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Dokumentenidentifikation DE102004055656A1 24.05.2006
Titel Reinigungsvorrichtung für eine Temperiervorrichtung für Substrate und Verfahren zur Reinigung einer Temperiervorrichtung für Substrate
Anmelder Infineon Technologies AG, 81669 München, DE
Erfinder Hanke, Andre, 15344 Strausberg, DE;
Schimpf, Christian, 01108 Dresden, DE
Vertreter Maikowski & Ninnemann, Pat.-Anw., 10707 Berlin
DE-Anmeldedatum 15.11.2004
DE-Aktenzeichen 102004055656
Offenlegungstag 24.05.2006
Veröffentlichungstag im Patentblatt 24.05.2006
IPC-Hauptklasse B08B 1/04(2006.01)A, F, I, 20051017, B, H, DE
IPC-Nebenklasse H01L 21/68(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, DE   H01L 21/324(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, DE   
Zusammenfassung Die Erfindung betrifft eine Reinigungsvorrichtung für eine Substrat-Temperiervorrichtung und ein Verfahren zur Reinigung, insbesondere für eine Hotplate für Wafer einer Halbleiterproduktion, gekennzeichnet durch mindestens ein Reinigungselement (1) zur Reinigung der Substrat-Temperiervorrichtung (10) und mindestens ein Antriebsmittel (2) zur Erzeugung einer rotatorischen Relativbewegung zwischen dem Reinigungselement (1) und der Substrat-Temperiervorrichtung (10). Damit ist eine Reinigung der Substrat-Temperiervorrichtungen in effizienter Weise möglich.








IPC
A Täglicher Lebensbedarf
B Arbeitsverfahren; Transportieren
C Chemie; Hüttenwesen
D Textilien; Papier
E Bauwesen; Erdbohren; Bergbau
F Maschinenbau; Beleuchtung; Heizung; Waffen; Sprengen
G Physik
H Elektrotechnik

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