Diese Erfindung bezieht sich auf einen Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor zum Entwickeln von Dental-Filmen, welche bereits Röntgenstrahlen ausgesetzt wurden.

Röntgenstrahl-Fotografie wird für die Behandlung oder die Diagnose von Zähnen verwendet. Diese Röntgenstrahl-Fotografie wird durch Versiegeln eines Röntgenstrahlfilms in einem Bestrahlungsschutzpaket und darauf folgendem Bestrahlen oder Exponieren des Films durch Röntgenstrahlen durchgeführt, wobei das Paket in Kontakt mit einem Zielzahn der Fotografie gehalten wird. Nach Vervollständigung der Fotografie wird das Paket aus dem Mund herausgenommen und der Röntgenstrahlfilm dann durch einen Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor entwickelt. Derartige Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessoren enthalten verschiedene Arten, aber Entwicklungsprozessoren von der Art, wie sie in der japanischen Gebrauchsmuster-Veröffentlichung (Kokoku) Nr. SHO 60-20115 offenbart sind, sind überlegen, weil sie die Entwicklung eines Röntgenstrahlfilms in planarer Form erlauben.

Gemäß dem Entwicklungsprozessor, welcher in der vorstehenden Veröffentlichung offenbart ist, sind zwei Paare von Walzen, wobei jedes Paar aus zwei in dichten Kontakt miteinander zusammengesetzt ist, beabstandet zwischen zwei Seitenwänden angeordnet, welche einander gegenüberliegen, eine Bodenwand ist zwischen den zwei Seitenwänden und unterhalb des Walzenpaars so angeordnet, dass ein Verarbeitungsraum durch die zwei Walzenpaare, die jeweiligen Seitenwände und die Bodenwände ausgebildet wird. Eine Verarbeitungslösung für einen Röntgenstrahlfilm wird in den Verarbeitungsraum gefüllt und die einzelnen Walzen werden in Drehung versetzt, wobei der Röntgenstrahlfilm dazu veranlasst wird, sich durch die Verarbeitungslösung von einem der Walzenpaare zu den anderen Walzenpaaren zu bewegen. Im Verlauf dieser Bewegung wird die Verarbeitung des Röntgenstrahlfilms durchgeführt. Die Verarbeitungslösung wird aus einem Reservoir nach oben gesaugt, in welchem die Verarbeitungslösung aufbewahrt wird, und wird dann in den Verarbeitungsraum gefüllt. Eine Überströmeinrichtung ist durch die Seitenwand des Verarbeitungsraums hindurch ausgebildet, wenn die eingefüllte Verarbeitungslösung über die Überströmeinrichtung hinaus ansteigt, wird die Verarbeitungslösung aus dem Verarbeitungsraum durch die Überströmeinrichtung abgegeben und wird zu dem Reservoir zurückgeleitet.

Ein Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor, in welchem Verarbeitungsräume von der vorstehend beschriebenen Art jeweils zur Entwicklungsverarbeitung, Fixierverarbeitung und Waschverarbeitung angeordnet sind, ist in der japanischen Gebrauchsmusteranmeldung Nr. HEI 1-35608 offenbart. Dieser Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor ist in einen oberen Hauptkörper und einen unteren Hauptkörper unterteilt, wobei der obere Hauptkörper nur mit Walzen ausgestattet ist, welche die vorstehend beschriebenen Verarbeitungsräume bilden, und andere Elemente als die Rollen an dem unteren Hauptkörper angebracht sind. Der Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor ist durch Anbringen des oberen Hauptkörpers auf dem unteren Hauptkörper zusammengesetzt. Die Unterteilung des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors in einen oberen Hauptkörper und einen unteren Hauptkörper, wie vorstehend beschrieben, erlaubt ein einfaches und durchgehendes Reinigen von Walzen und dergleichen.

Im Übrigen sind viele Benutzer von Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessoren allgemein Dental-Praktiker, welche auf die Behandlung und Diagnose von Zähnen spezialisiert sind, sowie deren Angestellte. Diese Leute sind nicht an die Bedienung derartiger Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessoren gewöhnt und können sich in der Praxis es nicht leisten, Bedienungshandbücher vollständig zu lesen. Wenn ein Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor durch einen solchen Nicht-Experten bedient wird, kann häufig eine Störung infolge eines menschlichen Fehlers oder dergleichen auftreten, was für den Konstrukteur, Hersteller oder Verkäufer nicht vorhersehbar ist. Das Auftreten der Störung wird üblicherweise einem Vertreiber oder dem Hersteller über den Verkäufer berichtet. Der Verkäufer oder der Hersteller sammelt nötige Teile von den berichteten Details der Störung und schickt eine Service-Person mit den Teilen, um die Störung zu beheben.

Jedoch ist Service-Personal nicht stets für unmittelbare Service-Besuche bereit, sondern sind unter derzeitigen Umständen gewöhnlich sehr beschäftigt durch das Beheben von Störungen. Es beansprucht deshalb eine beträchtliche Zeit, bis eine Service-Person entsandt werden kann. Selbst wenn eine Service-Person geschickt wird, macht sein Herausfinden eines Bedarfes für ein Teil, welches sich von den von ihm mitgeführten unterscheidet, es nötig, dass die Service-Person denselben Benutzer unter Mitnahme des zusätzlichen Teils erneut besucht, was zum Bedarf einer weiteren Zeit führt, bis die Störung behoben ist. Wenn die Störung extensiv ist und nicht durch eine begrenzte Reparatur fixiert werden kann, muss sie den beschädigten Entwicklungsprozessor zurückbringen, und muss im Anschluss an dessen Reparatur durch den Verkäufer oder Hersteller den Prozessor zurück zu dem Benutzer liefern. Aus diesen Gründen werden vom Auftreten einer Störung bis zur Vervollständigung seiner Behebung im Allgemeinen von einer Woche in einem schnellen Fall, bis zu einigen Wochen in einem späten Fall, benötigt. Während dieser Zeitperiode kann der Benutzer den Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor nicht verwenden, wodurch Behandlungen und Diagnosen erschwert werden. Eine noch weitere Zeit wird für eine Reparatur benötigt, insbesondere dann, wenn eine Störung an einem von dem Verkäufer oder Hersteller entfernten Ort auftritt.

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die vorstehend beschriebenen Probleme der bekannten Technik zu beheben, und somit einen Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor bereitzustellen, welcher es erlaubt, mit jeglichen Störungen prompt zurechtzukommen.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale in Anspruch 1 gelöst.

Es war der Gedanke des vorliegenden Erfinders, dass die vorstehend beschriebene Aufgabe dadurch gelöst werden kann, dass Teile, welche alle dahingehend eingeschätzt werden, ein potentielles Problem der Entwicklung einer Störung mit sich zu bringen, in einem einzelnen Block zusammenzubauen, den Block lösbar relativ zu dem Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor aufzubauen, und in dem Fall des Auftretens einer Störung, den Block, welcher ein beschädigtes Teil enthält, durch einen Block zu ersetzen, in welchem das entsprechende Teil in Ordnung ist.

Gemäß der vorliegenden Erfindung sind ein Walzenblock, welcher aus mehreren Walzen zum Ermöglichen einer Entwicklung eines Dental-Röntgenstrahlfilms zusammengesetzt ist, ein Basis- oder Grundplattenblock und ein Chassis-Block mit einem eingebauten Reservoir angeordnet, welches eine Verarbeitungslösung für die Entwicklung enthält. Der Basisplattenblock ist mit zumindest einem Antriebsmechanismus zum Antreiben der Walzen und einer Verarbeitungslösungs-Zuführeinrichtung zu Zuführen der Verarbeitungslösung von dem Reservoir zu dem Walzenblock versehen, wodurch der Walzenblock, der Basisplattenblock und der Chassis-Block unabhängig voneinander abnehmbar sind.

Des Weiteren stellt die vorliegende Erfindung einen Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor bereit, welcher mit zumindest zwei Sätzen von Walzenpaaren versehen ist, wobei jeder Satz zwei Walzenpaare enthält, welche mit einem Abstand dazwischen angeordnet und individuell aus sich gegenseitig berührenden zwei Walzen zusammengesetzt sind, welche in einem Aufwärts- und Abwärts-Verhältnis angeordnet sind, wodurch die Entwicklung eines Dental-Röntgenstrahlfilms zwischen den Walzenpaaren in einem ersten Satz und ein Fixieren des Dental-Röntgenstrahlfilms zwischen den Walzenpaaren in einem zweiten Satz ermöglicht wird, umfassend: einen integral aufgebauten Walzenblock, wobei die einzelnen Walzen darin eingebaut sind; einen integral aufgebauten Basisplattenblock mit einer Basisplatte, zwei Walzenräumen, welche kontinuierlich auf einer oberen Seite der Basisplatte ausgebildet sind und die Walzen darin aufnehmen, um einen Entwickler-Einfüllraum und einen Fixierer-Einfüllraum in Kombination mit den Walzen aufzubauen, einen Walzenantriebsmechanismus zum Antreiben der einzelnen Walzen, Verarbeitungslösungs-Einfülleinrichtungen zum Einfüllen entsprechender Verarbeitungslösungen von einem Entwicklerreservoir und einem Fixiererreservoir in den Entwickler-Einfüllraum und den Fixierer-Einfüllraum, eine Steuerbox, welche mit Betriebseinrichtungen für den Entwicklungsprozessor versehen sind, und ein Elektrikelementaufbau, welcher darin Elektrikelemente eines Antriebsschaltkreises für den Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor aufbewahrt, wobei der Walzenantriebsmechanismus, die Verarbeitungslösungs-Einfülleinrichtungen, die Steuerbox und der Elektrikelementaufbau alle auf einer unteren Seite der Basisplatte befestigt sind; und einen Chassis-Block, wobei zumindest das Entwicklerreservoir und das Fixiererreservoir darin eingebaut sind; wodurch der Walzenblock, der Basisplattenblock und der Chassis-Block voneinander unabhängig abnehmbar sind.

Der Basisplattenblock kann Heizer und Lösungsmittel-Temperatursensoren aufweisen, welche darauf befestigt sind, so dass die Heizer und Lösungsmittel-Temperatursensoren jeweils in dem Entwicklerreservoir und dem Fixiererreservoir positioniert werden können.

Der Basisplattenblock kann zumindest eines der Elemente Schwimmerschalter, welche in dem Entwicklerreservoir und dem Fixiererreservoir zum Erfassen von Lösungsmittelniveaus darin positioniert sind, ein Erdungs-Leckage-Unterbrecher zum Unterbrecher einer Leistungszufuhr auf die Erfassung einer elektrischen Leckage, und einen Begrenzerschalter zum Schließen eines Leistungslieferschaltkreises, wenn der Walzenblock auf dem Basisplattenblock angebracht wurde, aufweisen.

Die vorliegende Erfindung stellt ebenfalls einen Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor bereit, welcher mit vier Sätzen von Walzenpaaren versehen ist, wobei jeder Satz zwei Walzenpaare mit einem Abstand dazwischen enthält und individuell aus sich gegenseitig berührenden zwei Walzen zusammengesetzt sind, welche in einem Aufwärts- und Abwärts-Verhältnis angeordnet sind, wodurch eine Entwicklung eines Dental-Röntgenstrahlfilms zwischen den Walzenpaaren in einem ersten Satz, Fixieren des Dental-Röntgenstrahlfilms zwischen den Walzenpaaren in einem zweiten Satz, Waschen des Dental-Röntgenstrahlfilms zwischen den Walzenpaaren in einem dritten Satz, und Trocknen des Dental-Röntgenstrahlfilms zwischen den Walzenpaaren eines vierten Satzes ermöglicht wird, umfassend: einen integral aufgebauten Walzenblock, wobei die einzelnen Walzen darin eingebaut sind; einen integral aufgebauten Basisplattenblock mit einer Basisplatte, vier Walzenräume, welche kontinuierlich auf einer oberen Seite der Basisplatte ausgebildet sind und die Walzen darin aufnehmen, um einen Entwickler-Einfüllraum, einen Fixierer-Einfüllraum, einen Waschlösungsmittel-Einfüllraum und einen Trocknungsraum in Kombination mit den Walzen aufzubauen, einen Walzenantriebsmechanismus zum Antreiben der einzelnen Walzen, Verarbeitungslösungs-Einfülleinrichtungen zum Einfüllen entsprechender Verarbeitungslösungen von einem Entwicklerreservoir, einem Fixiererreservoir und einem Waschlösungsreservoir in den Entwickler-Einfüllraum, den Fixierer-Einfüllraum und den Waschlösungs-Einfüllraum, eine Steuerbox, welche mit Betriebseinrichtungen für den Entwicklungsprozessor versehen ist, und ein Elektrikelementaufbau, welcher darin Elektrikelemente eines Antriebsschaltkreises für den Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor kollektiv aufbewahrt, Heizer, Lösungsmittel-Temperatursensoren und Lösungsmittel-Niveauerfassungs-Schwimmerschalter, welche in dem Entwicklerreservoir und dem Fixiererreservoir positioniert sind, einen Erdungs-Leckage-Unterbrecher zum Unterbrechen einer Leistungszufuhr auf die Erfassung einer elektrischen Leckage hin, einen Begrenzerschalter zum Schließen eines Leistungszufuhrschaltkreises, wenn ein Walzenblock auf dem Basisplattenblock angebracht wurde, und einen Warmluftventilator zum Blasen von Warmluft in den Trocknungsraum, wobei der Walzenantriebsmechanismus, die Verarbeitungslösungs-Einfülleinrichtungen, die Steuerbox, der Elektrikelementaufbau, die Heizer, die Lösungsmittel-Temperatursensoren, die Schwimmerschalter, die Erdungs-Leckage-Unterbrecher, der Begrenzerschalter und der Warmluftventilator alle auf einer unteren Seite der Basisplatte befestigt sind; und einen Chassis-Block mit dem Entwicklerreservoir, dem Fixiererreservoir und dem Waschlösungsreservoir, welche darin aufgebaut sind; wodurch der Walzenblock, der Basisplattenblock und der Chassis-Block voneinander unabhängig abnehmbar sind.

1 ist eine perspektivische Ansicht einer unteren Seite eines Basisplattenblocks eines Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;

2 ist eine perspektivische Ansicht des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors, in welcher der in 1 gezeigte Basisplattenblock in einem Chassis-Block eingebaut wurde;

3 ist eine perspektivische Explosionsansicht des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors, der in 2 geschildert ist;

4 ist eine Draufsicht des Chassis-Blocks, wobei der in 2 dargestellte Basisplattenblock darin eingebaut ist;

5 ist eine Querschnittsansicht, welche entlang einer Linie V-V genommen ist, welche in 3 gezeigt ist;

6 ist eine perspektivische Ansicht einer Abdeckung und einer Blackbox bzw. schwarzen Kammer des Dental-Röntgenstrahlenfilm-Entwicklungsprozessors; und

7 ist eine perspektivische Ansicht des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors in einer vollständig zusammengebauten Form.

Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend auf der Grundlage der in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsform beschrieben.

1 ist eine perspektivische Ansicht der unteren Seite des Basisplattenblocks des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, 2 ist die perspektivische Ansicht des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors, in welchem der in 1 gezeigte Basisplattenblock in den Chassis-Block eingebaut wurde, und 3 ist die perspektivische Explosionsansicht des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors, welcher in 2 dargestellt ist. In dieser Ausführungsform ist der Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor, welcher bei der Nummer 1 in 2 gezeigt ist, aus drei Blöcken zusammengesetzt, das heißt, einem Walzenblock 100, dem Basisplattenblock 200, welcher ebenso in 1 dargestellt ist, und der mit Nummer 300 bezeichnete Chassis-Block. Der Aufbau des Walzenblocks 100 und des Chassis-Blocks 300 wird unter Bezugnahme auf 3 beschrieben, und der Aufbau des Basisplattenblocks 200 wird unter Bezugnahme auf die 1 und 3 beschrieben.

Bezugnehmend auf 3 ist der Walzenblock 100 aus Seitenwänden 101, 102 aufgebaut, welche einander gegenüberliegen, und einer Walzeneinheit 103, welche aus einer Anzahl von zwischen den Seitenwänden 101, 102 angebrachten Walzen zusammengestellt ist. Die Walzeneinheit 103 ist aus zwei Walzenpaaren, welche einen Entwicklungsraum aufbauen, zwei Walzenpaaren, welche einen Fixierraum bilden, zwei Walzenpaaren, welche einen Waschvorgangsraum begrenzen, und zwei Walzenpaaren, welche einen Trocknungsraum bilden, zusammengesetzt. Diese Walzen sind individuell mit Rotationsübertragungsgetrieben bzw. -zahnrädern versehen, welche auf einer Außenseite der Seitenwand 101 positioniert sind. In dieser Zeichnung werden alle Getriebe hinter der Seitenwand 101 verdeckt und sind nicht sichtbar.

Als nächstes wird eine Beschreibung unter Bezugnahme zunächst auf 3 des Aufbaus der oberen Seiten des Basisplattenblocks ausgeführt. Dort sind eine Basisplatte 201, ein Rahmen 202, welcher auf der Basisplatte 201 angeordnet ist, und eine äußere Tafel 203 gezeigt, welche sich nach unten von der Basisplatte 201 erstreckt. Ebenso sind ein Entwicklungswalzenraum 204a, ein Fixierwalzenraum 204b, ein Waschwalzenraum 204c und ein Trocknungswalzenraum 204d dargestellt. Der Walzenblock 100 ist in diese Räume eingesetzt. Der Entwicklungswalzenraum 204a ist in der Form einer Box aufgebaut, welche aus einer Bodenwand 204a₁ und Wänden ausgebildet ist, welche sich aufrecht von vier Seiten von der Bodenwand aus jeweils erstrecken. Die Bodenwand 204a₁ ist mit einem Entwicklerrückführloch 204a₂ und einem Entwicklerzuführloch 204a₃ versehen. In dieser Ausführungsform wird die vorstehend genannte Überströmeinrichtung nicht verwendet und anstelle dessen wird ein in den Entwicklungsraum zugeführter Entwickler über das Entwicklerrückführloch 204a₂ zu einem Entwicklerreservoir, welches nachfolgend zu beschreiben ist, zurückgeführt. Der Aufbau des Fixierwalzenraums 204b und des Waschwalzenraums 204c sind ähnlich dem des Entwicklungswalzenraums 204a.

Die Zeichnung stellt ebenso eine Schneckenwelle 205 dar, welche in getriebemäßigem Eingriff mit Getrieben von einzelnen unteren Walzen der Walzenpaare, um die unteren Walzen in Drehung zu versetzen, einer Pumpenmotorriemenscheibe 206M, welche direkt an einem nachfolgend beschriebenen Pumpenmotor angeschlossen ist und durch den Pumpenmotor in Drehung versetzt wird, Pumpenriemenscheiben 206a, 206b, 206c zum Drehen jeweils einer Entwicklerpumpe, einer Fixiererpumpe und einer Waschlösungspumpe, und einem Riemen 207 gehalten werden, welcher die jeweiligen Pumpenriemenscheiben 206a, 206b, 206c an der Pumpenmotorriemenscheibe 206M anschließt. Mit Bezugsziffer 208 ist eine Rutsche zum Eintauchen jedes exponierten Röntgenstrahlfilms bezeichnet, während Bezugsziffer 209 hohle Zusammenbau-Führungsstifte bezeichnet, welche aufrecht in vier Ecken der oberen Seite der Basisplatte 201 angeordnet sind. Die Bezugsziffer 213 zeigt einen Warmluftventilator zum Blasen von warmer Luft in den Trocknungswalzenraum 204d zum Trocknen jedes Röntgenstrahlfilms an.

Der Aufbau der unteren Seite des Basisplattenblocks 200 ist in 1 dargestellt. Elemente in 1, welche dieselben sind wie die entsprechenden in 3 gezeigten, sind durch gleiche Bezugszeichen identifiziert, und deren Beschreibung wird hier weggelassen. Im übrigen ist diese Figur bei entfernter äußerer Tafel 203 dargestellt, und die Kontur der äußeren Tafel 203 ist durch eine Phantomlinie dort angezeigt. Die Bezugsziffer 210 zeigt eine Steuerbox an, in welcher Schalter und dergleichen für den Betrieb des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors angeordnet sind. Die Steuerbox ist an einer Oberfläche davon über eine Öffnung der äußeren Tafel 203 exponiert, wie in 2 und 3 dargestellt ist. Ebenso sind ein Antriebsmotor 211 zum Drehen der Schneckenwelle 205, eine Antriebsriemenscheibe 212, welche an dem Antriebsmotor 211 angeschlossen ist und ebenso an einem auf der Schneckenwelle 205 befestigten Schneckenrad angeschlossen ist, und der Warmluftventilator 213 dargestellt. Mit Bezugsziffer 214 ist der Pumpenmotor bezeichnet, welcher die Entwicklerpumpe 215a, die Fixiererpumpe 215b und die Waschlösungspumpe 215c antreibt. An dieser Waschlösungspumpe 215c sind eine Steigleitung 216c und eine Zuführleitung 217c angeschlossen. Steigleitungen und Zuführleitungen sind ebenfalls an der vorstehend beschriebenen Entwicklerpumpe 215a und der Fixiererpumpe 205b angeschlossen, obwohl deren Bezeichnung durch Bezugsziffern weggelassen ist.

Mit dem Zeichen 218a ist ein Schwimmerschalter bezeichnet, welcher in das nachfolgend beschriebene Entwicklerreservoir einzusetzen ist, und der Schwimmerschalter wird zur Erfassung eines Lösungsmittelniveaus in dem Entwicklerreservoir verwendet. Eine Bezugsziffer für einen Schwimmerschalter des Fixiererreservoirs ist weggelassen. Der Entwicklungsprozessor ist mit einer Funktion versehen, welche einen Leistungszufuhrschaltkreis unterbricht, wenn irgendeiner der Schwimmerschalter ein vorbestimmtes Lösungsmittelniveau nicht erfasst, wodurch ein Benutzer daran gehindert wird, den Entwicklungsprozessor zu betreiben, ohne die Reservoirs mit den entsprechenden Verarbeitungslösungen zu befüllen. Ebenso sind ein Heizer 219a für das Entwicklerreservoir, ein Heizerhalter 220a und ein Heizer 219b für das Fixiererreservoir dargestellt. Ein Bezugszeichen für einen Heizerhalter des Heizers 219b ist weggelassen. Die Bezugsziffer 221 bezeichnet eine Elektroelementbox, welche unterschiedliche Elemente eines elektrischen Schaltkreises aufnimmt, und welche einstückig aus einem Synthetikharz oder dergleichen ausgebildet ist. Es ist ebenfalls eine Bodenwand 204b₁ des Fixierwalzenraums 204b und ein Fixiererrückführloch 204b₂ gezeigt.

Bezugnehmend auf 3 wird als nächstes der Aufbau des Chassis-Blocks 300 beschrieben. Mit der Bezugsziffer 301 ist ein Chassis bezeichnet, welches so ausgebildet ist, wie es in der Zeichnung dargestellt ist. Das Chassis trägt das Gewicht des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors. Die Zeichnung zeigt auch einen aufnehmenden Raum 301a für den Warmluftventilator 213, einen aufnehmenden Raum 301b für den Pumpenmotor 214, einen aufnehmenden Raum 301c für die Antriebsriemenscheibe 212 und einen aufnehmenden Raum 301d für eine Auslassluftführung. Mit den Bezugsziffern 302a, 302b und 302c sind das Entwicklerreservoir, das Fixiererreservoir und das Waschlösungsreservoir bezeichnet. Diese Reservoirs werden jeweils in dem Entwickler, dem Fixierer und der Waschlösung gehalten und werden durch das Chassis 301 getragen. Mit Bezugsziffer 303 sind Zusammenbau-Führungsstifte bezeichnet, welche in Eingriff mit den hohlen Führungsansätzen des Basisplattenblocks gebracht werden, wenn der Basisplattenblock 200 auf dem Chassis-Block 300 angebracht wird. Die Bezugsziffer 304 bezeichnet vier Rollen zum Installieren des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors auf einem Boden. Mit der Bezugsziffer 305 sind Drainageschläuche zur Abgabe des Entwicklers, des Fixierers und der Waschlösung von den entsprechenden Reservoirs 302a, 302b, 302c zum Äußeren bezeichnet.

Relative Stellungen der verschiedenen Elemente sind in den 4 und 5 gezeigt. 4 ist eine Draufsicht des Chassis-Blocks 300. In dieser Zeichnung werden Elemente, welche die gleichen wie die entsprechenden in 1 und 3 gezeigten sind, durch gleiche Bezugszeichen identifiziert, und deren Beschreibung wird hier weggelassen. Die durch Strichlinien angezeigten Elemente sind die, welche den Basisplattenblock 200 aufbauen, und zeigen deren relative Stellungen in dem Zustand, in welchem der Basisplattenblock 200 auf dem Chassis-Block 300 angebracht wurde. Die Bezugsziffern 216a, 216b, 216c zeigen Steigleitungen für die Entwicklerpumpe, die Fixiererpumpe und die Waschlösungspumpe 215a, 215b, 215c jeweils an, und die Bezugsziffern 218a, 218b bezeichnen die vorstehend genannten Schwimmerschalter. Die Heizer 219a, 219b sind im Wesentlichen jeweils in der Mitte von dem Entwicklerreservoir 302a und dem Fixiererreservoir 302b positioniert. Mit der Bezugsziffer 204a₂, 204b₂, 204c₂ sind die vorstehend genannten Rücklauflöcher bezeichnet, welche in kommunizierender Verbindung mit den jeweiligen Walzenräumen ausgebildet sind. Ebenfalls sind Lösungsmittel-Temperatursensoren 222a, 222b dargestellt, welche die Temperaturen des Entwicklers und Fixierers jeweils erfassen, und den Temperaturen entsprechende elektrische Signale ausgeben. Diese Lösungsmittel-Temperatursensoren sind in dem Basisplattenblock 200 angeordnet, obwohl diese weder in 1 noch in 3 auftreten. Die Temperaturen der einzelnen Verarbeitungslösungen werden auf deren entsprechenden vorbestimmten Temperaturen durch die vorstehend beschriebenen entsprechenden Heizer und Lösungsmittel-Temperatursensoren gehalten. Die Bezugsziffer 223 bezeichnet die Auslassluftführung, welche in dem Raum 301d eingesetzt ist, welche den Ausstoß von Warmluft durchführt, welche durch den Warmluftventilator 213 erzeugt wird und zum Trocknen des Röntgenstrahlfilms in dem Raum verwendet wird, welcher zwischen den Trocknungswalzenpaaren ausgebildet ist. Ein Erdungs-Leckage-Unterbrecher 224 ist auf dem Basisplattenblock 200 befestigt, und trennt den Leistungszuführschaltkreis ab, wenn eine elektrische Leckage erfasst wird. Bei Bezugsziffer 225 ist ein Begrenzerschalter bezeichnet, der an dem Basisplattenblock befestigt ist und dieser Begrenzerschalter hat eine Funktion dahingehend, den Leistungszuführschaltkreis zu schließen, wenn der Walzenblock 100 auf den Basisplattenblock 200 montiert wurde. Der Erdungsunterbrecherschalter dient zum Vermeiden jeglicher Gefahr, welche auftreten kann, wenn eine Lösungsmittel-Leckage an irgendeiner Stelle aus dem einen oder anderen Grund stattfindet. Andererseits dient der Begrenzerschalter dazu, die Verarbeitungslösungsmittel am Überlaufen aus den Walzenräumen zu hindern, sollte der Benutzer den Entwicklungsprozessor ohne Anbringen des Walzenblocks 100 betreiben.

5 ist die Querschnittsansicht, welche entlang der Linie V-V genommen ist, welche in 3 gezeigt ist. Diese Zeichnung zeigt relative Stellungen der einzelnen Elemente in einem Zustand, in welchem der Basisplattenblock 200 auf dem Chassis-Block 300 angebracht wurde, und der Walzenblock 100 auf dem Basisplattenblock 200 angebracht wurde. In dieser Zeichnung sind Elemente, welche die gleichen wie die in 1, 3 und 4 gezeigten, entsprechenden Elemente sind, durch gleiche Bezugsziffern bezeichnet, und deren Beschreibung wird hier weggelassen. Im Übrigen werden die Teile des Walzenblocks 100 und des Basisplattenblocks 200 durch Strichlinien angezeigt. Die Zeichnung stellt eine obere Walze 102a₁ und eine untere Walze 102a₂ von einem der Walzenpaare, welche in dem Entwicklungswalzenraum angeordnet sind, ein Getriebe 103, welches an der unteren Walze 102a₂ angeschlossen ist, ein Schneckengetriebe 104, welches an der unteren Walze 102a₂ angeschlossen ist und in getriebemäßigem Eingriff mit der Schneckenwelle 205 gehalten wird, und ein Getriebe 105, welches an der oberen Walze 102a₁ angeschlossen ist und in getriebemäßigem Eingriff mit dem Getriebe 103 gehalten wird, dar. Mit der Bezugsziffer 201G sind Walzenblock-Anbringungsschlitze bezeichnet. Beim Anbringen des Walzenblocks 100 auf dem Basisplattenblock 200 werden die Seitenwände 101, 102 des Walzenblocks 100 in die entsprechenden Walzenblock-Anbringungsschlitze 201G eingesetzt.

6 ist die perspektivische Ansicht der Abdeckung und der Blackbox des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors. Diese Zeichnung zeigt die Abdeckung 400, welche sich über eine Deckwand des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors erstreckt, welcher in 1 gezeigt ist, eine Öffnung 401 zum Ermöglichen, dass die Rutsche 208 sich dahin durch erstreckt, und einen Filmauslassschlitz 402, durch welchen jeder verarbeitete Röntgenstrahlfilm herauskommt. Ebenso sind die Blackbox 500, welche über der Abdeckung 400 angeordnet ist, und eine Einlass-/Auslass-Abdeckung 501 gezeigt, welche die Einlass-/Auslass-Öffnung, durch welche jeder Röntgenstrahlfilm hinein und heraus genommen werden kann, gezeigt. Die Bezugsziffer 502 bezeichnet Handeinsetzöffnungen, welche es dem Bediener des Entwicklungsprozessors ermöglichen, beide Hände in die Blackbox einzuführen, während die Blackbox in einem von Licht abgeschirmten Zustand bleibt. Innerhalb der Blackbox 500 wird jeder Röntgenstrahlfilm aus seiner Packung genommen und dann auf der Rutsche 208 platziert. Nach dem Vervollständigen der Entwicklung kommt der Röntgenstrahlfilm durch den Filmauslassschlitz 402 heraus.

7 ist die perspektivische Ansicht des Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessors in der vollständig zusammengebauten Form. Die Bezugsziffer 10 bezeichnet den vollständig zusammengebauten Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor. Auch die Blackbox 500 ist angebracht. Jedoch ist die Blackbox 500 in der Zeichnung weggelassen, um die Position der Rutsche 208 klar darzustellen. In 7 werden Elemente, welche die gleichen sind wie die entsprechenden Elemente in 2 und 6, durch gleiche Bezugsziffern bezeichnet. Der Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor 10 ist der gleiche wie der Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor 1, welcher in 2 gezeigt ist, mit der Ausnahme, dass dessen Deckwand durch die Abdeckung 400 bedeckt ist, welche in 6 dargestellt ist.

Nun wird eine Diskussion über Probleme der einzelnen Walzen in dem Walzenblock 100 und der einzelnen Reservoirs in dem Chassis-Block diskutiert. Die vorstehend beschriebenen Walzen und deren Getriebe sind relativ frei von Störungen, mit Ausnahme von Störungen, welche durch Verschleiß während der Verwendung über eine erstreckte Zeitperiode bewirkt werden, und ebenso sind die einzelnen Reservoirs im Wesentlichen frei von Störungen, mit Ausnahme von Verschlechterungen von deren Material. In dieser Ausführungsform werden die Teile, welche nicht die vorstehend beschriebenen Walzen und Reservoirs sind, alle zusammen in dem Basisplattenblock 200 gegeben, um jede Störung zu meistern, dessen Auftreten wahrscheinlich oder nicht sehr wahrscheinlich ist.

Gemäß dieser Ausführungsform ist der Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor aus dem Walzenblock 100, dem Basisplattenblock 200, dem Chassis-Block 300, der Abdeckung 400 und der Blackbox 500 aufgebaut, und die Teile, von welchen jedes dahingehend eingeschätzt wird, ein potentielles Problem der Entwicklung einer Störung zu bewirken, sind alle in dem Basisplattenblock 200 angeordnet. In dem Fall des Auftretens einer Störung kann der Benutzer prompt jede Störung meistern, unabhängig davon, wie weit entfernt der Platz des Benutzers ist, wenn der Verkäufer oder Hersteller einen perfekten Basisplattenblock 200 in einem Behälter an dem Benutzer des beschädigten Entwicklungsprozessors sendet, und der Benutzer den beschädigten Basisplattenblock 200 aus dem Entwicklungsprozessor entfernt und den somit empfangenen perfekten Basisplattenblock 200 anstelle dessen installiert. Es ist deshalb möglich, die Zeitperiode signifikant zu verkürzen, während welcher der Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor nicht benutzt werden kann, wodurch Unannehmlichkeiten in Zahnbehandlungen und -diagnosen verringert werden.

Es ist für den Benutzer nötig, den beschädigten Basisplattenblock 200 in demselben Behälter zu dem Verkäufer oder Hersteller zurückzusenden, wie der, in welchem der perfekte Basisplattenblock 200 empfangen wurde. Der Verkäufer oder Hersteller repariert die Störung des somit empfangenen Basisplattenblocks 200 und sendet ihn zu dem Benutzer in demselben Behälter zurück. Es ist dann für den Benutzer nötig, den somit empfangenen, reparierten Basisplattenblock 200 wieder einzusetzen, und er sendet in demselben Behälter den entfernten Basisplattenblock zurück zu dem Verkäufer oder Hersteller. Die Arbeit und Zeit, welche für die vorstehende Verfrachtung erforderlich ist, können wesentlich reduziert werden vorausgesetzt, dass der Behälter zuvor konform mit der Konfiguration des Basisplattenblocks 200 hergestellt wurde.

Gemäß dieser Ausführungsform wird kein Service-Personal mehr erfordert. Selbst wenn ein solches Service-Personal an einen Reparaturabschnitt übergeben wird, ist es unnötig, das gesamte Service-Personal zu dem Reparaturabschnitt zu übergeben, da Reparaturarbeit unter dieser Ausführungsform die Zeit, welche bisher für jede Service-Person erforderlich war, zu jedem beschädigten Entwicklungsprozessor zu gehen und von diesem zurückzukommen, die bisher für jede Service-Person erforderte Arbeit, ein oder mehrere Teile mit sich zu tragen und auch die zuvor benötigte Zeit, die für jede zweite Rundreise der Service-Person erforderlich war, wenn dieser ein falsches Teil mit sich trug, eliminieren kann, und darüber hinaus kann Reparaturarbeit unter dieser Ausführungsform in einer im Vergleich zu Reparaturen durch das konventionelle Service-Personal kürzeren Zeit abgeschlossen werden, dies mit Blick auf die Möglichkeit, dass die Reparaturarbeit schnell durchgeführt werden kann, da die Reparaturarbeit in dem Reparaturabschnitt im Haus durchgeführt wird und die Teile und die Werkzeuge und Ausstattungen, welche für die Reparaturarbeit erforderlich sind, somit alle zur unmittelbaren Verwendung erhältlich sind. Als eine Konsequenz kann der Verkäufer oder Hersteller die Anzahl seiner Beschäftigten wesentlich reduzieren.

Bei der vorstehenden Beschreibung der Ausführungsform wurde der Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor, welcher zum Durchführen aller Arbeitsvorgänge in der Lage ist, d. h. Entwickeln, Fixieren, Waschen und Trocknen, im Wege eines Beispiels erläutert. Es ist jedoch ersichtlich, dass die vorliegende Erfindung auf einen solchen Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor anwendbar ist, welcher nur Entwickeln und Fixieren durchführt, und es erfordert, das Waschen und Trocknen in einem anderen Prozessor zu bewerkstelligen, oder auf einen solchen Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor anwendbar ist, welcher Entwickeln, Fixieren und Waschen durchführt, und es erfordert, das Trocknen in einem anderen Prozessor durchzuführen.

Des Weiteren wurde die Beschreibung hinsichtlich der Ausführungsform gemacht, welche mit den Heizern, den Lösungsmittel-Temperatursensoren, den Schwimmerschaltern, dem Erdungs-Leckage-Unterbrecher und dem Begrenzerschalter ausgestattet ist. Jedoch sind die Heizer und die Flüssigkeits-Temperatursensoren nicht absolut für Entwicklungsprozessoren erforderlich, welche in warmen Bereichen verwendet werden. Zusätzlich werden der Erdungs-Leckage-Unterbrecher, die Schwimmerschalter und der Begrenzerschalter dann unnötig, wenn vorausgesetzt wird, dass der Benutzer den Entwicklungsprozessor so benutzt, wie in den Bedienungsanleitungen beschrieben. Selbst wenn eine Störung infolge des Weglassens solcher Teile auftritt, ist es nur nötig, den Basisplattenblock zu dem Verkäufer oder Hersteller zu senden. Das Vorsehen solcher Teile ist deshalb nicht essentiell.

Wie vorstehend beschrieben wurde, ist der Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor gemäß der vorliegenden Erfindung aus dem Walzenblock, dem Basisplattenblock und dem Chassis-Block aufgebaut, und die Teile, von welchen jedes ein mögliches Problem der Entwicklung einer Störung mit sich bringen, sind alle in dem Basisplattenblock angeordnet. In dem Fall des Auftretens einer Störung kann die Störung prompt gemeistert werden, ungeachtet von der Art der Störung und unabhängig davon, wie entfernt der Platz des Benutzers des beschädigten Entwicklungsprozessors ist, wenn der Verkäufer oder Hersteller einen perfekten Basisplattenblock in einem Behälter oder Container zu dem Benutzer sendet, und der Benutzer andererseits den Basisplattenblock von dem Entwicklungsprozessor entfernt und ihn mit der somit empfangenen Basisplatten-Einheit ersetzt. Dies macht es möglich, die Zeitperiode signifikant zu kürzen, während welcher der Dental-Röntgenstrahlfilm-Entwicklungsprozessor nicht verwendbar ist, und somit eine Unannehmlichkeit bei Zahnbehandlungen und -diagnosen zu verringern.

Darüber hinaus benötigt der Verkäufer oder Hersteller kein Service-Personal mehr und kann die Anzahl der Beschäftigten dadurch reduzieren, indem diese an einen Reparaturabschnitt übergeben werden.