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Dokumentenidentifikation DE102004013449B3 29.12.2005
Titel OLED-Display mit Elektroden hoher Leitfähigkeit und Verfahren zu dessen Herstellung
Anmelder Samsung SDI Co., Ltd., Suwon, Kyonggi, KR
Erfinder Uhlig, Albrecht, Dr., 12524 Berlin, DE;
Humbs, Werner, Dr., 12555 Berlin, DE;
Chung, Ho Kyoon, Dr., Yongin, Kyonggi, KR
Vertreter Anwaltskanzlei Gulde Hengelhaupt Ziebig & Schneider, 10179 Berlin
DE-Anmeldedatum 11.03.2004
DE-Aktenzeichen 102004013449
Veröffentlichungstag der Patenterteilung 29.12.2005
Veröffentlichungstag im Patentblatt 29.12.2005
IPC-Hauptklasse H01L 51/40
IPC-Nebenklasse H01L 51/20   
Zusammenfassung Die Erfindung betrifft ein OLED-Display mit zwei Elektroden (5, 7), wobei mindestens eine Elektrode (7) eine Hilfsleiterbahn (1) zur Erhöhung der Leitfähigkeit aufweist, sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung eines OLED-Displays mit mindestens einer auf einer Elektrode (7) angeordneten Hilfsleiterbahn (1) zur Erhöhung der Leitfähigkeit anzugeben, welches kostengünstiger als die bekannten Verfahren ist. Weiterhin soll das erfindungsgemäße Verfahren auch für große Substrate einsetzbar sein.
Zur Verringerung der Herstellungskosten eines OLED-Displays mit einer auf einer Elektrodenschicht (7) angeordneten oder mit einer Elektrodenschicht (7) verbundenen Hilfsleiterbahn (1) zur Erhöhung der Leitfähigkeit ist es erfindungsgemäß vorgesehen, die Hilfsleiterbahn (1) mittels Tintenstrahldrucktechnik aufzubringen. Vorzugsweise wird die Hilfsleiterbahn (1) oder Hilfselektrode linienförmig ausgebildet.

Beschreibung[de]

Die Erfindung betrifft ein OLED-Display und Verfahren zu dessen Herstellung mit den in den Oberbegriffen der Ansprüche 1 und 10 genannten Merkmalen.

Displays auf Basis von organischen lichtemittierenden Elementen (OLED), insbesondere diejenigen Displays, welche das durch Elektrolumineszenz gebildete Licht durch eine transparente Kathode auskoppeln, zeichnen sich durch eine im Vergleich zu nicht transparenten Elektroden geringere Leitfähigkeit aus. Für größere Displays führt dies zu einem unerwünscht starken ohmschen Verlust entlang der (transparenten) Kathodenlinien und damit zu einer unerwünscht hohen Leistungsaufnahme des Displays. Zur Reduzierung des ohmschen Verlustes ist die Verwendung von Hilfsleiterbahnen (Hilfselektroden) bekannt.

So beschreibt US 2003/03725 A1 (Yamazaki) die Verwendung einer aus Silber bestehenden Hilfselektrode für ein OLED Bauelement, welches Indium-Zinnoxid (ITO) als transparente Kathode einsetzt. Die silberne Hilfselektrode wird mittels Verdampfen im Vakuum erzeugt und anschließend durch Ätzen strukturiert.

US 6,356,032 A1 (Denso Corp.) beschreibt eine Zweilagen-Kathode. Das Licht wird durch eine 1 nm – 50 nm dicke transparente Kathode ausgekoppelt, während der Stromtransport über eine zweite, 100 nm – 1000 nm starke Elektrode realisiert wird. Diese Elektrode bedeckt die Substratfläche zu weniger als 70 %. Beide Schichten sind metallischer Natur und werden durch thermisches Verdampfen im Vakuum erzeugt. Die Strukturierung der zweiten Elektrode erfolgt durch Verwendung einer Schattenmaske.

US 2003/0146693 A1 (Ishihara et.all.) beschreibt den Einsatz einer zusätzlichen Leiterbahn, welche den Leiterbahnwiderstand der Anode einer OLED verringert.

US 2003/0201708 A1 (Yamasa) beschreibt die Verbesserung der Leitfähigkeit der Kathode bei einer OLED durch die Vergrößerung des Kathodenquerschnitts. Das wird durch den Einsatz von aus elektrisch nicht leitfähigem Material gebildeten geometrischen Formen realisiert. Diese geometrischen Formen sind zwischen den lichtemittierenden Pixeln positioniert. Die Form ist so gewählt, dass sich bei anschließendem Beschichten des derart modifizierten Substrates eine vergrößerte Oberfläche und somit eine Vergrößerung des Leitungsquerschnitts der Kathode ergibt.

Nachteilhafterweise werden alle vorbeschriebenen Hilfselektroden zur Verringerung des Leitungswiderstandes der Elektroden eines OLED-Displays durch Technologien wie Verdampfen oder Sputtern erzeugt. Somit ist zu deren Herstellung der Einsatz von teuren und aufwendigen Vakuumanlagen nötig.

Weiterhin werden dadurch die erreichbare Schichtdicke der Hilfsleiterbahnen auf Bereiche < 2–3 &mgr;m limitiert. Dickere Schichten lassen sich, nur mit unverhältnismäßig langen Beschichtungszeiten realisieren. Die sich mit zunehmender Schichtdicke erhöhende mechanische Spannung wirkt ebenfalls begrenzend auf die technisch zu realisierende Schichtdicke. Ein weiterer Nachteil von Vakuumprozessen ist deren Größenbegrenzung der zu beschichtenden Substrate. Mit zunehmender Substratgröße steigen die Anlagenkosten überproportional.

Ein weiterer Nachteil ist in der nachgelagerten Strukturierung der so abgeschiedenen metallischen Schichten zu finden. Im Falle einer Strukturierung der Leiterbahnen durch Schattenmasken erhöhen sich die Prozesskosten und -zeiten. Weiterhin ist der Einsatz von Schattenmasken für Substratgrößen größer als 400 × 400 mm aufgrund der thermischen Ausdehnung der Maske während der Beschichtung technisch anspruchsvoll. Wird eine Strukturierung durch nasschemisches Ätzen oder Trockenätzen realisiert, erhöhen sich ebenfalls die Prozesskosten und -zeiten, da neben dem Ätzschritt auch eine Photolackstrukturierung erforderlich ist.

Weiterhin ist aus WO 02/052660 A1 ein Verfahren zur Herstellung eines OLED-Displays bekannt, durchgeführt mittels Aufbringen einer ersten Elektrodenschicht auf ein Substrat, Aufbringen von lichtemittierenden organischen Materialien in Pixeln und Aufbringen einer zweiten Elektrodenschicht, wobei eine Hilfsleitbahn zur Erhöhung der Leitfähigkeit aufgebracht und mit den anderen Elementen der zweiten Elektrodenschicht verbunden wird, wobei die Hilfsleitbahn mittels Tintenstrahldrucktechnik aufgebracht ist. Nachteilhafterweise verlaufen die Hilfleitbahnen über die gesamte Elektrodenfläche, wodurch insbesondere der Einsatz einer kontinuierlichen Elektrodenschicht nicht realisierbar ist, da hierdurch der Füllfaktor zumindest stark reduziert würde.

Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung eines OLED-Displays mit mindestens einer auf einer Elektrode oder im Bereich der Elektrode angeordneten Hilfsleiterbahn zur Erhöhung der Leitfähigkeit anzugeben, welches kostengünstiger als die bekannten Verfahren ist und mittels welchem OLED-Displays mit hoher Auflösung, d.h. mit geringer Linienbreite der Hilfsleiterbahn, auch bei Verwendung von kontinuierlichen Elektrodenschichten hergestellt werden können. Weiterhin soll das erfindungsgemäße Verfahren auch für große Substrate einsetzbar sein. Weiterhin soll ein OLED-Display mit mindestens einer auf einer Elektrode angeordneten Hilfsleiterbahn zur Erhöhung der Leitfähigkeit angegeben werden, welches kostengünstiger als die OLED-Displays nach dem Stand der Technik herstellbar ist.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 (Verfahrensanspruch) und des Anspruchs 10 (Sachanspruch) im Zusammenwirken mit den Merkmalen im Oberbegriff gelöst. Bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen enthalten.

Zur Verringerung der Herstellungskosten eines OLED-Displays mit einer auf einer Elektrodenschicht oder im Bereich der Elektrodenschicht angeordneten und mit dieser Elektrodenschicht verbundenen Hilfsleiterbahn zur Erhöhung der Leitfähigkeit ist es erfindungsgemäß vorgesehen, die Hilfsleiterbahn mittels Tintenstrahldrucktechnik aufzubringen, wobei zur Erzielung einer geringen Linienbreite, welche für eine hohe Auflösung des OLED-Displays notwendig ist, die Oberflächenenergie des Teils der Substratoberfläche oder einer auf der Substratoberfläche befindlichen Photolackstruktur, auf welcher die Hilfsleiterbahn aufgebracht werden soll, erniedrigt wird, so dass der Kontaktwinkel zwischen der Oberfläche und dem aufgedruckten Tintentropfen im Bereich von 30° bis 60° liegt. Die nachfolgend aufgedruckte Tinte (bestehend aus einer Suspension oder kolloidalen Lösung von Metallpartikeln oder organischen Metallkomplexen) wird dadurch nicht in die benachbarten Pixel verlaufen, da die Tinte nur im Bereich hoher Oberflächenenergie verlaufen kann und Bereiche relativ niedriger Oberflächenenergien als Barriere wirken. Da man die Tropfen überlappend aufdruckt, bildet sich somit eine schmale Linie. Vorzugsweise werden Druckköpfe zur Erzeugung kleiner Tropfenvolumina verwendet. Vorzugszugsweise wird die Hilfsleiterbahn oder Hilfselektrode linienförmig ausgebildet. Für den Tintenstrahldruckprozess wird als Tinte vorzugsweise eine Suspension aus metallhaltigen Partikeln oder metallorganischen Komplexen verwendet. Dabei kann die Suspension je nach Größe der Partikel auch eine kolloidale Lösung sein. Diese Tinte wird tropfenförmig derart auf das Substrat des OLED-Displays gedruckt, dass die einzelnen, benachbarten Tropfen auf dem Substrat zusammenlaufen und eine Linie formen. In einer weiteren, bevorzugten Ausführungsvariante ist es vorgesehen, die Hilfsleiterbahn durch mehrfaches Bedrucken derselben Substratbereiche aufzutragen, wodurch eine Erhöhung der Schichtdicke und somit eine Erhöhung der Leitfähigkeit der Elektrodenschicht realisierbar ist. Zur weiteren Erhöhung der Leitfähigkeit ist es vorgesehen, die mittels Tintenstrahldrucktechnik aufgebrachte Suspension (Hilfsleiterbahn) thermisch zu behandeln. Vorzugsweise wird die Suspension einer Temperatur zwischen 100 °C und 300 °C ausgesetzt.

Beim erfindungsgemäßen OLED-Display mit einer ersten Elektrodenschicht, lichtemittierenden Pixeln und einer zweiten Elektrodenschicht, wobei mindestens eine der beiden Elektrodenschichten mindestens eine Hilfsleiterbahn zur Erhöhung der Leitfähigkeit aufweist oder mit mindestens einer Hilfsleiterbahn elektrisch verbunden ist, weist die Hilfsleiterbahn erfindungsgemäß eine getrocknete Suspension aus metallhaltigen Partikeln oder organischen Metallkomplexen auf, wobei die Substratoberfläche oder die auf der Substratoberfläche befindliche Photolackstruktur, auf welcher die Hilfsleiterbahn angeordnet werden soll, eine niedrigere Oberflächenenergie als der angrenzende Bereich aufweist.. Vorzugsweise ist die Hilfsleiterbahn linienförmig ausgebildet. In einer besonders bevorzugten Ausführungsvariante ist die Hilfsleiterbahn neben der (strukturierten) Elektrodenschicht, d.h. neben einer Elektrodenlinie auf der Substratoberfläche oder einer auf der Substratoberfläche befindlichen Photolackstruktur angeordnet und mit der Elektrodenschicht (Elektrodenlinie) elektrisch leitend verbunden. Vorzugsweise befinden sich die Hilfsleiterbahnen in direktem Kontakt mit der Elektrodenschicht bzw. den Elektrodenlinien. Sofern sich die Elektrodenlinien neben der Hilfsleiterbahn befinden, sind Elektrodenlinien und Hilfsleiterbahn mittels eines leitfähigen Materials verbunden.

Die zur Ausbildung der Hilfsleiterbahn verwendete Suspension umfasst vorzugsweise Nanopartikel aus Silber, Kupfer, Platin und/oder Gold oder organische Metallkomplexe, wobei die Metallkomplexe aus organischen Silber-, Kupfer-, Platin- oder Goldkomplexen oder aus einer Mischung dieser Komplexe bestehen. Die Nanopartikel weisen vorzugsweise einen Durchmesser zwischen 1 nm und 100 nm auf. Je nach Größe und Beschaffenheit der Metallpartikel kann die verwendete Tinte auch eine kolloidale Lösung sein.

Zur Erhöhung der Leitfähigkeit der Hilfsleiterbahn ist es vorgesehen, dass die Hilfsleiterbahn vorzugsweise eine Höhe von mehr als 2 &mgr;m aufweist. Hierdurch erhöht sich der Leitungsquerschnitt der Hilfsleiterbahn und somit auch die Leitfähigkeit der gesamten Elektrode, bestehend aus der strukturierten Elektrodenschicht und der mindestens einen Hilfsleiterbahn. Eine Ausbildung der Hilfsleiterbahn mit einer Höhe größer 2 &mgr;m lässt sich durch ein einfaches oder mehrfaches (abhängig von der Metall-Konzentration in der Tinte) Bedrucken des Substrates kostengünstig im Gegensatz zum Verdampfen/Sputtern nach dem Stand der Technik realisieren. In einer besonders bevorzugten Ausführungsvariante weist jede Kathodenlinie des OLED-Displays eine Hilfsleiterbahn auf, welche mittels Tintenstrahldrucktechnik aufgebracht wird.

Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert. Es zeigen:

1 die schematische Aufsicht eines erfindungsgemäßen OLED-Displays mit Hilfsleiterbahnen und

2 ein erfindungsgemäßes OLED-Display in schematischer, geschnittener Darstellung.

1 zeigt ein erfindungsgemäßes OLED-Display in schematischer Aufsicht. Zur besseren Veranschaulichung sind in dieser Figur die Elektrodenschichten, d.h. Anoden- und die Kathodenschicht des OLED-Displays, nicht dargestellt. Die auf dem Substrat 4 und der darüber befindlichen (nicht dargestellten) Anodenschicht angeordneten lichtemittierenden Pixel 2 werden mit einer transparenten (hier nicht dargestellten) Kathodenschicht überdeckt. Die Anoden- bzw. Kathodenschicht ist entsprechend der Anordnung der lichtemittierenden Pixel 2 strukturiert. Zwischen den lichtemittierenden Pixeln 2 verlaufen die Hilfsleiterbahnen 1 zur Erhöhung der Leitfähigkeit der (strukturierten) Kathodenschicht.

Die Verwendung von Hilfsleiterbahnen (Hilfselektroden) zur Erhöhung der Leitfähigkeit von Elektrodenschichten kann sowohl für Passivmatrix-Displays als auch für Aktivmatrix-Displays Verwendung finden. Eine Erhöhung der Leitfähigkeit kommt insbesondere für Top-Emitting-Displays in Betracht, welche über eine lichtdurchlässige Kathode verfügen. Die Hilfsleiterbahnen 1 werden über die Kontaktstellen 3 mit Strom versorgt und sind erfindungsgemäß aus einer getrockneten Suspension aus metallhaltigen Partikeln oder organischen Metallkomplexen ausgebildet. Der erfindungsgemäße Vorteil besteht darin, dass die vorgenannten Metallpartikel bzw. Metallkomplexe zusammen mit einem organischen Lösungsmittel zu einer für das Tintenstrahldruckverfahren verwendbaren Tinte verarbeitet bzw. hergestellt werden können. Hierdurch wird erfindungsgemäß die Verwendung des Tintenstrahldruckverfahrens zur Aufbringung einer Hilfsleiterbahn (Hilfselektrode) zur Erhöhung der Leitfähigkeit möglich, was mit einem erheblichen Kostenvorteil (durch Vermeidung von Sputtern/Aufdampfen) einhergeht.

2 zeigt ein erfindungsgemäßes OLED-Display in geschnittener, schematischer Darstellung. Auf dem Substrat 4 ist eine Anodenschicht 5 aufgebracht. Das Substrat 4 ist derart vorstrukturiert, dass eine strukturierte Photolackschichtstruktur 8 das Substrat 4 in einzelne Bereiche (die späteren Pixel) unterteilt. In den Bereichen der Pixel wird organisches Emittermaterial 6 angeordnet. Über dem organischen Emittermaterial 6 wird die (strukturierte) Kathodenschicht 7 aufgebracht. Zur Erhöhung der Leitfähigkeit der Kathodenschicht 7 wird vor dem Aufbringen der Kathodenschicht 7 auf der isolierenden Photolackstruktur 8 eine Hilfsleiterbahn 1 angeordnet, welche erfindungsgemäß mittels Tintenstrahldrucktechnik aufgebracht wird.

Im konkreten Ausführungsbeispiel wird als Basis-Substrat ein mit (hier nicht dargestellten) Dünnschicht-Transistoren (TFT) bestücktes Substrat 4, welches mit einem elektrisch isolierenden Photolack 8 von ca. 3 &mgr;m Schichtdicke beschichtet ist, verwendet. Der Photolack ist derart vorstrukturiert, dass Aussparungen für die späteren roten, grünen und blauen Bildpunkte (Pixel 2) gebildet werden.

Das Basis-Substrat wird einer Plasmabehandlung unterzogen, so dass der Kontaktwinkel eines Silbertintentropfens auf den zu bedruckenden Stellen etwa 90° aufweist. Dies wird durch eine 10-sekündige O2-Plasma-Behandlung sowie eine 30-sekündige CF4-Plasma-Behandlung realisiert.

Die Silbertinte besteht aus Silber-Nanopartikeln (Partikelgröße ca. 7 nm im Durchmesser) in einem organischen Lösungsmittel. Diese Silbertinte wird auf das oben beschriebene Basis-Substrat mit Hilfe eines Piezo-Druckkopfes aufgedruckt, so dass die Silbertinte linienförmig zwischen den einzelnen Pixeln 2 trocknet und schließlich die sogenannten Hilfsleiterbahnen 1 bildet.

Im Anschluß daran wird das bedruckte Substrat einer Temperatur von 150 °C – 250 °C über einen Zeitraum von 30 min ausgesetzt. Dieser Temperaturprozess führt zum Sintern der Silber-Nanopartikel, so dass die gedruckten Hilfsleiterbahnen 1 elektrisch leitend werden und eine Schichtdicke von > 2 &mgr;m aufweisen.

In einem weiteren Arbeitsschritt, wird dann ein Lochtransportmaterial, z.B. 60 nm Polyethylendioxythiophen (PEDOT) in die Aussparungen für die späteren roten, grünen und blauen Bildpunkte (Pixel 2) gedruckt. Anschließend wird entsprechend rotes, grünes und blaues lichtemittierendes Polymer 6 in die dafür vorgesehenen Aussparungen gedruckt.

Schließlich wird auf die gesamte aktive Fläche des Substrates eine kontinuierliche, transparente Kathode 7, z.B. Mg:Ag (10 nm)/ITO (180 nm) oder Ca (10 nm)/ITO (180 nm) aufgedampft und aufgesputtert. Diese transparente Kathode 7 weist direkten elektrischen Kontakt zu den vorher aufgedruckten Hilfsleiterbahnen 1 auf.

Das Substrat wird nachfolgend mittels eines PECVD (Plasma enhanced chemical vapor deposition) Prozesses, z.B. mit SiO2 und Si3N4 verkapselt.

1Hilfsleiterbahn 2lichtemittierendes Pixel 3Kontaktstelle 4Substrat 5Anodenschicht 6organisches Material 7Kathodenschicht 8elektrisch isolierende Photolackstruktur

Anspruch[de]
  1. Verfahren zur Herstellung eines OLED-Displays durch Aufbringen einer ersten Elektrodenschicht (5) auf ein Substrat (4), Aufbringen von lichtemittierenden organischen Materialien in Pixeln (2) und Aufbringen einer zweiten Elektrodenschicht (7), wobei mindestens eine Hilfsleiterbahn (1) mittels Tintenstrahldrucktechnik zur Erhöhung der Leitfähigkeit aufgebracht und mit einer der Elektrodenschichten (7) elektrisch verbunden wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächenenergie des Teils der Substratoberfläche (4) oder einer auf der Substratoberfläche (4) befindlichen Photolackstruktur (8), auf welcher die Hilfsleiterbahn (1) aufgebracht werden soll, erniedrigt wird, so dass ein Kontaktwinkel zwischen Oberfläche und Tinte größer als 30° entsteht.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Hilfsleiterbahn (1) linienförmig aufgebracht wird.
  3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass als Tinte eine Suspension oder Lösung aus metallhaltigen Partikeln oder organischen Metallkomplexen verwendet wird.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die metallhaltigen Partikel und/oder die Metallkomplexe in ein organisches Lösungsmittel gegeben werden.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die aufgebrachte Suspension oder Lösung zur Erhöhung der Leitfähigkeit getrocknet und anschließend thermisch behandelt wird.
  6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die getrocknete Suspension oder Lösung einer Temperatur von 100 °C bis 300 °C, insbesondere von 150 °C bis 250 °C ausgesetzt wird.
  7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hilfsleiterbahn (1) neben der Elektrodenschicht (7) auf der Substratoberfläche (4) oder einer auf der Substratoberfläche (4) befindlichen Photolackstruktur (8) aufgebracht und mit der Elektrodenschicht (7) verbunden wird.
  8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Erniedrigung der Oberflächenenergie mittels einer O2-Plasma-Behandlung und einer darauf folgenden CF4, C2F6, C3F8, CHF3 oder HDMSO (Hexamethyldisiloxan) – Plasma-Behandlung erfolgt.
  9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hilfsleiterbahn (1) durch einfaches oder mehrfaches Bedrucken mittels Tintenstrahldrucktechnik aufgebracht wird.
  10. OLED-Displays mit einem Substrat (4), einer ersten Elektrodenschicht (5), lichtemittierenden Pixeln (2) und einer zweiten Elektrodenschicht (7), wobei mindestens eine der beiden Elektrodenschichten (5, 7) mindestens eine Hilfsleiterbahn (1) zur Erhöhung der Leitfähigkeit aufweist oder mit mindestens einer Hilfsleiterbahn (1) elektrisch verbunden ist und wobei die Hilfsleiterbahn (1) eine getrocknete Suspension oder Lösung aus metallhaltigen Partikeln oder organischen Metallkomplexen umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass die Substratoberfläche (4) oder die auf der Substratoberfläche (4) befindliche Photolackstruktur (8) im Bereich der Hilfsleiterbahn (1) eine niedrigere Oberflächenenergie als im angrenzenden Bereich aufweist.
  11. OLED-Display nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Hilfsleiterbahn (1) linienförmig ausgebildet ist.
  12. OLED-Display nach einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Hilfsleiterbahn (1) neben den Pixeln (2) auf der Substratoberfläche (4) oder einer auf der Substratoberfläche (4) befindlichen Photolackstruktur (8) angeordnet und mit der Elektrodenschicht (7) elektrisch leitend verbunden ist.
  13. OLED-Display nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Suspension oder Lösung Nanopartikel aus Silber, Kupfer, Platin und/oder Gold umfasst.
  14. OLED-Display nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Suspension organische Metallkomplexe umfasst, wobei die Metallkomplexe aus organischen Silber-, Kupfer-, Platin- oder Goldkomplexen oder aus einer Mischung dieser Komplexe bestehen.
  15. OLED-Display nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Nanopartikel einen Durchmesser zwischen 1 nm und 100 nm, insbesondere einen Durchmesser von 7 nm aufweisen.
  16. OLED-Display nach einem der Ansprüche 10 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Hilfsleiterbahn (1) eine Höhe von mehr als 2 &mgr;m aufweist.
  17. OLED-Display nach einem der Ansprüche 10 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Hilfsleiterbahn (1) durch eine organische Schutzschicht bedeckt ist.
  18. OLED-Display nach einem der Ansprüche 10 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Hilfsleiterbahn (1) durch eine anorganische Schutzschicht bedeckt ist.
Es folgt ein Blatt Zeichnungen






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