Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Bearbeitung eines lichtempfindlichen Materials mit einer Bearbeitungsflüssigkeit.

Lichtempfindliche Materialien, zum Beispiel lichtempfindliche Filme, photographisches Papier, Druckplatten und dergleichen, auf welchen Bildern aufgezeichnet worden sind, werden mit einer Bearbeitungsflüssigkeit, wie etwa einem Aktivator, eine Fixierlösung, einen Stabilisator und Spülwasser, bearbeitet. Zu Vorrichtungen zur Durchführung solcher Vorgänge auf lichtempfindlichen Materialien gehören eine bekannte Tauchbearbeitungsvorrichtung, bei welcher die lichtempfindlichen Materialien in einen eine Bearbeitungsflüssigkeit speichernden Bearbeitungstank durch Paare von Zuführwalzen und dergleichen enthaltende Zuführmittel eingeführt und dann in die Bearbeitungsflüssigkeit getaucht werden, womit sie der Bearbeitung unterworfen werden.

Eine solche Tauchbearbeitungsvorrichtung erfordert eine große Menge an Bearbeitungsflüssigkeit, damit die lichtempfindlichen Materialien in diese eingetaucht werden können. Bei der Tauchbearbeitungsvorrichtung wird die Bearbeitungsflüssigkeit durch wiederholte Behandlungen für viele lichtempfindliche Materialien deaktiviert oder sie entwickelt eine Verschlechterung mit der Zeit, die von Kohlendioxid und Sauerstoff in der Atmosphäre herrührt. Die Bearbeitungsflüssigkeit wird aus der Deaktivierung wieder hergestellt, indem eine Auffüllflüssigkeit der Bearbeitungsflüssigkeit zugesetzt wird. Dies bewirkt einen Unterschied zwischen den Inhaltsstoffen der Bearbeitungsflüssigkeit bei Beginn des Vorgangs und den Inhaltstoffen der Bearbeitungsflüssigkeit nach einer gewissen Dauer des Vorgangs, womit keine exakt gleichförmige Behandlung erzielt werden kann.

Zur Lösung des Problems wurde eine auf Beschichtung beruhende Bearbeitungsvorrichtung für lichtempfindliches Material zur Beschichtung einer lichtempfindlichen Oberfläche des lichtempfindlichen Materials mit der Bearbeitungsflüssigkeit in Mengen, die zur Behandlung des lichtempfindlichen Materials erforderlich sind, verwendet, um eine Behandlung anstelle des Eintauchens des lichtempfindlichen Materials in die Bearbeitungsflüssigkeit durchzuführen. Ein Beispiel einer bekannten Bearbeitungsvorrichtung vom Beschichtungstyp ist so aufgebaut, dass die Bearbeitungsflüssigkeit aus einer Bearbeitungsflüssigkeitszufuhrdüse mit einer Anzahl von Flüssigkeitsabgabelöchern auf eine Walze (nachfolgend als „aufgeraute Walze" bezeichnet) abgegeben wird, deren Oberfläche durch Ausbilden von Nuten darin aufgeraut ist, wobei die aufgeraute Walze in Berührung mit dem lichtempfindlichen Material gedreht wird, wodurch die Bearbeitungsflüssigkeit über die aufgeraute Walze auf das lichtempfindliche Material aufgebracht wird.

Bei der bekannten Bearbeitungsvorrichtung wird eine Pumpe zur Zuführung der Bearbeitungsflüssigkeit durch Anwenden von Druck verwendet, um die Bearbeitungsflüssigkeit aus dem die Bearbeitungsflüssigkeit speichernden Bearbeitungsflüssigkeitstank in ein Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführrohr mit einer Anzahl von Bearbeitungsflüssigkeitsabgabelöchern zu drücken. Da die Pumpe erforderlich ist, um eine kleine konstante Menge an Bearbeitungsflüssigkeit pro Zeiteinheit korrekt zuzuführen, wird eine Pumpe zur Erzeugung einer Pulsation (nachfolgend in der vorliegenden Anmeldung als „Pulsationspumpe" bezeichnet), wie etwa eine peristaltische Pumpe, eine oszillierende Pumpe und Balgenpumpe, verwendet.

Die bekannte Vorrichtung hat die nachfolgend beschriebenen Nachteile.

• (1) Beispielsweise ist es beim Vorgang der Beschichtung mit einem Stabilisator zur Stabilisierung einer lithographischen Druckplatte, die ein Silberkomplexsalz-Diffusionstransferumkehrverfahren (DTR) verwendet, nach Entwicklung der lithographischen Druckplatte zu einem Quellen der lichtempfindlichen Schicht des lichtempfindlichen Materials durch den Aktivator im Entwicklungsschritt gekommen. Wenn das gequollende lichtempfindliche Material die aufgeraute Walze der bekannten Vorrichtung berührt, wird die lichtempfindliche Oberfläche des lichtempfindlichen Materials beschädigt.
• (2) Die Beschichtungs-Bearbeitungsvorrichtung verwendet vorzugsweise eine Minimalmenge an Bearbeitungsflüssigkeit im Sinne von für die Behandlung erforderlichen Betriebskosten und im Sinne von Umweltthemen. Die Zufuhr einer geringen Menge an Bearbeitungsflüssigkeit zur Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführdüse macht es für die bekannte Vorrichtung jedoch schwierig, eine gleichförmige Menge an Bearbeitungsflüssigkeit zu liefern, die aus den Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabelöchern der aufgerauten Walze zugeführt wird, was folglich zu einer nicht gleichförmigen Menge an Bearbeitungsflüssigkeit führt, die auf das lichtempfindliche Material aufgebracht wird. Diese Erscheinung tritt vor allem insbesondere im Bereich der Kopfkante des lichtempfindlichen Materials auf.
  
  Zusätzlich ist bei der Verwendung einer lithographischen Druckplatte, die das Silberkomplexsalz-Diffusionstransferumkehrverfahren ausnutzt, bei welchem die Entwicklung rasch fortschreitet, als lichtempfindliches Material nicht nur der oben beschriebene Nachteil ausgeprägt, sondern auch die Druckleistung, insbesondere die Plattenlebensdauer, mindert, was ein einer lithographischen Druckplatte inhärentes Problem ist.
• (3) Bei einer eine Pulsationspumpe verwendenden Vorrichtung zur Aufbringung der Bearbeitungsflüssigkeit wiederholt sich ein Abgabezustand, in dem die Bearbeitungsflüssigkeit aus den Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabelöchern abgegeben wird, und ein Nicht-Abgabezustand, in dem die Bearbeitungsflüssigkeit nicht abgegeben wird, da die von der Pulsationspumpe gelieferte Bearbeitungsflüssigkeit eine pulsierende Strömung hervorbringt. Im Nicht-Abgabezustand der Bearbeitungsflüssigkeit wird manchmal Luft in entgegengesetzter Richtung durch ein solches Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabeloch in das Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführrohr gezogen und eine Luftblase im Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführrohr ausgebildet. Wenn eine solche Blase in dem Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführrohr größer als das Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabeloch ist, bewirkt die Oberflächenspannung der Bearbeitungsflüssigkeit, die die Blase definiert, dass die Blase das Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabeloch blockiert, und verhindert, dass die Bearbeitungsflüssigkeit das Abgabeloch durchläuft. Dies führt zu einer ungleichförmigen Menge der aus den Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabelöchern des Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführrohrs abgegebenen Bearbeitungsflüssigkeit.
  
  Die ungleichförmige Menge an Bearbeitungsflüssigkeit, die das lichtempfindliche Material beschichtet, erzeugt eine Bearbeitungsungleichmäßigkeit des entwickelten lichtempfindlichen Materials. Das Auftreten der Bearbeitungsungleichmäßigkeit ist besonders ausgeprägt bei lithographischen Druckplatten, die das Silberkomplexsalz-Diffusionstransferumkehrverfahren (DTR-Verfahren) verwenden, bei welchem die Entwicklung rasch fortschreitet.
  
  Zur Lösung dieses Problems wurde eine Bearbeitungsvorrichtung für lichtempfindliches Material vorgeschlagen, bei welcher die Bearbeitungsflüssigkeit aus einer zwischen einem Paar von Blechen ausgebildeten Spaltöffnung einem Bearbeitungsflüssigkeits-Beschichtungsabschnitt zugeführt wird, der ein Paar von nicht drehbaren stabförmigen Elementen aufweist, wobei das lichtempfindliche Material durch eine Pfütze aus Bearbeitungsflüssigkeit, die zwischen dem Paar von drahtförmigen Elementen gespeichert ist, hindurchgeführt wird, womit die Bearbeitungsflüssigkeit auf das lichtempfindliche Material aufgetragen wird.
  
  Diese Bearbeitungsvorrichtung für lichtempfindliches Material ist in der Lage, eine kleine Menge an Bearbeitungsflüssigkeit verhältnismäßig gleichförmig zuzuführen. In diesem Fall hängt jedoch die Menge von Bearbeitungsflüssigkeit, die das lichtempfindliche Material beschichtet, von der Menge an Bearbeitungsflüssigkeit ab, die zwischen dem Paar von stabförmigen Elementen zugeführt wird. Dem Versuch, das gesamte lichtempfindliche Material mit einer exakt gleichförmigen Menge an Bearbeitungsflüssigkeit zu beschichten, sind jedoch unvermeidliche Grenzen gesetzt.
• (4) Bei der Beschichtungs-Bearbeitungsvorrichtung für lichtempfindliches Material ergibt sich, wenn keine Pfütze aus Bearbeitungsflüssigkeit mit ausreichendem Volumen zwischen der aufgerauten Walze und einer Stützwalze vor dem Aufbringen der Bearbeitungsflüssigkeit auf das lichtempfindliche Material ausgebildet wird, eine Bearbeitungsungleichförmigkeit, die von dem Mangel an Bearbeitungsflüssigkeit herrührt, insbesondere im Kopfkantenabschnitt des lichtempfindlichen Materials.
• (5) Die Beschichtungs-Bearbeitungsvorrichtung für lichtempfindliches Material ist dafür gedacht, die Bearbeitung durch Zuführen der Bearbeitungsflüssigkeit aus dem Bearbeitungsflüssigkeits-Tank zur Speicherung der Bearbeitungsflüssigkeit in einem auf eine bestimmte Temperatur erwärmten Zustand zu einem Bearbeitungsflüssigkeits-Beschichtungsabschnitt zur Beschichtung des lichtempfindlichen Materials mit der Bearbeitungsflüssigkeit zu fördern, um die erwärmte Bearbeitungsflüssigkeit auf das lichtempfindliche Material aufzubringen. Bei Beginn der Beschichtung mit dem lichtempfindlichen Material haben die Temperaturen eines Zuführdurchgangs für die Bearbeitungsflüssigkeit aus dem Bearbeitungsflüssigkeits-Tank zum Bearbeitungsflüssigkeits-Beschichtungsabschnitt und die Temperaturen der oben beschriebenen aufgerauten Walze und Stützwalze auf Raumtemperatur abgenommen. Dies vermindert die Temperatur der auf das lichtempfindliche Material durch den Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführdurchgang aufzubringenden Bearbeitungsflüssigkeit, was zu einer Bearbeitungsungleichmäßigkeit führt.
• (6) Bei der die aufgeraute Walze verwendenden Beschichtungs-Bearbeitungsvorrichtung werden Verunreinigungen, wie Silberschlamm (nachfolgend als „Silberschlamm und dergleichen" bezeichnet) aus der Bearbeitungsflüssigkeit erzeugt, wenn die Bearbeitungsflüssigkeit kontinuierlich auf das lichtempfindliche Material aufgebracht wird. Der Silberschlamm und dergleichen wird in Ausnehmungen, wie etwa Nuten, der aufgerauten Walze abgelagert.

In Gegenwart des die Ausnehmungen, wie etwa Nuten, der aufgerauten Walze bedeckenden Silberschlamms und dergleichen bewirkt die Abnahme der Menge an auf das lichtempfindliche Material aufzubringender Bearbeitungsflüssigkeit eine Knappheit oder Ungleichförmigkeit der auf das lichtempfindliche Material aufzubringenden Menge an Bearbeitungsflüssigkeit. Die Knappheit oder Ungleichförmigkeit der auf das lichtempfindliche Material aufzubringenden Bearbeitungsflüssigkeit führt zu einer Bearbeitungsungleichmäßigkeit des entwickelten lichtempfindlichen Materials und einer Verminderung der Plattenlebensdauer beim Drucken unter Verwendung des lichtempfindlichen Materials. Solche Erscheinungen sind insbesondere ausgeprägt, wenn eine lithographische Druckplatte, welche das Silberkomplexsalz-Diffusionstransferumkehrverfahren (DTR-Verfahren) verwendet, bei welchem die Entwicklung rasch fortschreitet, als lichtempfindliches Material verwendet wird.

Ein Bediener muss also die aufgeraute Walze wiederholt reinigen, um den auf der aufgerauten Walze abgelagerten Silberschlamm und dergleichen zu entfernen.

Eine Vorrichtung zur Bearbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 ist aus EP-488207A bekannt.

Die vorliegende Erfindung ist auf eine Vorrichtung zur Bearbeitung eines lichtempfindlichen Materials, wie sie in Patentanspruch 1 definiert ist, gerichtet.

Demgemäß ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein lichtempfindliches Material mit einer geeigneten Menge an Bearbeitungsflüssigkeit ohne Beschädigungen des lichtempfindlichen Materials gleichförmig zu beschichten.

Es ist eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung zu verhindern, dass Luft in einen Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabeabschnitt eintritt, damit der Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabeabschnitt eine Bearbeitungsflüssigkeit gleichförmig abgeben kann.

Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, Stoffe, wie Silberschlamm, die auf einer aufgerauten Oberfläche eine Beschichtungswalze durch eine Stützwalze abgelagert sind, zu beseitigen, um eine konstante Menge an Bearbeitungsflüssigkeit für das Beschichten aufrechtzuerhalten und die Wartung zu erleichtern.

Es ist eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine qualitativ hochwertige Bearbeitung durchzuführen, die frei von einer Entwicklungsungleichmäßigkeit über das lichtempfindliche Material hinweg ist, wenn eine kleine Menge an Bearbeitungsflüssigkeit verwendet wird.

Diese und andere Aufgaben, Merkmale, Aspekte und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden detaillierten Beschreibung der vorliegenden Erfindung bei Hinzunahme der beigefügten Zeichnungen deutlicher werden.

1 ist eine schematische Ansicht einer Plattenherstellungsvorrichtung für lithographische Druckplatten gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;

2 ist eine schematische Ansicht einer Entwicklungseinheit;

3 ist eine schematische Ansicht eines Rohrsystems für die Entwicklungseinheit;

4 ist eine schematische Ansicht eines Aktivator-Beschichtungsmechanismus;

5 ist eine perspektivische Ansicht, die die Beziehung zwischen Abgabelöchern und Öffnungen zeigt;

6 ist eine teilvergrößerte Schnittansicht einer Beschichtungswalze.

7 ist eine Schnittansicht, die die Verbindung zwischen einer Pumpe und einem Aktivator-Zuführrohr zeigt;

8 ist eine schematische Ansicht eines Antriebsübertragungsmechanismus;

9 ist eine teilvergrößerte schematische Ansicht des Antriebsübertragungsmechanismus;

10 ist eine schematische Ansicht des Antriebsübertragungsmechanismus;

11 veranschaulicht eine Pfütze von Bearbeitungsflüssigkeit;

12 veranschaulicht eine weitere Pfütze von Bearbeitungsflüssigkeit;

13 ist eine schematische Ansicht eines Aktivator-Beschichtungsmechanismus gemäß einer Ausführungsform, die nicht zur Erfindung gehört;

14 veranschaulicht sechseckige Vorsprünge und Ausnehmungen;

15 ist eine schematische Ansicht eines Stabilisator-Beschichtungsmechanismus;

16 ist eine perspektivische Ansicht, die die Beziehung zwischen Abgabelöchern und Öffnungen zeigt;

17 ist eine vergrößerte Draufsicht eines Oberflächenaufbaus einer Verteilungsfolie;

18 ist ein Teilschnitt einer Schwammwalze mit einer großen Anzahl getrennter Poren;

19 und 20 sind Flussdiagramme, die den Vorgang des Zuführens eines Aktivators zeigen;

21 ist eine schematische Ansicht einer Abwandlung des Aktivator-Beschichtungsmechanismus.

1 ist eine schematische Ansicht einer Plattenherstellungsvorrichtung für lithographische Druckplatten, welche eine erfindungsgemäße Bearbeitungsvorrichtung für lichtempfindliche Materialien gemäß der Erfindung aufweist.

Die Plattenherstellungsvorrichtung verwendet eine ein Silberkomplexsalz-Diffusionstransferumkehrverfahren (DTR-Verfahren) verwendende lithographische Druckplatte M als lichtempfindliches Material und führt eine Bildbelichtung und -entwicklung auf der lithographischen Druckplatte M aus. Die Plattenherstellungsvorrichtung umfasst eine Belichtungseinheit (2) zum Belichten der lithographischen Druckplatte M und eine Entwicklungseinheit 3 zum Entwickeln der belichteten lithographischen Druckplatte M.

Die das Silberkomplexsalz-Diffusionstransferumkehrverfahren (DTR-Verfahren) verwendende lithographische Druckplatte, insbesondere die lithographische Druckplatte mit einer Nucleusschicht für physikalische Entwicklung auf einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht, ist in den US-Patenten 3728114, 4134769, 4160670, 4336321, 4501811, 4510228 und 4621041 beschrieben. Das belichtete Silberhalogenid veranlasst eine chemische Entwicklung mit DTR-Entwicklung und wandelt sich in schwarzes Silber unter Bildung eines hydrophilen Nicht-Bildbereichs um. Ein Silbersalz-Komplexbildner in einem Aktivator wandelt unbelichteten Silberhalogenidkristall in einen Silberkomplex um, welcher seinerseits auf die Entwicklungsnucleussschicht für physikalische Entwicklung auf der Oberfläche verteilt wird und wegen des Vorhandenseins von Kernen zu einer physikalischen Entwicklung Anlass gibt und einen Bildbereich ausbildet, der hauptsächlich Tinte aufnehmendes physikalisch entwickeltes Silber aufweist.

Die Belichtungseinheit 2 wird zuerst beschrieben. Die Belichtungseinheit 2 strahlt Licht, das von einem mit einem Originalhalter 12 gehaltenen Original reflektiert wird, mittels eines optischen Einstrahlsystems 13 auf eine Oberfläche der lithographischen Druckplatte M ein, um so die lithographische Druckplatte M zu belichten, womit das Bild das Originals auf der lithographischen Druckplatte M ausgebildet wird.

Der Originalhalter 12 enthält eine transparente Platte 14 zur Anordnung des Originals auf dieser, und eine oberseitige Abdeckung 15, welche relativ zu der transparenten Platte 14 betätig- und schließbar ist, und ist horizontal hin und her gehend zwischen einer mit den durchgehenden Linien der 1 angegebenen Stellung und einer mit der strichdoppelpunktierten Linie der 1 angegebenen Stellung unter Halten des Originals durch Betätigen eines Motors 16 bewegbar. Das optische Einstrahlsystem 13 ist unter dem Weg der hin und her gehenden Bewegung des Originalhalters 12 befestigt und enthält eine stabförmige Lichtquelle 17, mit der Beleuchtungslicht auf die Oberfläche des vom Originalhalter 12 gehaltenen und sich in horizontaler Richtung bewegenden Originals gerichtet wird, eine Anzahl von reflektierenden Spiegeln 18 zum Leiten des von der Lichtquelle 17 abgegebenen und vom Original reflektierten Lichts sowie eine Projektionslinse 19 zum Einstrahlen des von dem Spiegeln 18 geführten und reflektierten Lichts auf die lithographische Druckplatte M.

Die Belichtungseinheit 2 belichtet die lithographische Druckplatte M zur Ausbildung des Originalbilds auf der lithographischen Druckplatte M in einer nachstehend zur beschreibenden Weise. Anfänglich ist der Originalhalter 12 in einer mit den durchgehenden Linien der 1 angegebenen Stellung angeordnet. Das Original wird bei geöffneter Abdeckung 15 auf der transparenten Platte 14 angeordnet, wonach die Abdeckung 15 geschlossen wird, um das Original im Originalhalter 12 zu halten. Bei eingeschalteter Lichtquelle 17 wird der Originalhalter 12, wie in 1 gezeigt, nach links bewegt. Gleichzeitig mit der Linksbewegung des Originalhalters 12 führen eine Anzahl von Zuführwalzen 22 und eine Anzahl von Führungselementen 23 die Vorderkante der gerollten lithographischen Druckplatte M mit der gleichen Geschwindigkeit, mit der auch der Originalhalter 12 bewegt wird. Das vom Originalhalter 12 gehaltene Original erhält sequenziell eine Belichtung von der Lichtquelle 17. Das vom Original reflektierte Licht wird durch eine Anzahl von reflektierenden Spiegeln 18 und die Projektionslinse 19 auf die Oberfläche der lithographischen Druckplatte M gerichtet, die sich mit der gleichen Geschwindigkeit bewegt, mit der der Originalhalter 12 bewegt wird, um die lithographische Druckplatte M zu belichten, womit ein latentes Originalbild auf der lithographischen Druckplatte M ausgebildet wird.

Die belichtete lithographische Druckplatte M, auf welcher das latente Bild ausgebildet ist, wird in letzterem Stadium aus der Belichtungseinheit 2 in die Entwicklungseinheit 3 transportiert und in der Entwicklungseinheit 3 bearbeitet. Eine Schneideinheit 25, die benachbart zum Auslass der Belichtungseinheit 2 angeordnet ist, enthält ein Messer 24, welches senkrecht zur Vorwärtsrichtung (auf Transportrichtung) der lithographischen Druckplatte M beweglich ist und die lithographische Druckplatte am hinteren Ende, wo die Belichtung endet, abschneidet.

Die lithographische Druckplatte M darf nicht einfach von der Belichtungseinheit 2 zur Entwicklungseinheit 3 laufen, da die Geschwindigkeit, mit der die lithographische Druckplatte M in der Belichtungseinheit 2 transportiert wird, niedriger als die Geschwindigkeit ist, mit der die lithographische Druckplatte in der Entwicklungseinheit 3 transportiert wird. Ferner muss der Transportvorgang der lithographischen Druckplatte M unterbrochen werden, wenn die Schneideinheit 25 die lithographische Druckplatte M schneidet. Aus diesen Gründen ist ein Pufferabschnitt 26 für die lithographische Druckplatte M zwischen der Belichtungseinheit 2 und der Entwicklungseinheit 3 vorgesehen. Ein Paar von Walzen 27 und 28 im Pufferabschnitt 26 hört für eine bestimmte Zeitdauer während des Transportvorgangs der in der Belichtungseinheit 2 belichteten lithographischen Druckplatte M auf, sich zu drehen, um eine gegebene Länge der lithographischen Druckplatte M im Pufferabschnitt 26 vor dem Transportvorgang der lithographischen Druckplatte M in die Entwicklungseinheit 3 zu speichern.

Der Aufbau der Entwicklungseinheit 3 gemäß der vorliegenden Erfindung wird nachfolgend diskutiert. 2 ist eine vergrößerte schematische Ansicht der in 1 gezeigten Entwicklungseinheit 3. 3 ist eine schematische Ansicht eines Rohrleitungssystems für die Entwicklungseinheit 3.

Die Entwicklungseinheit 3 umfasst einen Entwicklungsabschnitt 32 zur Beschichtung der belichteten lithographischen Druckplatte M mit einem Aktivator zur Entwicklung der lithographischen Druckplatte M, einen Stabilisierungsabschnitt 3 zur Beschichtung der entwickelten lithographischen Druckplatte M mit einem Stabilisator zur Stabilisierung der entwickelten lithographischen Druckplatte M sowie einen Trocknungsabschnitt 34 zum Trocknen der stabilisierten lithographischen Druckplatte M.

Der Entwicklungsabschnitt 32 enthält ein Paar von Einführwalzen 41, 42 zum Transport der von den Walzen 27 und 28 des Pufferabschnitts 26 zugeführten lithographischen Druckplatte M zum Entwicklungsabschnitt 32 unter Halten der lithographischen Druckplatte M zwischen ihnen; einen Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 zur Bemessung einer konstanten Menge an Aktivator zur Aufbringung des bemessenen Aktivators auf die lichtempfindliche Oberfläche der mit dem Paar von Einführwalzen 41, 42 zugeführten lithographischen Druckplatte M; ein Paar von Quetschwalzen 44, 45 zur Entfernung des für die Entwicklung der lithographischen Druckplatte M vorgesehenen Aktivators; und eine Anzahl von Führungselementen 46, 47, 48, 49, 50 zum Führen der lithographischen Druckplatte M.

Die untere, 41, des Paares von Einführwalzen 41, 42 ist eine Heizwalze, welche eine Heizvorrichtung zum Erwärmen der durchlaufenden lithographischen Druckplatte M enthält. Die lithographische Druckplatte M wird vor dem Entwickeln vorgewärmt, um zu verhindern, dass die Temperatur der kleinen Menge an temperaturgesteuertem Aktivator, die die lithographische Druckplatte M berührt, wegen der Wärmekapazität der lithographischen Druckplatte M abnimmt, wenn die lithographische Druckplatte M mit dem Aktivator beschichtet und entwickelt wird.

Unter Bezug auf die 3 ist der Aktivatorbeschichtungsmechanismus 43 mit einem Aktivatortank 52 zur Speicherung des Aktivators über eine Pumpe 53 verbunden. Eine Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 54 ist unter dem Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 vorgesehen. Der Aktivator wird aus dem Aktivatortank 52 dem Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 unter Druck durch die Pumpe 53 geliefert und auf die lithographische Druckplatte M zugeführt. Eine Aktivatormenge, die die lithographische Druckplatte M nicht beschichtet hat, zum Beispiel eine Aktivatormenge, die an gegenüberliegenden Seiten und am hinteren Ende der lithographischen Druckplatte M abfließt, tropft in die Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 54. Der abgetropfte Aktivator, der wieder verwendbar ist, tropft durch ein Wiedergewinnungsrohr 55, das am unteren Ende der Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 54 vorgesehen ist, in einen Aktivatorempfangsabschnitt 56 des Aktivatortanks 52 und wird im Aktivatortank 52 gesammelt. Der Aktivatortank 52 enthält ein Plattenheizgerät 57, um eine bestimmte Temperatur des Aktivators aufrechtzuerhalten, der in dem Aktivatorzirkulationskanal, der sich vom Aktivatortank 52 zum Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 erstreckt, umläuft.

Eine Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 58 ist unter dem Paar von Quetschwalzen 44, 45 vorgesehen. Ermüdeter Aktivator, der von der lithographischen Druckplatte M mit dem Paar von Quetschwalzen 44, 45 entfernt wird, tropft durch ein Wiedergewinnungsloch 63 eines Aktivator-Empfangselements 63, das unter dem Paar von Quetschwalzen 44, 45 vorgesehen ist, in die Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 58. Der ermüdete Aktivator, der nicht wieder verwendbar ist, wird über ein Wiedergewinnungsrohr 59, das am unteren Ende der Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 58 vorgesehen ist, in einen Entleerungstank 64 abgegeben.

Unter Bezug auf 4 enthält der Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 ein Aktivator-Zuführrohr 122 mit einer Anzahl von Abgabelöchern 121, die unten in ihm gebohrt sind; einen Aktivatorempfangsabschnitt 124 mit einer Anzahl von Öffnungen 123, die in seinem unteren Ende gebohrt sind, damit der Aktivator durch sie hindurch nach unten fließen kann; eine Beschichtungswalze 125 mit einer Oberfläche, die mit einer Anzahl von Nuten ausgebildet ist und in Berührung mit der lithographischen Druckplatte M rotiert. Eine Verteilungsfolie 126 leitet den aus den Öffnungen 123 des Aktivatorempfangsabschnitts 124 nach unten fließenden Aktivator zu der Beschichtungswalze 125. Eine Rückflussverhinderungsfolie 127 verhindert einen Rückfluss des aus den Öffnungen 123 des Aktivatorempfangsabschnitts 124 nach unten fließenden Aktivators. Eine Stützwalze 128 steht mit der Beschichtungswalze 125 in Berührung. Der Pfeil der 4 zeigt die Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M an.

Das Aktivator-Zuführrohr 122 ist mit dem oben beschriebenen Aktivatortank 52 über die Pumpe 53 verbunden und wird durch die Pumpe 53 für eine Abgabe des Aktivators durch die Anzahl von Abgabelöchern 121 betrieben. Der Aktivator wird zunächst im Aktivatorempfangsabschnitt 124 empfangen und fließt dann durch die Anzahl von Öffnungen 123 zur Verteilungsfolie 126 nach unten. Der durch die Öffnungen 123 des Aktivatorempfangsabschnitts 124 nach unten fließende Aktivator wird zunächst in einer an einem Berührbereich zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Verteilungsfolie 126 ausgebildeten Ausnehmung gespeichert und dann in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M verteilt. Mit Drehung der Beschichtungswalze 125 durchläuft der Aktivator dann durch die Nuten der Beschichtungswalze 125 definierte Öffnungen zu einem Berührbereich zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 und bildet darin eine Aktivatorpfütze aus.

Der Aktivator wird auf die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M aufgetragen, wenn die lithographische Druckplatte M die Aktivatorpfütze durchläuft. Da die Stützwalze 128 die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M gegen die Oberfläche der Beschichtungswalze 125 drückt, bemessen die durch die Nuten der Beschichtungswalze 125 definierten Öffnungen eine konstante Aktivatormenge, die auf die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M aufgebracht wird. Die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M, die den Berührbereich zwischen der Stützwalze 128 und der Beschichtungswalze 125 durchlaufen hat, wird also konstant mit einer konstanten Menge an Aktivator, die für die Entwicklung erforderlich ist, beschichtet.

Unter Bezug erneut auf 3 enthält der Stabilisierungsabschnitt 33 einen Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 zur Bemessung einer konstanten Stabilisatormenge zur Aufbringung des bemessenen Stabilisators auf die lichtempfindliche Oberfläche der aus dem Entwicklungsabschnitt 32 zugeführten lithographischen Druckplatte M sowie ein Paar von Quetschwalzen 74, 75 zur Entfernung des zur Stabilisierung vorgesehenen Stabilisators von der lithographischen Druckplatte M. Eine Anzahl von Führungselementen 76, 77, 78 ist zum Führen der lithographischen Druckplatte M vorgesehen.

Der Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 ist mit einem Stabilisatortank 82 zur Speicherung des Stabilisators über eine Pumpe 83 verbunden. Eine Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 84 ist unter dem Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 vorgesehen. Der Stabilisator wird aus dem Stabilisatortank 82 an den Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 unter Druck durch die Pumpe 83 geliefert und der lithographischen Druckplatte M zugeführt. Eine Stabilisatormenge, die die lithographische Druckplatte M nicht beschichtet hat, beispielsweise eine Stabilisatormenge, die an entgegengesetzten Seiten und am hinteren Ende der lithographischen Druckplatte M abfließt, ist wieder verwendbar und tropft in die Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 84. Der abgetropfte Stabilisator tropft durch ein Wiedergewinnungsrohr 85, das am unteren Ende der Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 84 vorgesehen ist, in einen Stabilisatorempfangsabschnitt 86 des Stabilisatortanks 82 und wird im Stabilisatortank 82 gesammelt.

Eine Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 88 ist unter dem Paar von Quetschwalzen 74, 75 vorgesehen. Der von der lithographischen Druckplatte M durch das Paar von Quetschwalzen 74, 75 entfernte Stabilisator tropft durch ein Wiedergewinnungsloch 93 des Stabilisatorempfangselements 92, das unter dem Paar von Quetschwalzen 74, 75 vorgesehen ist, in die Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung. Der abgetropfte Stabilisator, der nicht wieder verwendbar ist, wird durch ein Wiedergewinnungsrohr 89 am unteren Ende der Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 88 in den Ablasstank 64 abgegeben.

Der Aufbau des oben beschriebenen Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 und die Beschichtung der lithographischen Druckplatte M mit dem Stabilisator werden später im einzelnen beschrieben.

Der Trocknungsabschnitt 34 (2) enthält eine Gummiwalze 102 zum Abstützen und Transportieren der aus dem Stabilisierungsabschnitt 33 zugeführten lithographischen Druckplatte M; eine Spiegelflächenwalze 103 für ein Anliegen gegen die Gummiwalze 102 mit einem bestimmten Druck, um eine Trocknungsungleichmäßigkeit der lithographischen Druckplatte M zu verhindern; sowie einen Reinigungslösungsbehälter 104 zum Liefern einer Reinigungslösung an die Spiegelflächenwalze 103 über die Gummiwalze 102. Ein Trocknungsmechanismus 107 enthält einen Ventilator 107F und eine Heizvorrichtung 107H zum Trocknen der lithographischen Druckplatte M, indem sie heißer Luft ausgesetzt wird. Eine Anzahl von Transportwalzen 108, 109, 110 ist zum Transportieren der lithographischen Druckplatte M vorgesehen. Wie in 3 abgebildet, ist der Reinigungslösungsbehälter 104 über eine Pumpe 106 mit einem Reinigungslösungszuführrohr 105 zum Zuführen der Reinigungslösung an das Paar von Quetschwalzen 44, 45 des Entwicklungsabschnitts 32 verbunden.

Die Entwicklungseinheit 3 entwickelt die lithographische Druckplatte M in einer nachstehend zu beschreibenden Weise. Die lithographische Druckplatte M mit durch die Belichtungseinheit 2 in der vorgehenden Stufe darauf aufgezeichnetem latentem Bild wird durch das Paar von Einführungswalzen 41, 42 transportiert und durch den Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 mit dem Aktivator in einer für ihre Entwicklung erforderlichen Menge beschichtet. Die Entwicklung der lichtempfindlichen Oberfläche der lithographischen Druckplatte M, die mit dem Aktivator nur in der für die Entwicklung erforderlichen Menge beschichtet ist, wird abgeschlossen, während die lithographische Druckplatte M in einem räumlichen Entwicklungsabschnitt, der sich von dem Aktivator-Beschichtungsmechanismus zu dem Paar von Quetschwalzen 44, 45 erstreckt, transportiert wird. Der für die Entwicklung benutzte und auf der lithographischen Druckplatte M verbleibende Aktivator wird durch das Paar von Quetschwalze 44, 45 entfernt. Die lithographische Druckplatte M wird dann durch den Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 mit dem Stabilisator in einer Menge beschichtet, die für ihre Stabilisierung erforderlich ist. Die lithographische Druckplatte M, die mit dem Stabilisator nur in der Menge beschichtet ist, die zur Stabilisierung erforderlich ist, wird stabilisiert, während sie zu dem Paar von Quetschwalzen 74, 75 transportiert wird. Der für die Stabilisierung verwendete und auf der lithographischen Druckplatte M verbleibende Stabilisator wird durch das Paar von Quetschwalzen 74, 75 entfernt. Die lithographische Druckplatte M, die stabilisiert worden ist, wird durch die Spiegeloberflächenwalze 103 zur Verhinderung einer Trocknungsungleichmäßigkeit gedrückt, durch den Trocknungsmechanismus 107 getrocknet und dann auf eine in 1 gezeigte Abgabe-Auffangvorrichtung 29 abgegeben.

Die Entwicklungseinheit 3 ist so eingerichtet, dass sie die lithographische Druckplatte M mit dem Aktivator nur in der Menge beschichtet, die für die Entwicklung erforderlich ist, womit die Verwendung einer für die Bearbeitung erforderlichen geringeren Menge an Aktivator möglich wird. Ferner wird ein im wesentlichen unbenutzter Aktivator der lithographischen Druckplatte M zur konstanten Durchführung einer gleichförmigen Bearbeitung auf der lithographischen Druckplatte M zugeführt.

Unter Bezug auf 4 enthält der Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 das Aktivator-Zuführrohr 122 mit einer Anzahl von Abgabelöchern 121, die unten in ihm gebohrt sind. Der Aktivatorempfangsabschnitt 124 weist eine Anzahl von Öffnungen oder Durchgangslöchern 123 auf, die an seinem unteren Ende gebohrt sind, damit der Aktivator durch sie hindurch nach unten fließen kann. Die Verteilungsfolie 126 steht mit der Beschichtungswalze 125 in Berührung. Der aus den Öffnungen 123 des Aktivatorempfangsabschnitts 124 fließende Aktivator wird durch die Verteilungsfolie 126 der Beschichtungswalze 125 zugeführt, die in Berührung mit der lithographischen Druckplatte M dreht. Die Rückflussverhinderungsfolie 127 und die Stützwalze 128 stehen mit der Beschichtungswalze 125 in Berührung. Der Pfeil in 4 gibt die Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M an.

Das Aktivator-Zuführrohr 122 ist mit dem oben beschriebenen Aktivatortank 52 über die Pumpe 53 verbunden und wird durch die Pumpe 53 so betrieben, dass Aktivator aus der Anzahl der Abgabelöchern 121 abgegeben wird. Unter Bezug auf 5 sind drei Abgabelöcher 121 in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M angeordnet.

Der Aktivatorempfangsabschnitt 124 wirkt als erster Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt, der zunächst den aus dem Aktivator-Zuführrohr 122 abgegebenen Aktivator empfängt, um den Aktivator in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M zu verteilen. Wie in 5 dargestellt, sind sechs Öffnungen 123 im unteren Ende des Aktivatorempfangsabschnitts 124 gebohrt und in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M angeordnet. Die Öffnungen 123 sind so positioniert, dass jeweils zwei der Öffnungen 123 auf entgegengesetzten Seiten einer Position, die der Position eines jeden der drei Abgabelöcher 121 des Aktivator-Zuführrohrs 122 entspricht, in Richtung senkrecht zur Zuführrichtung der lithographischen Druckplatte M angeordnet sind. Das heißt, die Öffnungen 123 sind jeweils auf entgegengesetzten Seiten der drei Positionen angeordnet, an welchen der Aktivator aus den Abgabelöchern 121 zum Aktivatorempfangsabschnitt 124 nach unten fließt. Anders ausgedrückt, sind die Abstände zwischen der Anzahl von Abgabelöchern 121 größer als die Abstände zwischen der Anzahl von Öffnungen 123.

Die Verteilungsfolie 126 besteht aus Polyethylenterephthalat (PET) mit einer Dicke von ungefähr 0,3 mm und ist an einer Seitenwand des Aktivatorempfangsabschnitts 124 durch eine Montageplatte 130 angebracht (siehe 4). Ein Teil der Verteilungsfolie 126, die von dem Aktivatorempfangsabschnitt 124 herunterhängt, ist mit einem oberen Ende benachbart zu den Öffnungen 123 des Aktivatorempfangsabschnitts 124 angeordnet und mit einem unterem Ende in elastischer Berührung mit der Oberfläche der Beschichtungswalze 125.

Unter Bezug auf 6 umfasst die Beschichtungswalze 125 einen Drahtstab, der eine Metallwalze 125a mit einem Durchmesser von ungefähr 14 mm und einen Draht 125b mit einem Durchmesser von ungefähr 0,4 mm und gewickelt um die Oberfläche der Walze 125a enthält. Die Oberfläche der Beschichtungswalze 125 weist eine Anzahl von Nuten auf, die durch die benachbarten Teile des Drahtes 125b definiert sind und sich im wesentlichen parallel zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M erstrecken. Bei mit der Verteilungsfolie 126 in Berührung stehender Beschichtungswalze 125 wird dann eine Anzahl von Öffnungen 125c, die durch die Nuten der Beschichtungswalze 125 definiert sind, im Berührbereich zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Verteilungsfolie 126 ausgebildet. Anders ausgedrückt, weist die Beschichtungswalze 125 eine Umfangsoberfläche auf, um welche herum die Anzahl von Öffnungen oder Nuten 125c ausgebildet und angeordnet ist. Die Aktivatormenge, die die lithographische Druckplatte M beschichtet, wenn sie bemessen wird, beruht auf den Dimensionen der Öffnungen 125c. Es ist darauf hinzuweisen, dass die Dimensionen der Öffnungen 123 des Aktivatorempfangsabschnitts 124 und der Durchmesser des um die Beschichtungswalze 125 gewickelten Drahts 125b so ausgewählt sind, dass die Gesamtfläche der durch die Nuten der Beschichtungswalze 125 definierten Öffnungen 125c kleiner als die Gesamtfläche der sechs Öffnungen 123 des Aktivatorempfangsabschnitts 124 ist.

Der durch die Öffnungen 123 des Aktivatorempfangsabschnitts 124 nach unten fließende Aktivator wird zunächst im Berührbereich zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Verteilungsfolie 126 gespeichert und dann in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M verteilt. Mit Drehung der Beschichtungswalze 125 durchläuft der Aktivator die durch die Nuten der Beschichtungswalze 125 definierten Öffnungen 125c zum Berührbereich zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128. Die Beschichtungswalze 125 und die Verteilungsfolie 126 wirken also als ein zweiter Bearbeitungsflüssigkeitsverteilungsabschnitt, der zunächst den aus den Öffnungen 123 des Aktivatorempfangsabschnitts 124 nach unten fließenden Aktivator erhält und dann den Aktivator in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M verteilt.

Die Beschichtungswalze 125 muss nicht notwendigerweise gedreht werden, sie wird aber vorzugsweise gedreht, um eine Reinigungswirkung für die Beschichtungswalze 125 durch die Berührung mit der Stützwalze 128 zu schaffen. Die Beschichtungswalze 125 kann eine Walze mit einer mit einem Gewinde oder mit Nuten versehenen Oberfläche an Stelle des Drahtstabs sein.

Ähnlich wie die Verteilungsfolie 126 besteht auch die Rückflussverhinderungsfolie 127 aus Polyethylenterephthalat (PET) und ist am Aktivatorempfangsabschnitt 124 durch eine Montageplatte 120 angebracht. Das untere Ende der Rückflussverhinderungsfolie 127 steht mit der Oberfläche der Beschichtungswalze 125 an einer Stelle lauf oberhalb des Berührbereichs zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Verteilungsfolie 126, gesehen in Drehrichtung der Beschichtungswalze 125, d. h. laufunterhalb des Berührbereichs zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Verteilungsfolie 126, gesehen in Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M, in Berührung. Die Rückflussverhinderungsfolie 127 wirkt als Beschränkungsmittel zur Verhinderung, dass der aus den Öffnungen 123 des Aktivatorempfangsabschnitts 124 nach unten strömende Aktivator lauf oberhalbseitig gegen die Drehung der Beschichtungswalze 125 fließt. Die Rückflussverhinderungsfolie 127 kann daher verhindern, dass der Rückfluss des Aktivators erneut auf der Oberfläche der lithographischen Druckplatte, die unter Beschichtung mit dem Aktivator transportiert wird, abgelagert wird.

Die Stützwalze 128 wirkt als Transportierunterstützungsmittel zur Lieferung einer Antriebskraft auf die lithographische Druckplatte M, um das Transportieren der lithographischen Druckplatte M zu unterstützen, als Drückmittel zum Drücken der lithographischen Druckplatte M gegen die Oberfläche der Beschichtungswalze 125 und als Reinigungsmittel zum Reinigen der Oberfläche der Beschichtungswalze 125. Die Stützwalze 128 hat maßvolle Elastizität, die ausreicht, die Innenseite der Nuten in der Oberfläche der Beschichtungswalze 125 zu reinigen, da sie dazu verwendet wird, die Nuten zu reinigen. Vorzugsweise besteht die Stützwalze 128 beispielsweise aus Silikongummi, Chloroprengummi (CR), Nitrilbutadiengummi (NBR) und Ethylenpropylengummi (EDPM) und liegt in Form einer Schwammwalze mit einer großen Anzahl getrennter Poren und einer Härte von ungefähr 10 bis 40 Grad nach JIS (Japanese Industrial Standards), was einer SHORE-Härte von 11,3 bis 41,8 Grad in ISO und ASTM und 10 bis 40 Grad in DIN entspricht. Der Durchmesser der Stützwalze 128 beträgt 25 mm, was ungefähr das 1,8-fache des Durchmessers (13,8 mm) der Beschichtungswalze 125 ist.

Der zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Verteilungsfolie 126 hindurchgeführte Aktivator bildet im Berührbereich zwischen der Stützwalze 128 und der Beschichtungswalze 125 eine Pfütze aus. Der Aktivator wird auf die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M aufgebracht, wenn die über die Stützwalze 128 transportierte lithographische Druckplatte M die Aktivatorpfütze durchläuft. Da die Stützwalze 128 die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M gegen die Oberfläche der Beschichtungswalze 125 drückt, bemessen die durch die Nuten der Stützwalze 125 definierten Öffnungen 125c eine konstante Menge an die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M beschichtendem Aktivator. Die durch den Berührbereich zwischen der Stützwalze 128 und der Beschichtungswalze 125 geführte lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M wird konstant mit einer konstanten Aktivatormenge, die für die Entwicklung benötigt wird, beschichtet. Die Entfernung, über die die lithographische Druckplatte M pro Sekunde transportiert wird, ist 20 mm, was ungefähr das 1,45-fache des Durchmessers (13,8 mm) der Beschichtungswalze 125 ist.

Die durch einen (nicht gezeigten) Motor angetriebene Stützwalze 128 dreht sich mit einer Umfangsgeschwindigkeit, die gleich der Geschwindigkeit ist, mit der die lithographische Druckplatte M transportiert wird, um das Transportieren der lithographischen Druckplatte M zu unterstützen. Die Beschichtungswalze 125 andererseits dreht sich mit einer Umfangsgeschwindigkeit, die ungefähr das 1,5-fache der Umfangsgeschwindigkeit der Stützwalze 128 ist. Die Oberfläche der Beschichtungswalze 125 wird also stets durch die Stützwalze 128 abgewischt, ausgenommen, wenn die lithographische Druckplatte M zwischen Stützwalze 128 und Beschichtungswalze 125 durchläuft. Dies verhindert, dass Silberschlamm und dergleichen in den Nuten der Beschichtungswalze 125 abgelagert wird, wie dies später noch im einzelnen beschrieben wird.

Im Aktivator-Beschichtungsmechanismus fließt der aus den drei Abgabelöchern 121 des Aktivator-Zuführrohrs 122 abgegebene Aktivator zum Aktivatorempfangsabschnitt 124 nach unten und fließt aus den sechs Öffnungen 123 des Aktivatorabschnitts 124 zur Verteilungsfolie 126 hin weiter nach unten. Ein aus jedem der drei Abgabelöcher 121 nach unten zum Aktivatorempfangsabschnitt 124 fließender Aktivatorstrom wird zwischen dem Paar von Löchern 123 verteilt, die an entgegen gesetzten Seiten eines jeden Abgabelochs 121 in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M angeordnet sind, und wird danach in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M verteilt. Der Aktivator fließt weiter zum Berührbereich zwischen der Verteilungsfolie 126 und der Beschichtungswalze 125 nach unten und durchläuft die Öffnungen 125c, die durch die Nuten der Beschichtungswalze 125 definiert sind. Der Aktivator wird dann in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M weiter verteilt.

Der Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 führt also eine zweistufige Aktivatorverteilung unter Verwendung des Aktivatorempfangsabschnitts 124, der als der erste Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt dient, und der Beschichtungswalze 125 sowie der Verteilungsfolie 126, die als zweiter Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt dienen, durch, womit eine gleichförmige Verteilung des Aktivators in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M erzielt wird. Dies erlaubt eine hochgleichförmige Zufuhr des Aktivators zur lithographischen Druckplatte M und beseitigt eine Entwicklungsungleichmäßigkeit der lithographischen Druckplatte M bei der Entwicklung, wenn eine kleine Aktivatormenge zugeführt wird. Ein weiterer Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt kann zwischen erstem und zweitem Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt vorgesehen sein.

In dieser bevorzugten Ausführungsform insbesondere ist, da die Gesamtfläche der Öffnungen 125c, die durch die Nuten der Beschichtungswalze 125 definiert ist, kleiner als die der in dem Aktivatorempfangsabschnitt 124 gebohrten sechs Löcher 123 ist, die Aktivatorverteilungsfähigkeit der Beschichtungswalze 125 und der Verteilungsfolie 126, die als zweiter Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt dienen, größer als diejenige des Aktivatorempfangsabschnitts 124, der als der erste Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt dient. Der Aktivator wird dementsprechend durch die Beschichtungswalze 125 und die Verteilungsfolie 126, die als der zweite Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt dienen, gleichmäßig verteilt, was schließlich die Menge an Aktivator, die die lithographische Druckplatte M beschichtet, beeinflusst. Schließlich kann der Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 den Aktivator in hochgleichförmiger Weise verteilen.

Diese bevorzugte Ausführungsform ist daher insbesondere wirksam, wenn der Aktivator aufgebracht wird, um eine lithographische Druckplatte M zu entwickeln, die das Silberkomplexsalz-Diffusionstransferumkehrverfahren (DTR-Verfahren) verwendet, bei dem eine nicht gleichförmige Aktivatorverteilung dazu neigt, eine Entwicklungsungleichmäßigkeit zu bewirken.

Der hier verwendete Ausdruck „Verteilungsfähigkeit" meint die Fähigkeit, den Aktivator in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M auszubreiten.

7 ist eine Schnittansicht, die die Verbindung zwischen der Pumpe 53 und dem Aktivator-Zuführrohr 122 im Entwicklungsabschnitt 32 zeigt.

Der hier verwendete Pumpe 53 ist eine Pulsationspumpe zur Erzeugung einer periodischen Pulsation, wie oben erwähnt. Wäre die Pumpe 53 einfach mit dem Aktivator-Zuführrohr 122 verbunden, das ein geschlossenes Ende aufweist, um den Aktivator unter Druck zu liefern, sollte gelegentlich Luft in das Aktivatorrohr 122 beispielsweise durch ein strömungsoberseitiges der Abgablöcher 121 (das am weitesten links liegende Abgabeloch 121 in 7) gezogen werden und die Luftblase die strömungsunterseitigen Abgabelöcher 121 blockieren.

Um eine solche Erscheinung zu verhindern, ist die Vorrichtung gemäß der bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung so eingerichtet, dass sie eine Verbindung zwischen der Pumpe 53 und dem Aktivator-Zuführrohr 122 mit einem elastischen Schlauch 191 herstellt und einen Widerstandsabschnitt 192 benachbart zum hinteren Ende des Schlauchs 191 vorsieht, damit ein Druckverlust des Aktivators bewirkt wird.

Genauer besteht der Schlauch 191 aus flexiblem Silikonkautschuk und der Widerstandsabschnitt 192 aus Vinylchlorid. Der Außendurchmesser des Widerstandsabschnitts 192 ist geringfügig größer als der Innendurchmesser des Schlauchs 191, so dass der in den Schlauch 191 eingesetzte Widerstandsabschnitt 192 darin festgelegt wird. Der Widerstandsabschnitt 192 weist eine Aktivatordurchtrittsbohrung oder ein Durchgangsloch 193 mit einem Durchmesser von 1 mm auf. Der Schlauch 191 und der Aktivatorzuführabschnitt 122 haben einen Innendurchmesser von 4 mm. Der Durchmesser der Abgabelöcher 121 beträgt 1 mm. Der aus dem Schlauch 191 durch das Aktivator-Zuführrohr 121 zu den Abgabelöchern 121 gerichtete Aktivator trifft auf einen hohen Widerstand und wird durch den Widerstandsabschnitt 192 einem großen Druckverlust unterworfen.

Wenn die Pumpe 53 den Aktivator aus dem Aktivatortank 52 unter Druck liefert, bewirkt die Pulsation der Pumpe 53 wiederholt einen Abgabezustand, in dem der Aktivator aus der Pumpe 53 abgegeben wird, und einen Nicht-Abgabezustand, in dem der Aktivator aus der Pumpe 53 nicht abgegeben wird. Da jedoch der elastische Schlauch 191 aus flexiblem Silikonkautschuk und der Widerstandsabschnitt 192 Strömungs unterhalb des Schlauchs 191 vorgesehen sind, wird im Abgabezustand der Schlauch 191 zwischen der Pumpe 53 und dem Widerstandsabschnitt 192 durch den Druck des Aktivators aufgepumpt und im Nicht-Abgabezustand der aufgepumpte Schlauch 191 mit abnehmenden Druck des Aktivators aus dem aufgepumpten Zustand zurückgebracht. Das Rohr 191 absorbiert die von der Pumpe 53 erzeugte Pulsationsströmung des Aktivators, und der Aktivator, der die Aktivatordurchgangsbohrung 193 des Widerstandsabschnitts 192 durchlaufen hat, weist eine nur gering pulsierende Strömung auf.

Der Aktivator wird dann konstant mit einem gegebenen Druck aus den Abgabelöchern 121 des Aktivator-Zuführrohrs 122 abgegeben, wobei keine Luft in das Aktivator-Zuführrohr gezogen wird. Dies verhindert wirkungsvoll, dass infolge einer Blockierung von einem oder einigen der Abgabelöcher 121 eine nicht-gleichförmige Menge an Aktivator aus dem Aktivator-Zuführrohr 122 abgegeben wird.

Der Schlauch 191 kann aus jedem Material sein, das eine mäßige Elastizität (Kontraktionseigenschaft) und chemische Beständigkeit aufweist. Der Schlauch 121 muss nicht über den gesamten Bereich hinweg, der sich zwischen der Pumpe 53 und dem Widerstandsabschnitt 192 erstreckt, Elastizität haben, sondern kann einen elastischen Abschnitt aufweisen, der wenigstens teilweise zwischen der Pumpe 53 und dem Widerstandsabschnitt 191 ausgebildet ist, um die von der Pumpe 53 erzeugte Pulsation aufzunehmen.

Wie durch Bezugszeichen (in 7) angegeben, weist der Stabilisierungsabschnitt 33 auch einen elastischen Schlauch 191 zur Verbindung der Pumpe 83 mit einem Stabilisator-Zuführrohr 132 sowie einen Widerstandsabschnitt 192 benachbart zum hinteren Ende des Schlauchs 191, zur Bewirkung eines Druckverlustes des Stabilisators, auf. Der Stabilisierungsabschnitt 33, ähnlich dem Entwicklungsabschnitt 32, ist dann so eingereichtet, dass der Stabilisator konstant mit einem gegebenen Druck aus Abgabelöchern 131 des Stabilisator-Zuführrohrs 132 abgegeben wird und keine Luft in das Stabilisator-Zuführrohr 132 gezogen wird. Dies verhindert wirkungsvoll, dass infolge einer Blockierung von einem oder einigen der Abgabelöcher 131 eine nicht-gleichförmige Menge an Stabilisator aus dem Stabilisator-Zuführrohr 132 abgegeben wird.

Im Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 wird bei der Entwicklung der lithographischen Druckplatte M Silberschlamm und dergleichen, der Silber und Silberkomplex enthält, durch die lithographische Druckplatte M erzeugt und in den durch den Draht 125b (6) auf der Oberfläche der Beschichtungswalze 125 definierten Nuten abgelagert. Um das mit dem Silberschlamm einhergehende Problem zu lösen, ist der Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 so eingerichtet, dass die Beschichtungswalze 125 (4) und die Stützwalze 128 mit unterschiedlichem Umfangsgeschwindigkeiten rotieren, so dass der auf der Beschichtungswalze 125 abgelagertes Silberschlamm und dergleichen durch die Stützwalze 128 beseitigt wird.

8 ist eine schematische Ansicht eines Antriebsübertragungsmechanismus zum Drehen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 mit unterschiedlichen Umfangsgeschwindigkeiten. 9 ist eine vergrößerte Teilansicht der 8.

In den 8 und 9 ist ein Stirnrad 161 mit einer Antriebswelle 165 der Beschichtungswalze 125 verbunden, wobei das Stirnrad 161 einen Teilkreis 162 hat. Ein Stirnrad 163 ist mit einer Antriebswelle 166 der Stützwalze 128 gekoppelt, wobei das Stirnrad 163 einen Teilkreis 164 hat. In 8 sind die Stirnräder 161, 162 nur durch ihre jeweiligen Teilkreise 162, 164 dargestellt.

Die Antriebswelle 166 der Stützwalze 128 wird durch den Gerätekörper gehaltert. Die Antriebswelle 165 der Beschichtungswalze 125 wird relativ zum Gerätekörper so gehaltert, dass sich die Beschichtungswalze 125 vertikal bewegen kann. Die Beschichtungswalze 125 ist also mit der Stützwalze 128 durch Schwerkraft in Berührung, wobei sie relativ zur Stützwalze 128 vertikal beweglich ist.

Das an einem Ende der Stützwalze 128 befestigte Stirnrad 163 ist mit einer (nicht gezeigten) Antriebsquelle verbunden, wobei die Stützwalze 128 im Gegenuhrzeigersinn mit einer Umfangsgeschwindigkeit dreht, die gleich einer Geschwindigkeit (Transportgeschwindigkeit) ist, mit welcher die lithographische Druckplatte M im Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 transportiert wird. Andererseits kämmt das an einem Ende der Beschichtungswalze 125 befestigte Stirnrad 161 mit dem am Ende der Stützwalze 128 befestigten Stirnrad 163. Das Zahnverhältnis zwischen den Stirnrädern 161 und 163, d. h., das Geschwindigkeitsverhältnis zwischen ihnen ist vom Durchmesserverhältnis zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 verschieden. Die Beschichtungswalze 125 dreht sich also mit einer Umfangsgeschwindigkeit, die von der Umfangsgeschwindigkeit der Stützwalze 128 verschieden ist.

Auf diese Weise drehen die Beschichtungswalze 125 und die Stützwalze 128 mit unterschiedlichen Umfangsgeschwindigkeiten. Die Oberfläche der Beschichtungswalze 125 wird durch die Stützwalze 128 also stets abgewischt, ausgenommen wenn die lithographische Druckplatte M zwischen der Stützwalze 128 und der Beschichtungswalze 125 hindurchläuft. Dies verhindert, dass sich Silberschlamm und dergleichen in den Nuten der Beschichtungswalze 125 absetzt.

Die Oberfläche der Stützwalze 128 ist, wie oben beschrieben, wegen der Notwendigkeit, Elastizität zu haben, die ausreichend maßvoll ist, die Innenseite der Nuten in der Oberfläche der Beschichtungswalze 125 zu reinigen, flexibel und schwammartig. Dies bewirkt eine allmähliche Abnahme des Durchmessers der Stützwalze 128 infolge des Verschleißes der Stützwalze 128 nach einem bestimmten Maß an kontinuierlicher Rotation der Stützwalze 128 mit einer Umfangsgeschwindigkeit, die von derjenigen der metallenen Beschichtungswalze 125 verschieden ist, in Berührung mit der Oberfläche der metallenen Beschichtungswalze 125. Ein übermäßig abgenommener Durchmesser der Stützwalze 128 kann einen Freiraum zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 bewirken, da die Antriebswellen 165 und 166 infolge des Verzahnungseingriffs zwischen den Stirnrädern 161 und 163 nicht in einen festen Abstand oder kürzer hineinkommen, selbst wenn die Beschichtungswalze 125 mit der Stützwalze 128 durch Schwerkraft in Berührung ist. Die Stützwalze 128 muss dann ersetzt werden.

Zur Überwindung dieses Problems werden in dem Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 die Konturen der Beschichtungswalze 125 und Stützwalze 128 so bestimmt, dass der Teilkreis 162 des Stirnrades 161 und der Teilkreis 164 des Stirnrades 163 einen Abstand D auseinander liegen, der kleiner als die Summe der Zahnkopfhöhen H1, H2 der Stirnräder 161, 163, bzw. H1 + H2, ist, wobei die Beschichtungswalze 125 durch Schwerkraft mit der Stützwalze 128 in Berührung ist, wie dies in 9 dargestellt ist. Die Stirnräder 161 und 163 sind dann in Normalbedingungen, in welchen die Teilkreise 162 und 164 derselben außen berührend sind, wenn der Radius der Stützwalze 128 infolge Verschleißes um den Abstand D abgenommen hat.

Die Stützwalze 128 kann benutzt werden, bis der abgenommene Radius der Stützwalze 128 weiter um ein bestimmtes Maß abgenommen hat. Dies gestattet einen Langzeitgebrauch der Stützwalze 128, die flexibel und verschleißanfällig ist.

In der Anordnung der 8 liegt der Teilkreis 162 des mit der Antriebswelle 165 der Beschichtungswalze 125 gekoppelten Stirnrades 161 im Abstand D vom Teilkreis 164 des mit der Antriebswelle 166 der Stützwalze 128 gekoppelten Stirnrades 163. Stattdessen kann, wie in 10 gezeigt, das mit der Antriebswelle 165 der Beschichtungswalze 125 gekoppelte Stirnrad 161 und das mit der Antriebswelle 166 der Stützwalze 128 gekoppelte Stirnrad 163 über ein drittes Stirnrad 171 mit einem Teilkreis 172 und ein viertes Stirnrad 173 mit einem Teilkreis 174 gekoppelt sein, wobei das dritte Stirnrad 171 seitlich in Bezug auf das Stirnrad 161 angeordnet ist.

In der Anordnung der 10 bewegt sich, wenn der Radius der Stützwalze 128 infolge Verschleißes abnimmt, die Beschichtungswalze 125 mit abnehmendem Radius der Stützwalze 128 nach unten und wird mit der Stützwalze 128 stets in Berührung gehalten, da die Stirnräder 161 und 163 nicht in direktem Verzahnungseingriff stehen. Die Kopplung zwischen dem Stirnrad 161 und dem Stirnrad 171 wird durch die Abwärtsbewegung der Beschichtungswalze 125 nicht unterbrochen, da das dritte Stirnrad 171 in Bezug auf das mit der Antriebswelle 165 der Beschichtungswalze 125 gekoppelte Stirnrad 161 seitlich angeordnet ist.

Bei dem Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 ist es vorzuziehen, dass die unten beschriebene Berücksichtigung erfolgt, um Entwicklungsausfälle bei dem zuerst zu entwickelnden Vorderkantenabschnitt der lithographischen Druckplatte M und in anderen als den Vorderkantenabschnitten der lithographischen Druckplatte M, die nacheinander zu entwickeln sind, zu verhindern, wenn die Beschichtungswalze 125 eine geringe Menge an Aktivator auf die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M aufbringt.

Speziell wenn keine Aktivatorpfütze 181 (11) mit einem gegebenen Volumen vorab zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 ausgebildet wird, tritt ein Entwicklungsfehler, insbesondere ein Plattenlebensdauerfehler von lithographischen Druckplatten M, die das Silberkomplexsalz-Diffusionstransferumkehrverfahren (DTR-Verfahren) verwenden, im zuerst zu entwickelndem Vorderkantenabschnitt der lithographischen Druckplatte M auf.

Von den Erfindern der vorliegenden Erfindung durchgeführte Untersuchungen haben gezeigt, dass die vorab zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 auszubildende Pfütze 181 ein gewünschtes Volumen haben kann, indem der Durchmesser der Stützwalze 128 so eingestellt wird, dass er um einen konstanten Betrag größer als derjenige der Beschichtungswalze 125 ist. D. h., eine Einstellung des Durchmessers der Stützwalze 128 so, dass er größer als derjenige der Beschichtungswalze 125 ist, ermöglicht es, dass die Pfütze 181 in stabiler Weise zwischen der Stützwalze 128 und der Beschichtungswalze 125 gehalten wird, was eine Erhöhung des Volumens der vorab auszubildenden Pfütze 181 zulässt.

Genauer gesagt, ist der Durchmesser der Stützwalze 128 nicht kleiner als das 1,25-fache, bevorzugt nicht kleiner als 1,5-fache desjenigen der Beschichtungswalze 125. Dies gestattet es, dass die Pfütze 181 zwischen den Walzen 125 und 128 ein Volumen hat, das für die Entwicklung des Vorderkantenabschnitts der lithographischen Druckplatte M geeignet ist. Wenn der Durchmesser der Stützwalze 128 kleiner als das 1,25-fache desjenigen der Beschichtungswalze 125 ist, bewirkt der Mangel an Volumen der Pfütze 181 einen Plattenlebensdauerfehler im Vorderkantenabschnitt der lithographischen Druckplatte M. Der Durchmesser der Beschichtungswalze 125, wie er hier gebraucht wird, meint den Außendurchmesser der Beschichtungswalze 125 einschließlich des um die Oberfläche der in 6 gezeigten Stützwalze 125a gewickelten Drahtes.

Wenn andererseits eine Aktivatorpfütze 182 mit einen gegebenen Volumen, wie in 12 gezeigt, zwischen der lithographischen Druckplatte M und der Beschichtungswalze 125 nicht aufrechterhalten wird, tritt ein Entwicklungsfehler, insbesondere der Plattenlebensdauerfehler einer das Silberkomplexsalz-Diffusionstransfer-Umkehrverfahren (DTR-Verfahren) verwendeten lithographischen Druckplatte M, in anderen Abschnitten als dem Vorderkantenabschnitt, die nacheinander zu entwickeln sind, auf.

Von den Erfindern der vorliegenden Erfindung durchgeführte Untersuchungen haben gezeigt, dass das Volumen der zwischen der lithographischen Druckplatte M und der Beschichtungswalze 125 ausgebildeten Pfütze 182 vom Durchmesser der Beschichtungswalze 125 abhängt und dass eine geeignete Entwicklung unter Verwendung einer kleinen Aktivatormenge durch Einstellen des Durchmessers der Beschichtungswalze 125 und der Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M auf betreffende gegebene Werte durchgeführt werden kann.

Wenn der Durchmesser der Beschichtungswalze 125 von ungefähr 5 bis ungefähr 70 mm reicht, nimmt das Volumen der Aktivatorpfütze 182, die zwischen der Beschichtungswalze 125 und der lithographischen Druckplatte M ausgebildet wird, während die Beschichtungswalze 125 den Aktivator auf die lithographische Druckplatte M aufbringt, direkt proportional zum Durchmesser der Beschichtungswalze 125 zu.

Die Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M kann erhöht werden, wenn das Volumen der Pfütze 182 verhältnismäßig groß ist. Wenn das Volumen der Pfütze 182 verhältnismäßig klein ist, muss die Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M gesenkt werden, was anderenfalls die Druckleistung der entwickelten lithographischen Druckplatte M und insbesondere die Plattenlebensdauer senken würde. Der Durchmesser der Beschichtungswalze 125 ist daher vorzugsweise größer relativ zur Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte im Sinne von Entwickelbarkeit. Wenn andererseits die Pfütze 182 großes Volumen hat, die Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M aber niedrig ist, ermüdet die verlängerte Zeit, für welche die lithographische Druckplatte M den Aktivator der Pfütze 182 berührt, eine Überschussmenge an Aktivator, welche durch Bemessung mit der Beschichtungswalze 125 zugeführt, aber nicht auf die lithographische Druckplatte M aufgebracht wird. Eine Wiederverwendung der Aktivator-Überschussmenge ist dann nicht zulässig. Der Durchmesser der Beschichtungswalze 125 ist daher vorzugsweise kleiner relativ zur Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M im Sinne einer effektiven Ausnutzung des Aktivators.

Weitere Untersuchungen unter Berücksichtigung der oben beschriebenen Ergebnisse haben gezeigt, dass die Transportstrecke der lithographischen Druckplatte M pro Sekunde als die Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M im Bereich zwischen dem 1,1-fachen bis 2,5-fachen des Durchmessers der Beschichtungswalze 125 sein sollte, um eine stabile und geeignete Verarbeitung mit kleiner Aktivatormenge ohne Ermüdung der Aktivator-Überschussmenge zu erzielen.

Beruhend auf diesen Bedingungen ist der Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 so ausgelegt, dass der Durchmesser der Stützwalze 128 25 mm beträgt, was nicht weniger als 1,25-fache des Durchmessers (13,8 mm) der Beschichtungswalze 125 ist, und so, dass die Transportstrecke der lithographischen Druckplatte M pro Sekunde 20 mm beträgt, was im Bereich zwischen dem 1,1-fachen bis zum 2,5-fachen des Durchmessers (13,8 mm) der Beschichtungswalze 125 liegt.

Unter Berücksichtigung der beiden Bedingungen beträgt der Durchmesser der Beschichtungswalze 125 vorzugsweise ungefähr 5 bis 30 mm und stärker bevorzugt ungefähr 8 bis 25 mm. Eine Beschichtungswalze 125 mit kleinerem Durchmesser bildet kleine Pfützen 181 und 182 eines gewünschten Volumens im Zusammenwirken mit der Stützwalze 128 und der lithographischen Druckplatte M aus. Bei einer Beschichtungswalze 125 mit einem größeren Durchmesser besteht die Gefahr, dass die Beschichtungsgleichförmigkeit verschlechtert wird, was zu größeren Abmessungen der Vorrichtung führt. Insbesondere eine lithographische Druckplatte M, die mit dem Silberkomplexsalz-Diffusionstransferumkehrverfahren (DTR-Verfahren) bearbeitet werden soll, kann mit dem Aktivator exakt beschichtet werden, wenn der Durchmesser der Beschichtungswalze 125 nicht größer als 30 mm, stärker bevorzugt nicht größer als 25 mm ist. Der vom Durchmesser der Beschichtungswalze 125 abhängige Durchmesser der Stützwalze 128 ist aus ähnlichen Gründen vorzugsweise nicht kleiner als 7 mm und, genauer, im Bereich zwischen 10 und 50 mm. Die Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M, die vom Durchmesser der Beschichtungswalze 125 und den Abmessungen der gesamten Entwicklungseinheit 3 abhängt, beträgt vorzugsweise 10 bis 60 mm/s, stärker bevorzugt 15 bis 40 mm/s.

Die der Beschichtungswalze 125 zugeführte Menge an Aktivator beeinflusst die Ausbildung der Pfützen 181 und 182 und muss daher geeignet sein. Die der Beschichtungswalze 125 zugeführte Aktivatormenge ist vorzugsweise 115 bis 400% (d. h., ein Überschuss von 15 bis 300%) beruhend auf der Aktivatormenge, die von der lithographischen Druckplatte M geführt wird, die die Beschichtungswalze 125 durchlaufen hat (der Aktivatormenge, die die lithographische Druckplatte M beschichtet), und stärker bevorzugt 130 bis 200% (d. h. ein Überschuss von 30 bis 100%). Die Aktivatormenge, die die lithographische Druckplatte M beschichtet, ist vorzugsweise 10 bis 80 mm/m², stärker bevorzugt 20 bis 60 mm/m².

Der Aktivator wird entlang der Breite der lithographischen Druckplatte M (in Richtung senkrecht zur Transportrichtung desselben) gleichförmig zugeführt. Die Zufuhr des Aktivators ist in einem Bereich, der geringfügig breiter als die Breite der lithographischen Druckplatte M ist. Ferner bearbeitet die Entwicklungseinheit 3, die eine feste Breite hat, in manchen Fällen lithographische Druckplatten M verschiedener Größe. In diesen Fällen ist die Breite der Zufuhr des Aktivators im Allgemeinen unverändert. Das Verhältnis zwischen der Menge an geführtem Aktivator und der Menge an zugeführtem Aktivator ist diejenige pro Einheitslänge der lithographischen Druckplatte M. Das heißt, die oben beschriebene Menge an zugeführtem Aktivator wird durch Umwandlung vorgesehen als die Menge an pro Länge zugeführtem Aktivator gleich der Breite der lithographischen Druckplatte M..

Unter einem anderem Gesichtspunkt ist die Menge an der Beschichtungswalze 125 zugeführtem Aktivator vorzugsweise 15 bis 200 ml/min und stärker bevorzugt 30 bis 100 ml/min pro 1000 mm Länge in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M.

Der Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 der Vorrichtung gemäß einer anderen Ausführungsform wird nachstehend beschrieben. 13 ist eine schematische Ansicht des Aktivator-Beschichtungsmechanismus. Gleiche Bezugsziffern und -zeichen werden zur Bezeichnung von Teilen verwendet, die mit denjenigen des in 4 gezeigten Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 identisch sind, von einer detaillierten Beschreibung der identischen Teile wird abgesehen.

Der in 4 gezeigte Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43, der Aktivatorempfangsabschnitt 124 und die Verteilungsfolie 126 werden zur Ausbildung von erstem und zweitem Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt verwendet. Bei dem in 13 gezeigten Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 wird eine Anzahl von geprägten Folien 153 und 154 mit unebenen oder rauen Oberflächen zur Ausbildung des ersten und zweiten Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitts verwendet.

Unter Bezug auf 13 ist die geprägte Folie 154 mit unebener oder rauer Oberfläche auf einem rostfreien Blech 152 mit einer Dicke von ungefähr 0,03 mm aufgeschichtet, und die geprägte Folie 153 ist auf der geprägten Folie 154 aufgeschichtet. Die Oberfläche der geprägten Folie 154 ist wegen der Elastizität des rostfreien Blechs 152 in elastischer Berührung mit der Oberfläche der Beschichtungswalze 125, die den Drahtstab enthält. Eine Aktivatorempfangsfolie 155 beispielsweise aus Polyethylenterephthalat (PET) ist in Berührposition mit der Oberfläche der geprägten Folie 153 angeordnet. Die geprägten Folien 153 und 154 sind beispielsweise durch Pressen von Kunstharzfolien zur Prägung von deren Oberfläche in ungleichmäßiger Konfiguration ausgebildet. Unter Bezug auf 14 hat die Oberfläche der geprägten Folien 153 und 154 sechseckige Vorsprünge 156 und eine Ausnehmung 157, die die einzelnen Vorsprünge 156 umgibt. Anders ausgedrückt, sind Oberflächen mit einer zweidimensionalen Verteilung von Aufs und Abs auf den geprägten Folien 153 und 154 vorgesehen. Insbesondere die Oberflächenstruktur von Aufs und Abs in Richtung längs der Achse der Beschichtungswalze 125 ist wirksam, um den Aktivator über die gesamte Breite der lithographischen Druckplatte M zu verteilen.

In dem Aktivator-Beschichtungsmechanismus 143 läuft der aus den drei Abgabelöchern 121 des Aktivator-Zuführrohrs 122 abgegebene Aktivator durch erste Öffnungen, die durch die Ausnehmungen 157 der geprägten Folie 153 definiert sind, zwischen der Aktivatorempfangsfolie 125 und der geprägten Folie 153 nach unten. Der Aktivator wird dann in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M verteilt. Der Aktivator läuft zu einem Berührbereich zwischen der Beschichtungswalze 125 und der geprägten Folie 154 weiter nach unten und durchläuft zweite Öffnungen, die durch die Ausnehmungen 157 der Prägefolie 154 und die in 6 gezeigten Öffnungen 125c der Beschichtungswalze 125 definiert sind. Der Aktivator wird dann in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M weiter verteilt.

Die Abmessung der Ausnehmungen 157 der geprägten Folie 153 ist größer als diejenige der Ausnehmungen 157 der geprägten Folie 154, damit die Fläche der ersten Öffnungen pro Einheitslänge größer als die Fläche der zweiten Öffnungen pro Einheitslänge in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M ist. Die Beziehung zwischen diesen Flächen wird nachstehend beschrieben.

Die Dimension der Ausnehmungen 157 der geprägten Folie 154 ist so eingestellt, dass die Querschnittsfläche SB der Ausnehmungen 157 der geprägten Folie 154 pro Einheitslänge ungefähr das 0,1- bis 0,8-fache der Querschnittsfläche SO der durch den Draht 125b der in 6 gezeigten Beschichtungswalze 125 definierten Öffnungen 125c in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M ist, um ein übermäßiges Anwachsen der Aktivatorpfütze im Berührbereich zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 zu vermeiden. Die Abmessung der Ausnehmungen 157 der geprägten Folie 153 ist so eingestellt, dass die Querschnittsfläche SA der durch die Ausnehmungen 157 der geprägten Folie 153 definierten Öffnungen pro Einheitslänge das ungefähr I- bis 2-fache der kombinierten Querschnittsfläche (S0 + SB) der zweiten Öffnungen pro Einheitslänge ist. Da die Beschichtungswalze 125 und die geprägten Folien 153, 154 eine gemeinsame Länge in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M, durch welche der Aktivator verläuft, haben, ist das oben angegebene Verhältnis zwischen den Flächen SO, SA, SB pro Einheitslänge (d. h., pro Einheitsbreite) gleich dem Flächenverhältnis für die gesamte Breite der Beschichtungswalze 125 und der geprägten Folien 153, 154.

Auf diese Weise führt der Aktivator-Beschichtungsmechanismus 143 eine zweistufige Aktivatorverteilung unter Verwendung der Aktivator-Empfangsfolie 125 und der geprägten Folie 153, die als erster Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt wirken, sowie der Beschichtungswalze 125 und der geprägten Folie 154, die als zweiter Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt wirken, durch, womit eine gleichförmige Verteilung des Aktivators in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M erzielt wird. Dies gestattet eine hochgradig gleichförmige Zufuhr des Aktivators zur lithographischen Druckplatte M und beseitigt eine Entwicklungsungleichmäßigkeit der lithographischen Druckplatte M bei der Entwicklung, wenn eine geringe Menge an Aktivator zugeführt wird.

In dieser bevorzugten Ausführungsform ist die gesamte Querschnittsfläche der ersten Öffnungen größer als die gesamte Querschnittsfläche der zweiten Öffnungen. Daher ist die Aktivator-Verteilungsfähigkeit der Beschichtungswalze 125 und der geprägten Folie 154, die als zweiter Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt wirken, größer als diejenige der Aktivator-Empfangsfolie 155 und der geprägten Folie 153, die als der erste Beabreitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt wirken. Der Aktivator kann daher gleichförmiger verteilt werden.

Wenngleich bei dieser bevorzugten Ausführungsform nicht gezeigt, umfasst der Aktivator-Beschichtungsmechanismus 143 der 8 Einschränkungsmittel ähnlich der in 4 gezeigten Rückflussverhinderungsfolie 127 oder eine Rückflussverhinderungswalze 129, die später noch unter Bezug auf 21 beschrieben wird.

Der Aufbau des Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 wird nachstehend beschrieben. 15 ist eine schematische Ansicht des Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73.

Der Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 enthält das Stabilisator-Zuführrohr 132, mit der Anzahl von in ihm unten gebohrten Abgabelöchern 131; einen Stabilisator-Empfangsabschnitt 134 mit einer Anzahl von an seinem unteren Ende gebohrten Öffnungen 133, durch welche der Stabilisator nach unten fließen kann; und eine Beschichtungswalze 135, die für ein Drehen in Berührung mit der lithographischen Druckplatte M eingerichtet ist. Eine Verteilungsfolie 136 leitet den aus den Öffnungen 133 des Stabilisator-Empfangsabschnitts 134 nach unten fließenden Stabilisator zur Beschichtungswalze 135. Eine Blattfeder 138 steht mit der Beschichtungswalze 135 in Berührung. Der Pfeil der 15 gibt die Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M an.

Das Stabilisator-Zuführrohr 132 ist über die Pumpe 83 mit dem oben beschriebenen Stabilisatortank 82 verbunden und wird durch die Pumpe 83 so betrieben, dass Stabilisator aus der Anzahl von Abgabelöchern 131 abgegeben wird. Unter Bezug auf 16 sind drei Abgabelöcher 131 in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M angeordnet.

Der Stabilisator-Empfangsabschnitt 134 wirkt als Stabilisator-Verteilungsabschnitt, der den aus dem Stabilisator-Zuführrohr 132 abgegebenen Stabilisator empfängt und den Stabilisator in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M verteilt. Wie in 16 dargestellt, sind sechs Öffnungen 133 am unteren Ende des Stabilisator-Empfangsabschnitts 134 gebohrt und in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M angeordnet. Die Öffnungen 133 sind so positioniert, dass zwei der Öffnungen 133 auf entgegengesetzten Seiten einer Position, die der Position eines jeden der Abgabelöcher 131 des Stabilisator-Zuführrohrs 132 entspricht, in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte angeordnet sind. Das heißt, die Öffnungen 133 sind auf jeweils entgegengesetzten Seiten der drei Positionen angeordnet, an denen der Stabilisator aus den Abgabelöchern 131 zum Stabilisator-Empfangsabschnitt 134 nach unten fließt. Anders ausgedrückt, sind die Abstände zwischen der Anzahl von Abgabelöchern 131 größer als die Abstände zwischen der Anzahl von Öffnungen 133.

Die Verteilungsfolie 136 umfasst ein rostfreies Blech mit einer Dicke von ungefähr 0,03 mm und eine auf dem rostfreien Blech aufgeschichtete geprägte Folie mit sechseckigen Vorsprüngen 156 und einer Ausnehmung 157, die die einzelnen Vorsprünge 156 umgibt, wie dies in 17 gezeigt ist. Die Verteilungsfolie 136 ist an einer Seitenwand des Stabilisator-Empfangsabschnitts 134 mit einer Montageplatte 140 angebracht. Ein Teil der Verteilungsfolie 136, welche vom Stabilisator-Empfangsabschnitt 136 herabhängt, weist ein oberes Ende auf, das benachbart zu den Öffnungen 133 des Stabilisator-Empfangsabschnitts 134 angeordnet ist, und ein unteres Ende, das mit der Oberfläche der Beschichtungswalze 135 in elastischer Berührung steht. Der Charakter der Oberflächenstruktur, wie bereits unter Bezug auf 14 beschrieben, ist anwendbar auch auf die in 17 gezeigte Oberflächenstruktur.

Die Beschichtungswalze 135 dreht mit einer Umfangsgeschwindigkeit, die gleich der Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M ist und weist eine Oberfläche aus Schwamm mit einer großen Anzahl von getrennten Poren auf, wie dies in 18 dargestellt ist. Bei mit der Verteilungsfolie 136 in Berührung stehender Beschichtungswalze 135 werden durch die Ausnehmung 157 in der Oberfläche der Verteilungsfolie 136 definierten Öffnungen in einem Berührbereich zwischen der Beschichtungswalze 135 und der Verteilungsfolie 136 ausgebildet. Die Konfiguration der Vorsprünge und Ausnehmungen der Verteilungsfolie 136 ist so ausgewählt, dass die gesamte Querschnittsfläche der durch die Ausnehmungen 157 in der Oberfläche der Verteilungsfolie 136 definierten Öffnungen kleiner als die Gesamtquerschnittsfläche der in den oben beschriebenen Stabilisator-Empfangsabschnitt 134 gebohrten sechs Öffnungen 133 ist.

Der durch die Öffnungen 133 des Stabilisator-Empfangsabschnitts 134 nach unten fließende Stabilisator wird zunächst im Berührbereich zwischen der Beschichtungswalze 135 und der Verteilungsfolie 136 gespeichert und wird dann in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M verteilt. Wenn die Beschichtungswalze 135 dann dreht, durchläuft der Stabilisator die durch die Ausnehmungen in der Oberfläche der Verteilungsfolie 136 definierten Öffnungen zum Berührbereich zwischen der Beschichtungswalze 135 und der Blattfeder 138 hin. Die Beschichtungswalze 135 und die Verteilungsfolie 136 wirken also als Stabilisator-Verteilabschnitt, der einmal den aus den Öffnungen 133 des Stabilisator-Empfangsabschnitts 134 nach unten fließenden Stabilisator empfängt und den Stabilisator in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M verteilt.

Die Blattfeder 138 wirkt als Mittel zum Belasten der lithographischen Druckplatte M zur Beschichtungswalze 135 hin sowie als Mittel zur Ausbildung einer Stabilisatorpfütze zwischen der Blattfeder 138 und der Beschichtungswalze 135. Der Stabilisator, der die durch die Ausnehmungen 157 in der Oberfläche der Verteilungsfolie 136 definierten Öffnungen durchlaufen hat, bildet eine Stabilisatorpfütze im Berührbereich zwischen der Blattfeder 138 und der Beschichtungswalze 135 aus.

Die Blattfeder 138 weist ein Überlaufloch 137 auf, um zu verhindern, dass der Stabilisator in einer größeren Menge als notwendig im Berührbereich zwischen der Blattfeder 138 und der Beschichtungswalze 135 gespeichert wird, was sonst dazu führen könnte, dass die Pfütze ein übermäßiges Volumen hat.

In dem Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 fließt der aus den drei Abgabelöchern 131 (15 und 16) des Stabilisator-Zuführrohrs 132 abgegebene Stabilisator nach unten zum Stabilisator-Empfangsabschnitt 134 und weiter nach unten aus den sechs Öffnungen 133 des Stabilisatorabschnitts 134 zur Verteilungsfolie 136 hin. Ein aus jedem der drei Abgabelöcher 133 nach unten zum Stabilisator-Empfangsabschnitt 134 fließende Stabilisatorstrom wird dann auf das Paar von Öffnungen 133, die an den entgegengesetzten Seiten eines jeden Abgabelochs 131 in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M angeordnet sind, aufgeteilt und danach in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M verteilt. Der Stabilisator fließt weiter nach unten zum Berührbereich zwischen der Verteilungsfolie 136 und der Beschichtungswalze 135 und durchläuft die Öffnungen, die durch die Ausnehmungen 157 der Verteilungsfolie 136 definiert sind. Der Stabilisator wird dann in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M weiter verteilt.

Der Stabilisator, der den Berührbereich zwischen der Verteilungsfolie 136 und der Beschichtungswalze 135 durchlaufen hat, bildet im Berührbereich zwischen der Blattfeder 138 und der Beschichtungswalze 135 eine Stabilisatorpfütze aus. Der Stabilisator wird auf die lithographische Druckplatte M aufgebracht, wenn die lithographische Druckplatte M die Stabilisatorpfütze durchläuft. Da die Blattfeder 138 die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M gegen die Oberfläche der Beschichtungswalze 135 drückt, bemessen die Vielfachheit von Poren, die im Schwamm der Oberfläche der Beschichtungswalze 135 enthalten sind, eine konstante Menge an Stabilisator, die die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M beschichtet. Die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M, die den Berührbereich zwischen der Blattfeder 138 und der Beschichtungswalze 135 durchlaufen hat, wird konstant mit der konstanten Menge an Stabilisator, die für die Stabilisierung benötigt wird, beschichtet.

Die zum Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 transportierte lithographische Druckplatte M ist mit dem Aktivator durch den Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 im vorhergehenden Verfahrensschritt zur Entwicklung beschichtet worden und weist somit einen durch den Aktivator gequollenen lichtempfindlichen Film auf. Im Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 berührt jedoch die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M nur die Beschichtungswalze 136, die eine Oberfläche aus flexiblem Schwamm mit einer großen Anzahl getrennter Poren hat, und erfährt so keine Schäden.

Die Oberfläche der Beschichtungswalze 135 besteht insbesondere aus einem Schwamm mit einer großen Anzahl getrennter Poren, was ausschließt, dass der Stabilisator, der deren Oberfläche berührt, in das Innere der Beschichtungswalze 135 eindringt. Dies verhindert, dass Abfallstabilisator mit von einem Stabilisator-Zuführrohr 132 zugeführtem neuem Stabilisator vermischt und auf die lithographische Druckplatte M aufgebracht wird.

Der Stabilisator-Beschichtungsmechanismus dieser bevorzugten Ausführungsform führt eine zweistufige Stabilisatorverteilung unter Verwendung des Stabilisator-Empfangsabschnitts 134, der als der erste Stabilisator-Verteilungsabschnitt dient, sowie der Beschichtungswalze 135 und der Verteilungsfolie 136, die als zweiter Stabilisator-Verteilungsabschnitt dienen, durch, womit eine gleichförmige Verteilung des Stabilisators in Richtung senkrecht zur Transportrichtung der lithographischen Druckplatte M erzielt wird. Dies ermöglicht eine hochgradig gleichförmige Zufuhr des Stabilisators zur lithographischen Druckplatte M. Da die Gesamtfläche der durch die Ausnehmung 157 der Verteilungsfolie 136 definierten Öffnung kleiner als diejenige der in den Stabilisator-Empfangsabschnitt 134 gebohrten sechs Öffnungen 133 ist, ist die Stabilisator-Verteilungsfähigkeit der Beschichtungswalze 135 und der Verteilungsfolie 136 größer als diejenige des Stabilisatorempfangsabschnitts 134. Der Stabilisator wird dementsprechend durch die Beschichtungswalze 135 und Verteilungsfolie 136, die als Stabilisator-Verteilungsabschnitt dienen, gleichmäßig verteilt, was schließlich die Menge an Stabilisator, die die lithographische Druckplatte M beschichtet, beeinflusst. Schließlich kann der Stabilisatormechanismus 73 den Stabilisator in hochgradig gleichförmiger Weise verteilen.

Der Vorgang des Zuführens des Aktivators und Stabilisators wird nachfolgend diskutiert, 19 und 20 sind Flussdiagramme, die den Vorgang der Aktivatorzufuhr zeigen. Zur Belichtung und Entwicklung der lithographischen Druckplatte M wird Spannung an die Plattenherstellungsvorrichtung, die die Belichtungseinheit 2 und die Entwicklungseinheit 3 aufweist, gelegt (Schritt S1). Wenn die Plattenherstellungsvorrichtung eingeschaltet wird, wird die Pumpe 53 betätigt, um den Aktivator aus dem Aktivatortank 52 dem Aktivatorzuführrohr 122 des Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 zuzuführen (Schritt S2). Die Menge an in Schritt S2 zugeführtem Aktivator ist größer als die Aktivatormenge, die bei der Beschichtung der lithographischen Druckplatte M mit dem Aktivator durch den Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 zuzuführen ist. Der Ausdruck „bei der Beschichtung" bedeutet „wenn die lithographische Druckplatte M die Spaltposition zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 durchläuft".

Der aus dem Aktivatortank 52 dem Aktivatorzuführrohr 122 des Aktivator-Zuführmechanismus 43 zugeführte Aktivator fließt nacheinander am Aktivatorempfangsabschnitt 124, an der Verteilungsfolie 126, der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 entlang und tropft dann in die Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 54. Der Aktivator tropft dann durch das Wiedergewinnungsrohr 55 am unteren Ende der Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 54 in den Aktivatorempfangsabschnitt 56 des Aktivatortanks 52. Der Aktivator wird im Aktivatortank 52 für den Umlauf gesammelt. Dies schmilzt und entfernt Kristalle des Aktivators, die sich auf der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 abgelagert haben. Die Heizvorrichtung 57 hebt dabei die Temperatur des Aktivators auf eine bestimmte Temperatur an.

Nach Verstreichen der Zeit T1 (Schritt S3) werden die Beschichtungswalze 125 und die Stützwalze 128 gedreht. Dies bewirkt, dass der Aktivator der gesamten äußeren Umfangsfläche der Beschichtungswalze 125 und Stützwalze 128 zugeführt wird, wobei Aktivatorkristall vollständig beseitigt wird. Die Beschichtungswalze 125 und die Stützwalze 128 werden nach Ablauf der Zeit T1, seit die Aktivatorzufuhr begonnen hat, gedreht, um zu verhindern, dass Aktivatorkristall die Beschichtungswalze 125 und die Stützwalze 128 beschädigen, die in gegenseitiger Berührung vor dem Schmelzen einer bestimmten Menge an Aktivatorkristall drehen. Die Zeit T1 wird beispielsweise auf ungefähr 30 Sekunden eingestellt.

Wenn dann die Temperatur des Aktivators auf die bestimmte Temperatur angehoben wird und der Aktivatorkristall nach Ablauf der Zeit T2 entfernt ist (Schritt S5) hält die Pumpe 53 an, um die Aktivatorzufuhr zu stoppen (Schritt S6). Die Zeit T2 wird beispielsweise auf ungefähr zwei Minuten eingestellt.

Der oben beschriebene Anfangsvorgang kann die Aktivatorkristalle durch Zirkulieren des Aktivators beseitigen, wenn die Aktivatorkristalle sich auf den Oberflächen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 nach einem Langzeitstillstand der Vorrichtung bilden, womit eine Beschädigung der Oberflächen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 sowie der lithographischen Druckplatte M, die in Berührung mit den Walzen 125 und 128 transportiert wird, verhindert wird.

Wenn nach dem oben beschriebenen Anfangsvorgang die Belichtungseinheit 2 mit dem Belichten der lithographischen Druckplatte M beginnt (Schritt S7), wird die Pumpe 53 erneut betätigt, damit eine große Aktivatormenge aus dem Aktivatortank 52 dem Aktivatorzuführrohr 122 des Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 zugeführt wird (Schritt S8). Dadurch läuft der erwärmte temperaturstabilisierte Aktivator um und hebt die Temperatur des gesamten Aktivator-Zirkulationskanals mit Aktivatorzuführrohr 122, Aktivator-Empfangsabschnitt 124, Verteilungsfolie 126, Beschichtungswalze 125, Stützwalze 128, Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 54 und Aktivatortank 52 an. Der Umlauf einer großen Menge an Bearbeitungsflüssigkeit bildet eine Aktivatorpfütze mit einem für die Entwicklung benötigten Volumen zwischen der drehenden Beschichtungswalze 125 und der drehenden Stützwalze 128 aus.

Ein bestimmtes Maß an Belichtung der lithographischen Druckplatte M ist abgeschlossen, und die Vorderkante der lithographischen Druckplatte M beginnt mit dem Eintritt in den Entwicklungsabschnitt 32 über die Walzen 27, 28 des Pufferabschnitts 26 (Schritt S9). Nach Ablauf einer Zeit T3 (Schritt S10) wird dann das Arbeiten der Pumpe 53 geändert, um die abzugebende Aktivatormenge so zu reduzieren, dass die Menge an Aktivator, die durch den Aktivator-Zirkulationskanal, der das Aktivatorzuführrohr 122, den Aktivatorempfangsabschnitt 124, die Verteilungsfolie 126, die Beschichtungswalze 125, die Stützwalze 128, die Wiedergewinnungs-Auffangvorrichtung 54 und den Aktivatortank 52 enthält, umläuft, für die Entwicklung der lithographischen Druckplatte M optimal ist (Schritt S11).

Die Zeit T3 ist diejenige, die die Vorderkante der lithographischen Druckplatte M, die gerade in den Entwicklungsabschnitt 32 einzutreten beginnt, benötigt, um den Walzenspalt zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 des Aktivatormechanismus 43 zu erreichen, d. h., die Zeit, die die Vorderkante der lithographischen Druckplatte M, die gerade anfängt, in den Entwicklungsabschnitt 32 einzutreten, benötigt, um die zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 ausgebildete Pfütze zu erreichen und mit dem Aktivator beschichtet zu werden. Das heißt, die Menge an umlaufendem Aktivator wird auf eine für die Entwicklung optimale Menge geändert, bis die Vorderkante der lithographischen Druckplatte M, die zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 des Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 ausgebildete Pfütze erreicht und mit dem Aktivator beschichtet wird.

Da der Aktivator, der den Zirkulationskanal des Aktivators, dessen Temperatur angehoben worden ist, durchlaufen hat, auf die lithographische Druckplatte M über die Beschichtungswalze 125 aufgebracht wird, hat der Aktivator, der die lithographische Druckplatte M beschichtet hat, eine bestimmte Temperatur, was eine Bearbeitungsungleichmäßigkeit, die sich aus der Temperatur des Aktivators ergibt, ausschließt. Die Aktivatorpfütze, die ein Volumen hat, das für die Entwicklung benötigt wird, wird ferner vorab zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 ausgebildet, wenn die lithographische Druckplatte M mit dem Aktivator beschichtet wird, was eine Bearbeitungsungleichmäßigkeit ausschließt, sich von einem Mangel an Aktivator im Vorderkantenabschnitt der lithographischen Druckplatte M herrührt.

Nachdem das hintere Ende der lithographischen Druckplatte M den Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 durchlaufen hat, hält die Pumpe 53 an, um den Aktivatorumlauf zu beenden (Schritt S13). Die Zufuhr von Aktivator ist abgeschlossen. Wenn eine Belichtung der nächsten lithographischen Druckplatte M bereits begonnen hat, wird der Umlauf des Aktivators fortgesetzt.

Beispielsweise liefert die Entwicklungseinheit 3 zum Entwickeln einer lithographischen Druckplatte M mit einer Breite von 414 mm Aktivator in einer Menge zwischen 30 und 60 ml/min (z. B. 50 ml/min) während der Beschichtung der lithographischen Druckplatte M mit Aktivator an das Aktivatorzuführrohr 122. Die große Menge an Aktivator in Schritt S8 ist vorzugsweise nicht kleiner als das Dreifache der Aktivatormenge, die dem Aktivatorzuführrohr 122 während der Beschichtung der lithographischen Druckplatte M mit dem Aktivator zugeführt wird, d. h., nicht weniger als 100 ml/min (z. B. 220 ml/min).

Die Zufuhr von Stabilisator im Stabilisatorabschnitt 33 ist in ihrem Vorgang ähnlich der Aktivatorzufuhr. Der Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 des Entwicklungsabschnitts 32 verwendet die Stützwalze 128 als ein Abstützelement, der Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 des Stabilisierungsabschnitts 33 verwendet aber die Blattfeder 138 als Abstützelement, was eine Ungleichmäßigkeit der Stabilisierungsbearbeitung, die sich aus einem Mangel an Stabilisatorpfütze, die zwischen der Beschichtungswalze 135 und der Blattfeder 138 im Stabilisator-Beschichtungsmechanismus 73 ausgebildet wird, ergibt, verhindert.

In dieser Ausführungsform wird die Aktivatormenge für den Umlauf geändert, bevor die Vorderkante der lithographischen Druckplatte die zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 ausgebildete Aktivatorpfütze erreicht und mit dem Aktivator beschichtet wird. Die Länge der Zeit T3 kann jedoch so gesteuert werden, dass die Aktivatormenge für den Umlauf geändert wird, nachdem eine geringfügige Zeit verstrichen ist, seit die Vorderkante der lithographischen Druckplatte M die zwischen der Beschichtungswalze 125 und der Stützwalze 128 ausgebildete Aktivatorpfütze erreicht hat und beginnt, mit dem Aktivator beschichtet zu werden. Im Ergebnis sollte eine große Aktivatormenge vorab zirkuliert werden, vor wenigstens dem Beginn der Beschichtung der lithographischen Druckplatte M mit dem Aktivator.

Es erfolgt nun eine Beschreibung von numerischen Beispielen, die Wirkungen bei der Anwendung der vorliegenden Erfindung auf eine lithographische Druckplatte angeben, die das Silberkomplexsalz-Diffusionstransferumkehrverfahren verwendet.

Eine Entwicklungseinheit 3, die wie in den 2 bis 8 gezeigt aufgebaut ist, wurde hergestellt. Die darin verwendete Beschichtungswalze 125 war eine Metallwalze mit einer Länge von 460 mm und einem Durchmesser von 12 mm mit einem um die Metallwalze gewickelten Draht eines Durchmessers vom 0,4 mm. Die darin verwendete Stützwalze 128 hat eine Länge von 460 mm und einen Durchmesser von 25 mm und eine schwammige Oberfläche, die eine große Anzahl von getrennten Poren enthält und aus Nitrilbutadienkautschuk (NBR) mit einer Härte von 25 Grad, spezifiziert durch JIS, was innerhalb der Härte von 25 bis 26 nach ISO, ASTM und DIN liegt, besteht. Die Umfangsgeschwindigkeit der Beschichtungswalze 125 betrug das 0,65-fache derjenigen der Stützwalze 128. Die Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M betrug 20 mm/s und die Menge an auf die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M aufgebrachtem Aktivator 35 g/m². Die lithographische Druckplatte M war 414 mm breit und 500 mm lang und setzte sich aus einem Polyesterfilmsubstrat, einer Lichthofschutzschicht auf dem Polyesterfilmsubstrat, einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht auf der Lichthofschutzschicht und einer Nucleusschicht für physikalische Entwicklung auf der obersten Fläche zusammen. Eine Folge von 300 lithographischen Druckplatten M (ungefähr 60 m²) wurde entwickelt. Die Temperatur des Aktivators betrug 30°C.

Ablagerung von Silberschlamm und dergleichen auf der Beschichtungswalze 125 nach der Entwicklung wurde mit bloßem Auge nicht beobachtet. Die Menge an auf die lichtempfindliche Oberfläche der lithographischen Druckplatte M mit der Beschichtungswalze 125 aufgebrachtem Aktivator behielt 35 g/m² bei, was der anfänglich eingestellte Wert war.

Die erste und die dreihundertste lithographische Druckplatte M, die nach dem oben beschriebenen Vorgang hergestellt wurden, wurden auf einer Offset-Druckpresse eingerichtet. Eine Desensibilisierungsflüssigkeit wurde über die Rückseiten der beiden lithographischen Druckplatten M aufgebracht und es wurden Drucke unter Verwendung eine Feuchtigkeitsfluids hergestellt. Die Ergebnisse der Drucke zeigten keinen signifikanten Unterschied zwischen der ersten und der dreihundertsten lithographischen Druckplatte M und zeigten eine ausreichend verbesserte Plattenlebensdauer an.

Die Ergebnisse, die gewonnen wurden, wenn die Umfangsgeschwindigkeit der Beschichtungswalze 125 das 1,5-fache derjenigen der Stützwalze 128 unter den oben beschriebenen Bedingungen war, waren die gleichen wie die Ergebnisse, die gewonnen wurden, wenn die Umfangsgeschwindigkeit der Beschichtungswalze 125 das 0,65-fache derjenigen der Stützwalze 128 war.

Andererseits wurden 300 lithographische Druckplatten M unter den oben beschriebenen Bedingungen entwickelt, ausgenommen, dass die Umfangsgeschwindigkeit der Beschichtungswalze 125 gleich derjenigen der Stützwalze 128 war. Als Folge davon wurde nach der Entwicklung eine große Menge an Silberschlamm und dergleichen auf der Beschichtungswalze 125 beobachtet, und weißliche Verunreinigungen wurden an mehreren Stellen darauf abgelagert. Die Menge an Aktivator, die auf die lichtempfindlichen Oberflächen der lithographischen Druckplatten M durch die Beschichtungswalze 125 aufgebracht wurde, betrug 22 g/m², was weitaus weniger als der anfänglich eingestellte Wert von 35 g/m² und auch weniger als der für die Entwicklung nötige Minimalwert (d. h. 30 g/m²) war.

Die erste und die dreihundertste lithographische Druckplatte M, die nach dem oben beschriebenen Vorgang hergestellt wurden, wurden auf der Offset-Druckpresse eingerichtet und es wurden Drucke unter den oben beschriebenen Bedingungen hergestellt. Im Ergebnis war die dreihundertste lithographische Druckplatte M nicht ausreichend entwickelt und zeigte eine gegenüber der ersten lithographischen Druckplatte schlechtere Plattenlebensdauer an.

In den oben beschriebenen bevorzugten Ausführungsformen wird eine lithographische Druckplatte M, die das Silberkomplexsalz-Diffusionstransfer-Umkehrverfahren (DTR-Verfahren) verwendet, als lichtempfindliches Material verwendet. Die vorliegende Erfindung kann jedoch auch auf ein breites Spektrum anderer lichtempfindlicher Materialien mit einer beschädigungsgefährdeten lichtempfindlichen Oberfläche, beispielsweise lichtempfindliche Materialien, die mit einer Bearbeitungsflüssigkeit, wie etwa einem Aktivator im vorgehenden Verfahrensschritt beschichtet wurden und einer gequollenen lichtempfindlichen Film aufweisen, angewandt werden.

Verschiedene Verbesserungen, die zum Aktivator-Zuführmechanismus 43 beschrieben worden sind, können auch auf den Stabilisator-Zuführmechanismus 73 angewandt werden, und umgekehrt.

Das poröse elastische Teil, das für die Oberfläche der Beschichtungswalze 136 verwendet wird, kann beispielsweise aus einem Material, wie etwa Gummi, mit einer Oberfläche, die mit einer Vielfachheit von Poren ausgebildet ist, bestehen.

Die vorliegende Erfindung kann auch auf eine Aktivator-Zuführeinheit für ein direktes Zuführen des Aktivators aus dem Aktivator-Abgaberohr 122 an die lithographische Druckplatte M angewandt werden.

Die Vorrichtung der vorliegenden Erfindung kann ein Aktivator-Zuführsystem so vorsehen, dass eine Aktivator-Wiedergewinnungsleitung zur Verbindung zwischen dem Aktivatortank 52 und einem Ende des Aktivator-Zuführrohrs 122, das zu dem Ende, das mit dem Rohr 161 verbunden ist, entgegen gesetzt ist, vorgesehen ist und dass der Aktivator teilweise aus den Abgabelöchern 121 abgegeben wird, während er umläuft.

Unter Bezug auf 21 kann die Rückflussverhinderungswalze 129 anstelle der Rückflussverhinderungsfolie 127 (4) für ein Drehen in Berührung mit der Beschichtungswalze 125, um als Beschränkungsmittel zu dienen, vorgesehen sein. Die Anordnung der oben beschriebenen bevorzugten Ausführungsformen, bei welchen die Rückflussverhinderungsfolie 127 an dem Aktivatorempfangsabschnitt 124 angebracht ist, ermöglicht jedoch, dass die Rückflussverhinderungsfolie 127 angebracht/abgenommen und integriert mit dem Aktivatorempfangsabschnitt 124 angeordnet werden kann, was die Wartung des Aktivator-Beschichtungsmechanismus erleichtert.

Die Beschichtungswalze 125 kann von verschiedenen Arten mit einer aufgerauten oder geprägten Oberfläche mit Vorsprünge und Ausnehmungen sein, welche dazu in der Lage ist, die Bearbeitungsflüssigkeit zu bemessen, beispielsweise eine Gewindewalze oder eine mit Nuten versehende Walze.

In den oben beschriebenen Bevorzugten Ausführungsformen besteht die Oberfläche der Stützwalze 128 aus einem Schwamm, der eine große Anzahl von getrennten Poren aufweist. Der Schwamm kann in die Anzahl von Nuten eintreten, die durch den Draht 125b auf der Beschichtungswalze 125 definiert sind, um den Silberschlamm und dergleichen zu beseitigen und zu verhindern, dass der die Oberfläche der Stützwalze 128 berührende Aktivator in das Innere der Stützwalze 128 eindringt. Die Härte des Schwamms der Stützwalze 128 beträgt vorzugsweise 10 bis 40 Grad, spezifiziert durch JIS-C, welches der Japanese Industrial Standards betreffend die Härte von Schaumgummi ist. Der Bereich von 10 bis 40 Grad der Härte entspricht dem Härtebereich von 11,3 bis 41,8 Grad in ISO und ASTM sowie 10 bis 40 Grad in DIN. Die Walze verschleißt deutlich, wenn die Härte weniger als etwa 10 Grad in JIS, ISO, ASTM und DIN ist. Es ist schwierig, den Silberschlamm und dergleichen aus den Nuten der Beschichtungswalze 125 zu entfernen, wenn die Härte größer als ungefähr 40 Grad in JIS, ISO, ASTM und DIN ist. Vorzugsweise hat das Material der Oberfläche der Stützwalze 128, wenn es ein anderes als Schwamm ist, eine Härte, die der oben beschriebenen Härte entspricht.

Von Beschichtungswalze 125 und Stützwalze 128 kann eine von beiden stationär gehalten werden, oder es können beide, Walzen 125 und 128 in der gleichen Richtung drehen. Vorzugsweise drehen die Beschichtungswalze 125 und die Stützwalze 128 jedoch in entgegen gesetzten Richtungen im Sinne von Transporteigenschaft der lithographischen Druckplatte M. In diesem Fall beträgt die Umfangsgeschwindigkeit der Beschichtungswalze 125 nicht mehr als das 0,9-fache oder nicht weniger als das 1,1-fache der Umfangsgeschwindigkeit der Stützwalze 128 im Sinne des Silberschlamm-Beseitigungsverhaltens, womit ein Umfangsgeschwindigkeitsverhältnis von nicht weniger als 10% zwischen den Walzen 125 und 128 vorgesehen wird. In den oben beschriebenen bevorzugten Ausführungsformen wird, da die Umfangsgeschwindigkeit der Stützwalze 128 gleich der Transportgeschwindigkeit der im Aktivator-Beschichtungsmechanismus 43 transportierten lithographischen Druckplatte M ist, bevorzugt, dass die Umfangsgeschwindigkeit der Beschichtungswalze 125 nicht größer als das 0,9-fache oder nicht kleiner als das 1,1-fache der Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M ist. Eine übermäßig erhöhte Umfangsgeschwindigkeit der Beschichtungswalze 125 bewirkt jedoch eine Entwicklungsungleichmäßigkeit infolge eines Schäumens des Aktivators. Es wird daher bevorzugt, dass die Umfangsgeschwindigkeit der Beschichtungswalze 125 nicht größer als das Fünffache der Transportgeschwindigkeit der lithographischen Druckplatte M ist.

Wenngleich ein elastisches Rohr 191 (7) in der Gesamtheit der Rohrleitung zwischen der Pumpe 53 und dem Aktivatorzuführrohr 122 vorgesehen ist, kann auch nur ein Abschnitt der Rohrleitung aus einem elastischen Material bestehen.

Die Vorrichtung gemäß den bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ist in den folgenden Punkten vorteilhaft:

Die in Berührung mit dem lichtempfindlichen Material stehende Oberfläche der Beschichtungswalze enthält das elastische Element, um Beschädigungen an der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials zu vermeiden. Da ferner das lichtempfindliche Material mit Bearbeitungsflüssigkeit beschichtet wird, die die zwischen der Beschichtungswalze mit der porösen Oberfläche und dem Berührelement mit der unebenen Oberfläche ausgebildete Öffnung durchlaufen hat, wenn die Beschichtungswalze dreht, kann die Bearbeitungsflüssigkeit vergleichförmigt auf das lichtempfindliche Material aufgebracht werden. Außerdem bemisst das poröse elastische Teil auf der Oberfläche der Beschichtungswalze die auf das lichtempfindliche Material aufgebrachte Bearbeitungsflüssigkeit, was ein Beschichten des lichtempfindlichen Materials mit einer richtigen Menge an Bearbeitungsflüssigkeit gestattet.

Das Stützelement, welches das elastische plattenartige Element ist, kann von einfachem Aufbau sein. Das Stützelement ist mit einem Loch ausgebildet, durch welches eine überschüssige Menge an Bearbeitungsflüssigkeit fließen kann, die zwischen die Beschichtungswalze und das Stützelement zugeführt worden ist, was ein übermäßiges Anwachsen der Pfütze an Bearbeitungsflüssigkeit verhindert, die zwischen der Beschichtungswalze und dem Halterungselement ausgebildet wird.

Die Oberfläche der Beschichtungswalze besteht aus Schwamm, der eine große Anzahl von getrennten Poren enthält, um zu verhindern, dass die die Oberfläche berührende Bearbeitungsflüssigkeit in das Innere der Beschichtungswalze eintritt.

Der Widerstandsabschnitt zur Bewirkung eines Druckverlustes der durch ihn verlaufenden Bearbeitungsflüssigkeit ist zwischen dem Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabelöchern und der Pulsationspumpe vorgesehen, und die Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführleitung zwischen der Pulsationspumpe und dem Widerstandsabschnitt weist eine elastische Teilleitung auf. Dann kann der Pulsationsstrom der Bearbeitungsflüssigkeit, der durch die Pulsationspumpe erzeugt wird, durch die elastische Leitung absorbiert werden. Dies verhindert, dass Luft in den Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabeabschnitt eintritt, wenn die Pulsationspumpe verwendet wird, um damit zu verhindern, dass eine Luftblase die Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabelöcher des Bearbeitungsflüssigkeits-Abgabeabschnitts blockiert, was ein gleichförmiges Zuführen der Bearbeitungsflüssigkeit gestattet.

Die Vorrichtung umfasst den ersten Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt zum Verteilen der aus dem Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführabschnitt zugeführten Bearbeitungsflüssigkeit und zur Bewirkung, dass die Bearbeitungsflüssigkeit nach unten fließt, und den zweiten Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt, der das Berührelement in Berührung mit dem Beschichtungselement zur Verteilung des Abwärtsstroms der Bearbeitungsflüssigkeit zwischen dem Beschichtungselement und dem Berührelement und zur Bewirkung, dass die Bearbeitungsflüssigkeit durch das Beschichtungselement nach unten fließt, enthält. Die aus dem Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführabschnitt zugeführte Bearbeitungsflüssigkeit wird in zwei Stufen verteilt und dann auf das lichtempfindlichen Material aufgebracht. Dies erzielt eine gleichförmige Beschichtung des lichtempfindlichen Materials mit der Bearbeitungsflüssigkeit, wenn das lichtempfindliche Material mit einer kleinen Menge an Bearbeitungsflüssigkeit zu beschichten ist.

Da das Beschichtungselement eine Beschichtungswalze mit einer aufgerauten Oberfläche enthält, kann die Bearbeitungsflüssigkeit, wenn die Beschichtungswalze dreht, korrekt bemessen und auf das lichtempfindliche Material aufgebracht werden.

Daher ist die Fähigkeit des zweiten Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitts, die Bearbeitungsflüssigkeit zu verteilen, größer als die Fähigkeit des ersten Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitts, die Bearbeitungsflüssigkeit zu verteilen. Die vergleichförmigte Bearbeitungsflüssigkeit, die aus dem zweiten Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt nach unten fließt, kann also auf das lichtempfindliche Material aufgebracht werden.

Die gesamte Querschnittsfläche der Öffnungen des ersten Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitts ist größer als die gesamte Querschnittsfläche der Öffnungen des zweiten Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitts. Eine vergleichförmigte Bearbeitungsflüssigkeit, die aus dem zweiten Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt nach unten strömt, kann also auf das lichtempfindliche Material aufgebracht werden.

Der erste Bearbeitungsflüssigkeits-Verteilungsabschnitt enthält den Bearbeitungsflüssigkeits-Empfangsabschnitt mit einer Anzahl von Öffnungen, die für den Durchtritt der Bearbeitungsflüssigkeit gebohrt sind. Die aus dem Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführabschnitt zugeführte Bearbeitungsflüssigkeit wird auf die Anzahl von Öffnungen verteilt und fließt dann aus der Anzahl von Öffnungen nach unten. Dies erzielt eine gleichförmige Beschichtung des lichtempfindlichen Materials mit der Bearbeitungsflüssigkeit unter Verwendung eines einfachen Aufbaus.

Die Öffnungen des Bearbeitungsflüssigkeits-Empfangsabschnitts sind an Stellen gebohrt, die von den Stellen, zu welchen die Bearbeitungsflüssigkeit aus den Öffnungen des Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführabschnitts zum Bearbeitungsflüssigkeits-Empfangsabschnitt fließt, verschieden sind. Die aus den Öffnungen des Bearbeitungsflüssigkeits-Zuführabschnitts zugeführte Bearbeitungsflüssigkei