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Dokumentenidentifikation EP1602007 12.01.2006
EP-Veröffentlichungsnummer 0001602007
Titel VERFAHREN ZUR STRUKTURIERUNG VON PHOTORESIST AUF EINEM WAFER UNTER VERWENDUNG EINER REFLEXIONSMASKE MIT EINEM MEHRSCHICHTIGEN BOGEN
Anmelder Freescale Semiconductor, Inc., Austin, Tex., US
Erfinder WASSON, R., James, Tempe, US;
MANGAT, Pawitter, Gilbert, US
Vertreter derzeit kein Vertreter bestellt
Vertragsstaaten AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LI, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI
Sprache des Dokument EN
EP-Anmeldetag 13.02.2004
EP-Aktenzeichen 047112115
WO-Anmeldetag 13.02.2004
PCT-Aktenzeichen PCT/US2004/004328
WO-Veröffentlichungsnummer 0004079780
WO-Veröffentlichungsdatum 16.09.2004
EP-Offenlegungsdatum 07.12.2005
Veröffentlichungstag im Patentblatt 12.01.2006
IPC-Hauptklasse G03C 5/00(2000.01)A, F, I, ,  ,  ,   
IPC-Nebenklasse G21K 5/00(2000.01)A, L, I, ,  ,  ,      G03F 9/00(2000.01)A, L, I, ,  ,  ,      G06K 9/00(2000.01)A, L, I, ,  ,  ,      








IPC
A Täglicher Lebensbedarf
B Arbeitsverfahren; Transportieren
C Chemie; Hüttenwesen
D Textilien; Papier
E Bauwesen; Erdbohren; Bergbau
F Maschinenbau; Beleuchtung; Heizung; Waffen; Sprengen
G Physik
H Elektrotechnik

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