anwesenheit des Verschlusses 26a, dass eine Atmosphäre in der Wafertransfereinheit 4 und dergleichen in der Reinigungseinheit 3 voneinander getrennt sind. Daher ist es beispielsweise, selbst wenn eine Reinigungsflüssigkeit in der Reinigungseinheit 3 verspritzt wird oder selbst wenn Dampf der Reinigungsflüssigkeit in der Reinigungseinheit diffundiert, möglich, zu verhindern, dass sich die Verunreinigung bis zu der Wafertransfereinheit 4 ausbreitet.

Dabei ist die Reinigungseinheit 3 hauptsächlich durch einen Transferbereich 3A und einen Reinigungsbereich 3b ausgebildet. Der Transferbereich 3A ist an seiner Decke mit einer Filterbelüftereinheit (FFU) 24b versehen, die den Transferbereich 3A mit frischer Luft versorgt, da sie Partikel daraus entfernt. Wenn nur ein Ionisierer (nicht dargestellt) an dem unteren Bereich der FFU 24b vorgesehen wird, so wird es möglich elektrische Ladungen von den Wafern W zu entfernen.

In dem Transferbereich 3A gibt es einen Rotordrehmechanismus 31, einen Mechanismus 32 zum Steuern einer Haltung des Rotordrehmechanismus 31, einen Vertikalantriebsmechanismus 33 zum Bewegen des Rotordrehmechanismus 31 und des Haltungs-Veränderungsmechanismus 32 zu einer vertikalen Richtung, einen Horizontalantriebsmechanismus 34 zum Bewegen des Vertikalantriebsmechanismus 33 in einer horizontalen Richtung, eine Abdeckung 35a, um zu verhindern, dass Partikel, die in dem Haltungs-Veränderungsmechanismus 32 und dem Vertikalantriebsmechanismus 33 erzeugt werden und in Richtung des Rotordrehmechanismus 31 fliegen, an den Wafern W anhaften, und eine Abdeckung 35b, um zu verhindern, dass Partikel, die in dem Vertikalantriebsmechanismus 33 erzeugt werden und in Richtung des Rotordrehmechanismus 31 fliegen, an den Wafern W anhaften.

Der Rotordrehmechanismus 31 weist einen Rotor 36 auf, der es ermöglicht, die Wafer W in vorbestimmten Abständen zu halten, einen Servomotor 30 als die Drehantriebsvorrichtung der vorliegenden Erfindung, welche den Rotor 36 so dreht, dass eine Drehung der mittels des Rotors 36 gehaltenen Wafer W in einer Ebene möglich wird, einen Verbindungsbereich 37 in Verbindung mit dem Mechanismus 32 zum Verändern der Haltung, einen Deckelkörper 40, der eine in einer äußeren Kammer 38a ausgebildete Rotor-Ein- und Ausladeöffnung 39 verschließt, wenn der Rotor 36 in die später erwähnte äußere Kammer 38a eingesetzt wird, und eine sich drehende Welle 31 (siehe 5 und 7), die den Verbindungsteil 37 und den Deckelkörper 40 durchdringt, um den Rotor 36 mit dem Servomotor 30 zu verbinden.

Wie in 5 dargestellt, beinhaltet der Rotor 36 ein Paar Scheiben 42a, 42b, die so angeordnet sind, dass sie einen gewissen Raum zwischen sich belassen, Halteelemente 43a mit Nuten etc., die zum Halten der Wafer W ausgebildet sind, öffen- und schließbare Halterungen 43b mit Nuten etc. ähnlich denen der Halteelemente 43a, und Arretierstifte 43c zum Steuern, ob die Halter 43b öffnen und schließen können oder nicht.

Wie in den 3 und 4 dargestellt, beinhaltet ein Halter-Öffnungs- und Schließmechanismus 44, der einen Öffnen und Schließvorgang der Halter 43b ausführt, einen Arretierstift Druckzylinder 45, der in den Trennwand 25 angeordnet ist, sowie einen Halter-Öffnungs- und Schließzylinder 46. Die Trennwand 25 ist in ihrem Bereich, der den Halter-Öffnungs- und Schließmechanismus 44 hat, mit einer Abdeckung 47 versehen. Daher ist die Wafertransfereinheit 4 isoliert von der Reinigungseinheit 3.

In diesem Fall ist die Scheibe 42b an der sich drehenden Welle 41 durch Fixiermittel wie beispielsweise Schraube 48 fixiert. Durch Fixieren der Halteelemente 43a an den Scheiben 42a, 42b von ihrer Außenseite her durch Fixiermittel wie beispielsweise Schrauben sind die Halteelemente 43a zwischen den 42a, 42b eingebaut. In einem normalen Zustand nehmen beispielsweise die Arretierstifte 43c ihre nach außen hervorstehenden Positionen ein, so dass die Öffnung und Schließung der Halter 43b nicht möglich ist. Wenn andererseits die Arretierstifte 43a gegen das Innere des Rotors durch den Druck des Arretierstift-Druckzylinders 45 des Halter-Öffnungs- und Schließmechanismus 44 gedrückt werden, um so Zugang zu dem Rotor 36 zu haben, werden die Halter 43b in öffen- und schließbare Zustände gebracht aufgrund des Halter-Öffnungs- und Schließzylinders 46.

Unter der Bedingung, dass die Halter 43b geöffnet sind, können die Wafer W zwischen dem Rotor 36 und den Transferklemmen 17a, 17b befördert werden. Wenn dagegen die Halter 43b geschlossen sind, werden die Wafer W in dem Rotor 36 in einem Zustand gehalten, dass die Wafer W nicht aus dem Rotor 36 heraus hervorstehen.

In der Position, in welcher die Wafer W zwischen dem Rotor 36 und den Transferklemmen 17a, 17b befördert werden können, ist der Halter-Öffnungs- und Schließmechanismus 44 drehbar zwischen seiner in 3 dargestellten zurückgezogenen Position und der in 4 dargestellten Betriebsposition, so dass der Arretierstift-Drückzylinder 45 und der Halter-Öffnungs- und Schließzylinder 46 zu den Arretierstiften 43c bzw. den Haltern 43b Zugang haben können. Um das oben erwähnte Öffnen und Schließen der Halter 43b zu erreichen, ist der Arretierstift-Drückzylinder 45 mit einem Drückermechanismus ausgestattet, der in seiner Bearbeitungsposition ein Hineindrücken der Arretierstifte 43c in den Rotor 46 erlaubt. Dagegen ist der Halter-Öffnungs- und Schließzylinder 46 operativ so aufgebaut, dass er zu den Haltern 43b außerhalb der Scheibe 42a Zugang hat, um die Halter 43b zu öffnen oder zu schließen.

Um die Halter 43b gemäß den Betriebsformen der Halter 43b, der Arretierstifte 43c und des Halter-Öffnungs- und Schließmechanismus 44 zu öffnen und zu schließen, wird beispielsweise zunächst der Halter-Öffnungs- und Schließmechanismus 44 aus der zurückgezogenen Position in die Betriebsposition gebracht, in anderen Worten gegen den Rotor 36, und dann wird ein Zustand beibehalten, wo die Arretierstifte 43c in den Rotor 36 hineingedrückt sind durch den Arretierstift-Drückzylinder 45. In diesem Zustand wird der Halter-Öffnungs- und Schließzylinder 46 betätigt, um die Halter 43b zu öffnen. Demzufolge wird es möglich, die Wafer W ein- und auszuladen.

Nach der Beendigung des Ein- und Ausladens des Wafers W werden die Halter 43b geschlossen, und anschließend wird der Druck des Arretierstift-Drückzylinders 45 abgelassen, um den Zustand abzudecken, wo die Arretierstifte 43c von der Scheibe 42a hervorstehen, in anderen Worten werden die Halter 43b arretiert. Außerdem wird der Halter-Öffnungs- und Schließmechanismus 44 in die zurückgezogene Position zurückgestellt.

Ein Mechanismus 32 zum Steuern der Haltung des Rotordrehmechanismus 31 beinhaltet eine sich drehende Welle 51, die an dem Verbindungsbereich 37 des Rotordrehmechanismus 31 befestigt ist, und einen Drehmechanismus 50 zum Drehen der sich drehenden Welle 41 in einer vertikalen Richtung. In diesem Fall ist die sich drehende Welle 50 mit beispielsweise einem Servomotor ausgestattet. Dank des Drehmechanismus 50 ist es möglich, den gesamten Rotordrehmechanismus 31 in einer Haltung (einer vertikalen Haltung) zu halten, wo die Wafer W in dem horizontalen Zustand gehalten sind, wie in 3 oder 4 dargestellt. Außerdem ermöglicht, wie in den 6B, 6C und 6D dargestellt, der Drehmechanismus eine Veränderung der oben beschriebenen Haltung hin zu einer Haltung (einer horizontalen Haltung), wo die Wafer W in dem vertikalen Zustand gehalten sind.

Der Vertikal-Antriebsmechanismus 33 ist ausgebildet durch einen Kugelumlaufmechanismus, der beispielsweise besteht aus einem gegendrehbaren Motor 52, gebildet durch einen Servomotor, einer vertikalen Schraubenwelle 53, die mittels des Motors 52 gedreht wird und sich in der vertikalen Richtung erstreckt, und einem vertikalen sich bewegenden Block 54, der an dem Drehmechanismus 50 des Mechanismus 32 zum Verändern der Haltung angebracht ist und weiter mit der vertikalen Schraubenwelle 53 durch eine Anzahl von Kugeln (nicht dargestellt) verschraubt ist. In diesem Fall ist der vertikale sich bewegende Block 54 gleitend mit einer Vertikalführung 55 zusammengepasst, die parallel mit der vertikalen Schraubenwelle 53 angeordnet ist. Die Vertikalführung 55 ist mittels eines Lagerungskörpers 56 gelagert.

In dem so aufgebauten Vertikalantriebsmechanismus 33 dreht sich die Vertikalschraubenwelle 53, wenn der Motor 52 gedreht wird. Mit der Drehung der Vertikalschraubenwelle 53 können sich dann der Mechanismus 32 zum Verändern der Haltung und der Rotordrehmechanismus 31 in der vertikalen Richtung (der Z-Richtung) entlang der Vertikalführung 55 um einen vorbestimmten Abstand zusammen mit dem vertikalen Block 54 bewegen.

Der Horizontalantriebsmechanismus 34 beinhaltet ein Paar Horizontalführungen 57, die sich in der horizontalen Richtung erstrecken, einen gegendrehbaren Motor (nicht dargestellt), der beispielsweise durch einen Servomotor gebildet wird, eine horizontalen Schraubenwelle 59, die mit dem Motor verbunden ist, einen horizontalen sich bewegenden Block 60 der mit der Horizontal-Schraubenwelle 59 durch eine Anzahl von Kugeln (nicht dargestellt) verschraubt ist, und ein Verbindungselement 61, das gleitbar mit den Horizontalführungen 57 zusammengepasst ist und den horizontalen sich bewegenden Block 60 mit dem Lagerungskörper 56 verbindet.

In dem so aufgebauten Horizontal-Antriebsmechanismus 34 dreht sich, wenn der Motor gedreht wird, die Horizontal-Schraubenwelle 53, so dass der horizontale sich bewegende Block 60 sich in der horizontalen Richtung (der X-Richtung) mit der Drehung der Horizontal-Schraubenwelle 59 bewegt. Dann bewegen sich auch das Verbindungselement 61 und der Lagerungskörper 56 in der X-Richtung zusammen mit dem horizontalen sich bewegenden Block 60, da das Verbindungselement 61 den horizontalen sich bewegenden Block 60 mit dem Lagerungskörper 56 verbindet. Das heißt, wenn sich der horizontale sich bewegenden Block 60 in der X-Richtung bewegt, bewegen sich der Rotordrehmechanismus 31, der Mechanismus 32 zum Verändern der Haltung und auch der Vertikalantriebsmechanismus 33 gleichzeitig in der X-Richtung.

Die 6A bis 6D sind erläuternde Ansichten, die ein Beispiel eines Modus zum Antreiben des Rotordrehmechanismus 31 unter Verwendung des Mechanismus 32 zum Verändern der Haltung, des Vertikalmechanismus 33 und des Horizontal-Antriebsmechanismus 34 zeigen. Die 6A bis 6D veranschaulichen jeweils Zustände (Haltungen) des Rotordrehmechanismus 31, wenn der Verbindungsbereich 37 des Rotordrehmechanismus 31 in den Positionen P1 bis P4 positioniert ist. Hier beschrieben, um den Rotor 36, der die Wafer W trägt, in die Kammer 38 einzubringen, ist ein Beispiel der Bewegung des Rotordrehmechanismus 31 so, dass der Verbindungsbereich 37 sich aus der Position P1 in die Position P4 bewegt.

Zunächst ist, wenn der Verbindungsbereich 37 sich in der Position P1 befindet, der Rotordrehmechanismus 31 in einer Position angeordnet, in der die Wafer W zwischen dem Rotor 36 und dem Wafertransfermechanismus 16 befördert werden können. Dann ist der Rotordrehmechanismus 31 in einem Zustand der vertikalen Haltung. Unter der Bedingung, dass die Wafer W in dem Rotor 36 aufgenommen sind, wird zunächst der Vertikalantriebsmechanismus 33 betätigt, so dass der Rotordrehmechanismus 31 und der Mechanismus 32 zum Verändern der Haltung angehoben werden, so dass der Verbindungsbereich 37 die Position P2 erreicht. In der Position P2 wird durch Betätigen des Mechanismus 32 zum Verändern der Haltung der gesamte Rotordrehmechanismus 31 um 90 Grad gedreht, so dass die Wafer W aus der vertikalen in die horizontale Anordnung gebracht werden können, so dass der gesamte Rotordrehmechanismus 31 in die horizontale Haltung gebracht wird.

Durch erneutes Betätigen des Vertikalantriebsmechanismus 33 wird dann der gesamte Rotordrehmechanismus 31 in der horizontalen Haltung angehoben, so dass der Verbindungsbereich 37 die Position P3 erreicht. Auf diese Art und Weise ist es durch Ausführen einer Veränderung der Haltung des Rotordrehmechanismus 31 in der Position P2, d. h. in der Mitte des Verlaufs des Anhebens des Rotordrehmechanismus 31, möglich, sicherzustellen, dass der Rotordrehmechanismus 31 sich in einem engen Raum dreht, verglichen mit einer Situation des Drehens der Rotordrehmechanismus 31 dann, wenn sich der Verbindungsbereich 37 in der Position P1 oder P3 befindet. Demzufolge wird es möglich, einen von dem Transferbereich 3A eingenommenen Raum zu vermindern.

Nachdem der Verbindungsbereich 37 die Position P3 erreicht hat, wird der Horizontal-Antriebsmechanismus 34 betätigt, um den Verbindungsbereich 37 horizontal bis zu der Position P4 zu bewegen. Wenn der Verbindungsbereich 37 die Position P4 eingenommen hat, kann der Rotor 36 in die Kammer 38 hineingebracht werden, so dass die Ausführung des Reinigungsvorgangs möglich wird. So kann der Rotor 36 aus der Beförderungsposition mit dem Wafertransfermechanismus 16 hin zu dem Reinigungsbereich bewegt werden. Bei dem Reinigungsbereich wird dann der Reinigungsvorgang, in welchem eine Reinigungsflüssigkeit wie beispielsweise eine chemische Flüssigkeit zu den Wafern W geleitet wird, ausgeführt, während der Rotor 36 durch Antreiben des Servomotors 30 gedreht wird. In diesem Fall wird der Servomotor 30 so angesteuert, dass er bei einer vorbestimmten hohen Drehzahl, beispielsweise 100 bis 3000 U/min, oder bei einer vorbestimmten niedrigen Drehzahl, beispielsweise 1 bis 500 U/min, drehbar ist, und zwar selektiv und wiederholt auf der Grundlage eines in einem Steuerungsmittel wie beispielsweise einem Host 70 gespeicherten Programm. In diesem Fall wird übrigens, obwohl die Zahl der niedrigen Drehgeschwindigkeit sich mit der Zahl der hohen Drehgeschwindigkeit teilweise überlappt, entweder die Drehung bei niedriger Drehzahl oder die Drehung bei hoher Drehzahl entsprechend der Viskosität einer chemischen Flüssigkeit ausgeführt. Im Falle einer gleichmäßigen chemischen Flüssigkeit überlappt die Anzahl der Drehung mit geringer Drehzahl sich nicht mit der Zahl der Drehung mit hoher Drehzahl (das gleiche gilt auch für die nun folgenden Beschreibungen). Der Ausdruck "Drehung mit geringer Drehzahl" bedeutet hier eine geringe Drehzahl verglichen mit der Zahl der Umdrehungen, bei welcher eine Zentrifugalkraft eine chemische Flüssigkeit in Kontakt mit den Wafern W abwirft. Der Ausdruck "hohe Drehzahl" bedeutet dagegen eine hohe Geschwindigkeit verglichen mit der Drehzahl, bei welcher eine zugeleitete chemische Flüssigkeit in Kontakt mit den Wafern W sein kann und ausreichend mit den Wafern W reagieren kann.

Wie oben erwähnt, führt der Servomotor 30 die vorbestimmte Drehung mit hoher Drehzahl (beispielsweise 100 bis 3000 U/min) und die Drehung mit der vorbestimmten niedrigen Drehzahl (beispielsweise 1 bis 500 U/min) selektiv und wiederholt auf der Grundlage des vorher gewählten Programms aus. Wenn jedoch eine Spannungsversorgung des Servomotors 30 während des Betriebs (beispielsweise bei einer beschleunigenden Drehung oder Drehung mit hoher Drehzahl) abgebrochen wird und die Drehung demzufolge angehalten wird, tritt die Möglichkeit auf, dass die Wafer W beschädigt werden aufgrund von Schwingungen etc., und eine Antriebszeit und außerdem auch ein Bearbeitungszeitraum wird verlängert.

Gemäß dem Servomotor 30 der vorliegenden Erfindung wird daher seine Drehung gesteuert in Übereinstimmung mit einem solchen Spannungsabfall während der Antriebs, um eine Beschädigung der Wafer W zu unterdrücken und außerdem auch eine Verlängerung des Antriebszeitraums (Bearbeitungszeitraums) zu unterdrücken.

Die Struktur des Servomotors 30 wird nun genau mit Bezug auf die 8 bis 10 beschrieben. 8 ist ein Blockdiagramm, das einen Antriebsbereich der Servomotors 30 zeigt.

Der Antriebsbereich des oben beschriebenen Servomotors 30 besteht hauptsächlich aus einem Servoverstärker 74, der aus einem Drehmomenterzeugungskreis 72 zum Erzeugen eines Drehmoments des Servomotors 30 durch eine von einer Energiequelle 71 her zugeleitete Spannung besteht und einem Motorsteuerkreis 73 zum Steuern der Drehung des Servomotors 30, einem Drehungserfasser 75 als einem Drehungserfassungsmittel, der die Drehzahl des Servomotors 30 erfasst und ein Erfassungssignal bei der Erfassung an den Motorschaltkreis 73 ausgibt, und die Host-Steuerung 70 als Steuerungsmittel, das die Drehgeschwindigkeit des Motors und die Drehzahl an den Motorsteuerkreis 73 ausgibt und von dort eingibt (liefert). Ein Monitor 77 und ein PC 78 können mit dem Motorsteuerkreis 73 des Servoverstärkers 74 verbunden sein.

In diesem Fall ist der Servoverstärker 74 in dem Drehmoment-Erzeugungskreis 72 mit einem Kondensator 76 als Spannungserfassungsmittel versehen, das eine Stufe der Versorgungsspannung und einen Zeitraum des Spannungsabfalls erfasst. Eine solche von dem Kondensator 74 erfasste Information über den Spannungsabfall (d. h. elektrische Ladung, die in dem Kondensator 76 gesammelt wird) wird an die Host-Steuerung 70 ausgegeben.

Dabei war die Host-Steuerung 70 zuvor so ausgestaltet, dass sie eine Information über den Wiederaufbau der Energieversorgung nach einem Spannungsabfall und dessen Zeitraum unter einem momentanen Blackout gespeichert hat, der innerhalb eines vorbestimmten Zeitraums (beispielsweise 0,05 bis 1 sec) wiederherstellbar war, und eine Drehsteuerungsmuster-Information des Motors entsprechend dieser Information über die Wiederherstellung der Spannungsversorgung gespeichert hat. Wenn weiter die Information über den Spannungsabfall mit der Information über die Wiederherstellung der Spannungsversorgung mit der Drehsteuerungsmuster-Information des Motors verglichen wird, ist die Host-Steuerung 70 so ausgebildet, dass sie eine Steuerung der Drehzahl des Servomotors 30 auf der Grundlage von Steuerungssignalen als ein Ergebnis dieses Vergleichs ermöglicht.

Alternativ könnte eine ähnliche Verarbeitung auch durch die folgenden Schritte erzielt werden: indem die Host-Steuerung 70 dazu gebracht wird, nur die Drehsteuerungsmuster-Information des Motors zu speichern; indem die Drehsteuerungsmuster-Information zuvor zu dem Motorsteuerkreis 73 geleitet wird; indem der Motorsteuerkreis 73 ebenfalls dazu gebracht wird, nur die Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung zu speichern; und, wie in 12 gezeigt, indem die von dem Kondensator 76 erfasste Information über den Spannungsabfall hin zu dem Motorsteuerkreis 73 geleitet wird.

Die "Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung", welche von SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) standardisiert ist, wird hier bewirkt durch Umwandeln der folgenden Inhalte in Signal: selbst wenn die Spannung auf 50% in dem Verhältnis der Spannung zu einer Nennspannung bei einem momentanen Blackout innerhalb eines vorbestimmten Bereichs der 9 abgesenkt wird und wenn sich ein solcher Spannungsabfall nur in dem Bereich von 0,2 sec befindet, dann kann der Antrieb des Motors aufrecht erhalten werden; und selbst wenn die Spannung sich auf 705 in der obigen Situation vermindert und wenn nur ein solcher Spannungsabfall in dem Bereich von 0,5 sec liegt, dann kann der Antrieb des Motors aufrecht erhalten werden. Obwohl dies außerhalb des vorgeschriebenen Bereichs liegt, ermöglicht selbst dann, wenn die Spannung sich auf 80% vermindert, der Spannungsabfall im Bereich von 10 sec, dass der Motor kontinuierlich angetrieben wird. Die Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung ist nicht immer beinhaltet indem oben beschriebenen vorgeschriebenen Bereich und kann auch so erstellt sein, dass sie eine Situation beinhaltet, in der die Spannung auf 80% vermindert ist.

Im folgenden beschreiben wird ein Beispiel der Drehsteuerungsmuster-Information. Wie in 10A dargestellt, gibt es beispielsweise bei einem normalen Betriebsmuster, wo der Servomotor 30 zuerst von dem Zeitpunkt t1 bis zum Zeitpunkt t2 beschleunigt wird, dann bei einer konstanten hohen Geschwindigkeit von t2 bis t3 gedreht wird und anschließend von t2 bis t4 abgebremst wird, nämlich in dem normalen Betriebsmuster, um eine beschleunigende Drehung, eine konstante Hochgeschwindigkeitsdrehung und eine abgebremste Drehung nacheinander auszuführen, wenn ein Spannungsabfall erzeugt wird (t5 → t6) während der beschleunigenden Drehung des Servomotors 30 (t1 → t2), d. h., wenn der Kondensator 76 einen Spannungsabfall erfasst, eine Drehsteuerungsmuster-Information auf der Basis von Steuerungssignalen von der Host-Steuerung 70. Daher hat die Information die folgenden Schritte: Abbremsen des Servomotors 30 von t5 bis t6; anschließendes Drehen des Motors bei konstanter Geschwindigkeit; nach dem Wiederaufbau der Energieversorgung, Ausführen der verbleibenden beschleunigenden Drehung (t6 → t2), eine konstante Hochgeschwindigkeitsdrehung (t7 → t3) und eine abgebremste Drehung (t3 → t4) und anschließend Kompensieren der Beschleunigung bei dem Spannungsabfall {Drehung bei Abbremsung (t4 → t8)}. Wenn ein Spannungsabfall während der beschleunigenden Drehung des Servomotors 30 wie in dem oben beschriebenen Fall erfasst wird, wird als eine weitere Steuerungsmusterinformation eine Drehsteuerungsmuster-Information auf der Basis der Steuerungssignale von der Host-Steuerung 70 angenommen. Diese Information hat die folgenden Schritte: Abbremsen des Servomotors 30; Drehen des Motors bei konstanter Geschwindigkeit; und Anhalten der Drehung des Servomotors 30, nachdem die Zeit den Zeitraum eines momentanen Blackouts überschritten hat (beispielsweise 0,2 sec im Falle eines Spannungsabfalls von 50%, 0,5 sec im Falle eines Spannungsabfalls von 70%).

Eine solche Steuerungsmusterinformation ist zuvor in der Host-Steuerung 70 gespeichert worden durch geeignetes Ändern einer Zeitkonstante des Servomotors 30 gemäß dem Antriebsmuster unter den Bedingungen des Spannungsabfalls während der anfänglichen Einrichtung. Außerdem wird auch das Drehsteuerungsmuster mit der oben beschriebenen Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung verglichen, die in die Host-Steuerung 70 eingegeben wird, und ein Steuerungssignal wird an den Servomotor 30 ausgegeben. Wenn die Spannungsversorgung von der Energiequelle 71 während des Betriebs des Servomotors 30 abfällt, wird seine Drehung einmal abgebremst durch die während der anfänglichen Einrichtung erstellte Zeitkonstante, ohne die Drehung des Servomotors 30 anzuhalten. Wenn dieser Spannungsabfall von einem momentanen Blackout kommt, der aufgehoben werden kann, wird die Drehung des Servomotors 30 nach der Abbremsung auf eine konstante Geschwindigkeit gesteuert. Nach der Wiederherstellung der Energieversorgung wird die beschleunigende Drehung bei dem Spannungsabfall kompensiert. Wenn der Spannungsabfall aber den Zeitraum des momentanen Blackouts überschritten hat, wird die Drehung des Servomotor 30 angehalten.

Die ähnliche Bearbeitung könnte auch erreicht werden durch Speichern des Drehsteuerungsmusters in die Host-Steuerung 70 hinein und weiter Speichern der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung in den Motorsteuerkreis 73 hinein.

Obwohl die beschleunigende Drehung bei dem Spannungsabfall nach dem Verändern der Drehung des Servomotors von einer hohen bis zu einer niedrigen Geschwindigkeit nach der Wiederherstellung der Energieversorgung in der oben erfolgten Beschreibung kompensiert wird, kann die Kompensation auch ausgeführt werden durch Weiterführen der Beschleunigung des Servomotors 30 nach der Wiederherstellung der Energieversorgung. Bezüglich des Steuerungsmusters zum Beschleunigen des Servomotors 30 sequentiell zu der Wiederherstellung der Energieversorgung gibt es die folgenden drei Muster. Eines dieser Muster ist, dass, wie in 11A dargestellt, die beschleunigende Drehung anschließend an die Wiederherstellung der Energieversorgung des Servomotors 30 ausgeführt wird durch Erhöhen einer Beschleunigungsrate des Drehsteuerungsmusters bis zu einem Endzeitpunkt t2 der beschleunigenden Drehung in dem zuvor erstellten normalen Drehsteuerungsmuster (10A). Das andere Muster besteht, wie in 11B dargestellt, darin, die beschleunigende Drehung des Servomotors 30 anschließend an die Wiederherstellung der Energieversorgung mit der beschleunigenden Drehung des normalen Drehsteuerungsmusters (10A) zusammenfallen zu lassen, das zuvor erstellt wurde, um einen Zeitraum {(t9 – t7) = (t3 – t2)} der konstanten Hochgeschwindigkeitsdrehung des Servomotors 30 gleich dem Zeitraum (t3 – t2) der konstanten Hochgeschwindigkeitsdrehung in dem Drehsteuerungsmuster ist, und eine Bremsrate der abbremsenden Drehung des Servomotors 30 bis zu einem Endzeitpunkt t4 der abbremsenden Drehung des Drehsteuerungsmusters zu erhöhen. Eine weitere Alternative ist es, wie in 11C dargestellt, die beschleunigende Drehung anschließend an die Wiederherstellung der Energieversorgung des Servomotors 30 höher zu machen als die konstante Hochgeschwindigkeitsdrehung in dem normalen Drehsteuerungsmuster (10A), das zuvor erstellt wurde, um den Servomotor 30 bei der höheren Geschwindigkeit für einen vorbestimmten Zeitraum (t10 → t11) zu drehen, und anschließend die Drehung des Servomotors 30 bis zu dem Endzeitpunkt t4 des Drehsteuerungsmusters zu vermindern.

Wie oben erwähnt, ist es durch entweder Steuern des Beschleunigungsverhältnisses der beschleunigenden Drehung des Servomotors 30 nach der Wiederherstellung der Energieversorgung oder durch geeignetes Steuern der Drehzahl, des Zeitraums, etc. der konstanten Hochgeschwindigkeitsdrehung oder der abgebremsten Drehung, möglich, die Steuerung des Servomotors 30 gemäß dem zuvor erstellten Drehsteuerungsmuster zu realisieren.

Die oben erfolgte Beschreibung ist darauf gerichtet, mit einem Spannungsabfall während der Beschleunigung des Servomotors Schritt zu halten. Selbst wenn aber ein Spannungsabfall während der Drehung bei hoher Geschwindigkeit auftritt, ist es möglich, den Servomotor 30 anzusteuern durch Vergleichen der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung mit der Information über das Drehsteuerungsmuster beim Erfassen des Spannungsabfalls.

Demzufolge ist es, da die Versorgungsspannung von der Energiequelle 71 nie während des Betriebs des Servomotors 30 abfällt, ohne diesen abzubremsen, möglich, eine Schwingung der Wafer zu vermindern verglichen mit einer Maßnahme des Anhaltens der Drehung des Servomotors bei einem Spannungsabfall, wodurch eine Beschädigung der Wafer W reduziert werden kann. Wenn der Spannungsabfall von einem momentanen Blackout herrührt, können außerdem die beschleunigende Drehung etc. bei dem Spannungsabfall kompensiert werden nach der Wiederherstellung der Energieversorgung, und daher ist es möglich, eine Verlängerung des Antriebszeitraums des Servomotors 30 zu unterdrücken, in anderen Worten eine Verlängerung der Bearbeitungszeit. Demzufolge kann der Durchsatz der Vorrichtung verbessert werden.

Nun wird der Reinigungsbereich 3B beschrieben. Wie in 2 dargestellt, beinhaltet der Reinigungsbereich 3B eine Kammer 38 mit einer doppelten Struktur, bestehend aus einer festen äußeren Kammer 38a und einer in der horizontalen Richtung verschiebbaren inneren Kammer 38b. Wiederum ist der Reinigungsbereich 3B mit einem Reinigungsmechanismus 80 zum Reinigen und Trocknen der inneren Kammer 38b versehen. der Reinigungsbereich 3B beinhaltet einen Schiebemechanismus 81 für die innere Kammer 38b und einen Schiebemechanismus 82 für den Reinigungsmechanismus 80.

Die äußere Kammer 38a beinhaltet einen zylindrischen Körper 83, der die Kontur dieser äußeren Kammer 38a bildet, Ringelemente 84a, 84b, die an Endflächen des zylindrischen Körpers 83 angeordnet sind, an inneren Umfangsflächen der Ringelemente 84a, 84b angeordnete Dichtungsmechanismen 85a, 85b, eine Düse 87 zum Ausgeben von Reinigungsflüssigkeit, die mit einer Anzahl von Ausgabeöffnungen 86 für Reinigungsflüssigkeit in der horizontalen Richtung versehen ist und auch an dem zylindrischen Körper 83 angebracht ist, ein Düsengehäuse 88 zur Aufnahme dieser Düse 87 sowie eine Auslass/Ablassleitung 89a, die in dem unteren Bereich der äußeren Kammer 88a angeordnet ist, um die Reinigungsflüssigkeit und Gas auszugeben.

Der zylindrische Körper 83 und die Ringelemente 84a, 84b sind aneinander befestigt. Die gesamte äußere Kammer 38a ist bei bestimmten Positionen des Bodenbereichs und des Deckenbereichs des Reinigungsbereichs 3B zurückgehalten, während sie den zylindrischen Körper 83 lagert. In diesem Fall ist die äußere Kammer 38a mit einem Positionseinstellmechanismus (nicht dargestellt) für Feineinstellungen der Höhe und der horizontalen Position der Kammer 38a ausgestattet, so dass der Rotordrehmechanismus sanft eingebracht und zurückgezogen werden kann bei einer vorbestimmten Position.

In dem Ringelement 84a ist eine Ein- und Ausladeöffnung 39c für den Rotor ausgebildet, um das Einbringen und Herausziehen des Rotors 86 zu ermöglichen. Wie es in 2 dargestellt ist, kann diese Öffnung 39c mittels eines Deckelkörpers 84d geöffnet und geschlossen werden. Unter der Bedingung, dass der Rotor 36 in die äußere Kammer 38a eintritt, ist die Öffnung 39c geschlossen mittels des Deckelkörpers 40, während ein Zwischenraum zwischen der äußeren Umfangsfläche des Deckelkörpers 40 und der Öffnung 39c mittels eines Verschlussmechanismus 85a verschlossen bzw. abgedichtet ist. Demzufolge ist es möglich, zu verhindern, dass die Reinigungsflüssigkeit in der Kammer 38 bis zu dem Transferbereich 3A verspritzt wird.

In einem äußeren unteren Bereich des Ringelements 84a ist außerdem eine Flüssigkeitsaufnahme 84e vorgesehen, um zu verhindern, dass die Reinigungsflüssigkeit etc., die an dem Deckelkörper 40 und dem Verschlussmechanismus 84 etc. anhaftet, durch die Öffnung 39c hindurch ausläuft, wenn der Rotordrehmechanismus 31 ausgebracht wird. Indem verhindert wird, dass die Reinigungsflüssigkeit einen Boden des Reinigungsbereichs 3B verunreinigt, kann der Reinigungsbereich 3B sauber gehalten werden.

Mit der Zufuhr verschiedener Arten chemischer Flüssigkeiten, Zufuhr von de-ionisiertem Wasser, Zufuhr von IPA, etc. aus einer Quelle für Reinigungsflüssigkeit, beispielsweise aus der Chemikalien-Aufbewahrungseinheit 5, und mit der Zufuhr von Trockengas wie beispielsweise Stickstoffgas (N2) ist die oben beschriebene Düse 87 zur Ausgabe von Reinigungsflüssigkeit so aufgebaut, dass sie diese Reinigungsflüssigkeiten aus den Öffnungen 86 zu den Wafern W ausspritzen kann, die in dem Rotor 36 zurückgehalten sind. In dieser Ausführungsform ist eine einzelne Düse 87 in 7 dargestellt. Es kann jedoch auch eine Vielzahl von Düsen statt dieser einzelnen Düse vorgesehen sein. Es ist nicht unbedingt erforderlich, die Düse direkt oberhalb des zylindrischen Körpers 83 anzuordnen.

In dem zylindrischen Körper 83 wird sein Außendurchmesser auf der Seite des Ringelements 84b nahe dem Reinigungsmechanismus 80 größer als der Außendurchmesser auf der Seite des Ringelements 84a, so dass eine im wesentlichen kegelförmige Ausgestaltung entsteht. Die verschiedenen Reinigungsflüssigkeiten, die aus der Düsen 87 gegen die Wafer W ausgespritzt werden, strömen daher einfach auf der Bodenfläche des zylindrischen Körpers 83 von einer Seite nahe des Ringelements 84a hin zur anderen Seite nahe des Ringelements 84b und schließlich natürlich zu der Auslass/Ablassleitung 89a.

Dabei beinhaltet die innere Kammer 38b einen zylindrischen Körper 93, Ringelemente 94a, 94b, die an beiden Enden des zylindrischen Körpers 93 angeordnet sind, Verschlussmechanismen 95a, b, die jeweils an zwei Positionen an jeder Innenumfangsfläche der Ringelemente 94a, b angeordnet sind, eine Düse 97 zur Ausgabe von Reinigungsflüssigkeit, die mit einer Anzahl von Öffnungen 96 zur Ausgabe von Reinigungsflüssigkeit in der horizontalen Richtung versehen ist, und die ebenfalls an dem zylindrischen Körper 93 angebracht ist, ein Düsengehäuse 98 zur Aufnahme 97 sowie eine Auslass/Ablassleitung 89b, die in dem unteren Bereich der inneren Kammer 88b angeordnet ist, um die Reinigungsflüssigkeit und das Gas auszugeben.

Anders als der zylindrische Körper 83 der äußeren Kammer 38a ist der oben beschriebene zylindrische Körper 93 so gestaltet, dass er eine zylindrische Ausgestaltung hat, so dass der Bereich des Körpers nahe an dem Ringelement 94a den gleichen Durchmesser hat wie der Bereich des Körpers nahe an dem Ringelement 94b, und horizontal angeordnet ist. Daher ist, um das Ausgeben der Reinigungsflüssigkeit zu erleichtern, der zylindrische Körper 93 in seinem unteren Bereich mit einem Nutbereich 92 versehen, der von dem zylindrischen Bereich 93 aus hervorsteht, mit einem vorbestimmten Gradienten, und sich in Längsrichtung erstreckt. Wenn beispielsweise die innere Kammer 38b sich in der Bearbeitungsposition befindet, strömt die aus der Düse 97 gegen die Wafer W gespritzte Reinigungsflüssigkeit in dem Nutbereich 92 und wird durch die Auslass/Ablassleitung 89b aus dem Auslass ausgegeben.

Mit der Zufuhr einer bestimmten chemischen Flüssigkeit von einer Quelle wie beispielsweise der Chemikalien-Aufbewahrungseinheit 5 ist die oben beschriebene Düse 97 so ausgestaltet, dass sie das Ausspritzen der chemischen Flüssigkeit aus den Öffnungen 96 hin zu den in dem Rotor 36 zurückbehaltenen Wafern ermöglicht. In dieser Ausführungsform ist die einzelne Düse 97 in 7 dargestellt. Es kann jedoch auch eine Vielzahl von Düsen statt dieser einzelnen Düse vorgesehen sein. Es ist notwendigerweise erforderlich, die Düse direkt oberhalb des zylindrischen Körpers 93 anzuordnen.

Der Reinigungsmechanismus 80 beinhaltet einen zylindrischen Körper 100, eine an einer Endfläche des zylindrischen Körpers 100 angebrachte Scheibe 80a, eine an der anderen Endfläche des zylindrischen Körpers 100 angebrachte Scheibe 80b, Gasauslassdüsen 100 und eine Auslassleitung 102, die beide an dem zylindrischen Körper 100 angebracht sind. Die Scheibe 80b ist mit Düsen 103 zur Ausgabe von de-ionisiertem Wasser und mit Auslassleitungen 104 versehen.

Wenn die innere Kammer 38b sich in der Bearbeitungsposition befindet, wie in 7 dargestellt, l ist ein Zwischenraum zwischen dem Ringelement 93a und dem Deckelkörper 40 verschlossen mittels des Verschlussmechanismus 85b, während ein Zwischenraum zwischen dem Ringelement 94b und der Scheibe 80a des Reinigungsmechanismus 80 mittels des Verschlussmechanismus 95b verschlossen ist. Auf diese Art und Weise ist, wenn die innere Kammer 38b sich in der Bearbeitungsposition befindet, eine Bearbeitungskammer 105 definiert durch den zylindrischen Körper 93, die Ringelemente 94a, b, die Scheibe 80a des Reinigungsmechanismus 80 und den Deckelkörper 40.

Wenn sich andererseits die innere Kammer 38b in der zurückgezogenen Position befindet, ist ein Zwischenraum zwischen dem Ringelement 94a der inneren Kammer 38b und dem Ringelement 84b der äußeren Kammer 38a mittels des Verschlussmechanismus 85b verschlossen, während ein Zwischenraum zwischen dem Ringelement 94b und der Scheibe 80a mittels des Verschlussmechanismus 95a verschlossen ist. Wenn der Rotor 36 in die äußere Kammer 38a hineingebracht ist, ist außerdem ein Zwischenraum zwischen dem Deckelkörper 40 und dem Ringelement 84a mittels des Verschlussmechanismus 85a verschlossen. Wenn die innere Kammer 38b sich in der zurückgezogenen Position befindet, wie dies mit Zwei-Punkt-Strichlinien in 7 dargestellt ist, ist daher eine Bearbeitungskammer 106 definiert durch den zylindrischen Körper 83, die Ringelemente 84a, b, die Scheibe 80a des Reinigungsmechanismus 80, das Ringelement 94a der inneren Kammer 38b und den Deckelkörper 40 des Rotordrehmechanismus 31.

Unter der Bedingung, dass sich die innere Kammer 38b in der zurückgezogenen Position befindet, ist die Bearbeitungskammer 106 in der Bearbeitungsposition definiert, wie oben erwähnt. Außerdem ist ein Zwischenraum zwischen dem Ringelement 84a und der Scheibe 80a mit dem Verschlussmechanismus 85a verschlossen, während ein Zwischenraum zwischen dem Ringelement 84b der äußeren Kammer 38a und dem Ringelement 94a der inneren Kammer 38b mit dem Verschlussmechanismus 85b verschlossen ist, so dass eine schmale Reinigungskammer 107 mit im wesentlichen der Form eines Zylinders zwischen dem äußeren Umfang des zylindrischen Körpers 100 der Reinigungsmechanismus 80 und dem Innenumfang des zylindrischen Körpers 93 definiert ist. Die Gasauslassdüsen 101 an mehreren stellen des zylindrischen Körpers 100 können Trockengas wie beispielsweise Stickstoffgas oder Luft in die Reinigungskammer 107 hineinspritzen. Das aus den Düse 101 ausgelassene Trockengas wird durch die Auslassleitungen 104 ausgegeben.

In dem oben aufgebauten Reinigungsbereich 3B wird es durch Bewegen der inneren Kammer 38 in die Bearbeitungsposition, Zuführen einer bestimmten chemischen Flüssigkeit zu den Wafern W in der Bearbeitungskammer 105 in dem Reinigungsvorgang und anschließendes Bewegen der inneren Kammer 38b in die zurückgezogene Position möglich, den Reinigungsvorgang auszuführen, beispielsweise den Reinigungsvorgang unter Verwendung von de-ionisiertem Wasser, in der durch die äußere Kammer 38a definierten Bearbeitungskammer 106, und zwar kontinuierlich.

Nach dem Spülen der Wafer W mit Wasser wird der Trockenvorgang kontinuierlich ausgeführt. Nach diesem Trockenvorgang wird das Innere der äußeren Kammer 38a ebenfalls gereinigt und getrocknet. In dem Reinigungsvorgang für die Wafer W der nächsten Charge ist es daher möglich, den Wasserspülvorgang unter Verwendung der äußeren Kammer 38a unmittelbar nach der chemischen Bearbeitung unter Verwendung der inneren Kammer 38b zu beginnen.

Die nach der chemischen Bearbeitung in der zurückgezogenen Position verschobene innere Kammer 38b wird einem Selbstreinigungsvorgang unterworfen, um das de-ionisierte Wasser in die Reinigungskammer 107 durch die Düsen 97 hindurch auszustoßen. Dann wird das Innere der Düse 97 gleichzeitig gereinigt. Auf diese Art und Weise ist es, nachdem das in die Reinigungskammer 107 ausgespritzte deionisierte Wasser aus der Auslass/Ablassleitung 89b ausgelassen worden ist, möglich, den Trocknungsvorgang in den Düsen 97 durch Ausspritzen des trockenen Gases wie beispielsweise des Stickstoffgases oder der Luft aus den Düsen 101 in die Reinigungskammer 107 hinein auszuführen. Das heißt, da das Innere der inneren Kammer 38b gereinigt ist, ist es möglich, die innere Kammer 38b für die chemische Bearbeitung der als nächstes kommenden Wafer W vorzubereiten.

Anschließend wird der Vorgang zum Reinigen der Wafer W beschrieben. Zunächst werden die FOUP F (F1, F2) mit jeweils fünfundzwanzig Wafern W in vorbestimmten Abständen an den FOUP-Stufen 2a, 2b so angebracht, dass jeweilige Wafer Ein- und Ausladeöffnungen zu Befördern der Wafer W den jeweiligen Fensterbereichen 12a, 12b gegenüberliegen.

Um die Wafer W in der FOUP F1 auszuladen, wird anschließend der Fensterbereich 12a geöffnet, um das Inneren der FOUP F1 mit dem Inneren der Wafertransfereinheit 4 in Verbindung zu bringen. Anschließend inspiziert der Wafer-Erfassungsmechanismus 110 die Anzahl der Wafer W in der FOUP F1 und ihren Anordnungszustand. Wenn hier eine Abweichung von dem normalen Anordnungszustand der Wafer W erfasst wird, wird die Bearbeitung der Wafer W in der FOUP F1 gestoppt, und stattdessen werden beispielsweise die Wafer W aus der FOUP F2 ausgeladen.

Wenn dagegen keine Abweichung von dem normalen untergebrachten Zustand der Wafer W in der FOUP F1 erfasst wird, wird der Wafertransfermechanismus 16 betätigt, um alle Wafer W in der FOUP F1 zu den Transferklemmen 17a zu befördern. Anschließend wird der Linear-Antriebsmechanismus 19 und der Drehmechanismus 22 angetrieben, um so einen Zustand aufzubauen, in dem die Transferklemmen 17a sich dem Rotor 36 nähern können. In diesem Zustand wird der Level der Transferklemmen 17a eingestellt durch den Anhebemechanismus 23, und der Fensterbereich 25a wird geöffnet. Durch Öffnen des Halters 43b mittels des Halter-Öffnungs- und Schließmechanismus 44 werden die Transferklemmen 17a mit den Wafern W in den Rotor 36 eingebracht. Beim Zurückziehen der Transferklemmen 17a nach dem Schließen des Halters 43b werden die Wafer W zu dem Rotor 36 befördert.

Nach dem Zurückziehen der Halter-Öffnungs- und Schließmechanismus 44 wird der Rotor 36 in die äußere Kammer 38 eingebracht. Durch Antreiben des Mechanismus 32 zum Verändern der Haltung, des Vertikalantriebsmechanismus 33 bzw. des Horizontalantriebsmechanismus 34 wird der Rotordrehmechanismus 27 so bewegt, dass der Deckelkörper 40 der Rotor-Ein- und Ausladeöffnung 39c gegenüberliegt. Dann wird es dem Verschlussmechanismus 85a ermöglicht, einen Zwischenraum zwischen dem Ringelement 84a der äußeren Kammer 38a und dem Deckelkörper 40 zu verschließen, und dann wird auch die innere Kammer 38b in die Bearbeitungsposition bewegt, um die Bearbeitungskammer 105 zu bilden. Anschließend wird der Servomotor 30 angetrieben, um den Rotor 36 zu drehen, während die Reinigungsflüssigkeit wie beispielsweise die chemische Flüssigkeit zu den Wafern W in dem Reinigungsvorgang geleitet wird. Wie oben erwähnt, führt dabei der Servomotor 30 die vorbestimmte Hochgeschwindigkeitsdrehung (beispielsweise 100 bis 3000 U/min) und die vorbestimmte Drehung mit niedriger Geschwindigkeit (beispielsweise 1 bis 500 U/min) selektiv und wiederholt durch gemäß dem zuvor erstellten Programm. Wenn die Spannungsversorgung des Servomotors 30 während des oben beschriebenen Vorgangs (insbesondere bei der Drehung in Beschleunigung oder der Hochgeschwindigkeitsdrehung) abfällt, wird die Drehung des Servomotors 30 entsprechend dem Spannungsabfall während des Antriebs des Rotors gesteuert, um so die Beschädigung der Wafer W und die Verlängerung des Antriebszeitraums zu unterdrücken.

Genauer gesagt wird beim vorherigen Speichern der Information über das Drehsteuerungsmuster in der Host-Steuerung 70 die obige Information mit der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung verglichen {d. h., die Information über einen Spannungsabfall und die Zeit unter einem momentanen Blackout, der innerhalb eines vorbestimmten Zeitraums (beispielsweise 0,05 bis 1 sec) ausgeräumt werden kann}, die in die Host-Steuerung 70 eingegeben worden ist, und anschließend wird das Steuerungssignal an den Servomotor 30 ausgegeben. Wenn die Spannungsversorgung von der Energiequelle 71 während des Betriebs des Servomotors 30 abfällt, wird dessen Drehung einmal abgebremst. Wenn diese Spannungsabfall von einem momentanen Blackout herrührt, der ausgeräumt werden kann, wird die Drehung des Servomotors 30 nach diesem Abbremsen auf eine konstante Geschwindigkeit gesteuert. Nach der Wiederherstellung der Energieversorgung wird die Beschleunigung bei dem Spannungsabfall kompensiert. Wenn aber der Spannungsabfall die Zeit eines momentanen Blackouts überschritten hat, wird die Drehung des Servomotors 30 angehalten. Statt dieser Steuerung kann der Servomotor 30 auch gemäß dem oben erwähnten, in den 11A bis 11C dargestellten Steuerungsmuster gesteuert werden.

Alternativ könnte der ähnliche Vorgang bewirkt werden, indem die Information über das Drehsteuerungsmuster von der Host-Steuerung 70 gespeichert wird und die Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung von dem Motorsteuerkreis 70.

Da der Servomotor 30 notwendigerweise abgebremst wird, wenn die Spannungsversorgung von der Energiequelle 71 während des Betriebs des Servomotors 30 abfällt, ist es so möglich, eine Schwingung zu unterdrücken verglichen mit einer Maßnahme, die Drehung des Motors bei dem Spannungsabfall anzuhalten, wodurch die Beschädigung der Wafer W unterdrückt werden kann. Da die Drehung in der Beschleunigung bei dem Spannungsabfall nach dem Wiederaufbau der Energieversorgung kompensiert werden kann, falls der Spannungsabfall von einem momentanen Blackout herrührt, ist es außerdem möglich, den Anstieg des Antriebszeitraums (des Betriebszeitraums) des Servomotors 30 zu beschränken, d. h., eine Verlängerung der Bearbeitungszeit zu unterdrücken. Demzufolge kann der Durchsatz mit einer verbesserten Zuverlässigkeit der Vorrichtung verbessert werden.

Nachdem die chemische Bearbeitung beendet ist, wird die innere Kammer 38b in die zurückgezogene Position bewegt, wo die Vorbereitung zum Bearbeiten der Wafer W in der nächsten Charge ausgeführt wird durch Reinigen und Trocknen der inneren Kammer 38b mittels des Reinigungsmechanismus 80. Was die Wafer W in der durch die äußere Kammer 38a gebildeten Prozesskammer 106 angeht, spritzt die Düse 87 das deionisierte Wasser auf die Wafer W während der Drehung, um dadurch den Vorgang des Spülens mit Wasser auszuführen. Anschließend werden die Wafer W mit N2-Gas getrocknet. Während dieses Spülens und Trocknens wird, wie oben erwähnt, wenn die Spannungsversorgung für den Servomotor 30 des Rotors 36 abfällt, der Servomotor 30 entsprechend dem Spannungsabfall während des Antriebs des Motors gesteuert, um so eine Beschädigung der Wafer W zu beschränken und eine Verlängerung des Antriebszeitraumes (Bearbeitungszeitraums) zu unterdrücken.

Während die Wafer W wie oben erwähnt in der Reinigungseinheit bearbeitet werden, wird in der Wafertransfereinheit 4 der Wafertransfermechanismus 16 ohne Wafer W bewegt, so dass die Transferklemmen 17a Zugang zu der an der FOUP-Stufe 2b angebrachten FOUP F2 haben können. Ähnlich wie bei dem Ausladen der Wafer W aus der FOUP F1 werden daher die in der FOUP F2 untergebrachten Wafer W zu den Transferklemmen 17a befördert. Anschließend wird der Wafertransfermechanismus 16 so bewegt, dass die Transferklemmen 17b ohne Wafer W zu dem Rotor 36 durch den Fensterbereich 25a hindurch Zugang haben können. Dann lagern die Transferklemmen 17a unbearbeitete Wafer W.

Nach dem Ende des Reinigungsvorgangs der Wafer W in der Reinigungseinheit 3 werden durch Antreiben des Rotordrehmechanismus 31, der die Wafer W trägt, des Horizontalantriebsmechanismus 34 etc. die Wafer zu einer Position bewegt, in der sie zwischen den Transferklemmen 17a, b und dem Rotor 36 befördert werden können. Nach dem Öffnen des Fensterbereichs 25a nähern sich die Transferklemmen 17b zuerst dem Rotor 36, um die Wafer W aufzunehmen, die von dem Rotor 36 getragen werden. Anschließend wird durch Betätigen des Drehmechanismus 22 der Tisch 21 um 180 Grad gedreht, so dass die Transferklemmen 17a Zugang zu dem Rotor 36 haben können. Dann werden die unbearbeiteten Wafer W von den Transferklemmen 17a zum Rotor befördert.

Was die Wafer W der FOUP F2 angeht, die von dem Rotor 36 gehalten werden, so werden diese einem Reinigungsvorgang unterworfen, der die gleichen Schritte hat wie der Reinigungsvorgang für die Wafer W der FOUP F1. In dem Wafertransfermechanismus 16 nähern sich während des oben beschriebenen Reinigungsvorgangs die Transferklemmen 17b der FOUP F1, und dann werden die Wafer W nach dem Reinigungsvorgang zu der FOUP F1 befördert. anschließend wird der Wafertransfermechanismus 16 in den Zustand gebracht, dass die Transferklemmen 17b Zugang zu dem Rotor 36 haben können. Die Wafer W für die FOUP F2 nach dem Reinigungsvorgang werden in der FOUP F2 mit den gleichen Schritten untergebracht wie bei dem Unterbringen der Wafer W für die FOUP F1 in die FOUP F1 hinein. Auf diese Art und Weise wird der Reinigungsvorgang der Wafer W in den FOUPs F1, F2 beendet.

Obwohl der Servomotor (die Drehantriebsvorrichtung) der vorliegenden Erfindung auf eine Drehantriebsquelle des Rotors 36 in der oben erwähnten Ausführungsform angewandt ist, ist ein solcher, auf einen Spannungsabfall reagierender Servomotor auch auf eine Vorrichtung (einen Mechanismus) anwendbar, der den anderen Drehantriebsmechanismus abgesehen von dem Rotor 36 hat, beispielsweise den Linear-Antriebsmotor 19, den Drehmechanismus 22 oder dergleichen.

Obwohl die Drehantriebsvorrichtung der Erfindung außerdem in der oben erwähnten Ausführungsform auf ein chargenweise arbeitendes Wafer-Reinigungssystem angewandt ist, ist die Drehantriebsvorrichtung der Erfindung auch anwendbar auf die andere Struktur, die einen Drehantriebsmechanismus (eine Drehantriebsvorrichtung) verwendet, beispielsweise eine Vorrichtung zum Reinigen materialbahnartiger Wafer, eine Beschichtungs-/Entwicklungsvorrichtung, eine Vorrichtung zur Herstellung von Halbleitern mit einer Drehantriebsvorrichtung oder dergleichen. Natürlich ist die Drehantriebsvorrichtung der Erfindung auch anwendbar auf eine Bearbeitungsvorrichtung für ein Substrat, das sich von einem Wafer unterscheidet, beispielsweise ein LCD Substrat.

ZUSAMMENFASSUNG

Diese Drehantriebsvorrichtung beinhaltet einen Kreis (72) zum Erzeugen eines Drehmoments eines Servomotors (30) mit einer Versorgungsspannung von einer Energiequelle (71) sowie einen Motorsteuerkreis (73) zum Steuern der Drehung des Motors. In dem Kreis (72) zur Erzeugung des Drehmoments ist ein Kondensator (76) angeordnet, um eine Stufe der Versorgungsspannung und einen Zeitraum eines Spannungsabfalls zu erfassen. Eine von dem Kondensator (76) erfasste Information über den Spannungsabfall kann an eine Host-Steuerung (70) übermittelt werden. In dieser Host-Steuerung (70) ist zuvor eine Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung gespeichert worden, mit einem Spannungsabfall und einem Zeitraum unter einem momentanen Blackout, der innerhalb eines vorbestimmten Zeitraums ausgeräumt werden kann, und eine Information über die Drehsteuerungsmuster des Motors entsprechend dieser Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung, und die Steuerung vergleicht die Information über den Spannungsabfall, die Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und die Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors miteinander. Auf der Grundlage eines Steuerungssignals (70) steuert die Steuerung (70) die Drehung des Servomotors (30). Durch Steuern der Drehung in Übereinstimmung mit dem Spannungsabfall während des Antriebs des Motors wird dann die Verlängerung eines Antriebszeitraums unterdrückt, der Durchsatz verbessert und eine Schwingung aufgrund eines Stillstands des Motors durch den Spannungsabfall beschränkt.

(1)


Anspruch[de]
  1. Drehantriebsvorrichtung mit einem Motor, der sich zumindest mit einer hohen und einer geringen Geschwindigkeit drehen kann, einem Kreis zum Erzeugen eines Drehmoments des Motors mittels einer Versorgungsspannung von einer Energiequelle her, einem Motorsteuerkreis zum Steuern der Drehung des Motors, einem Drehzahlerfasser zum Erfassen einer Drehgeschwindigkeit des Motors und Übertragen eines Erfassungssignals an den Motorsteuerkreis, und einer Steuerung, um die Drehgeschwindigkeit des Motors und dessen Drehzahl an den Motorsteuerkreis und von diesem zu liefern, wobei

    der Kreis zur Erzeugung des Drehmoments einen Spannungsdetektor zum Erfassen einer Stufe der Versorgungsspannung und eines Zeitraums eines Spannungsabfalls beinhaltet, welcher Spannungsdetektor eine Information über den Spannungsabfall an die Steuerung liefert,

    die Steuerung im Vorhinein eine Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung gespeichert hat, welche einen Spannungsabfall und einen Zeitraum dieses Spannungsabfalls unter einem momentanen Blackout hat, der innerhalb eines vorbestimmten Zeitraums ausgeräumt werden kann, und eine Drehsteuerungsmuster-Information des Motors entsprechend dieser Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung, und

    die Steuerung die Drehung des Motors durch Vergleichen der Information über den Spannungsabfall, der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und der Drehsteuerungsmuster-Information des Motors miteinander steuert.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei welcher, wenn der Spannungsdetektor während der beschleunigenden Drehung des Motors einen Spannungsabfall erfasst, die Steuerung Steuerungssignale der abbremsenden Drehung des Motors und der anschließenden Drehung des Motors bei einer konstanten Geschwindigkeit ausgibt.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1, welche ein Drehsteuerungsmuster des Motors aufstellt, welches Bereiche einer beschleunigenden Drehung, einer konstanten Drehung mit hoher Geschwindigkeit sowie einer abbremsenden Drehung hat, wobei, wenn der Spannungsdetektor während der beschleunigenden Drehung des Motors einen Spannungsabfall erfasst, die Steuerung die folgenden Steuerungssignale ausgibt: abbremsende Drehung des Motors, anschließende Drehung des Motors bei konstanter Geschwindigkeit, und, nach der Wiederherstellung der Energieversorgung, beschleunigende Drehung des Motors.
  4. Vorrichtung nach Anspruch 1, welche Vorrichtung ein Drehsteuerungsmuster des Motors aufstellt, das Bereiche einer beschleunigenden Drehung, einer konstanten Drehung der Motorgeschwindigkeit und einer abbremsenden Drehung hat, wobei, wenn der Spannungsdetektor während der beschleunigenden Drehung des Motors einen Spannungsabfall feststellt, das Steuerungsmittel die folgenden Steuerungssignale ausgibt: abbremsende Drehung des Motors, anschließende Drehung des Motors bei konstanter Geschwindigkeit, und, nach der Wiederherstellung der Energieversorgung, Kompensieren der beschleunigenden Drehung des Motors bei dem Spannungsabfall.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 4, bei welcher die beschleunigende Drehung des Motors nach der Wiederherstellung der Energieversorgung durch Vergrößern eines Beschleunigungsverhältnisses der beschleunigenden Drehung des Motors in dem Drehsteuerungsmuster bis zu einem Endzeitpunkt der beschleunigenden Drehung des Motors in dem eingestellten Drehsteuerungsmuster ausgeführt wird.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 4, bei welcher

    eingestellt ist, dass die beschleunigenden Drehung des Motors nach dem Wiederherstellung der Energieversorgung der beschleunigenden Drehung des Motors des eingestellten Drehsteuerungsmusters entspricht, und dass ein Zeitraum der konstanten Hochgeschwindigkeitsdrehung des Motors gleich einem Zeitraum der konstanten Hochgeschwindigkeitsdrehung des Motors in dem eingestellten Drehsteuerungsmuster ist, und

    ein Abbremsverhältnis der abbremsenden Drehung des Motors erhöht ist, so dass ein Endzeitpunkt der abbremsenden Drehung des Motors mit einem Endzeitpunkt der abbremsenden Drehung des Motors in dem eingestellten Drehsteuerungsmuster zusammenfällt.
  7. Vorrichtung nach Anspruch 4, bei welcher

    die beschleunigende Drehung des Motors nach der Wiederherstellung der Energieversorgung auf einer höheren Geschwindigkeit gehalten wird als die Geschwindigkeit der konstanten Hochgeschwindigkeitsdrehung des Motors in dem eingestellten Drehsteuerungsmuster, und

    nachdem der Motor bei der höheren Geschwindigkeit gedreht worden ist, der Motor abgebremst wird, so dass er mit einem Endzeitpunkt der abbremsenden Drehung des Motors in dem eingestellten Drehsteuerungsmuster zusammenfällt.
  8. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei welcher, wenn der Spannungsdetektor einen Spannungsabfall während der beschleunigenden Drehung des Motors erfasst, die Steuerungsmittel die folgenden Signale ausgeben: abbremsende Drehung des Motors, anschließend Drehung des Motors bei konstanter Geschwindigkeit, und Anhalten der Drehung des Motors, wenn ein Zeitraum des momentanen Blackouts überschritten ist.
  9. Drehantriebsvorrichtung mit einem Motor, der sich zumindest bei einer hohen und einer geringen Geschwindigkeit drehen kann, einem Kreis zum Erzeugen eines Drehmoments des Motors mittels einer Versorgungsspannung von einer Energiequelle her, einem Motorsteuerkreis zum Steuern der Drehung des Motors, einem Drehzahlerfasser zum Erfassen einer Drehgeschwindigkeit des Motors und Übertragen eines Erfassungssignals an den Motorsteuerkreis, und einer Steuerung, um die Drehgeschwindigkeit des Motors und dessen Drehzahl an den Motorsteuerkreis und von diesem zu liefern, wobei

    der Kreis zur Erzeugung des Drehmoments einen Spannungsdetektor beinhaltet zum Erfassen einer Stufe der Versorgungsspannung und eines Zeitraums des Spannungsabfalls, welcher Spannungsdetektor eine Information über den Spannungsabfall direkt an den Motorsteuerkreis übermittelt,

    der Motorsteuerkreis eine Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung speichert, mit einem Spannungsabfall und einem Zeitraum des Spannungsabfalls unter einem momentanen Blackout, der innerhalb eines vorbestimmten Zeitraums ausgeräumt werden kann,

    die Steuerung eine Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors entsprechend der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung speichert, welche Information über das Drehsteuerungsmuster zuvor an den Motorsteuerkreis ausgegeben worden ist, und

    der Motorsteuerkreis die Drehung des Motors auf der Grundlage eines Vergleichs der Information über den Spannungsabfall, der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und der Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors miteinander steuert.
  10. Drehantriebsverfahren für eine Drehantriebsvorrichtung mit einem Motor, der zumindest bei einer hohen und einer niedrigen Geschwindigkeit dreht, einem Kreis zum Erzeugen eines Drehmoments des Motors mittels einer Versorgungsspannung von einer Energiequelle, und einem in diesem Kreis zur Erzeugung des Drehmoments angeordneten Spannungsdetektor, um eine Stufe der Spannungsversorgung und einen Zeitraum eines Spannungsabfalls zu erfassen, mit den folgenden Schritten:

    Speichern im vorhinein einer Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung mit dem Spannungsabfall und dem Zeitraum des Spannungsabfalls unter einem momentanen Blackout, der innerhalb eines vorbestimmten Zeitraums ausgeräumt werden kann, und Speichern einer Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors entsprechend dieser Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung, und

    Beschaffen einer von dem Spannungsdetektor erfassten Information über den Spannungsabfall und weiteres Steuern der Drehung des Motors auf der Grundlage eines Vergleichs der Information über den Spannungsabfall, der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und der Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors miteinander.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, bei welchem der Schritt des Vergleichens der Information über den Spannungsabfall, der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und der Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors mittels einer Steuerung ausgeführt wird, die dazu ausgestaltet ist, sowohl eine Drehgeschwindigkeit des Motors als auch dessen Drehzahl an einen Motorsteuerkreis auszugeben und von dort zu empfangen, um den Motor durch den Kreis zur Erzeugung des Drehmoments zu steuern.
  12. Verfahren nach Anspruch 10, bei welchem der Schritt des Vergleichens der Information über den Spannungsabfall, der Information über die Wiederherstellung der Energieversorgung und der Information über das Drehsteuerungsmuster des Motors mittels des Motorsteuerkreises zum Steuern des Motors durch den Kreis zur Erzeugung des Drehmoments ausgeführt wird.
Es folgen 12 Blatt Zeichnungen






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