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Dokumentenidentifikation DE60113730T2 24.08.2006
EP-Veröffentlichungsnummer 0001371500
Titel Flachdruckplattenvorläufer
Anmelder Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa, JP
Vertreter HOFFMANN & EITLE, 81925 München
DE-Aktenzeichen 60113730
Vertragsstaaten DE, GB
Sprache des Dokument EN
EP-Anmeldetag 20.03.2001
EP-Aktenzeichen 030211577
EP-Offenlegungsdatum 17.12.2003
EP date of grant 28.09.2005
Veröffentlichungstag im Patentblatt 24.08.2006
IPC-Hauptklasse B41N 1/14(2006.01)A, F, I, 20051017, B, H, EP
IPC-Nebenklasse B41C 1/10(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, EP   B41M 5/36(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, EP   

Beschreibung[de]
GEBIET DER ERFINDUNG:

Die vorliegende Erfindung betrifft einen lithografischen Druckplattenvorläufer, insbesondere einen lithografischen Druckplattenvorläufer, der zur Plattenherstellung durch Rasterbelichtung, basierend auf digitalen Signalen, geeignet und mit Wasser entwickelbar, oder ohne Entwicklung auf eine Druckvorrichtung beladbar und druckbar ist.

HINTERGRUND DER ERFINDUNG:

Eine lithografische Druckplatte umfasst im allgemeinen einen lipophilen Bildbereich, der Tinte in einem Druckverfahren aufnimmt, und einen hydrophilen Nichtbildbereich, der Spüllösung aufnimmt. Als ein solcher lithografischer Druckplattenvorläufer wurde bisher häufig eine PS-Platte, umfassend einen hydrophilen Träger mit darauf angeordnet einer lipophilen fotoempfindlichen Harzschicht (einer Bildaufzeichnungsschicht) verwendet. Ein Plattenherstellungsverfahren eines lithografischen Druckplattenvorläufers umfasst im allgemeinen die Schritte der Durchführung von Maskenbelichtung durch einen Lithfilm und dann Lösen und Entfernen der Nichtbildbereiche mit einer Entwicklungslösung, um dadurch die gewünschte Druckplatte zu erhalten.

Digitalisierte Techniken der elektronischen Verarbeitung, Akkumulierung und Ausgabe von Bilddaten unter Verwendung eines Computers haben in den letzten Jahren vorgeherrscht und verschiedene Bildausgabesysteme entsprechend diesen digitalisierten Techniken wurden praktisch verwendet. Durch diese Tendenz wird eine Computer-auf-Platten-Technik der direkten Herstellung eine Druckplatte ohne Verwendung eines Lithfilms durch Rasterbelichtung von digitalisierten Bilddaten mit stark ausgerichtetem aktivem Bestrahlungslicht, wie Laserstrahlen, ernsthaft gewünscht, und es wurde ein wichtiges technisches Problem, eine Druckplatte zu erhalten, die für diesen Zweck anpassbar ist.

Andererseits wird das Plattenherstellungsverfahren einer bislang verwendeten PS-Platte durch Lösen und Entfernung von Nichtbildbereichen nach der Entwicklung begleitet, und ein anderes Problem der herkömmlichen Technik, von dem gewünscht wurde, dass es verbessert wird, ist der Punkt, dass ein solches zusätzliches Nassverfahren beim Plattenherstellungsverfahren einer PS-Platte unabdinglich ist. Insbesondere in den letzten Jahren war der globale Umweltschutz in der Industrie im Grossen und Ganzen eine Sache von Bedeutung. Es besteht daher eine erhöhte Nachfrage nach einer Vereinfachung der Verarbeitung, dem Übergang auf ein Trockenverfahren ohne Verarbeitung unter ökologischen Gesichtspunkten sowie einer Rationalisierung des Verfahrens durch Digitalisierung.

Als ein Plattenherstellungsverfahren, das die obigen Bedürfnisse erfüllt, gibt es ein Entwicklungssystem auf einer Vorrichtung, das eine fotoempfindliche Schicht verwendet, die in der Lage ist, den Nichtbildbereich eines Druckplattenvorläufers in gewöhnlichen Druckverfahren zu entfernen, und Entwicklung nach dem Belichten auf einer Druckvorrichtung zu bewirken, um dadurch die endgültige Druckplatte zu erhalten. Wenn eine bisher verwendete PS-Platte in dem Entwicklungssystem auf einer Vorrichtung angewandt wird, muss der Druckplattenvorläufer jedoch in einem vollständig lichtgeschützten Zustand und/oder unter konstanten Temperaturbedingungen nach Belichtung, d.h. während der Zeitspanne bis die Druckplatte auf eine Druckvorrichtung geladen wird, gelagert werden, da die fotoempfindliche Schicht nicht fixiert ist.

In bezug auf die obigen Probleme können verschiedene Entwicklungsarten, die von den in herkömmlichen fotoempfindlichen Materialien eingesetzten Fotoreaktionen zur Belichtung mit niedriger bis mittlerer Leistungsdichte unterschiedlich sind, insbesondere Entwicklungen, die eine chemische Veränderung oder eine strukturelle Veränderung, wie eine Veränderung der Phase oder Form, einsetzen, bei Belichtungssystemen mit hoher Leistungsdichte unter Verwendung von Feststofflasern mit hohem Output, z.B. einem Halbleiterlaser und einem YAG-Laser, durchgeführt werden. Ein Aufzeichnungssystem, das diese Belichtung mit hoher Leistungsdichte verwendet, wird Wärmemodusbelichtung genannt.

Ferner werden herkömmlich verwendete Druckplattenvorläufer vom positiven Wärmemodustyp durch einen grossen Nachteil, wie Rückstandsfilme, begleitet. Das heisst, es wurde in dem Punkt eine Verbesserung verlangt, dass eine Verbesserung der Löslichkeit durch Belichtung in der Nähe des Trägers bei einer Tintenaufnahmeschicht kleiner als in der Nähe der Oberfläche der Tintenaufnahmeschicht ist. Da bei einem Druckplattenvorläufer vom positiven Wärmemodustyp die Wärmeentwicklung durch Wärmemodusbelichtung auf der Lichtabsorption eines Lichtabsorptionsmittels in einer Tintenaufnahmeschicht basiert, ist die gebildete Wärmemenge auf der Oberfläche einer Tintenaufnahmeschicht gross und in der Nähe eines Trägers klein. Daher wird der Hydrophilisierungsgrad in der Nähe eines Trägers relativ klein. Als Ergebnis wird der hydrophobe Film oft nicht vollständig entfernt, was wesentlich ist, um eine hydrophile Oberfläche bereitzustellen, und verbleibt so wie er ist auf dem belichteten Bereich. Ein solcher Rückstandsfilm auf einem Nichtbildbereich verursacht Schmierer auf den Drucken. Insbesondere wenn ein Metallträger mit hoher Wärmeleitfähigkeit, wie Aluminium, das eine bevorzugte Druckfähigkeit hat, verwendet wird, ist das Problem des Rückstandsfilms auffällig, da der Temperaturanstieg in der Nähe des Trägers aufgrund der Wärmediffusion weiter inhibiert wird. Zur ausreichenden Hydrophilisierung der Nachbarschaft eines Träges wird eine extrem grosse Menge an Belichtungsenergie oder Nachbehandlung, wie Erwärmen nach Belichtung, benötigt.

Als Verfahren zur Verbesserung des schlechten Einflusses durch Wärmediffusion auf einen Träger bei Belichtung mit der vorstehenden Druckplatte vom Wärmemodustyp, ist z.B. in JP-A-52-37104 und JP-A-52-118417 (der Ausdruck "JP-A" wie er hier verwendet wird, bedeutet eine "ungeprüfte, veröffentlichte japanische Patentanmeldung") ein Verfahren der Reduzierung der Wärmediffusion durch Bereitstellung einer Aluminiumoxidschicht mit einer bestimmten Dicke oder mehr auf der Oberfläche eines Trägers offenbart. Dieses Verfahren ist sicher wirksam, aber unzureichend, und man konnte bisher Rückstandsfilme auf positiven Wärmemodus-Druckplatten nicht los werden.

EP 0 881 094 A1 offenbart ein wärmeempfindliches Bildaufzeichnungselement und ein Verfahren zur Herstellung von lithografischen Platten damit. Das wärmeempfindliche Bildaufzeichnungselement umfasst

  • • eine erste wärmeempfindliche hydrophobe Schicht, die mindestens ein hydrophobes Polymer und eine Verbindung, die Licht in Wärme umwandeln kann, einschliesst,
  • • eine zweite Schicht, die ein dispergiertes, hydrophobes, thermoplastisches Polymerlatex einschliesst, wobei die zweite Schicht in einer wässrigen Lösung löslich oder dispergierbar ist, und
  • • eine lithografische Basis mit einer hydrophilen Oberfläche.

Es ist angegeben, dass die zweite Schicht, die ein hydrophiles Bindemittel umfasst, vorzugsweise nicht oder nur leicht vernetzt ist.

US 5 281 509, US 5 227 275, EP 0 713 140 A1 und JP-A-08-262725 betreffen die Herstellung von lithografischen Druckplatten nach dem Silberkomplex-Diffusionstransferumkehrverfahren (DTR). In dem DTR-Verfahren wird nichtentwickeltes Silberhalogenid eines informationsweise belichteten, fotografischen Silberhalogenid-Emulsionsschichtmaterials mit sogenanntem Silberhalogenid-Lösungsmittel in lösliche Silberkomplexverbindungen umgewandelt, die in ein bildaufnehmendes Element diffundieren und darin mit einem Entwicklungsmittel reduziert werden, im allgemeinen in Gegenwart von physikalischen Entwicklungskeimen, wodurch ein Silberbild mit umgekehrten Bilddichtewerten (DTR-Bild) erzeugt wird. Ein Material, das ein DTR-Bild trägt, kann als Planografie-Druckplatte verwendet werden, indem die DTR-Silberbildbereiche wasserabstossende tintenaufnehmende Bereiche auf einem wasseraufnehmenden tintenabstossenden Hintergrund bilden.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG:

Folglich ist es ein Ziel der vorliegenden Erfindung, die oben beschriebenen herkömmlichen Probleme zu lösen und einen lithografischen Druckplattenvorläufer bereitzustellen, der mit Wasser oder einer wässrigen Lösung entwickelbar, ohne Entwicklung nach der Bildaufzeichnung auf eine Druckvorrichtung ladbar und druckbar ist, der eine verbesserte Empfindlichkeit und Lebensdauer hat und in der Lage ist, klare Drucke ohne restliche Farben und Flecken bereitzustellen.

Ein anderes erfindungsgemässes Ziel ist es, einen lithografischen Druckplattenvorläufer bereitzustellen, der in der Lage ist, direkt aus digitalen Daten durch Aufzeichnung mit einem Feststofflaser oder einem Halbleiterlaser, der Infrarotstrahlen abstrahlt, eine Platte herzustellen.

Als Ergebnis ernsthafter Untersuchungen der hiesigen Erfinder zum Erreichen der obigen Ziele konnten die Probleme durch den folgenden lithografischen Druckplattenvorläufer gelöst werden, wodurch die vorliegende Erfindung vervollständigt wurde.

Das heisst, die vorliegende Erfindung ist wie folgt.

  • (1) Ein lithographischer Druckplattenvorläufer, der einen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche mit darauf in dieser Reihenfolge angeordnet eine Schicht, enthaltend einen Latex (Schicht (A)) und eine Tintenaufnahmeschicht (Schicht (B)), deren Löslichkeit zumindest entweder in Wasser oder in einer wässrigen Lösung durch Wärme verändert wird, umfasst, worin zumindest eine Schicht von entweder Schicht (A) oder Schicht (B) eine Licht/Wärme-Umwandlungsverbindung enthält.
  • (2) Ein lithographischer Druckplattenvorläufer, wie in obigem Punkt (1) beschrieben, worin die Beschichtungsmenge der Schicht, enthaltend einen Latex (Schicht (A)) von 0,05 bis 2,0 g/m2 beträgt und die Extinktion der Schicht (A) bei der Wellenlänge von Laserstrahlen zum Bildaufzeichnen von 0,3 bis 2 beträgt.

"Wasser oder eine wässrige Lösung" bei dem obigen erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer wird beschrieben. Wenn eine Tintenaufnahmeschicht in dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer die später beschriebene polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht (unabhängig ob vom positiven Typ oder vom negativen Typ) enthält, kann "Wasser" reines Wasser oder Wasser, enthaltend andere Bestandteile, bedeuten, solange es den Nichtbildbereich lösen kann, oder kann eine durch Tinte beim Drucken beladene Spüllösung sein.

Wenn die vorangehende Tintenaufnahmeschicht ein in einer alkalischen wässrigen Lösung lösliches Harz enthält (unabhängig davon, ob sie vom positiven oder negativen Typ ist) schliesst "eine wässrige Lösung" herkömmlich gut bekannte alkalische Entwicklungslösungen neben der oben beschriebenen Spüllösung ein. Wie oben beschrieben, fällt eine Spüllösung sowohl unter "Wasser" als auch "eine wässrige Lösung".

Gemäss dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer wird die Schicht (B) in den belichteten Bereichen in Wasser oder einer wässrigen Lösung, durch die Wärme, die durch die Licht/Wärme-Umwandlung durch Belichtung gebildet wird, bildweise löslich gemacht (wird positiv) oder unlöslich gemacht (wird negativ). Zu dieser Zeit schreitet die Löslichkeitsumwandlung der Schicht (B) in Wasser oder einer wässrigen Lösung von der Grenzfläche der Schicht (A) und der Schicht (B) fort, wenn ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel in Schicht (A) enthalten ist. Wenn die Löslichkeitsumwandlung der Schicht (B) vom positiven Typ ist, wird die Anhaftung der Schicht (A) an Schicht (B) schlechter, da die Auflösung von der Grenzfläche fortschreitet. Folglich kann Schicht (B) vollständig entfernt werden, selbst wenn die Schicht (B) nicht gänzlich löslich gemacht wird.

Wenn andererseits die Löslichkeitsumwandlung der Schicht (B) vom negativen Typ ist, wird die Adhäsion der Schicht (A) an die Schicht (B) gut, da das Unlöslichmachen von der Grenzfläche fortschreitet. Folglich kann die Schicht (B), selbst dann, wenn die Schicht (B) nicht vollständig unlöslich gemacht wird, nicht vollständig entfernt werden. Das heisst, es ist nicht erforderlich, die Löslichkeit der Schicht (B) vollständig umzuwandeln, und der lithografische Druckplattenvorläufer wird sehr empfindlich, wenn Schicht (A) ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel enthält.

Ferner schreitet die Löslichkeitsumwandlung der Schicht (B) in Wasser oder einer wässrigen Lösung von der Oberfläche der Schicht (B) fort, wenn ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel in Schicht (B) enthalten ist. In diesem Fall wird die Wärmediffusion an den Träger inhibiert und die Nachbarschaft des Trägers der Schicht (B) wird unzureichend auf die zur Löslichkeitsumwandlung erforderliche Temperatur erwärmt, wenn Schicht (A) vorhanden ist. Folglich tritt dann, wenn die Löslichkeitsumwandlung der Schicht (B) vom positiven Typ ist, keine zurückbleibende Schicht auf, und wenn im Gegensatz dazu die Umwandlung vom negativen Typ ist, wird die Anhaftung der Schicht (B) an dem Träger gut. Folglich kann die Löslichkeitsumwandlung der Schicht (B) aufgrund des Vorhandenseins der Schicht (A) vollständig fortschreiten.

Wenn ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel sowohl in Schicht (A) als auch in Schicht (B) enthalten ist, können ferner die zwei oben beschriebenen Wirkungen gleichzeitig durch beliebiges Kontrollieren des Gehalts an Licht/Wärme-Umwandlungsmittel gezeigt werden. Berücksichtigt man die Empfindlichkeit, Adhäsion, Druckfähigkeit und Kosten, ist es bevorzugter, ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel zu Schicht (A) oder sowohl zu Schicht (A) als auch zu Schicht (B) zuzugeben.

Wenn der lithografische Druckplattenvorläufer einer Entwicklung mit Wasser oder einer wässrigen Lösung oder einer Entwicklung auf der Vorrichtung unterworfen wird, wird die Schicht (B) bildweise entfernt. Andererseits kann die Schicht (A) durch Entwicklung nicht entfernt werden, da Latex in reinem Wasser, einer alkalischen wässrigen Lösung, Lösungsmitteln, wie Methanol, Aceton, MEK, MFG, Isopropanol und Acetonitril, unlöslich ist. Folglich wird die Oberfläche der Schicht (A) freigelegt. Schicht (A), enthaltend einen Latex, besitzt jedoch eine Struktur, umfassend Teilchen, die sich ansammeln und aufhäufen, unterschiedlich zu einer Schicht, die eine gewöhnliche, lineare, Verbindung mit hohem Molekulargewicht enthält, wodurch die Teilchen des belichteten Bereichs getrennt und vom Träger durch externe Kräfte, wie Reiben mit einem Plattenzylinder während des Druckvorgangs, entfernt werden. Die Oberfläche des hydrophilen Trägers wird dadurch freigelegt und ein guter Nichtbildbereich, der frei von Flecken ist, wird gebildet.

Andererseits empfängt Schicht (A) beim Drucken keine direkten externe Kräfte, da die Schicht (B) auf der Schicht (A) angeordnet ist, wodurch der Latex im Bildbereich von Schicht (A) während des Druckens nicht getrennt wird. Zusätzlich wird die Empfindlichkeit des lithografischen Druckplattenvorläufers hoch und die Löslichkeitsumwandlung von Schicht (B) kann bewirkt werden.

Obwohl wasserlösliche Polymere, die in Wasser oder einer wässrigen Lösung gelöst sind, in Schicht (A) des lithografischen Druckplattenvorläufers anstelle der Latizes verwendet werden können, wird Schicht (A) durch Entwicklung entfernt, wenn solche Polymere verwendet werden. Die Entwicklungsgeschwindigkeit des Bildbereichs von Schicht (A) ist aufgrund der Gegenwart der oberen Schicht (B) langsamer als die des Nichtbildbereichs, aber der Bildbereich wird auch von der Seite gelöst. Folglich wird der Teil, der sich in Kontakt mit dem Träger befindet, klein (dünn), und als Ergebnis wird die Festigkeit des Bildbereichs, d.h. die Drucklebensdauer, schlecht. Insbesondere wird Schicht (A) aufgrund von Spüllösung während des Druckens allmählich gelöst, wenn wasserlösliche Polymere verwendet werden. Dadurch wird die Drucklebensdauer verschlechtert.

Im Gegensatz dazu wird die Schicht (A) des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers, enthaltend einen Latex, der in verschiedenen Arten von Lösungsmitteln unlöslich ist, in einer Entwicklungslösung, wie Wasser und einer alkalischen wässrigen Lösung, und einer Spüllösung während des Druckens nicht gelöst.

Aus den obigen Gründen kann eine ausgezeichnete Festigkeit des Bildbereichs, d.h. Drucklebensdauer, erreicht werden, wenn der erfindungsgemässe lithografische Druckplattenvorläufer mit Schicht (A), enthaltend einen Latex, verwendet wird.

Der lithografische Druckplattenvorläufer mit den oben beschriebenen Schichten (A) und (B) ist in der Lage, direkt aus digitalen Daten, d.h. aus einem Computer, durch Aufzeichnen mit einem Feststofflaser oder einem Halbleiterlaser, der Infrarotstrahlen abstrahlt, eine Platte herzustellen, und eine Druckplatte mit hoher Empfindlichkeit, ausgezeichneter Drucklebensdauer und frei von Flecken kann erhalten werden.

Wenn organische Harzpartikel ohne Vernetzung als der in Schicht (A) enthaltene Latex verwendet werden, verschlechtert sich die Entwickelbarkeit auf dem Vorrichtungssystem aufgrund der leichten Fusion, die beim Trocknen bei der Filmbildung auftritt. Deshalb ist es erforderlich, Teilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengrösse von 40 nm oder mehr zu verwenden, um eine gute Entwickelbarkeit sicherzustellen. Im Gegensatz dazu wird durch die Vernetzung die Teilchenform fest beibehalten, wenn vernetzte organische Harzpartikel verwendet werden, so dass selbst wenn die durchschnittliche Teilchengrösse klein ist beim Trocknen zur Filmbildung keine Fusion auftritt. Daher kann selbst dann, wenn die durchschnittliche Teilchengrösse etwa 20 nm beträgt, eine gute Entwickelbarkeit sichergestellt werden.

Wenn die durchschnittliche Teilchengrösse klein wird, erhöht sich die Fläche, die in Kontakt mit einem Substrat und Schicht (A) steht. Als Ergebnis wird die Adhäsion zwischen dem Substrat und der Schicht (A) gut, und die Drucklebensdauer wird verbessert.

Aus den obigen Gründen wird eine bessere Festigkeit im Bildbereich, d.h. Drucklebensdauer, erhalten, wenn vernetzte organische Harzteilchen insbesondere als in der Schicht (A) enthaltener Latex verwendet werden.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG:

Die vorliegende Erfindung wird nachstehend im Detail beschrieben.

Der erfindungsgemässe lithografische Druckplattenvorläufer ist ein lithografischer Druckplattenvorläufer, der einen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche mit darauf in dieser Reihenfolge angeordnet einer Schicht, enthaltend einen Latex (Schicht (A)) und eine Tintenaufnahmeschicht (Schicht (B)), deren Löslichkeit zumindest entweder in Wasser oder in einer wässrigen Lösung durch Wärme verändert wird, umfasst, worin zumindest eine Schicht von entweder Schicht (A) oder Schicht (B) eine Licht/Wärme-Umwandlungsverbindung enthält. Zuerst wird eine Schicht erläutert, die einen Latex (Schicht (A)) enthält, was das Charakteristikum des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers darstellt.

Latex enthaltende Schicht (Schicht (A)):

"Eine Schicht, enthaltend Latex (nachstehend als Schicht (A) bezeichnet)" zur erfindungsgemässen Verwendung bedeutet eine Schicht, enthaltend zumindest einen nachstehend beschriebenen Latex.

Latex:

Latizes zur erfindungsgemässen Verwendung sind nicht besonders beschränkt, solange sie effektiv die in Schicht (A) und/oder Schicht (B) gebildete Wärme durch Variieren der Verteilung der Wärmeleitfähigkeit verwenden können, aber granulierte organische Teilchen werden besonders bevorzugt verwendet. Wenn ein Lösungsmittel zum Dispergieren der Harzteilchen verwendet wird, ist es erforderlich, darauf zu achten, dass Harzteilchen, die in dem Lösungsmittel nicht gelöst werden, oder ein Lösungsmittel, das die Harzteilchen nicht löst, ausgewählt werden. Wenn Harzteilchen durch ein thermoplastisches Polymer und Wärme dispergiert werden, sollten ausserdem Harzteilchen, die durch die Wärme zur Dispersion nicht schmelzen, nicht deformiert oder nicht zersetzt werden, ausgewählt werden.

Unter Berücksichtigung der oben beschriebenen Punkte, werden vernetzte Harzteilchen verwendet. Organische Teilchen haben eine durchschnittliche Teilchengrösse von 0,01 bis 10 &mgr;m, bevorzugt 0,05 bis 10 &mgr;m, und besonders bevorzugt 0,05 bis 5 &mgr;m. Wenn die durchschnittliche Teilchengrösse weniger als 0,01 &mgr;m beträgt, werden die Entfernungseigenschaften der Schicht (A) und die Umwandlung der Wärmeleitfähigkeitsverteilung nur mit schlechtem Ergebniss verbessert. Während die Bildschärfe der Drucke schlecht wird, und die Adhäsion der Schicht (A) an den Träger extrem schlecht wird, wenn sie mehr als 10 &mgr;m beträgt, als Ergebnis erniedrigt sich die Festigkeit des Bildbereichs.

Der Latexgehalt in Schicht (A) ist nicht beschränkt, beträgt aber bevorzugt 2 Gew.% oder mehr, bevorzugter 5 Gew.% oder mehr. Wenn der Latexgehalt weniger als 2 Gew.% beträgt, führen die Verbesserungen der Entfernungseigenschaften der Schicht (A) und der Umwandlung der Wärmeleitfähigkeitsverteilung zu schlechten Ergebnissen.

Als organische Teilchen können beispielhaft Polystyrolteilchen (mit einer Teilchengrösse von 0,01 bis 10 &mgr;m) und Siliconharzteilchen (mit einer Teilchengrösse von 0,01 bis 4 &mgr;m) genannt werden. Als vernetzte Harzteilchen können beispielhaft Mikrogele, umfassend zwei oder mehr ethylenisch ungesättigte Monomere (mit einer Teilchengrösse von 0,01 bis 1 &mgr;m), vernetzte Harzteilchen, umfassend Styrol und Divinylbenzol (mit einer Teilchengrösse von 0,01 bis 10 &mgr;m), vernetzte Harzteilchen, umfassend Methylmethacrylat und Diethylenglykoldimethacrylat (mit einer Teilchengrösse von 0,01 bis 10 &mgr;m) usw., d.h. Mikrogele von Acrylatharz, vernetztem Polystyrol und vernetztem Methylmethacrylat usw. genannt werden. Diese organischen Teilchen können durch allgemeine Verfahren, wie Emulsionspolymerisation, seifenfreie Emulsionspolymerisation, Keimemulsionspolymerisation, Dispersionspolymerisation, Suspensionspolymerisation usw., hergestellt werden.

Andere Bestandteile:

Die folgenden Bestandteile können neben einem Latex zu der erfindungsgemässen Schicht (A), falls nötig, zugegeben werden.

Organische Verbindung mit hohem Molekulargewicht:

Eine organische Verbindung mit hohem Molekulargewicht kann zur Schicht (A) des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers zum Zweck der Erhöhung der Filmeigenschaften zugegeben werden. Beispiele organischer Verbindungen mit hohem Molekulargewicht, die verwendet werden können, schliessen ein Acrylatharz, ein Methacrylatharz, ein Styrylharz, ein Polyesterharz, ein Polyurethanharz, ein Polycarbonatharz, ein Polyamidharz und ein Polyacetalharz ein. Unter diesen werden ein Acrylatharz, ein Methacrylatharz, ein Styrylharz, ein Polyesterharz und ein Polyurethanharz bevorzugt verwendet, und ein Acrylatharz, ein Methacrylatharz und ein Polyurethanharz werden besonders bevorzugt verwendet.

Die organischen Verbindungen mit hohem Molekulargewicht, die zur Schicht (A) des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers zugegeben werden, haben bevorzugt ein massegemitteltes Molekulargewicht, gemessen mittels GPC, von vorzugsweise 2.000 oder mehr, bevorzugter 5.000 bis 300.000, und zahlengemitteltes Molekulargewicht von vorzugsweise 800 oder mehr, bevorzugter 1.000 bis 250.000. Der Polydispersionsgrad (massegemitteltes Molekulargewicht/zahlengemitteltes Molekulargewicht) der organischen Verbindungen mit hohem Molekulargewicht beträgt bevorzugt 1 oder mehr, bevorzugter 1,1 bis 10.

Diese organischen Verbindungen mit hohem Molekulargewicht können jedes aus einem Zufallspolymer, einem Blockpolymer und einem Pfropfpolymer sein, aber ein Zufallspolymer ist bevorzugt.

Wenn diese organischen Verbindungen mit hohem Molekulargewicht zu einer Schicht, enthaltend einen Latex, zugegeben werden, beträgt ihr Gehalt vorzugsweise 50 Gew.% oder weniger, bevorzugter 40 Gew.% oder weniger. Wenn der Gehalt mehr als 50 Gew.% beträgt, werden die Entfernungseigenschaften der Schicht verschlechtert und die Beständigkeit gegen Fleckenbildung auf Nichtbildbereichen erniedrigt sich.

Licht/Wärme-Umwandlungsmittel:

Die Licht/Wärme-Umwandlungsmittel, die in einer Schicht, enthaltend einen Latex des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers, enthalten sein können und Laserstrahlen absorbieren und die absorbierten Laserstrahlen in Licht umwandeln, werden nachstehend beschrieben.

Die erfindungsgemäss bevorzugt verwendeten Licht/Wärme-Umwandlungsmittel sind Farbstoffe und Pigmente, die effektiv Licht einer Wellenlänge von 760 bis 1.200 nm absorbieren, bevorzugter Farbstoffe und Pigmente mit einem Absorptionsmaximum bei Wellenlängen von 760 bis 1.200 nm.

Als Farbstoffe für diesen Zweck können die kommerziell erhältlichen und gut bekannten Farbstoffe, die beispielsweise in Senryo Binran (Dye Handbook), zusammengestellt von Yuki Gosei Kagaku Kyokai (1970) beschrieben sind, eingesetzt werden. Spezifische Beispiele dieser Farbstoffe schliessen einen Azofarbstoff, einen Metallkomplex-Azofarbstoff, einen Pyrazolonazofarbstoff, einen Anthrachinonfarbstoff, einen Phthalocyaninfarbstoff, einen Carboniumfarbstoff, einen Chinoniminfarbstoff, einen Methinfarbstoff, einen Cyaninfarbstoff und einen Metallthiolatkomplex ein.

Beispielsweise können ein Cyaninfarbstoff, ein Methinfarbstoff, ein Naphthochinonfarbstoff und ein Squaryliumfarbstoff beispielhaft als bevorzugte Farbstoffe genannt werden.

Ferner werden erfindungsgemäss auch ein Nahinfrarotabsorbierender Sensibilisator, ein substituiertes Arylbenzo(thio)pyryliumsalz, ein Trimethinthiapyryliumsalz, eine Verbindung auf Pyryliumbasis, ein Cyaninfarbstoff, ein Pentamethinthiopyryliumsalz und eine Pyryliumverbindung bevorzugt verwendet.

Als andere Beispiele bevorzugter Farbstoffe können beispielhaft Nahinfrarot-absorbierende Farbstoffe, offenbart in US-PS 4 756 993, als Verbindungen der Formeln (I) und (II) genannt werden.

Unter den oben beschriebenen Farbstoffen sind besonders bevorzugte Farbstoffe ein Cyaninfarbstoff, ein Squaryliumfarbstoff, ein Pyryliumsalz und ein Nickelthiolatkomplex.

Als erfindungsgemäss verwendbare Pigmente können kommerziell erhältliche und solche, die in Color Index (C.I.) Binran (Color Index Handbook), Saishin Ganryo Binran (The Latest Pigment Handbook), zusammengestellt von Nihon Ganryo Gijutsu Kyokai (1977), Saishin Ganryo Oyo Gijutsu (The Latest Pigment Applied Technique), veröffentlicht von CMC Publishing Co. (1986), Insatsu Ink Gijutsu (Printing Ink Technique), CMC Publishing Co. (1984) beschrieben sind, verwendet werden.

Es können verschiedene Arten von Pigmenten verwendet werden, z.B. können Schwarzpigmente, Gelbpigmente, Orangepigmente, Braunpigmente, Rotpigmente, Purpurpigmente, Blaupigmente, Grünpigmente, Fluoreszenzpigmente, Metallpulverpigmente und Polymeranhaftungspigmente genannt werden. Spezifisch können ein unlösliches Azopigment, ein Azolackpigment, ein Kondensationsazopigment, ein Chelatazopigment, ein Phthalocyaninpigment, ein Anthrachinonpigment, ein Perylenpigment, ein Perinonpigment, ein Thioindigopigment, ein Chinacridonpigmemt, ein Dioxazinpigment, ein Isoindolinonpigment, ein Chinonaphthalonpigment, ein Formbeizenpigment (in-mold lake pigment), ein Azinpigment, ein Nitrosopigment, in Nitropigment, ein natürliches Pigment, ein Fluoreszenzpigment, ein anorganisches Pigment und Russ verwendet werden. Unter diesen ist Russ bevorzugt.

Diese Pigmente können ohne Oberflächenbehandlung verwendet werden oder sie können oberflächenbehandelt sein. Als Verfahren zur Oberflächenbehandlung können beispielhaft ein Verfahren, in dem die Oberfläche mit einem Harz und einem Wachs beschichtet wird, ein Verfahren, in dem ein Tensid angehaftet wird, und ein Verfahren in dem eine reaktive Substanz (z.B. ein Silan-Kupplungsmittel, eine Epoxyverbindung und Polyisocyanat) auf der Oberfläche eines Pigments angefügt wird, genannt werden. Diese Oberflächenbehandlungsverfahren sind in Kinzoku Sekken no Seishitsu to Oyo (Natures and Applications of Metal Soaps), Saiwai Shobo Co., Insatsu Ink Gijutsu (Printing Ink Technique), CMC Publishing Co. (1984) und Saishin Ganryo Oyo Gijutsu (The Latest Pigment Applied Technique), CMC Publishing Co. (1986) beschrieben.

Diese Pigmente haben bevorzugt eine Teilchengrösse von 0,01 bis 10 &mgr;m, bevorzugter 0,05 bis 1 &mgr;m, und besonders bevorzugt 0,1 bis 1 &mgr;m. Wenn die Teilchengrösse dieser Pigmente weniger als 0,1 &mgr;m ist, ist dies unter dem Gesichtspunkt der Stabilität der Dispersion in der Beschichtungslösung einer hochmolekulargewichtskomplexhaltigen Schicht und einer Tintenaufnahmeschicht nicht bevorzugt, während es im Hinblick auf die Gleichmässigkeit einer latexhaltigen Schicht und einer Tintenaufnahmeschicht nach Beschichtung nicht bevorzugt ist, wenn sie 10 &mgr;m übersteigt.

Gut bekannte Verfahren zur Herstellung von Tinten und Tonern können als Dispersionsverfahren der Pigmente verwendet werden. Beispiele der Dispersionsvorrichtung schliessen eine Sandmühle, einen Attritor, eine Perlmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, einen Impeller, einen Disperser, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron, eine Dreiwalzenmühle, einen Druckkneter usw. ein und Details sind in Saishin Ganryo Oyo Gijutsu (The Latest Pigment Applied Technique), CMC Publishing Co. (1986) beschrieben.

Diese Farbstoffe oder Pigmente können in einer Menge von 0,01 bis 50 Gew.%, bevorzugt von 0,1 bis 10 Gew.%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt in Schicht (A) und einer Tintenaufnahmeschicht des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers verwendet werden, und im Fall von Farbstoffen kann besonders bevorzugt eine Menge von 0,5 bis 10 Gew.%, und im Fall von Pigmenten besonders bevorzugt eine Menge von 1,0 bis 10 Gew.% verwendet werden. Wenn die Zugabemenge der Pigmente oder Farbstoffe weniger als 0,1 Gew.% beträgt, erniedrigt sich die Empfindlichkeit, und wenn sie 50 Gew.% übersteigt, ist der Nichtbildbereich dafür anfällig, beim Drucken Flecken zu bilden.

Feste Teilchen:

Neben den Licht/Wärme-Umwandlungsmitteln können anorganische Teilchen und metallische Teilchen zur Schicht (A) des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers zugegeben werden. Als solche anorganische Teilchen werden bevorzugt Teilchen, die nicht nur die Entfernung der Schicht (A) beschleunigen können, sondern effizient die in Schicht (A) und/oder Schicht (B) gebildete Wärme durch Variieren der Wärmeleitfähigkeitsverteilung einsetzen, verwendet.

Als solche anorganische Teilchen können z.B. Metalloxide, wie Zinkoxid, Titandioxid, Eisenoxid und Zirkoniumdioxid; siliciumhaltige Oxide, die selbst keine Absorption im sichtbaren Bereich aufweisen und Weissruss genannt werden, wie Kieselsäureanhydrid, hydratisiertes Calciumsilicat und hydratisiertes Aluminiumsilicat; und Tonmineralteilchen, wie Ton, Talk, Kaolin und Zeolith, verwendet werden. Ferner können als metallische Teilchen z.B. Aluminium, Kupfer, Nickel, Silber und Eisen verwendet werden. Diese anorganischen Teilchen und die metallischen Teilchen haben eine durchschnittliche Teilchengrösse von 10 &mgr;m oder weniger, bevorzugt 0,01 bis 10 &mgr;m, und bevorzugter 0,1 bis 5 &mgr;m. Wenn die durchschnittliche Teilchengrösse der anorganischen Teilchen und der metallischen Teilchen weniger als 0,01 &mgr;m beträgt, werden die Entfernungseigenschaften der Schicht (A) und die Umwandlung der Wärmeleitfähigkeitsverteilung nur mit schlechten Ergebnissen verbessert. Während die Bildschärfe der Drucke schlecht wird und die Adhäsion der Schicht (A) an den Träger extrem schlecht wird, wenn sie mehr als 10 &mgr;m beträgt, als Ergebnis erniedrigt sich die Festigkeit des Bildbereichs.

Der Gehalt an anorganischen Teilchen und an metallischen Teilchen ist nicht beschränkt, so lange der Latex in einer geeigneten Menge enthalten ist, aber der Gehalt beträgt bevorzugt 90 Gew.% oder weniger, bevorzugter 80 Gew.% oder weniger. Wenn der Gehalt dieser Teilchen mehr als 90 Gew.% beträgt, wird die Bildschärfe der Drucke schlecht, und die Adhäsion der Schicht (A) an den Träger wird extrem schlecht, als Ergebnis erniedrigt sich die Festigkeit des Bildbereichs.

Tenside können zur Schicht des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers zur Verbreiterung des Stabilitätsbereichs gegenüber Druckbedingungen zugegeben werden, z.B. können nicht-ionische Tenside, wie in JP-A-62-251740 und JP-A-3-208514 offenbart, und amphotere Tenside, wie in JP-A-59-121044 und JP-A-4-13149 offenbart, zugegeben werden.

Spezifische Beispiele der nicht-ionischen Tenside schliessen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid, Polyoxyethylennonylphenylether usw. ein.

Spezifische Beispiele der amphoteren Tenside schliessen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliniumbetain und solche vom N-Tetradecyl-N,N-betain-Typ (z.B. Amorgen K, Markenname, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) ein.

Der Anteil der oben beschriebenen nicht-ionischen und amphoteren Tenside im Gesamtfeststoffgehalt in Schicht (A) ist bevorzugt 0,05 bis 15 Gew.%, bevorzugter 0,1 bis 5 Gew.%.

Andere:

Weichmacher werden zur Schicht (A) des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers zur Verbesserung der Flexibilität des Films, falls erforderlich, zugegeben, z.B. können Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat, Oligomere und Polymere von Acrylsäure oder Methacrylsäure usw. verwendet werden.

Schicht (A) des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers kann im allgemeinen durch Dispergieren und Lösen jedes der oben beschriebenen Bestandteile in einem Lösungsmittel und Beschichten der Beschichtungslösung auf einen geeigneten Träger hergestellt werden. Beispiele des verwendeten Lösungsmittels schliessen Tetrahydrofuran, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Toluol, Ethylacetat, Ethyllactat, Methyllactat, Dimethylsulfoxid, Wasser, Sulforan, &ggr;-Butyrolacton usw. ein, aber die Lösungsmittel sind nicht hierauf beschränkt.

Diese Lösungsmittel werden alleine oder in Mischung verwendet. Wenn eine Beschichtungslösung hergestellt wird, ist die Konzentration der obigen konstitutiven Bestandteile der Schicht (A) (Gesamtfeststoffgehalt, einschliesslich der Additive) in einem Lösungsmittel bevorzugt 1 bis 50 Gew.%. Es können verschiedene Beschichtungsverfahren verwendet werden, beispielsweise können Balkenbeschichtung, Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung, Vorhangbeschichtung, Tauchbeschichtung, Luftmesserbeschichtung, Rakelbeschichtung und Walzenbeschichtung verwendet werden.

Tenside, z.B. in JP-A-62-170950 offenbarte Fluortenside, können zur Schicht (A) des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften zugegeben werden. Die Zugabemenge beträgt vorzugsweise 0,01 bis 1 Gew.%, bevorzugter 0,05 bis 0,5 Gew.%, des Gesamtfeststoffgehalts der Schicht (A).

Die nach dem Beschichten und Trocknen erhaltene Beschichtungsmenge der Schicht (A) (Feststoffgehalt) variiert in Abhängigkeit vom Zweck, aber die Beschichtungsmenge eines allgemeinen lithografischen Druckplattenvorläufers beträgt vorzugsweise 0,05 bis 2,0 g/m2, bevorzugter 0,1 bis 1,5 g/m2.

Wenn die Beschichtungsmenge der Schicht (A) weniger als 0,05 g/m2 beträgt, sind die Wärmeisolationseigenschaften unzureichend, die Polaritätsumwandlung (Umwandlung zu löslich oder unlöslich in Wasser oder einer wässrigen Lösung) der oberen Schicht (Schicht (B)) ist unzureichend, was Restfilm (wenn Schicht (B)) löslich gemacht wird oder die Reduktion der Festigkeit des Bildbereichs (wenn sie unlöslich gemacht wird) mit sich bringt. Während sich die Haltbarkeit der Zwischenschicht (Schicht (A)) gegenüber Kraft beim Drucken erniedrigt und die Festigkeit des Bildbereichs reduziert wird, wenn die Beschichtungsmenge mehr als 2,0 g/m2 beträgt.

Wenn die Extinktion der Schicht (A) bei der Wellenlänge von Laserstrahlen zum Abbilden weniger als 0,3 beträgt, wird die Umwandlung der Schicht (B) unzureichend, da der Erwärmungseffekt von der niedrigeren Seite unzureichend ist. Wenn die Extinktion mehr als 2 ist, ist die zu Schicht (A) zugegebene Menge des Licht/Wärme-Umwandlungsmittels, z.B. eines Farbstoffs, zu gross, als Ergebnis wird die Festigkeit der Schicht (A) unzureichend und die Festigkeit des Bildbereichs erniedrigt sich nachteilig.

Tintenaufnahmeschicht:

Eine Tintenaufnahmeschicht wird nachstehend beschrieben.

Jede Schicht kann als Tintenaufnahmeschicht (Schicht (B)) zur Verwendung in dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer verwendet werden, so lange die Schicht bildweise in Wasser oder einer wässrigen Lösung durch die durch Licht/Wärme-Umwandlung bei der Belichtung hervorgerufene Wärme löslich gemacht wird (positiv wird) oder unlöslich gemacht wird (negativ wird). Die bevorzugte Schicht als Schicht (B), die eine positive Umwandlung durchläuft, ist eine Schicht, die eine hydrophobe hochmolekulargewichtige Verbindung, die durch Wärme hydrophil gemacht wird (nachfolgend gelegentlich als "polaritätsumwandelnde hochmolekulargewichtige Verbindung vom positiven Typ" bezeichnet) und eine Schicht, die ein in einer wässrigen Alkalilösung lösliches Harz enthält, enthält. Die bevorzugte Schicht als Schicht (B), die negative Umwandlung durchläuft, ist eine Schicht, enthaltend eine hydrophile Verbindung mit hohem Molekulargewicht, die durch Wärme ins Hydrophobe umgewandelt wird (im folgenden manchmal als "polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom negativen Typ" bezeichnet). Bevorzugt enthält Schicht (B) eine Verbindung, die mit einem in einer alkalischen wässrigen Lösung löslichen Harz vernetzt.

Schicht, die eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ enthält:

"Eine Schicht, die eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ enthält", wie sie in dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer verwendet wird, bedeutet eine Schicht, die mindestens eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ, wie nachfolgend beschrieben, enthält.

Polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ:

Eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ, wie sie erfindungsgemäss verwendet wird, ist eine hydrophobe hochmolekulargewichtige Verbindung, die, wie oben beschrieben, durch Wärme hydrophil gemacht wird. Als eine solche hochmolekulargewichtige Verbindung kann beispielsweise eine hydrophobe hochmolekulargewichtige Verbindung mit einer hydrophoben funktionellen Gruppe, die durch Wärme hydrophil gemacht wird, in der Seitenkette genannt werden. Diese Umwandlung muss eine Umwandlung in einem solchen Ausmass sein, dass eine Verbindung, die bei Umgebungstemperatur keine Neigung zur Auflösung oder Quellung in Wasser zeigt, durch die Umwandlung eines Teils oder der Gesamtheit der polaritätsumwandelnden funktionellen Gruppe in der Seitenkette die Neigung bekommt, in Wasser aufgelöst oder gequollen zu werden, wenn Wärme durch Licht/Wärme-Umwandlung nach Laserbelichtung aufgebracht wird.

Bei dem Prozess, in dem die hydrophobe funktionelle Gruppe einer hydrophoben hochmolekulargewichtigen Verbindung durch Wärme hydrophil gemacht wird, kann zwischen einem Prozess, worin eine ursprünglich hydrophobe funktionelle Gruppe der Seitenkette durch die Reaktion durch Wärme zu hydrophil umgewandelt wird, und einem Prozess, worin eine ursprünglich hydrophobe funktionelle Gruppe der Seitenkette durch Wärme zersetzt und die Verbindung durch den Verlust der hydrophoben funktionellen Gruppe hydrophil gemacht wird, unterschieden werden.

Als erstgenannten Prozess einer ursprünglich hydrophoben funktionellen Gruppe in der Seitenkette, die durch Reaktion durch wärme hydrophil gemacht wird, gibt es einen Prozess, worin die hydrophobe funktionelle Gruppe mit einer anderen funktionellen Gruppe in dem gleichen Polymer durch Wärme reagiert und hydrophil gemacht wird, sowie einen Prozess, worin die hydrophobe funktionelle Gruppe durch Wärme mit einer anderen Verbindung von ausserhalb des Polymers reagiert und hydrophil gemacht wird, und funktionelle Gruppen können die Umwandlung zu hydrophil durch beide Arten von Prozessen in Kombination miteinander durchlaufen.

Von den obigen Prozessen ist ein Prozess, worin eine ursprünglich hydrophobe funktionelle Gruppe in der Seitenkette durch Wärme zersetzt oder die Verbindung hydrophil gemacht wird, indem die hydrophobe funktionelle Gruppe verloren geht, im Hinblick auf die Reaktivität bevorzugt.

Ferner ist es erfindungsgemäss weiter bevorzugt, dass die polaritätsumwandelnde funktionelle Gruppe in der Seitenkette einer Polaritätsumwandlungsverbindung mit hohem Molekulargewicht vollständig hydrophil gemacht wird, wenn die Umwandlung jedoch in einem solchen Ausmass stattfindet, dass die polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht die Neigung entwickelt, in Wasser aufgelöst oder gequollen zu werden, muss die polaritätsumwandelnde funktionelle Gruppe nicht vollständig hydrophil gemacht werden.

Spezifische Beispiele für die erfindungsgemässen hydrophoben funktionellen Gruppen sind nachfolgend angegeben.

worin R1 und R3 jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkinylgruppe repräsentieren;

R2 und R4 jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkinylgruppe repräsentieren; und R1 und R2, R1 und R3 und

R1 und R4 unter Bildung eines Rings miteinander verbunden sein können.

Spezifische Beispiele für die erfindungsgemäss verwendeten hydrophilen funktionellen Gruppen sind unten gezeigt.

worin R1, R2 und R3 jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkinylgruppe darstellen, und zwei beliebige aus R1, R2 und R3 können unter Bildung eines Rings miteinander verbunden sein, und E ist ein Gegenanion.

Wenn R1, R2, R3 und R4 jeweils eine Alkylgruppe darstellen, ist die Alkylgruppe eine unverzweigte, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen. Spezifische Beispiele für die Alkylgruppen schliessen eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Propylgruppe, eine Butylgruppe, eine Pentylgruppe, eine Hexylgruppe, eine Heptylgruppe, eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe, eine Undecylgruppe, eine Dodecylgruppe, eine Tridecylgruppe, eine Hexadecylgruppe, eine Octadecylgruppe, eine Eicosylgruppe, eine Isopropylgruppe, eine Isobutylgruppe, eine t-Butylgruppe, eine t-Butylgruppe, eine Isopentylgruppe, eine Neopentylgruppe, eine 1-Methylbutylgruppe, eine Isohexylgruppe, eine 2-Ethylhexylgruppe, eine 2-Methylhexylgruppe, eine Cyclohexylgruppe, eine Cyclopentylgruppe und eine 2-Norbornylgruppe ein. Unter diesen Gruppen ist eine unverzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigte Alkylgruppe mit 3 bis 12 Kohlenstoffatomen und eine cyclische Alkylgruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen weiter bevorzugt.

Wenn R1, R2, R3 und R4 jeweils eine substituierte Alkylgruppe darstellen, werden monovalente Nichtmetallatomgruppen ausschliesslich eines Wasserstoffatoms als Substituenten verwendet. Bevorzugte Beispiele für die Substituenten der substituierten Alkylgruppe schliessen ein Halogenatom (-F, -Br, -Cl, -I), eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxylgruppe, eine Aryloxygruppe, eine Mercaptogruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkyldithiogruppe, eine Aryldithiogruppe, eine Aminogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine N-Arylaminogruppe, eine N,N-Diarylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-arylamino-Gruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carbamoyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Diarylcarbamoyloxygruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxy-Gruppe, eine Alkylsulfoxygruppe, eine Arylsulfoxygruppe, eine Acylthiogruppe, eine Acylaminogruppe, eine N-Alkylacylaminogruppe, eine N-Arylacylaminogruppe, eine Ureidogruppe, eine N'-Alkylureidogruppe, eine N',N'-Dialkylureidogruppe, eine N'-Arylureidogruppe, eine N',N'-Diarylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N'-arylureidogruppe, eine N-Alkylureidogruppe, eine N-Arylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N',N'-Dialkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N',N'-Dialkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N'-Aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Aryl-N-arylureido-Gruppe, eine N',N'-Diaryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N',N'-Diaryl-N-arylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N'-arylureido-Gruppe, eine Alkoxycarbonylaminogruppe, eine Aryloxycarbonylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Alkyl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N,N-Diarylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppe, eine Alkylsulfinylgruppe, eine Arylsulfinylgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe, eine Sulfogruppe (-SO3H) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachfolgend als Sulfonatgruppe bezeichnet), eine Alkoxysulfonylgruppe, eine Aryloxysulfonylgruppe, eine Sulfinamoylgruppe, eine N-Alkylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfinamoylgruppe, eine N-Arylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfinamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfinamoylgruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoylgruppe, eine Phosphonogruppe (-PO3H2) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachfolgend als Phosphonatgruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonogruppe (-PO3(Alkyl)2), eine Diarylphosphonogruppe (-PO3(Aryl)2), eine Alkylarylphosphonogruppe (-PO3(Alkyl)(Aryl)), eine Monoalkylphosphonogruppe (-PO3H(Alkyl)) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachfolgend als Alkylphosphonatogruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonogruppe (-PO3H(Aryl)) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachfolgend als Arylphosphonatogruppe bezeichnet), eine Phosphonoxygruppe (-OPO3H2) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachfolgend als Phosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonoxygruppe (-OPO3(Alkyl)2), eine Diarylphosphonoxygruppe (-OPO3(Aryl)2), eine Alkylarylphosphonoxygruppe (-OPO3(Alkyl)(Aryl)), eine Monoalkylphosphonoxygruppe (-OPO3H(Alkyl)) und eine konjugierte Basengruppe, davon (nachfolgend als Alkylphosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonoxygruppe (-OPO3H(Aryl)) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachfolgend als Arylphosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Cyanogruppe, eine Nitrogruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe und eine Alkinylgruppe ein.

Als spezifische Beispiele für die Alkylgruppen in den Substituenten der substituierten Alkylgruppen sind die oben beschriebenen Alkylgruppen zu nennen. Als spezifische Beispiele für die Arylgruppen in den Substituenten der substituierten Alkylgruppen, sind beispielhaft eine Phenylgruppe, eine Biphenylgruppe, eine Naphthylgruppe, eine Tolylgruppe, eine Xylylgruppe, eine Mesitylgruppe, eine Cumenylgruppe, eine Chlorphenylgruppe, eine Bromphenylgruppe, eine Chlormethylphenylgruppe, eine Hydroxyphenylgruppe, eine Methoxyphenylgruppe, eine Ethoxyphenylgruppe, eine Phenoxyphenylgruppe, eine Acetoxyphenylgruppe, eine Benzoyloxyphenylgruppe, eine Methylthiophenylgruppe, eine Phenylthiophenylgruppe, eine Methylaminophenylgruppe, eine Dimethylaminophenylgruppe, eine Acetylaminophenylgruppe, eine Carboxyphenylgruppe, eine Methoxycarbonylphenylgruppe, eine Ethoxycarbonylphenylgruppe, eine Phenoxycarbonylphenylgruppe, eine N-Phenylcarbamoylphenylgruppe, eine Phenylgruppe, eine Cyanophenylgruppe, eine Sulfophenylgruppe, eine Sulfonatophenylgruppe, eine Phosphonophenylgruppe und eine Phosphonatophenylgruppe zu nennen. Als Beispiele für die Alkenylgruppen in den Substituenten der substituierten Alkylgruppen sind beispielsweise eine Vinylgruppe, eine 1-Propenylgruppe, eine 1-Butenylgruppe, eine Cinnamoylgruppe und eine 2-Chlor-1-ethenyl-Gruppe zu nennen, und als Beispiele für die Alkinylgruppen, sind eine Ethinylgruppe, eine 1-Propynylgruppe, eine 1-Butynylgruppe und eine Trimethylsilylethinylgruppe zu nennen. Als R5 in der Acylgruppe (R5CO-) sind beispielsweise ein Wasserstoffatom und die oben beschriebenen Alkylgruppen und Arylgruppen zu nennen.

Unter diesen Substituenten schliessen weiter bevorzugte Gruppen ein Halogenatom (-F, -Br, -Cl, -I), eine Alkoxylgruppe, eine Aryloxygruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine Acyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine Acylaminogruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppe, eine Sulfogruppe, einen Sulfonatogruppe, einen Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoyl-Gruppe, eine Phosphonogruppe, eine Phosphonatogruppe, eine Dialkylphosphonogruppe, eine Diarylphosphonogruppe, eine Monoalkylphosphonogruppe, eine Alkylphosphonatogruppe, eine Monoarylphosphonogruppe, eine Arylphosphonatogruppe, eine Phosphonoxygruppe, eine Phosphonatoxygruppe, eine Arylgruppe und eine Alkenylgruppe ein.

Andererseits sind als Alkenylgruppe in den substituierten Alkylgruppen divalente organische Reste, die durch Entfernen eines beliebigen Wasserstoffatoms aus den oben beschriebenen Alkylgruppen mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen erhalten wurden, beispielhaft anzuführen, vorzugsweise eine unverzweigte Alkylengruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigte Alkylengruppe mit 3 bis 12 Kohlenstoffatomen und eine cyclische Alkylengruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen. Spezifische Beispiele für die bevorzugten substituierten Alkylgruppen, die erhalten werden durch Kombination der obigen Substituenten mit Alkylengruppen, schliessen eine Chlormethylgruppe, eine Brommethylgruppe, eine 2-Chlorethylgruppe, eine Trifluormethylgruppe, eine Methoxymethylgruppe, eine Methoxyethoxyethylgruppe, eine Allyloxymethylgruppe, eine Phenoxymethylgruppe, eine Methylthiomethylgruppe, eine Tolylthiomethylgruppe, eine Ethylaminoethylgruppe, eine Diethylaminopropylgruppe, eine Morpholinopropylgruppe, eine Acetyloxymethylgruppe, eine Benzoyloxymethylgruppe, eine N-Cyclohexylcarbamoyloxyethylgruppe, eine N-Phenylcarbamoyloxyethylgruppe, eine Acetylaminoethylgruppe, eine N-Methylbenzoylaminopropylgruppe, eine 2-Oxoethylgruppe, eine 2-Oxopropylgruppe, eine Carboxypropylgruppe, eine Methoxycarbonylethylgruppe, eine Allyloxycarbonylbutylgruppe, eine Chlorphenoxycarbonylmethylgruppe, eine Carbamoylmethylgruppe, eine N-Methylcarbamoylethylgruppe, eine N,N-Dipropylcarbamoylmethylgruppe, eine N-(Methoxyphenyl)carbamoylethyl-Gruppe, eine N-Methyl-N-(sulfophenyl)carbamoylmethyl-Gruppe, eine Sulfobutylgruppe, eine Sulfonatobutylgruppe, eine Sulfamoylbutylgruppe, eine N-Ethylsulfamoylmethylgruppe, eine N,N-Dipropylsulfamoylpropylgruppe, eine N-Tolylsulfamoylpropylgruppe, eine N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoyloctyl-Gruppe, eine Phosphonobutylgruppe, eine Phosphonatohexylgruppe, eine Diethylphosphonobutylgruppe, eine Diphenylphosphonopropylgruppe, eine Methylphosphonobutylgruppe, eine Methylphosphonatobutylgruppe, eine Tolylphosphonohexylgruppe, eine Tolylphosphonatohexylgruppe, eine Phosphonoxypropylgruppe, eine Phosphonatoxybutylgruppe, eine Benzylgruppe, eine Phenethylgruppe, eine &agr;-Methylbenzylgruppe, eine 1-Methyl-1-phenylethyl-Gruppe, eine p-Methylbenzylgruppe, eine Cinnamylgruppe, eine Allylgruppe, eine 1-Propenylmethylgruppe, eine 2-Butenylgruppe, eine 2-Methylallylgruppe, eine 2-Methylpropenylmethylgruppe, eine 2-Propynylgruppe, eine 2-Butynylgruppe und eine 3-Butynylgruppe ein.

Wenn R1, R2, R3 und R4 jeweils eine Arylgruppe darstellen, schliessen die Arylgruppen einen kondensierten Ring ein, der aus 1 bis 3 Benzolringen gebildet wird, und einen kondensierten Ring, der aus einem Benzolring und einem 5-gliedrigen ungesättigten Ring gebildet wird, und spezifische Beispiele schliessen eine Phenylgruppe, eine Naphthylgruppe, eine Anthrylgruppe, eine Phenanthrylgruppe, eine Indenylgruppe, eine Acenaphthenylgruppe und eine Fluorenylgruppe ein. Unter diesen Gruppen sind eine Phenylgruppe und eine Naphthylgruppe weiter bevorzugt. Neben den oben genannten carbocyclischen Arylgruppen sind heterocyclische Arylgruppen in die Arylgruppe eingeschlossen. Als heterocyclische Arylgruppen werden solche mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen und 1 bis 5 Heteroatomen verwendet, z.B. eine Pyridylgruppe, eine Furylgruppe, eine Chinolylgruppe, die mit einem Benzolring kondensiert ist, eine Benzofurylgruppe, eine Thioxanthongruppe und eine Carbazolgruppe.

Wenn R1, R2, R3 und R4 jeweils eine substituierte Arylgruppe darstellen, sind die substituierten Arylgruppen solche, die monovalente Nichtmetallatomgruppen, ausschliesslich eines Wasserstoffatoms, an den ringbildenden Kohlenstoffatomen der oben beschriebenen Arylgruppen als Substituenten aufweisen. Als bevorzugte Beispiele für die Substituenten sind die oben beschriebenen Alkylgruppen, substituierten Alkylgruppen und die oben als Beispiele für die Substituenten in den substituierten Alkylgruppen beschriebenen Gruppen beispielhaft aufzuführen.

Bevorzugte spezifische Beispiele für diese substituierten Arylgruppen schliessen eine Biphenylgruppe, eine Tolylgruppe, eine Xylylgruppe, eine Mesitylgruppe, eine Cumenylgruppe, eine Chlorphenylgruppe, eine Bromphenylgruppe, eine Fluorphenylgruppe, eine Chlormethylphenylgruppe, eine Trifluormethylphenylgruppe, eine Hydroxyphenylgruppe, eine Methoxyphenylgruppe, eine Methoxyethoxyphenylgruppe, eine Allyloxyphenylgruppe, eine Phenoxyphenylgruppe, eine Methylthiophenylgruppe, eine Tolylthiophenylgruppe, eine Ethylaminophenylgruppe, eine Diethylaminophenylgruppe, eine Morpholinophenylgruppe, eine Acetyloxyphenylgruppe, eine Benzoyloxyphenylgruppe, eine N-Cyclohexylcarbamoyloxyphenylgruppe, eine N-Phenylcarbamoyloxyphenylgruppe, eine Acetylaminophenylgruppe, eine N-Methylbenzoylaminophenylgruppe, eine Carboxyphenylgruppe, eine Methoxycarbonylphenylgruppe, eine Allyloxycarbonylphenylgruppe, eine Chlorphenoxycarbonylphenylgruppe, eine Carbamoylphenylgruppe, eine N-Methylcarbamoylphenylgruppe, eine N,N-Dipropylcarbamoylphenylgruppe, eine N-(Methoxyphenyl)carbamoylphenyl-Gruppe, eine N-Methyl-N-(sulfophenyl)carbamoylphenyl-Gruppe, eine Sulfophenylgruppe, eine Sulfonatophenylgruppe, eine Sulfamoylphenylgruppe, eine N-Ethylsulfamoylphenylgruppe, eine N,N-Dipropylsulfamoylphenylgruppe, eine N-Tolylsulfamoylphenylgruppe, eine N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoylphenyl-Gruppe, eine Phosphonophenylgruppe, eine Phosphonatophenylgruppe, eine Diethylphosphonophenylgruppe, eine Diphenylphosphonophenylgruppe, eine Methylphosphonophenylgruppe, eine Methylphosphonatophenylgruppe, eine Tolylphosphonophenylgruppe, eine Tolylphosphonatophenylgruppe, eine Allylgruppe, eine 1-Propenylmethylgruppe, eine 2-Butenylgruppe, eine 2-Methylallylphenylgruppe, eine 2-Methylpropenylphenylgruppe, eine 2-Propynylphenylgruppe, eine 2-Butynylphenylgruppe und eine 3-Butynylphenylgruppe ein.

Wenn R1, R2, R3 und R4 jeweils eine Alkenylgruppe, eine substituierte Alkenylgruppe [-C(R6)=C(R7)R8)], eine Alkynylgruppe oder eine substituierte Alkynylgruppe [-C≡C(R9)] darstellen, können monovalente Nichtmetallatomgruppen als R6, R7, R8 und R9 verwendet werden.

Bevorzugte Beispiele für R6, R7, R8 und R9 schliessen ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe und eine substituierte Arylgruppe ein. Als spezifische Beispiele für diese Gruppen sind diejenigen zu nennen, die oben als Beispiele beschrieben wurden. R6, R7, R8 und R9 sind jeweils weiter bevorzugt ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine unverzweigte, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen.

Spezifische Beispiele für die Alkenylgruppen, substituierten Alkenylgruppen, Alkynylgruppen und substituierten Alkynylgruppen schliessen eine Vinylgruppe, eine 1-Butenylgruppe, eine 1-Pentenylgruppe, eine 1-Hexenylgruppe, eine 1-Octenylgruppe, eine 1-Methyl-1-propenyl-Gruppe, eine 2-Methyl-1-propenyl-Gruppe, eine 2-Methyl-1-butenyl-Gruppe, eine 2-Phenyl-1-ethenyl-Gruppe, eine 2-Chlor-1-ethenyl-Gruppe, eine Ethinylgruppe, eine Propynylgruppe und eine Phenylethylgruppe ein.

Unter den oben genannten Gruppen sind R1 und R3 jeweils vorzugsweise eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe, und R2 und R4 sind jeweils vorzugsweise ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe.

Die durch E repräsentierten Gegenanionen sind Anionen mit einer negativen elektrischen Ladung und bilden ein Ionenpaar mit der positiven elektrischen Ladung in einer Ammoniumgruppe (-N+R1R2R3), die eine hydrophile funktionelle Gruppe ist. Daher sind die durch E repräsentierten Gegenanionen in einer Molzahl vorhanden, die der in der Ammoniumgruppe vorhandenen, positiven, elektrischen Ladung äquivalent ist.

Spezifischere Beispiele für Gegenanionen schliessen F, Cl, Br, I, HO, CN, SO42–, HSO4, SO32–, HSO3, NO3, Co32–, HCO3, PF6, BF4, ClO4, ClO2, ClO, BrO4, BrO3, BrO2, BrO, IO4, IO3, IO2, IO, ein Sulfonatanion, ein Carboxylatanion, ein Phosphonatanion, ein Phosphatanion usw. ein.

Als spezifische Beispiele für die Sulfonatanionen sind die folgenden Verbindungen beispielhaft zu nennen, die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht als auf diese beschränkt anzusehen.

Als spezifische Beispiele für die Carboxylatanionen sind die folgenden Verbindungen beispielhaft zu nennen, diese sind jedoch nicht als die vorliegende Erfindung beschränkend anzusehen.

Als spezifische Beispiele für die Phosphonatanionen sind die folgenden Verbindungen beispielhaft zu nennen, diese sind jedoch nicht als die vorliegende Erfindung beschränkend anzusehen.

Als spezifische Beispiele für die Phosphatanionen sind die folgenden Verbindungen beispielhaft zu nennen, diese sind jedoch nicht als die vorliegende Erfindung beschränkend anzusehen.

Unter diesen Anionen werden Cl, Br, I, CN, SO42–, PF6, BF4, ClO4, ein Sulfonatanion, ein Carboxylatanion, ein Phosphonatanion und ein Phosphatanion erfindungsgemäss bevorzugt verwendet.

Unter diesen hydrophoben funktionellen Gruppen, die durch Wärme hydrophil gemacht werden, sind die funktionellen Gruppen der folgenden Formeln (1) bis (5) im Hinblick auf die Reaktivität, die Lagerungsstabilität und die Hydrophil/Hydrophob-Unterscheidbarkeit besonders bevorzugt.

worin L eine polyvalente Verbindungsgruppe ist, die Nichtmetallatome einschliesst, R1 ist eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkynylgruppe oder eine cyclische Imidogruppe; R2 und R3 sind jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkynylgruppe; R4 ist eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkynylgruppe oder -SO2-R11; R5, R6 und R7 sind jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkynylgruppe; entweder R8 oder R9 ist ein Wasserstoffatom und das andere ist ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkynylgruppe; R10 ist eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkynylgruppe; R11 ist eine Alkoxygruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkynylgruppe; zwei oder drei beliebige aus R5, R6 und R7 können unter Bildung eines Rings miteinander verbunden sein, und R8 und R10 oder R9 und R10 können unter Bildung eines Rings miteinander verbunden sein, und X ist O oder S.

Wenn R1 bis R11 jeweils eine Alkylgruppe darstellen, können die oben beschriebenen funktionellen Gruppen als Alkylgruppen beispielhaft angegeben werden.

Wenn R1 bis R11 jeweils eine substituierte Alkylgruppe darstellen, können die oben beschriebenen funktionellen Gruppen als Substituenten beispielhaft angegeben werden.

Wenn R1 bis R9 und R11 jeweils eine Arylgruppe darstellen, können die oben beschriebenen funktionellen Gruppen als Arylgruppe beispielhaft angeführt werden.

Wenn R1 bis R9 und R11 jeweils eine substituierte Arylgruppe darstellen, können die oben beschriebenen funktionellen Gruppen als Substituenten beispielhaft angeführt werden.

Wenn R1 bis R11 jeweils eine Alkenylgruppe, eine substituierte Alkenylgruppe [-C(R13)=((R14)(R15)], eine Alkynylgruppe oder eine substituierte Alkynylgruppe [-C≡C(R16)] darstellen, können als R13, R14, R15 und R16 monovalente Nichtmetallatomgruppen verwendet werden.

R13, R14, R15 und R16 sind jeweils vorzugsweise ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe. Als spezifische Beispiele für diese Gruppen können beispielhaft die oben als Beispiele beschriebenen genannt werden.

Wenn R1 eine cyclische Imidogruppe ist, können Bernsteinsäureimid, Phthalsäureimid, Cyclohexandicarbonsäureimid und Norbornendicarbonsäureimid, die jeweils 4 bis 20 Kohlenstoffatome aufweisen, als die cyclischen Imidogruppen verwendet werden.

R1 ist besonders bevorzugt eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe oder eine cyclische Imidogruppe.

R2, R3, R4 und R11 sind jeweils besonders bevorzugt eine Alkylgruppe, die mit einer elektronenanziehenden Gruppe, wie beispielsweise Halogen, Cyano oder Nitro, substituiert ist, eine Arylgruppe, die mit einer elektronenanziehenden Gruppe, wie beispielsweise Halogen, Cyano oder Nitro, substituiert ist, oder eine sekundäre oder tertiäre verzweigte Alkylgruppe.

R5, R6, R7, R8 und R9 sind jeweils vorzugsweise eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe, R10 ist vorzugsweise eine Alkylgruppe oder eine substituierte Alkylgruppe, vorzugsweise sind beliebige zwei oder drei aus R5, R6 und R7 unter Bildung eines Rings miteinander verbunden, und R8 und R10 oder R9 und R10 sind vorzugsweise unter Bildung eines Rings miteinander verbunden.

Die durch L repräsentierte, polyvalente Verbindungsgruppe, die Nichtmetallatome umfasst, ist eine polyvalente Verbindungsgruppe, die 1 bis 60 Kohlenstoffatome, 0 bis 10 Stickstoffatome, 0 bis 50 Sauerstoffatome, 1 bis 100 Wasserstoffatome und 0 bis 20 Schwefelatome umfasst. Spezifischere Beispiele für die Verbindungsgruppen sind beispielsweise solche, die die folgenden Struktureinheiten in Kombination miteinander umfassen.

Wenn die polyvalente Verbindungsgruppe einen Substituenten aufweist, kann als Substituent eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, z.B. Methyl und Ethyl, eine Arylgruppe mit 6 bis 16 Kohlenstoffatomen, z.B. Phenyl und Naphthyl, eine Hydroxylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine N-Sulfonylamidogruppe, eine Acyloxygruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, z.B. Acetoxy, eine Alkoxylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, z.B. Methoxy und Ethoxy, ein Halogenatom, z.B. Chlor und Brom, eine Alkoxycarbonylgruppe mit 2 bis 7 Kohlenstoffatomen, z.B. Methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl und Cyclohexyloxycarbonyl, eine Cyanogruppe und Carbonsäureester, z.B. t-Butylcarbonat, verwendet werden.

Spezifische Beispiele für die radikalpolymerisierbaren Monomere mit einer hydrophoben funktionellen Gruppe, die durch Wärme hydrophil gemacht wird, die vorzugsweise zur Synthetisierung einer erfindungsgemässen polaritätsumwandelnden Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ verwendet werden, sind nachfolgend gezeigt, jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht als auf diese beschränkt anzusehen.

Die erfindungsgemäss verwendeten, polaritätsumwandelnden Verbindungen mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ sind nicht sonderlich beschränkt, so lange sie eine hydrophobe funktionelle Gruppe in zumindest einem Teil der Seitenkette enthalten, die durch Wärme hydrophil gemacht wird, und die Verbindungen können neben einer hydrophoben funktionellen Gruppe, die durch Wärme hydrophil gemacht wird, eine weitere funktionelle Gruppe in der Seitenkette enthalten. Folglich kann erfindungsgemäss vorzugsweise ein Copolymer mit einem Monomer mit einer funktionellen Gruppe zusätzlich zu einer hydrophilen funktionellen Gruppe, die durch Wärme hydrophil gemacht wird, verwendet werden, so lange das Copolymer den erfindungsgemässen Effekt nicht unterdrückt. Beispielsweise sind die folgenden Monomere als radikalpolymerisierbare Monomere mit einer solchen Seitenkette zu nennen.

Als andere radikalpolymerisierbare Monomere, die zur Synthese der Copolymere verwendet werden können, sind beispielhaft die folgenden, allgemein bekannten Monomere zu nennen, z.B. Acrylsäure, Acrylate, Acrylamide, Methacrylsäure, Methacrylate, Methacrylamide, Maleinsäure, Maleinsäureanhydrid, Maleate, Maleinsäureamide, Maleinsäureimide, Itaconsäure, Itaconsäureanhydrid, Itaconate, Itaconsäureamide, Itaconsäureimide, Crotonsäure, Crotonate, Crotonsäureamide, Fumarsäure, Fumarate, Fumarsäureamide, Mesaconsäure, Mesaconate, Mesaconsäureamide, &agr;,&bgr;-ungesättigte Lactone, &agr;,&bgr;-ungesättigte Lactame, ungesättigte Kohlenwasserstoffe, Vinylether, Vinylester, &agr;,&bgr;-ungesättigte Ketone, Styrole usw.

Spezifische Beispiele für Acrylate schliessen Methylacrylat, Ethylacrylat, (n- oder i-)-Propylacrylat, (n-, i-, sek- oder t-)-Butylacrylat, Pentylacrylat, Hexylacrylat, Heptylacrylat, Octylacrylat, Nonylacrylat, Decylacrylat, Amylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Dodecylacrylat, Chlorethylacrylat, 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxypropylacrylat, 5-Hydroxypentylacrylat, Cyclohexylacrylat, Allylacrylat, Trimethylolpropanmonoacrylat, Pentaerythritolmonoacrylat, Benzylacrylat, Methoxybenzylacrylat, Chlorbenzylacrylat, Hydroxybenzylacrylat, Hydroxyphenethylacrylat, Dihydroxyphenethylacrylat, Furfurylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat, Phenylacrylat, Hydroxyphenylacrylat, Chlorphenylacrylat, Sulfamoylphenylacrylat und 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylacrylat ein

Spezifische Beispiele für Acrylamide schliessen Acrylamid, N-Methylacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-(n- oder i-)-Propylacrylamid, N-(n-, i-, sek- oder t-)-Acrylamid, N-Benzylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Tolylacrylamid, N-(Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(Sulfamoylphenyl)acrylamid, N-(Phenylsulfonyl)acrylamid, N-(Tolylsulfonyl)acrylamid, N,N-Dimethylacrylamid, N-Methyl-N-phenylacrylamid und N-Hydroxyethyl-N-methylacrylamid ein.

Spezifische Beispiele für Methacrylate schliessen Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, (n- oder i-)-Propylmethacrylat, (n-, i-, sek- oder t-)-Butylmethacrylat, Pentylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Heptylmethacrylat, Octylmethacrylat, Nonylmethacrylat, Decylmethacrylat, Amylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Dodecylmethacrylat, Chlorethylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat, 5-Hydroxypentylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Allylmethacrylat, Trimethylolpropanmonomethacrylat, Pentaerythritolmonomethacrylat, Benzylmethacrylat, Methoxybenzylmethacrylat, Chlorbenzylmethacrylat, Hydroxybenzylmethacrylat, Hydroxyphenethylmethacrylat, Dihydroxyphenethylmethacrylat, Furfurylmethacrylat, Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Hydroxyphenylmethacrylat, Chlorphenylmethacrylat, Sulfamoylphenylmethacrylat und 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylmethacrylat.

Spezifische Beispiele für Methacrylamide schliessen Methacrylamid, N-Methylmethacrylamid, N-Ethylmethacrylamid, N-(n- oder i-)-Propylmethacrylamid, N-(n-, i-, sek- oder t-)-Methacrylamid, N-Benzylmethacrylamid, N-Hydroxyethylmethacrylamid, N-Phenylmethacrylamid, N-Tolylmethacrylamid, N-(Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(Sulfamoylphenyl)methacrylamid, N-(Phenylsulfonyl)methacrylamid, N-(Tolylsulfonyl)methacrylamid, N,N-Dimethylmethacrylamid, N-Methyl-N-phenylmethacrylamid und N-Hydroxyethyl-N-methylmethacrylamid ein.

Beispiele für Crotonate schliessen Methylcrotonat, Ethylcrotonat, (n- oder i-)-Propylcrotonat, (n-, i-, sek- oder t-)-Butylcrotonat, Pentylcrotonat, Hexylcrotonat, Heptylcrotonat, Octylcrotonat, Nonylcrotonat, Decylcrotonat, Amylcrotonat, 2-Ethylhexylcrotonat, Dodecylcrotonat, Chlorethylcrotonat, 2-Hydroxyethylcrotonat, 2-Hydroxypropylcrotonat, 5-Hydroxypentylcrotonat, Cyclohexylcrotonat, Allylcrotonat, Trimethylolpropanmonocrotonat, Pentaerythritolmonocrotonat, Benzylcrotonat, Methoxybenzylcrotonat, Chlorbenzylcrotonat, Hydroxybenzylcrotonat, Hydroxyphenethylcrotonat, Dihydroxyphenethylcrotonat, Furfurylcrotonat, Tetrahydrofurfurylcrotonat, Phenylcrotonat, Hydroxyphenylcrotonat, Chlorphenylcrotonat, Sulfamoylphenylcrotonat und 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylcrotonat ein.

Spezifische Beispiele für Crotonsäureamide schliessen Crotonsäureamid, N-Methylcrotonsäureamid, N-Ethylcrotonsäureamid, N-(n- oder i-)-Propylcrotonsäureamid, N-(n-, i-, sek- oder t-)-Crotonsäureamid, N-Benzylcrotonsäureamid, N-Hydroxyethylcrotonsäureamid, N-Phenylcrotonsäureamid, N-Tolylcrotonsäureamid, N-(Hydroxyphenyl)crotonsäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)crotonsäureamid, N-(Phenylsulfonyl)crotonsäureamid, N-(Tolylsulfonyl)crotonsäureamid, N,N-Dimethylcrotonsäureamid, N-Methyl-N-phenylcrotonsäureamid und N-Hydroxyethyl-N-methylcrotonsäureamid ein.

Spezifische Beispiele für Maleate schliessen Dimethylmaleat, Diethylmaleat, Di(n- oder i-)-propylmaleat, Di(n-, i-, sek- oder t-)-butylmaleat, Diphenylmaleat, Diallylmaleat, Monomethylmaleat, Monoethylmaleat, Mono(n- oder i-)-propylmaleat, Mono(n-, i-, sek- oder t-)-butylmaleat, Dibenzylmaleat, Monobenzylmaleat, Methylethylmaleat, Methylpropylmaleat und Ethylpropylmaleat ein.

Spezifische Beispiele für Maleinsäureamide schliessen Maleinsäureamid, N-Methylmaleinsäureamid, N-Ethylmaleinsäureamid, N-(n- oder i-)-Propylmaleinsäureamid, N-(n-, i-, sek- oder t-)-Butylmaleinsäureamid, N-Benzylmaleinsäureamid, N-Hydroxyethylmaleinsäureamid, N-Phenylmaleinsäureamid, N-Tolylmaleinsäureamid, N-(Hydroxyphenyl)maleinsäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)maleinsäureamid, N-(Phenylsulfonyl)maleinsäureamid, N-(Tolylsulfonyl)maleinsäureamid, N,N-Dimethylmaleinsäureamid, N-Methyl-N-phenylmaleinsäureamid, N-Hydroxyethyl-N-methylmaleinsäureamid, N-Methylmaleinsäuremonoamid, N-Ethylmaleinsäuremonoamid, N,N-Dimethylmaleinsäuremonoamid, N-Methyl-N'-ethylmaleinsäureamid und N-Methyl-N'-phenylmaleinsäureamid ein.

Spezifische Beispiele für Maleinsäureimide schliessen Maleinsäureimid, N-Methylmaleinsäureimid, N-Ethylmaleinsäureimid, N-(n- oder i-)-Propylmaleinsäureimid, N-(n-, i-, sek- oder t-)-Butylmaleinsäureimid, N-Benzylmaleinsäureimid, N-Hydroxyethylmaleinsäureimid, N-Phenylmaleinsäureimid, N-Tolylmaleinsäureimid, N-(Hydroxyphenyl)maleinsäureimid, N-(Sulfamoylphenyl)maleinsäureimid, N-(Phenylsulfonyl)maleinsäureimid und N-(Tolylsulfonyl)maleinsäureimid ein.

Spezifische Beispiele für Itaconate schliessen Dimethylitaconat, Diethylitaconat, Di(n- oder i-)-propylitaconat, Di(n-, i-, sek- oder t-)-butylitaconat, Diphenylitaconat, Diallylitaconat, Monomethylitaconat, Monoethylitaconat, Mono(n- oder i-)-propylitaconat, Mono(n-, i-, sek- oder t-)-butylitaconat, Dibenzylitaconat und Ethylpropylitaconat ein.

Spezifische Beispiele für Itaconsäureamide schliessen Itaconsäureamid, N-Methylitaconsäureamid, N-Ethylitaconsäureamid, N-(n- oder i-)-Propylitaconsäureamid, N-(n-, i-, sek- oder t-)-Butylitaconsäureamid, N-Benzylitaconsäureamid, N-Hydroxyethylitaconsäureamid, N-Phenylitaconsäureamid, N-Tolylitaconsäureamid, N-(Hydroxyphenyl)itaconsäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)itaconsäureamid, N-(Phenylsulfonyl)itaconsäureamid, N-(Tolylsulfonyl)itaconsäureamid, N,N-Dimethylitaconsäureamid, N-Methyl-N-phenylitaconsäureamid, N-Hydroxyethyl-N-methylitaconsäureamid, N-Methylitaconsäuremonoamid, N-Ethylitaconsäuremonoamid, N,N-Dimethylitaconsäuremonoamid, N-Methyl-N'-ethylitaconsäureamid und N-Methyl-N'-phenylitaconsäureamid ein.

Spezifische Beispiele für Itaconsäureimide schliessen Itaconsäureimid, N-Methylitaconsäureimid, N-Ethylitaconsäureimid, N-(n- oder i-)-Propylitaconsäureimid, N-(n-, i-, sek- oder t-)-Butylitaconsäureimid, N-Benzylitaconsäureimid, N-Hydroxyethylitaconsäureimid, N-Phenylitaconsäureimid, N-Tolylitaconsäureimid, N-(Hydroxyphenyl)itaconsäureimid, N-(Sulfamoylphenyl)itaconsäureimid, N-(Phenylsulfonyl)itaconsäureimid und N-(Tolylsulfonyl)itaconsäureimid ein.

Spezifische Beispiele für Fumarate schliessen Dimethylfumarat, Diethylfumarat, Di(n- oder i-)-propylfumarat, Di(n-, i-, sek- oder t-)-butylfumarat, Diphenylfumarat, Diallylfumarat, Monomethylfumarat, Monoethylfumarat, Mono(n- oder i-)-propylfumarat, Mono(n-, i-, sek- oder t-)-butylfumarat, Dibenzylfumarat, Monobenzylfumarat, Methylethylfumarat, Methylpropylfumarat und Ethylpropylfumarat ein.

Spezifische Beispiele für Fumarsäureamide schliessen Fumarsäureamid, N-Methylfumarsäureamid, N-Ethylfumarsäureamid, N-(n- oder i-)-Propylfumarsäureamid, N-(n-, i-, sek- oder t-)-Butylfumarsäureamid, N-Benzylfumarsäureamid, N-Hydroxyethylfumarsäureamid, N-Phenylfumarsäureamid, N-Tolylfumarsäureamid, N-(Hydroxyphenyl)fumarsäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)fumarsäureamid, N-(Phenylsulfonyl)fumarsäureamid, N-(Tolylsulfonyl)fumarsäureamid, N,N-Dimethylfumarsäureamid, N-Methyl-N-phenylfumarsäureamid, N-Hydroxyethyl-N-methylfumarsäureamid, N-Methylfumarsäuremonoamid, N-Ethylfumarsäuremonoamid, N,N-Dimethylfumarsäuremonoamid, N-Methyl-N'-ethylfumarsäureamid und N-Methyl-N'-phenylfumarsäureamid ein.

Spezifische Beispiele für Mesaconate schliessen Dimethylmesaconat, Diethylmesaconat, Di(n- oder i-)-propylmesaconat, Di(n-, i-, sek- oder t-)-butylmesaconat, Diphenylmesaconat, Diallylmesaconat, Monomethylmesaconat, Monoethylmesaconat, Mono(n- oder i-)-propylmesaconat, Mono(n-, i-, sek- oder t-)-butylmesaconat, Dibenzylmesaconat, Monobenzylmesaconat, Methylethylmesaconat, Methylpropylmesaconat und Ethylpropylmesaconat ein.

Spezifische Beispiele für Mesaconsäureamide schliessen Mesaconsäureamid, N-Methylmesaconsäureamid, N-Ethylmesaconsäureamid, N-(n- oder i-)-Propylmesaconsäureamid, N-(n-, i-, sek- oder t-)-Butylmesaconsäureamid, N-Benzylmesaconsäureamid, N-Hydroxyethylmesaconsäureamid, N-Phenylmesaconsäureamid, N-Tolylmesaconsäureamid, N-(Hydroxyphenyl)mesaconsäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)mesaconsäureamid, N-(Phenylsulfonyl)mesaconsäureamid, N-(Tolylsulfonyl)mesaconsäureamid, N,N-Dimethylmesaconsäureamid, N-Methyl-N-phenylmesaconsäureamid, N-Hydroxyethyl-N-methylmesaconsäureamid, N-Methylmesaconsäuremonoamid, N-Ethylmesaconsäuremonoamid, N,N-Dimethylmesaconsäuremonoamid, N-Methyl-N'-ethylmesaconsäureamid und N-Methyl-N'-phenylmesaconsäureamid ein.

Spezifische Beispiele für Styrole schliessen Styrol, Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstyrol, Propylstyrol, Cyclohexylstyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol, Acetoxymethylstyrol, Methoxystyrol, Dimethoxystyrol, Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Bromstyrol, Iodstyrol, Fluorstyrol, Carboxystyrol und Natrium-4-vinylbenzolsulfonat ein.

Als spezifische Beispiele für &agr;,&bgr;-ungesättigte Lactone sind die folgenden Verbindungen beispielhaft zu nennen.

Als spezifische Beispiele für &agr;,&bgr;-ungesättigte Lactame sind die folgenden Verbindungen beispielhaft zu nennen.

Als spezifische Beispiele für ungesättigte Kohlenwasserstoffe sind die vorgenannten Verbindungen beispielhaft zu nennen. Als spezifische Beispiele für Vinylether können die vorgenannten Verbindungen beispielhaft genannt werden. Als spezifische Beispiele für Vinylester können die vorgenannten Verbindungen beispielhaft genannt werden.

Als spezifische Beispiele für &agr;,&bgr;-ungesättigte Ketone können beispielhaft die vorgenannten Beispiele genannt werden.

Der Anteil des Monomers mit hydrophober funktioneller Gruppe, die durch Wärme hydrophil gemacht wird, die zur Synthese der erfindungsgemäss verwendeten polaritätsumwandelnden Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ verwendet wird, beträgt vorzugsweise 5 Gew.% oder mehr, bevorzugt 10 bis 95 Gew.%. Wenn der Anteil eines solchen Monomers weniger als 5 Gew.% beträgt, wird die polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ auch dann nicht hydrophil gemacht, wenn die hydrophobe funktionelle Gruppe in der Seitenkette hydrophil gemacht wird, und als Ergebnis tritt eine Fleckbildung im Nichtbildbereich auf. Wenn ferner andere Monomere, wie oben beschrieben, bei der Synthese der erfindungsgemäss verwendeten, polaritätsumwandelnden Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ verwendet werden, ist der Anteil der anderen copolymerisierbaren Monomere nicht sonderlich beschränkt, so lange Monomere mit spezifischen funktionellen Gruppen, wie oben beschrieben, in einer bevorzugten Menge verwendet werden. Diese copolymerisierbaren anderen Monomere können einzeln verwendet werden, oder zwei oder mehrere davon können als Mischung miteinander verwendet werden.

Spezifische Beispiele für die polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ, wie sie erfindungsgemäss verwendet werden, sind nachfolgend gezeigt, jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese beschränkt.

Die in dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer verwendeten polaritätsumwandelnden Verbindungen mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ haben vorzugsweise ein Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht, gemessen mittels GPC, von vorzugsweise 2.000 oder mehr, weiter bevorzugt 5.000 bis 300.000, und ein Zahlendurchschnitts-Molekulargewicht von vorzugsweise 800 oder mehr, weiter bevorzugt 1.000 bis 250.000. Der Polydispersionsgrad (Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht/Zahlendurchschnitts-Molekulargewicht) der hochmolekulargewichtigen Verbindungen ist vorzugsweise 1 oder mehr, weiter bevorzugt 1,1 bis 10.

Diese polaritätsumwandelnden Verbindungen mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ können beliebige sein, ausgewählt aus einem Zufallspolymer, einem Blockpolymer und einem Pfropfpolymer, jedoch ist ein Zufallspolymer bevorzugt.

Als Lösungsmittel, die zur Synthese der erfindungsgemässen polaritätsumwandelnden Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ verwendet werden, sind beispielsweise Tetrahydrofuran, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Toluol, Ethylacetat, Ethyllactat, Methyllactat, Dimethylsulfoxid und Wasser zu nennen. Diese Lösungsmittel können einzeln oder es können zwei oder mehrere davon als Mischung miteinander verwendet werden.

Als Radikalpolymerisationsinitiator in der Synthese der erfindungsgemäss verwendeten polaritätsumwandelnden Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ können allgemein bekannte Verbindungen verwendet werden, wie beispielsweise Initiatoren auf Azobasis und Peroxidinitiatoren.

Wenn die polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ in einer eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ enthaltenden Schicht enthalten ist, kann die polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ alleine oder es können zwei oder mehr dieser Verbindungen als eine Mischung miteinander verwendet werden.

Der Anteil der polaritätsumwandelnden Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ, die in einer eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ enthaltenden Schicht enthalten ist, beträgt vorzugsweise 40 Gew.% oder mehr, weiter bevorzugt 50 Gew.% oder mehr.

Wenn der Gehalt weniger als 40 Gew.% beträgt, wird die Bildfestigkeit schwach und die Drucklebensdauer wird verschlechtert.

Als nächstes werden andere Aufbaukomponenten als die polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ, die in einer Schicht, die eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ wie oben beschrieben enthält, enthalten sein können, beschrieben.

Licht/Wärme-Umwandlungsmittel:

Die oben beschriebenen Licht/Wärme-Umwandlungsmittel können vorzugsweise als die Licht/Wärme-Umwandlungsmittel verwendet werden, die zu der tintenaufnehmenden Schicht (Schicht (B)), die eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ, wie sie erfindungsgemäss verwendet werden, enthält, zugegeben werden.

Säureerzeugendes Mittel:

Die später beschriebenen säureerzeugenden Mittel können vorzugsweise als die säureerzeugenden Mittel verwendet werden, die zu einer tintenaufnehmenden Schicht zugegeben werden, die eine erfindungsgemäss verwendete, polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ enthält.

Sensibilisierungsfarbstoff:

Die später beschriebenen Sensibilisierungsfarbstoffe können vorzugsweise als die Sensibilisierungsfarbstoffe verwendet werden, die zu einer tintenaufnehmenden Schicht zugegeben werden, die eine erfindungsgemäss verwendete polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ enthält.

Tensid:

Die später beschriebenen Tenside können vorzugsweise als die Tenside verwendet werden, die zu einer tintenaufnehmenden Schicht zugegeben werden, die eine erfindungsgemäss verwendete polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ enthält.

Andere Aufbaukomponenten:

Es können, soweit erforderlich, verschiedene Arten von Zusatzstoffen zu einer tintenaufnehmenden Schicht zugegeben werden, die eine erfindungsgemäss verwendete, polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ enthält. Da Oniumsalze, aromatische Sulfonverbindungen und aromatische Sulfonatverbindungen als wärmezersetzbare Substanzen wirken, können diese Substanzen beispielsweise vorzugsweise zur Verbesserung der Auflösungsinhibierungseigenschaft eines Bildbereichs in einer Entwicklungslösung verwendet werden.

Beispiele für Oniumsalze sind ein Diazoniumsalz, ein Ammoniumsalz, ein Phosphoniumsalz, ein Iodoniumsalz, ein Sulfoniumsalz, ein Selenoniumsalz und ein Arsoniumsalz. Bevorzugte, erfindungsgemäss verwendete Oniumsalze schliessen beispielsweise die Diazoniumsalze ein, die in S.I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974, T.S. Bal et al., Polymer, 21, 423 (1980) und JP-A-5-158230 beschrieben sind; die Ammoniumsalze, die in den US-PSen 4 069 055 und 4 069 056 und JP-A-3-140140 beschrieben sind; die Phosphoniumsalze, die in D.C. Necker et al., Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.S. Wen et al., Teh. Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, Seite 478, Tokyo, Okt. (1988) und den US-PSen 4 069 055 und 4 069 056 beschrieben sind; die Iodoniumsalze, die in J.V. Crivello et al., Macromolecules, 10(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, 28. Nov., Seite 31 (1988), EP 104 143, den US-PSen 339 049 und 410 201, JP-A-2-150848 und JP-A-2-296514 beschrieben sind; die Sulfoniumsalze, die in J.V. Crivello et al., Polymer J., 17, 73 (1985), J.V. Crivello et al., J. Org. Chem., 43, 3055 (1978), W.R. Watt et al., J. Polymer Sci., "Polymer Chem. Ed.", 22, 1789 (1984), J.V. Crivello et al., Polymer Bull., 14, 279 (1985), J.V. Crivello et al., Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J.V. Crivello et al., J. Polymer Sci., "Polymer Chem. Ed.", 17, 2877 (1979), EP 370 693, EP 233 567, EP 297 443, EP 297 442, den US-PSen 4 933 377, 3 902 114, 410 201, 339 049, 4 760 013, 4 734 444 und 2 833 827 und den DE-PSen 293 804 626, 3 604 580 und 3 604 581 beschrieben sind; die Selenoniumsalze, die in J.V. Crivello et al., Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977) und J.V. Crivello et al., J. Polymer Sci., "Polymer Chem.", 17, 1047 (1979) beschrieben sind; und die Arsoniumsalze, die in C.S. Wen et al., Teh. Proc. Conf. Rad Curing ASIA, Seite 478, Tokyo, Okt. (1988) beschrieben sind.

Als Gegenionen von Oniumsalzen sind beispielsweise Tetrafluorborsäure, Hexafluorphosphorsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure, 5-Nitro-o-toluolsulfonsäure, 5-Sulfosalicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, 2,4,6-Trimethylbenzolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Fluorcaprylnaphthalinsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure und Paratoluolsulfonsäure zu nennen. Unter diesen werden vorzugsweise aromatische Alkylsulfonsäuren, wie beispielsweise Hexafluorphosphonsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure und 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure verwendet.

Die Zugabemenge der Oniumsalzzusatzstoffe ist vorzugsweise 1 bis 50 Gew.%, weiter bevorzugt 5 bis 30 Gew.%, und besonders bevorzugt 10 bis 30 Gew.%. Die Zusatzstoffe und Bindemittel werden erfindungsgemäss vorzugsweise zu der gleichen Schicht zugegeben.

Zur weiteren Verbesserung der Empfindlichkeit können cyclische Säureanhydride, Phenole und organische Säuren in Kombination miteinander verwendet werden. Beispiele für cyclische Säureanhydride schliessen, wie in US-PS 4 115 128 offenbart, Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-&Dgr;'-tetrahydrophthalsäureanhydrid, Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chlormaleinsäureanhydrid, &agr;-Phenylmaleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid und Pyromellitsäureanhydrid ein. Beispiele für Phenole schliessen Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan und 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan ein.

Ferner schliessen Beispiele für organische Säuren, die in JP-A-60-88942 und JP-A-2-96755 offenbart sind, Sulfonsäuren, Sulfinsäuren, Alkylschwefelsäuren, Phosphonsäuren, Phosphate und Carbonsäuren, insbesondere p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, p-Toluolsulfinsäure, Ethylschwefelsäure, Phenylphosphonsäure, Phenylphosphinsäure, Phenylphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluinsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 4-Cyclohexen-1,2-dicarbonsäure, Erucasäure, Laurinsäure, n-Undecansäure und Ascorbinsäure ein.

Der Gehalt der obigen cyclischen Säureanhydride, Phenole und anorganischen Säuren in der tintenaufnehmenden Schicht ist vorzugsweise 0,05 bis 20 Gew.%, weiter bevorzugt 0,1 bis 15 Gew.%, und besonders bevorzugt 0,1 bis 10 Gew.%.

Ausdruckmittel zum Erhalt eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach der Belichtung und Farbstoffe und Pigmente als Bildfärbemittel können zu der tintenaufnehmenden Schicht, die die erfindungsgemässe polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ enthält, zugegeben werden.

Als Ausdruckmittel können Kombinationen aus den Verbindungen, die durch Erwärmen mittel Belichtung eine Säure freisetzen (Licht/Säure-freisetzende Mittel) mit organischen Farbstoffen, die ein Salz bilden können, als repräsentative Beispiele genannt werden. Insbesondere sind beispielhaft die Kombinationen aus o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenid mit salzbildenden organischen Farbstoffen, wie sie in JP-A-50-36209 und JP-A-53-8128 offenbart sind, und die Kombinationen aus Trihalogenmethylverbindungen mit salzbildenden organischen Farbstoffen, wie in JP-A-53-36223, JP-A-54-74728, JP-A-60-3626, JP-A-61-143748, JP-A-61-151644 und JP-A-63-58440 offenbart, zu nennen. Als solche Trihalogenmethylverbindungen gibt es Oxazolverbindungen und Triazinverbindungen, und diese sind beide hinsichtlich der Alterungsstabilität exzellent, und es kann ein klares Ausdruckbild erzielt werden.

Als die bildfärbenden Mittel können andere Farbstoffe neben den oben beschriebenen, salzbildenden, organischen Farbstoffen verwendet werden. Beispiele geeigneter Farbstoffe, einschliesslich der salzbildenden organischen Farbstoffe sind öllösliche Farbstoffe und basische Farbstoffe. Insbesondere Ölgelb #101, Ölgelb #103, Ölpink #312, Ölgrün BG, Ölblau BOS, Ölbau #603, Ölschwarz BY, Ölschwarz BS, Ölschwarz T-505 (Produkte von Orient Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Victoriareinblau, Kristallviolett (C.I. 42555), Methylviolett (C.I. 42535), Ethylviolett, Rhodamin B (C.I. 145170B), Malachitgrün (C.I. 42000) und Methylenblau (C.I. 52015) sind beispielhaft zu nennen. Ferner werden besonders bevorzugt die Farbstoffe verwendet, die in JP-A-62-293247 offenbart sind. Diese Farbstoffe können zu der tintenaufnehmenden Schicht in einer Menge von 0,01 bis 10 Gew.%, vorzugsweise 0,1 bis 3 Gew.%, auf Basis des Gesamtfeststoffgehalts des bildgebenden Materials, zugegeben werden.

Weiterhin können zu der tintenaufnehmenden Schicht zur Verbesserung der Flexibilität des Beschichtungsfilms Weichmacher zugegeben werden, z.B. können Butylphthalat, Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Trikresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat und Oligomere und Polymere von Acrylsäure oder Methacrylsäure verwendet werden.

Zusätzlich zu diesen Verbindungen können in beliebiger Weise Epoxyverbindungen, Vinylether, die Phenolverbindungen mit einer Hydroxymethylgruppe und die Phenolverbindungen mit einer Alkoxymethylgruppe, wie in JP-A-8-276558 offenbart, und die Vernetzungsmittel zur Verstärkung der Auflösungsinhibierung, wie in der japanischen Patentanmeldung 9-328937 von den hiesigen Erfindern offenbart, je nach Anwendungszweck zu der tintenaufnehmenden Schicht zugegeben werden.

Schicht, die ein in wässriger Alkalilösung lösliches Harz enthält:

Eine "Schicht, die ein in wässriger Alkalilösung lösliches Harz enthält", wie sie in dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer verwendet wird, bedeutet eine Schicht, die mindestens ein Harz enthält, das in einer wässrigen Alkalilösung löslich ist, wie nachfolgend beschrieben wird.

In wässriger Alkalilösung lösliches Harz:

Eine erfindungsgemäss verwendete, in wässriger Alkalilösung lösliche Verbindung mit hohem Molekulargewicht (b) ist eine Verbindung mit einer Säureradikalstruktur, wie unten gezeigt, in der Hauptkette oder der Seitenkette der Verbindung:

Eine phenolische Hydroxygruppe (-Ar-OH), eine Carbonsäuregruppe (-CO2H), eine Sulfonsäuregruppe (-SO3H), eine Phosphorsäuregruppe (-OPO3H), eine Sulfonamidogruppe (-SO2NH-R-), eine substituierte Gruppe auf Sulfonamidbasis (eine aktive Imidogruppe) (-SO2NHCOR, -SO2NHSO2R, -CONHSO2R), worin Ar eine divalente Arylgruppe ist, die einen Substituenten haben kann, und R eine Kohlenwasserstoffgruppe ist, die einen Substituenten haben kann.

Unter diesen sind bevorzugte Säureradikale (b-1) eine phenolische Hydroxygruppe, (b-2) eine Sulfonamidogruppe und (b-3) eine aktive Imidogruppe, und am meisten bevorzugt kann ein in wässriger Alkalilösung lösliches Harz mit (b-1) einer phenolischen Hydroxygruppe (nachfolgend als "Harz mit einer phenolischen Hydroxygruppe" bezeichnet) verwendet werden.

Als hochmolekulargewichtige Verbindungen mit (b-1) einer phenolischen Hydroxygruppe, sind beispielhaft Novolakharze, z.B. ein kondensiertes Polymer aus Phenol und Formaldehyd (nachfolgend als "Phenol/Formaldehyd-Harz" bezeichnet), ein kondensiertes Polymer aus m-Kresol und Formaldehyd (nachfolgend als "m-Kresol/Formaldehyd-Harz" bezeichnet), ein kondensiertes Polymer aus p-Kresol und Formaldehyd, ein kondensiertes Polymer aus gemischtem m-/p-Kresol und Formaldehyd und ein kondensiertes Polymer aus Phenol, Kresol (m-, p- oder m-/p-Mischung) und Formaldehyd und ein kondensiertes Polymer aus Pyrogallol und Aceton zu nennen. Ferner können auch Copolymere verwendet werden, die erhalten werden durch Copolymerisation von Monomeren mit einer Phenolgruppe in der Seitenkette. Als solche Monomere mit einer Phenolgruppe sind beispielhaft Acrylamid, Methacrylamid, Acrylester, Methacrylester und Hydroxystyrol, die jeweils eine Phenolgruppe aufweisen, zu nennen.

Insbesondere können vorzugsweise

N-(2-Hydroxyphenyl)acrylamid,

N-(3-Hydroxyphenyl)acrylamid,

N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid,

N-(2-Hydroxyphenyl)methacrylamid,

N-(3-Hydroxyphenyl)methacrylamid,

N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-Hydroxyphenylacrylat,

m-Hydroxyphenylacrylat, p-Hydroxyphenylacrylat,

o-Hydroxyphenylmethacrylat, m-Hydroxyphenylmethacrylat,

p-Hydroxyphenylmethacrylat, o-Hydroxystyrol,

m-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol,

2-(2-Hydroxyphenyl)ethylacrylat,

2-(3-Hydroxyphenyl)ethylacrylat,

2-(4-Hydroxyphenyl)ethylacrylat,

2-(2-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat,

2-(3-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat und

2-(4-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat verwendet werden.

Im Hinblick auf die Bilderzeugungseigenschaften haben diese Harze vorzugsweise ein Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht von 5 × 102 bis 2,0 × 104 und ein Zahlendurchschnitts-Molekulargewicht von 2,0 × 102 bis 1,0 × 104. Diese Harze können einzeln oder in einer Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden. Wenn sie in Kombination miteinander verwendet werden, wie in US-PS 4 123 279 offenbart, können ein kondensiertes Polymer aus Phenol und Formaldehyd mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen als Substituent, z.B. ein kondensiertes Polymer aus t-Butylphenol und Formaldehyd, ein kondensiertes Polymer aus Octylphenol und Formaldehyd, in Kombination verwendet werden.

Diese Harze mit einer phenolischen Hydroxygruppe haben ein Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht von 500 bis 20.000 und ein Zahlendurchschnitts-Molekulargewicht von 200 bis 10.000.

Im Fall einer in wässriger Alkalilösung löslichen Verbindung mit hohem Molekulargewicht, die (b-2) eine Sulfonamidogruppe aufweist, ist beispielhaft eine hochmolekulargewichtige Verbindung, die erhalten werden kann durch Homopolymerisation eines polymerisierbaren Monomers mit (b-2) einer Sulfonamidogruppe, die ein primäres Monomer zum Aufbau dieser hochmolekulargewichtigen Verbindung ist, und eine hochmolekulargewichtige Verbindung, die erhalten werden kann durch Copolymerisation des obigen Monomers mit einem anderen polymerisierbaren Monomer, zu nennen. Als polymerisierbares Monomer mit einer Sulfonamidogruppe sind beispielhaft Monomere, die niedermolekulargewichtige Verbindungen, die in einem Molekül eine oder mehrere Sulfonamidogruppen -NH-SO2-, worin mindestens ein Wasserstoffatom an das Stickstoffatom gebunden ist, und eine polymerisierbare ungesättigte Bindungen enthält, enthalten, zu nennen. Unter diesen Monomeren sind niedermolekulargewichtige Verbindungen mit einer Acryloylgruppe, einer Arylgruppe oder einer Vinyloxygruppe und einer substituierten oder monosubstituierten Sulfonyliminogruppe bevorzugt.

Als eine solche Verbindung sind beispielhaft die Verbindungen der folgenden Formeln (6) bis (10) zu nennen.

worin X1 und X2 jeweils -O- oder -NR27- repräsentieren; R21 und R24 jeweils Wasserstoff oder -CH3 sind; R22, R26, R29, R32 und R36 jeweils eine Alkylengruppe, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe sind, die jeweils einen Substituenten aufweisen können und 1 bis 12 Kohlenstoffatome haben; R23, R27 und R33 sind jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe, die jeweils einen Substituenten haben können und 1 bis 12 Kohlenstoffatome aufweisen; R26 und R27 sind jeweils eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe, die jeweils einen Substituenten aufweisen kann und 1 bis 12 Kohlenstoffatome hat; R28, R30 und R34 sind jeweils ein Wasserstoffatom oder -CH3; R31 und R35 sind jeweils eine Alkylengruppe, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe, die jeweils eine Einfachbindung oder einen Substituenten aufweisen können und 1 bis 12 Kohlenstoffatome haben; und Y1 und Y2 sind jeweils eine Einfachbindung oder -CO-.

Insbesondere können vorzugsweise

m-Aminosulfonylphenylmethacrylat,

N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid und

N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid als solche Monomere verwendet werden.

Im Fall einer in wässriger Alkalilösung löslichen Verbindung mit hohem Molekulargewicht, die (b-3) eine aktive Imidogruppe aufweist, hat die Verbindung die durch die unten gezeigte Formel repräsentierte aktive Imidogruppe im Molekül. Als Monomer mit (b-3) einer aktiven Imidogruppe, das ein primäres Monomer zum Aufbau dieser hochmolekulargewichtigen Verbindung ist, sind beispielhaft hochmolekulargewichtige Verbindungen, die erhalten werden durch Copolymerisation von Monomeren, die niedermolekulargewichtige Verbindungen mit jeweils einer oder mehreren Iminogruppen der folgenden Formel und polymerisierbaren ungesättigten Bindungen im Molekül umfassen, zu nennen.

Als Beispiele für solche Verbindungen können vorzugsweise

N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid und

N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid verwendet werden.

Die Monomere mit Säureradikalen (b-1, (b-2) und (b-3) in den erfindungsgemäss verwendbaren, in wässriger Alkalilösung löslichen Polymeren müssen nicht von einheitlicher Art sein, und es können solche, die durch Copolymerisation von zwei oder mehr Monomeren mit den gleichen Säureradikalen und zwei oder mehr Monomeren mit unterschiedlichen Säureradikalen erhalten werden, verwendet werden.

Zur Copolymerisation kann eine allgemeine Copolymerisation, wie beispielsweise Pfropfcopolymerisation, Blockcopolymerisation und Zufallscopolymerisation angewandt werden.

Es ist bevorzugt, dass die obigen Copolymere 10 mol-% oder mehr der Monomere mit Säureradikalen (b-1) bis (b-3) als Copolymerkomponenten enthalten, weiter bevorzugt 20 mol-% oder mehr. Wenn der Gehalt der Copolymerkomponenten weniger als 10 mol-% beträgt, wird die Wechselwirkung mit einem Harz, das eine phenolische Hydroxygruppe enthält, unzureichend, und als Ergebnis wird der Effekt der Verbesserung der Entwicklungsbreite, die den Vorteil der Verwendung von Copolymerkomponenten darstellt, unzureichend.

In den Monomeren mit Säureradikalen (b-1) bis (b-3) können andere Copolymerkomponenten in den Copolymeren enthalten sein.

Als andere copolymerisierbare Komponenten sind beispielsweise die folgenden Monomere (1) bis (12) zu nennen.

  • (1) Acrylate und Methacrylate mit einer aliphatischen Hydroxygruppe, z.B. 2-Hydroxyethylacrylat und 2-Hydroxyethylmethacrylat.
  • (2) Alkylacrylate, z.B. Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, Glycidylacrylat und N-Dimethylaminoethylacrylat.
  • (3) Alkylmethacrylate, z.B. Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, Glycidylmethacrylat und N-Dimethylaminoethylmethacrylat.
  • (4) Acrylamid oder Methacrylamid, z.B. Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylacrylamid.
  • (5) Vinylether, z.B. Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether und Phenylvinylether.
  • (6) Vinylester, z.B. Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutyrat und Vinylbenzoat.
  • (7) Styrole, z.B. Styrol, &agr;-Methylstyrol, Methylstyrol und Chlormethylstyrol.
  • (8) Vinylketone, z.B. Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon und Phenylvinylketon.
  • (9) Olefine, z.B. Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren.
  • (10) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril und Methacrylnitril.
  • (11) Ungesättigte Imide, z.B. Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid und N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid.
  • (12) Ungesättigte Carbonsäuren, z.B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid und Itaconsäure.

Im Hinblick auf die Filmfestigkeit ist es bevorzugt, dass die in wässriger Alkalilösung löslichen Verbindungen mit hohem Molekulargewicht erfindungsgemäss ein Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht von 2.000 oder mehr und ein Zahlendurchschnitts-Molekulargewicht von 500 oder mehr, vorzugsweise ein Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht von 5.000 bis 300.000 und ein Zahlendurchschnitts-Molekulargewicht von 800 bis 250.000, und einen Polydispersionsgrad (Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht/Zahlendurchschnitts-Molekulargewicht) von 1,1 bis 10 aufweisen, unabhängig davon, ob es sich um ein Homopolymer oder ein Copolymer handelt.

In den oben beschriebenen Polymeren ist das Mischungsverhältnis nach Gewicht der Monomere mit Säureradikalen (b-1) bis (b-3) zu anderen Monomeren im Hinblick auf die Entwicklungsbreite vorzugsweise im Bereich von 50/50 bis 5/95, weiter bevorzugt von 40/60 bis 10/90.

Die in wässriger Alkalilösung löslichen Verbindungen mit hohem Molekulargewicht können einzeln oder in Form von zwei oder mehreren in Kombination miteinander verwendet werden, und die Zugabemenge beträgt 30 bis 99 Gew.%, vorzugsweise 40 bis 95 Gew.%, und besonders bevorzugt 50 bis 90 Gew.%, auf Basis des Gesamtfeststoffgehalts der tintenaufnehmenden Schicht. Wenn die Zugabemenge der in wässriger Alkalilösung löslichen Verbindung mit hohem Molekulargewicht weniger als 30 Gew.% beträgt, wird die Haltbarkeit der tintenaufnehmenden Schicht verschlechtert, und wenn sie andererseits 90 Gew.% übersteigt, werden sowohl die Empfindlichkeit als auch die Haltbarkeit gesenkt.

Als nächstes werden die von dem in wässriger Alkalilösung löslichen Harz unterschiedlichen Aufbaukomponenten, die in einer Schicht, die ein in wässriger Alkalilösung lösliches Harz enthält, enthalten sein können, beschrieben.

Licht/Wärme-Umwandlungsmittel:

Als die Licht/Wärme-Umwandlungsmittel, die zu einer erfindungsgemäss verwendeten Schicht, die ein in wässriger Alkalilösung lösliches Harz enthält, zugegeben werden, können vorzugsweise die oben beschriebenen Licht/Wärme-Umwandlungsmittel zugegeben werden.

Tensid:

Als die Tenside, die zu einer erfindungsgemäss verwendeten Schicht, die ein in wässriger Alkalilösung lösliches Harz enthält, zugegeben werden, können vorzugsweise die später beschriebenen Tenside verwendet werden.

Andere Aufbaukomponenten:

Als andere Aufbaukomponenten als die oben beschriebenen Komponenten, die zu einer erfindungsgemäss verwendeten Schicht, die ein in wässriger Alkalilösung lösliches Harz enthält, zugegeben werden, können vorzugsweise diejenigen verwendet werden, die den anderen Aufbaukomponenten entsprechen, die in einer Schicht enthalten sind, die eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ enthält.

Schicht, enthaltend eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom negativen Typ:

"Eine Schicht, enthaltend eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom negativen Typ" zur Verwendung in dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer ist eine Schicht, die zumindest eine in Anspruch 1 dargelegte polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom negativen Typ enthält.

Polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom negativen Typ:

Die polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom negativen Typ zur erfindungsgemässen Verwendung ist eine hydrophile Verbindung mit hohem Molekulargewicht, die durch Wärme ins Hydrophobe, wie oben beschrieben umwandelt wird. Als eine solche Verbindung mit hohem Molekulargewicht kann beispielhaft eine hydrophile Verbindung mit hohem Molekulargewicht mit einer hydrophilen funktionellen Gruppe, die durch Wärme ins Hydrophobe umgewandelt wird, an der Seitenkette genannt werden. Von dieser Umwandlung wird verlangt, dass sie eine Umwandlung des Grads ist, dass eine Verbindung, die Affinität, wie Lösen oder Quellen in Wasser bei normaler Temperatur zeigt, die Affinität, wie Lösen oder Quellen in Wasser aufgrund der Umwandlung eines Teils oder des Gesamten der polaritätsumwandelnden funktionellen Gruppe der Seitenkette nicht mehr zeigt, wenn Wärme auf die Verbindung durch Licht/Wärme-Umwandlung nach Laserbelichtung angewandt wird.

Der Vorgang, dass die hydrophile funktionelle Gruppe einer hydrophilen Verbindung mit hohem Molekulargewicht durch Wärme ins Hydrophobe umgewandelt wird, wird so angesehen, dass er sich in einen Vorgang, dass eine ursprünglich hydrophile funktionelle Gruppe der Seitenkette ins Hydrophobe durch die Reaktion durch Wärme umgewandelt wird, und einen Vorgang, dass eine ursprünglich hydrophile funktionelle Gruppe der Seitenkette durch Wärme zersetzt wird und die Verbindung ins Hydrophobe durch Verlust der hydrophilen funktionellen Gruppe umgewandelt wird, einteilen lässt.

Als ersterer Vorgang, dass eine ursprünglich hydrophile funktionelle Gruppe der Seitenkette ins Hydrophobe durch die Reaktion durch Wärme umgewandelt wird, gibt es einen Vorgang, dass die hydrophile funktionelle Gruppe mit anderen funktionellen Gruppen in dem selben Polymer durch Wärme reagiert und ins Hydrophobe umgewandelt wird, und einen Vorgang, dass die hydrophile funktionelle Gruppe durch Wärme mit anderen Verbindungen ausserhalb des Polymers reagiert und ins Hydrophobe umgewandelt wird, und eine funktionelle Gruppe kann die Umwandlung ins Hydrophobe durch diese zwei Arten von Vorgängen in Kombination durchlaufen.

Von den obigen Vorgängen ist ein Vorgang, dass eine ursprünglich hydrophile, funktionelle Gruppe der Seitenkette durch Wärme zersetzt wird und die Verbindung ins Hydrophobe durch Verlust der hydrophilen funktionellen Gruppe umgewandelt wird, aus dem Blickpunkt der Reaktivität bevorzugt.

Ferner ist es erfindungsgemäss bevorzugter für die polaritätsumwandelnde funktionelle Gruppe der Seitenkette einer polaritätsumwandelnden hydrophilen Verbindung mit hohem Molekulargewicht, dass sie vollständig ins Hydrophobe umgewandelt wird, aber wenn die Umwandlung zu einem Grad auftritt, dass die polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht die Affinität, wie Lösen oder Quellen in Wasser, nicht mehr zeigt, muss die polaritätsumwandelnde funktionelle Gruppe nicht vollständig ins Hydrophobe umgewandelt werden.

Von diesen hydrophilen funktionellen Gruppen, die durch Wärme ins Hydrophobe umgewandelt werden, sind eine Carbonsäuregruppe und eine Carboxylatgruppe, dargestellt durch die folgenden Formeln (11) und (12), im Hinblick auf die Reaktivität, Lagerungsstabilität und der Diskriminierbarkeit zwischen hydrophil/hydrophob besonders bevorzugt.

worin X aus der Gruppe bestehend aus den Elementen, die zur Gruppe IV bis Gruppe VI des Periodensystems gehören, den Oxiden davon, den Sulfiden davon, den Seleniden davon und den Telluriden davon ausgewählt ist; P eine Polymer-Hauptkette darstellt; -L- eine zweiwertige Verbindungsgruppe darstellt; R1 und R2, die die gleichen oder verschiedene sein können, jeweils eine einwertige Gruppe darstellen; und M ein Alkalimetall, ein Erdalkalimetall oder ein Onium darstellt.

Als bevorzugte Beispiele von R1 und R2 können beispielhaft eine geradkettige, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen genannt werden, und spezifische Beispiele der Alkylgruppen schliessen eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Propylgruppe, eine Butylgruppe, eine Pentylgruppe, eine Hexylgruppe, eine Heptylgruppe, eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe, eine Undecylgruppe, eine Dodecylgruppe, eine Tridecylgruppe, eine Hexadecylgruppe, eine Octadecylgruppe, eine Eicosylgruppe, eine Isopropylgruppe, eine Isobutylgruppe, eine s-Butylgruppe, eine t-Butylgruppe, eine Isopentylgruppe, eine Neopentylgruppe, eine 1-Methylbutylgruppe, eine Isohexylgruppe, eine 2-Ethylhexylgruppe, eine 2-Methylhexylgruppe, eine Cyclohexylgruppe, eine Cyclopentylgruppe und eine 2-Norbornylgruppe ein. Unter diesen Gruppen sind eine geradkettige Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigte Alkylgruppe mit 3 bis 12 Kohlenstoffatomen und eine cyclische Alkylgruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen bevorzugter.

Wenn R1 und R2 jeweils eine substituierte Alkylgruppe darstellen, werden einwertige nicht-metallische Atomgruppen, ausschliesslich eines Wasserstoffatoms, als Substituenten verwendet. Bevorzugte Beispiele der Substituenten der substituierten Alkylgruppe schliessen ein: ein Halogenatom (-F, -Br, -Cl, -I), eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxylgruppe, eine Aryloxygruppe, eine Mercaptogruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkyldithiogruppe, eine Aryldithiogruppe, eine Aminogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Diarylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-arylamino-Gruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carbamoyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Diarylcarbamoyloxygruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxygruppe, eine Alkylsulfoxygruppe, eine Arylsulfoxygruppe, eine Acylthiogruppe, eine Acylaminogruppe, eine N-Alkylacylaminogruppe, eine N-Arylacylaminogruppe, eine Ureidogruppe, eine N'-Alkylureidogruppe, eine N',N'-Dialkylureidogruppe, eine N'-Arylureidogruppe, eine N',N'-Diarylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N'-arylureidogruppe, eine N-Alkylureidogruppe, eine N-Arylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N',N'-Dialkyl-N-alkylureido-Gruppe,

eine N',N'-Dialkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N'-Aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Aryl-N-arylureido-Gruppe, eine N',N'-Diaryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N',N'-Diaryl-N-arylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-arylureido-Gruppe, eine Alkoxycarbonylaminogruppe, eine Aryloxycarbonylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Alkyl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N,N-Diarylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppe, eine Alkylsulfinylgruppe, eine Arylsulfinylgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe, eine Sulfogruppe (-SO3H) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachstehend als Sulfonatogruppe bezeichnet), eine Alkoxysulfonylgruppe, eine Aryloxysulfonylgruppe,

eine Sulfinamoylgruppe, eine N-Alkylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfinamoylgruppe, eine N-Arylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfinamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfinamoyl-Gruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoyl-Gruppe, eine Phosphogruppe (-PO3H2) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachstehend als Phosphonatogruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonogruppe (-PO3(Alkyl)2), eine Diarylphosphonogruppe (-PO3(Aryl)2), eine Alkylarylphosphonogruppe (-PO3(Alkyl)(aryl)), eine Monoalkylphosphonogruppe (-PO3H(Alkyl)) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachstehend als Alkylphosphonatogruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonogruppe (-PO3H(Aryl)) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachstehend als Arylphosphonatogruppe bezeichnet),

eine Phosphonoxygruppe (-OPO3H2) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachstehend als Phosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonoxygruppe (-OPO3(Alkyl)2), eine Diarylphosphonoxygruppe (-OPO3(Aryl)2), eine Alkylarylphosphonoxygruppe (-OPO3(Alkyl)(aryl)), eine Monoalkylphosphonoxygruppe (-OPO3H(Alkyl)) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachstehend als Alkylphosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonoxygruppe (-OPO3H(Aryl)) und eine konjugierte Basengruppe davon (nachstehend als Arylphosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Cyanogruppe, eine Nitrogruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe und eine Alkinylgruppe.

Als spezifische Beispiele der Alkylgruppen in den Substituenten der substituierten Alkylgruppen können beispielhaft die oben beschriebenen Alkylgruppen genannt werden. Als spezifische Beispiele der Arylgruppen in den Substituenten der substituierten Alkylgruppen können beispielhaft eine Phenylgruppe, eine Biphenylgruppe, eine Naphthylgruppe, eine Tolylgruppe, eine Xylylgruppe, eine Mesitylgruppe, eine Cumenylgruppe, eine Chlorphenylgruppe, eine Bromphenylgruppe, eine Chlormethylphenylgruppe, eine Hydroxyphenylgruppe, eine Methoxyphenylgruppe, eine Ethoxyphenylgruppe, eine Phenoxyphenylgruppe, eine Acetoxyphenylgruppe, eine Benzoyloxyphenylgruppe, eine Methylthiophenylgruppe, eine Phenylthiophenylgruppe, eine Methylaminophenylgruppe, eine Dimethylaminophenylgruppe, eine Acetylaminophenylgruppe, eine Carboxyphenylgruppe, eine Methoxycarbonylphenylgruppe, eine Ethoxycarbonylphenylgruppe, eine Phenoxycarbonylphenylgruppe, eine N-Phenylcarbamoylphenylgruppe, eine Phenylgruppe, eine Cyanophenylgruppe, eine Sulfophenylgruppe, eine Sulfonatophenylgruppe, eine Phosphonophenylgruppe und eine Phosphonatophenylgruppe genannt werden. Als Beispiele der Alkenylgruppen in den Substituenten der substituierten Alkylgruppen können beispielhaft eine Vinylgruppe, eine 1-Propenylgruppe, eine 1-Butenylgruppe, eine Cinnamylgruppe und eine 2-Chlor-1-ethenyl-Gruppe genannt werden, und als Beispiele der Alkinylgruppen können beispielhaft eine Ethinylgruppe, eine 1-Propinylgruppe, eine 1-Butinylgruppe und eine Trimethylsilylethinylgruppe genannt werden.

Als G1 in der Acylgruppe (G1CO-) können beispielhaft ein Wasserstoffatom und die oben beschriebenen Alkylgruppen und Arylgruppen genannt werden. Von diesen Substituenten schliessen bevorzugtere Gruppen ein Halogenatom (-F, -Br, -Cl, -I), eine Alkoxylgruppe, eine Aryloxygruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine Acyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine Acylaminogruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyl-Gruppe, eine Sulfogruppe, eine Sulfonatogruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoyl-Gruppe, eine Phosphonogruppe, eine Phosphonatogruppe, eine Dialkylphosphonogruppe, eine Diarylphosphonogruppe, eine Monoalkylphosphonogruppe, eine Alkylphosphonatogruppe, eine Monoarylphosphonogruppe, eine Arylphosphonatogruppe, eine Phosphonoxygruppe, eine Phosphonatoxygruppe, eine Arylgruppe und eine Alkenylgruppe ein.

Andererseits können beispielhaft als Alkylengruppe in den substituierten Alkylgruppen zweiwertige organische Reste, erhalten durch Entfernen eines Wasserstoffatoms von den oben beschriebenen Alkylgruppen mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen genannt werden, bevorzugt eine geradkettige Alkylengruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigte Alkylengruppe mit 3 bis 12 Kohlenstoffatomen und eine cyclische Alkylengruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen.

Spezifische Beispiele der bevorzugten, durch Kombinieren der obigen Substituenten und Alkylengruppen erhaltenen substituierten Alkylgruppen schliessen eine Chlormethylgruppe, eine Brommethylgruppe, eine 2-Chlorethylgruppe, eine Trifluormethylgruppe, eine Methoxymethylgruppe, eine Methoxyethoxyethylgruppe, eine Allyloxymethylgruppe, eine Phenoxymethylgruppe, eine Methylthiomethylgruppe, eine Tolylthiomethylgruppe, eine Ethylaminoethylgruppe, eine Diethylaminopropylgruppe, eine Morpholinopropylgruppe, eine Acetyloxymethylgruppe, eine Benzoyloxymethylgruppe, eine N-Cyclohexylcarbamoyloxyethylgruppe, eine N-Phenylcarbamoyloxyethylgruppe, eine Acetylaminoethylgruppe, eine N-Methylbenzoylaminopropylgruppe, eine 2-Oxoethylgruppe, eine 2-Oxopropylgruppe, eine Carboxypropylgruppe, eine Methoxycarbonylethylgruppe, eine Allyloxycarbonylbutylgruppe, eine Chlorphenoxycarbonylmethylgruppe, eine Carbamoylmethylgruppe, eine N-Methylcarbamoylethylgruppe, eine N,N-Dipropylcarbamoylmethylgruppe, eine N-(Methoxyphenyl)carbamoylethylgruppe, eine N-Methyl-N-(sulfophenyl)carbamoylmethyl-Gruppe, eine Sulfobutylgruppe, einen Sulfonatobutylgruppe, eine Sulfamoylbutylgruppe, eine N-Ethylsulfamoylmethylgruppe, eine N,N-Dipropylsulfamoylpropylgruppe, eine N-Tolylsulfamoylpropylgruppe, eine N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoyloctyl-Gruppe, eine Phosphonobutylgruppe, eine Phosphonatohexylgruppe, eine Diethylphosphonobutylgruppe, eine Diphenylphosphonopropylgruppe, eine Methylphosphonobutylgruppe, eine Methylphosphonatobutylgruppe, eine Tolylphosphonohexylgruppe, eine Tolylphosphonatohexylgruppe, eine Phosphonoxypropylgruppe, eine Phosphonatoxybutylgruppe, eine Benzylgruppe, eine Phenethylgruppe, eine &agr;-Methylbenzylgruppe, eine 1-Methyl-1-phenylethyl-Gruppe, eine p-Methylbenzylgruppe, eine Cinnamylgruppe, eine Allylgruppe, eine 1-Propenylmethylgruppe, eine 2-Butenylgruppe, eine 2-Methylallylgruppe, eine 2-Methylpropenylmethylgruppe, eine 2-Propinylgruppe, eine 2-Butinylgruppe und eine 3-Butinylgruppe ein.

Wenn R1 und R2 jeweils eine Arylgruppe darstellen, schliessen die Arylgruppen einen durch 1 bis 3 Benzolringe gebildeten kondensierten Ring und einen durch einen Benzolring und einen 5-gliedrigen ungesättigten Ring gebildeten kondensierten Ring ein, und spezifische Beispiele schliessen eine Phenylgruppe, eine Naphthylgruppe, eine Anthrylgruppe, eine Phenanthrylgruppe, eine Indenylgruppe, eine Acenaphthenylgruppe und eine Fluorenylgruppe ein. Unter diesen Gruppen sind eine Phenylgruppe und eine Naphthylgruppe bevorzugter. Heterocyclische Arylgruppen sind in den Arylgruppen neben den obigen carbocyclischen Arylgruppen eingeschlossen. Als heterocyclische Arylgruppen werden diejenigen, enthaltend 3 bis 20 Kohlenstoffatome und 1 bis 5 Heteroatome, z.B. eine Pyridylgruppe, eine Furylgruppe, eine mit einem Benzolring kondensiert Chinolylgruppe, eine Benzofurylgruppe, eine Thioxanthongruppe und eine Carbazolgruppe, verwendet.

Wenn R1 und R2 jeweils eine substituierte Arylgruppe darstellen, sind die substituierten Arylgruppen diejenigen mit einwertigen nicht-metallischen Atomgruppen, ausschliesslich eines Wasserstoffatoms, an den ringbildenden Kohlenstoffatomen der oben beschriebenen Arylgruppen als Substituenten. Als bevorzugte Beispiele der Substituenten können beispielhaft die oben beschriebenen Alkylgruppen, substituierten Alkylgruppen und die oben als Beispiele der Substituenten in den substituierten Alkylgruppen beschriebenen Gruppen genannt werden. Bevorzugte spezifische Beispiele dieser substituierten Arylgruppen schliessen eine Biphenylgruppe, eine Tolylgruppe, eine Xylylgruppe, eine Mesitylgruppe, eine Cumenylgruppe, eine Chlorphenylgruppe, eine Bromphenylgruppe, eine Fluorphenylgruppe, eine Chlormethylphenylgruppe, eine Trifluormethylphenylgruppe, eine Hydroxyphenylgruppe, eine Methoxyphenylgruppe, eine Methoxyethoxyphenylgruppe, eine Allyloxyphenylgruppe, eine Phenoxyphenylgruppe, eine Methylthiophenylgruppe, eine Tolylthiophenylgruppe, eine Ethylaminophenylgruppe, eine Diethylaminophenylgruppe, eine Morpholinophenylgruppe, eine Acetyloxyphenylgruppe, eine Benzoyloxyphenylgruppe, eine N-Cyclohexylcarbamoyloxyphenylgruppe, eine N-Phenylcarbamoyloxyphenylgruppe, eine Acetylaminophenylgruppe, eine N-Methylbenzoylaminophenylgruppe, eine Carboxyphenylgruppe, eine Methoxycarbonylphenylgruppe, eine Allyloxycarbonylphenylgruppe, eine Chlorphenoxycarbonylphenylgruppe, eine Carbamoylphenylgruppe, eine N-Methylcarbamoylphenylgruppe, eine N,N-Dipropylcarbamoylphenylgruppe, eine N-(Methoxyphenyl)carbamoylphenylgruppe, eine N-Methyl-N-(sulfophenyl)carbamoylphenyl-Gruppe, eine Sulfophenylgruppe, eine Sulfonatophenylgruppe, eine Sulfamoylphenylgruppe, eine N-Ethylsulfamoylphenylgruppe, eine N,N-Dipropylsulfamoylphenylgruppe, eine N-Tolylsulfamoylphenylgruppe, eine N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoylphenyl-Gruppe, eine Phosphonophenylgruppe, eine Phosphonatophenylgruppe, eine Diethylphosphonophenylgruppe, eine Diphenylphosphonophenylgruppe, eine Methylphosphonophenylgruppe, eine Methylphosphonatophenylgruppe, eine Tolylphosphonophenylgruppe, eine Tolylphosphonatophenylgruppe, eine Allylgruppe, eine 1-Propenylmethylgruppe, eine 2-Butenylgruppe, eine 2-Methylallylphenylgruppe, eine 2-Methylpropenylphenylgruppe, eine 2-Propinylphenylgruppe, eine 2-Butinylphenylgruppe und eine 3-Butinylphenylgruppe ein.

-X- stellt spezifisch bevorzugt -O-, -S-, -Se-, -NR3-, -CO-, -SO-, -SO2- oder -PO- dar. Unter diesen sind -CO-, -SO- und -SO2- unter dem Gesichtspunkt der thermischen Reaktivität bevorzugt.

Bevorzugte spezifische Beispiele von R3 können aus den spezifischen Beispielen von R1 und R2 ausgewählt werden, und R3 kann gleich oder unterschiedlich wie R1 und R2 sein.

Die durch L dargestellte mehrwertige Verbindungsgruppe, umfassend nicht-metallische Atome, ist eine mehrwertige Verbindungsgruppe, umfassend 1 bis 60 Kohlenstoffatome, 0 bis 10 Stickstoffatome, 0 bis 50 Sauerstoffatome, 1 bis 100 Wasserstoffatome und 0 bis 20 Schwefelatome. Als spezifischere Beispiele der Verbindungsgruppe können beispielhaft diejenigen, umfassend die folgenden Struktureinheiten, in Kombination genannt werden.

M ist nicht besonders beschränkt, so lange es ein Kation ist, ist aber vorzugsweise ein mono- bis tetravalentes Metallkation oder ein durch die folgende Formel (13) dargestelltes Ammoniumsalz:

worin R4, R5, R6 und R7, die gleich oder verschieden sein können, jeweils eine einwertige Gruppe darstellen.

Das durch M dargestellte mono- bis tetravalente Metallkation ist ausgewählt aus Li+, Na+, K+, Rb+, Cs+, Fr+, Be2+, Mg2+, Ca2+, Sr2+, Ba2+, Ra2+, Cu+, Cu2+, Ag+, Zn2+, Al3+, Fe2+, Fe3+, Co2+, Ni2+, Ti4+ und Zr4+, bevorzugter Li+, Na+, K+, Rb+, Cs+, Fr+, Cu+ oder Ag+.

In dem durch Formel (13) dargestellten Ammoniumion sind spezifische Beispiele der durch R4, R5, R6 und R7 dargestellten Gruppen dieselben wie die oben beschriebenen durch R1, R2 und R3 dargestellten Gruppen. Spezifische Beispiele der durch Formel (13) dargestellten Ammoniumionen sind nachstehend gezeigt.

Die durch P dargestellte Polymer-Hauptkette ist zumindest aus der Gruppe, bestehend aus den durch die nachstehend gezeigten Formeln dargestellten Teilstrukturen repräsentierten Monomeren ausgewählt.

Das erfindungsgemässe Polymer mit einer funktionellen Gruppe, ausgewählt aus den Carbonsäuregruppen und den Carboxylatgruppen, kann ein Homopolymer, umfassend eine Art von Monomer allein, oder ein Copolymer, umfassend zwei oder mehr Arten von Monomeren, alternativ ein Copolymer mit anderen Monomeren sein.

Als solche andere Monomere können gut bekannte Monomere, z.B. Acrylate, Methacrylate, Acrylamide, Methacrylamide, Vinylester, Styrole, Acrylsäure, Methacrylsäure, Acrylnitril, Maleinsäureanhydrid und Maleinsäureimide, verwendet werden. Diese Monomere können zur Verbesserung verschiedener physikalischer Eigenschaften, wie dem Copolymerisationsgrad, der Hydrophilizität, der Hydrophobizität, der Löslichkeit, der Reaktivität und der Stabilität, verwendet werden.

Spezifische Beispiele der Acrylate schliessen Methylacrylat, Ethylacrylat, (n- oder i-)Propylacrylat, (n-, i-, sek- oder t-)Butylacrylat, Amylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Dodecylacrylat, Chlorethylacrylat, 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxypropylacrylat, 2-Hydroxypentylacrylat, Cyclohexylacrylat, Allylacrylat, Trimethylolpropanmonoacrylat, Pentaerythritmonoacrylat, Benzylacrylat, Methoxybenzylacrylat, Chlorbenzylacrylat, Hydroxybenzylacrylat, Hydroxyphenethylacrylat, Dihydroxyphenethylacrylat, Furfurylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat, Phenylacrylat, Hydroxyphenylacrylat, Chlorphenylacrylat, Sulfamoylphenylacrylat und 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylacrylat ein.

Spezifische Beispiele der Methacrylate schliessen Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, (n-, oder i-Propylmethacrylat, (n-, i-, sek- oder t-)Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Dodecylmethacrylat, Chlorethylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat, 2-Hydroxypentylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Allylmethacrylat, Trimethylolpropanmonomethacrylat, Pentaerythritmonomethacrylat, Benzylmethacrylat, Methoxybenzylmethacrylat, Chlorbenzylmethacrylat, Hydroxybenzylmethacrylat, Hydroxyphenethylmethacrylat, Dihydroxyphenethylmethacrylat, Furfurylmethacrylat, Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Hydroxyphenylmethacrylat, Chlorphenylmethacrylat, Sulfamoylphenylmethacrylat und 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylmethacrylat ein.

Spezifische Beispiele der Acrylamide schliessen Acrylamid, N-Methylacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Propylacrylamid, N-Butylacrylamid, N-Benzylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Tolylacrylamid, N-(Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(Sulfamoylphenyl)acrylamid, N-(Phenylsulfonyl)acrylamid, N-(Tolylsulfonyl)acrylamid, N,N-Dimethylacrylamid, N-Methyl-N-phenylacrylamid und N-Hydroxyethyl-N-methylacrylamid ein.

Spezifische Beispiele der Methacrylamide schliessen Methacrylamid, N-Methylmethacrylamid, N-Ethylmethacrylamid, N-Propylmethacrylamid, N-Butylmethacrylamid, N-Benzylmethacrylamid, N-Hydroxyethylmethacrylamid, N-Phenylmethacrylamid, N-Tolylmethacrylamid, N-(Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(Sulfamoylphenyl)methacrylamid, N-(Phenylsulfonyl)methacrylamid, N-(Tolylsulfonyl)methacrylamid, N,N-Dimethylmethacrylamid, N-Methyl-N-phenylmethacrylamid und N-Hydroxyethyl-N-methylmethacrylamid ein.

Spezifische Beispiele der Vinylester schliessen Vinylacetat, Vinylbutyrat und Vinylbenzoat ein.

Spezifische Beispiele der Styrole schliessen Styrol, Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstyrol, Propylstyrol, Cyclohexylstyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol, Acetoxymethylstyrol, Methoxystyrol, Dimethoxystyrol, Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Bromstyrol, Iodstyrol, Fluorstyrol und Carboxystyrol ein.

Der Gehalt dieser anderen Monomere, die zum Synthetisieren der Polymere zur erfindungsgemässen Verwendung verwendet werden, sollte eine ausreichende Menge zur Verbesserung verschiedener physikalischer Eigenschaften sein, aber die Menge der Carbonsäure oder die Gesamtmenge des Monomers ist 80 Gew.% oder weniger, bevorzugter 50 Gew.% oder weniger.

Spezifische Beispiele der Polymere mit einer Gruppe, zumindest ausgewählt aus einer Carbonsäuregruppe oder einer Carboxylatgruppe, die eine Decarboxylierung durch Wärme durchläuft, zur erfindungsgemässen Verwendung sind nachstehend gezeigt.

Als nächstes werden nachstehend die anderen konstitutiven Bestandteile ausser der polaritätsumwandelnden Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom Negativtyp, die in der Schicht, enthaltend die polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom Negativtyp, enthalten sein können, beschrieben.

Licht/Wärme-Umwandlungsmittel:

Die oben beschriebenen Licht/Wärme-Umwandlungsmittel können bevorzugt als die Licht/Wärme-Umwandlungsmittel verwendet werden, die zu der Schicht, enthaltend eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom Negativtyp, zur erfindungsgemässen Verwendung zugegeben werden.

Tensid:

Die später beschriebenen Tenside können bevorzugt als Tenside verwendet werden, die zu der Schicht, enthaltend eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom Negativtyp, zur erfindungsgemässen Verwendung zugegeben werden.

Andere konstitutive Bestandteile:

Als andere konstitutive Bestandteile ausser den oben beschriebenen Bestandteilen, die zu einer Schicht, enthaltend ein in einer alkalischen wässrigen Lösung lösliches Harz, zur erfindungsgemässen Verwendung zugegeben werden, können bevorzugt diejenigen verwendet werden, die den anderen in einer Schicht, enthaltend eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom Positivtyp, enthaltenen konstitutiven Bestandteilen ähnlich sind.

Schicht, enthaltend eine Verbindung, vernetzbar mit dem in alkalischer wässriger Lösung löslichen Harz:

"Eine Schicht, enthaltend eine Verbindung, vernetzbar mit einem in einer alkalischen wässrigen Lösung löslichen Harz" zur Verwendung in dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer bedeutet eine Schicht, enthaltend zumindest ein in einer alkalischen wässrigen Lösung lösliches Harz und eine unten beschriebene Verbindung, die mit dem in einer alkalischen wässrigen Lösung löslichen Harz vernetzt.

Verbindung, vernetzbar mit dem in alkalischer wässriger Lösung löslichen Harz:

Eine Verbindung, die mit einem in einer alkalischen wässrigen Lösung löslichen Harz vernetzt (im folgenden nur als "vernetzbare Verbindung" oder "Vernetzungsmittel" bezeichnet) zur erfindungsgemässen Verwendung, bedeutet eine Verbindung, die mit einer Verbindung mit hohem Molekulargewicht reagiert und mit der Verbindung mit hohem Molekulargewicht vernetzt. Folglich muss eine vernetzbare Verbindung zwei oder mehr funktionelle Gruppen aufweisen, die zur Reaktion mit einer Verbindung mit hohem Molekulargewicht in der Lage sind. So eine Verbindung kann bevorzugt erfindungsgemäss als vernetzbare Verbindung verwendet werden, aber eine Verbindung mit zwei oder mehr funktionellen Gruppen, die mit einem in alkalischer wässriger Lösung löslichen Harz vernetzbar sind, ist besonders bevorzugt.

Die folgenden Vernetzungsmittel werden erfindungsgemäss bevorzugt verwendet.

  • (i) Eine aromatische Verbindung, substituiert mit einer Alkoxymethylgruppe oder einer Hydroxymethylgruppe.
  • (ii) Eine Verbindung mit einer N-Hydroxymethylgruppe, einer N-Alkoxymethylgruppe oder eine N-Acyloxymethylgruppe.
  • (iii) Eine Epoxyverbindung.

Diese Verbindungen werden nachstehend im Detail beschrieben.

Als (i) können beispielhaft eine aromatische Verbindung, substituiert mit einer Alkoxymethylgruppe oder einer Hydroxymethylgruppe, z.B. aromatische Verbindungen und heterocyclische Verbindungen, mehrfach substituiert mit einer Hydroxymethylgruppe, einer Acetoxymethylgruppe oder einer Alkoxymethylgruppe, genannt werden, vorausgesetzt, dass harzartige Verbindungen, erhalten durch Polykondensation von Phenolen, die als Resolharze bekannt sind, mit Aldehyden unter basischen Bedingungen nicht eingeschlossen sind. Obwohl Resolharze ausgezeichnet in der Vernetzungseigenschaft sind, ist die Wärmestabilität unzureichend. Daher wird insbesondere wenn Resolharze, enthalten in den fotoempfindlichen Materialien, unter hohen Temperaturen über lange Zeit gelagert werden, nur mit Schwierigkeiten eine gleichmässige Entwicklung sichergestellt.

Von den aromatischen Verbindungen und heterocyclischen Verbindungen, mehrfach substituiert mit einer Hydroxymethylgruppe oder einer Alkoxymethylgruppe, sind Verbindungen mit einer Hydroxymethylgruppe oder einer Alkoxymethylgruppe an der der Hydroxylgruppe benachbarten Position bevorzugt.

Wenn eine aromatische Verbindung mit einer Alkoxymethylgruppe substituiert ist, ist die Verbindung bevorzugt mit einer Alkoxymethylgruppe mit 18 oder weniger Kohlenstoffatomen substituiert. Die durch die folgenden Formeln (14) bis (17) dargestellten Verbindungen sind besonders bevorzugt.

worin L1, L2, L3, L4 und L5 jeweils eine Hydroxymethylgruppe oder eine Alkoxymethylgruppe, substituiert mit einer Alkoxygruppe mit 18 oder weniger Kohlenstoffatomen, wie eine Methoxymethylgruppe oder eine Ethoxymethylgruppe, darstellen. Diese sind aufgrund ihrer hohen Vernetzungseffizienz bevorzugt und in der Lage, die Drucklebensdauer zu verbessern. Die oben aufgeführten Vernetzungsmittel können allein oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden.

Als (ii) kann beispielhaft eine Verbindung mit einer N-Hydroxymethylgruppe, einer N-Alkoxymethylgruppe oder einer N-Acyloxymethylgruppe, z.B. Monomere und Oligomere von Melaminformaldehyd-Kondensationsprodukten und Harnstofformaldehyd-Kondensationsprodukten, offenbart in EP-A-0 133 216, DE-PSen 36 34 671 und 37 11 264, und Alkoxy-substituierte Verbindungen, offenbart in EP-A-0 212 482, genannt werden.

Als weiter bevorzugte Beispiele können beispielhaft z.B. Melamin-Formaldehydderivate mit zumindest zwei aus einer freien N-Hydroxymethylgruppe, einer N-Alkoxymethylgruppe oder einer N-Acyloxymethylgruppe genannt werden, und N-Alkoxymethylderivate sind vor allem bevorzugt.

Als (iii) können beispielhaft eine Epoxyverbindung, eine Epoxyverbindung von Monomer, Dimer, Oligomer und Polymer, enthaltend eine oder mehrere Epoxygruppen, genannt werden. Zum Beispiel können beispielhaft Reaktionsprodukte von Bisphenol A und Epichlorhydrin und Reaktionsprodukte von Phenol-Formaldehydharzen mit niedrigem Molekulargewicht und Epichlorhydrin genannt werden. Zusätzlich zu diesen Verbindungen können beispielhaft Epoxyharze, offenbart in US-PS 4 026 705 und GB-PS 1 539 192, die nun verwendet werden, genannt werden.

Die Zugabemenge dieser Vernetzungsmittel (i), (ii) und (iii) zur erfindungsgemässen Verwendung beträgt 5 bis 80 Gew.%, bevorzugt 10 bis 75 Gew.% und besonders bevorzugt 20 bis 70 Gew.%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt der Tintenaufnahmeschicht. Wenn die Zugabemenge des Vernetzungsmittels weniger als 5 Gew.% beträgt, wird die Haltbarkeit der erhaltenen Tintenaufnahmeschicht verschlechtert, während die Lagerungsstabilität sich nachteilig erniedrigt, wenn die Menge 80 Gew.% übersteigt.

(iv) Ein durch die folgende Formel (18) dargestelltes Phenolderivat wird ebenfalls bevorzugt als Vernetzungsmittel verwendet.

worin Ar1 einen aromatischen Kohlenwasserstoffring, der substituiert sein kann, darstellt. Aufgrund der Verfügbarkeit der Rohmaterialien ist der aromatische Kohlenwasserstoffring bevorzugt ein Benzolring, ein Naphthalinring oder ein Anthracenring. Ferner schliessen bevorzugte Beispiele der Substituenten ein Halogenatom, eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkylthiogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Cyanogruppe, eine Nitrogruppe und eine Trifluormethylgruppe ein. Ar1 stellt besonders bevorzugt einen unsubstituierten Benzolring, einen unsubstituierten Naphthalinring oder einen Benzolring und einen Naphthalinring, substituiert mit einem Halogenatom, einer Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 oder weniger Kohlenstoffatomen, einer Alkoxylgruppe mit 6 oder weniger Kohlenstoffatomen, einer Alkylthiogruppe mit 6 oder weniger Kohlenstoffatomen oder einer Nitrogruppe aus dem Grund des Erhaltens hoher Empfindlichkeit dar.

R31 und R32, die gleich oder verschieden sein können, stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar. R31 und R32 stellen jeweils besonders bevorzugt ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe aus dem Grund der Einfachheit der Synthese dar. R33 stellt ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar. R33 stellt besonders bevorzugt eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 7 oder weniger Kohlenstoffatomen, z.B. eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Propylgruppe, eine Cyclohexylgruppe oder eine Benzylgruppe aus dem Grund des Erhaltens hoher Empfindlichkeit dar. m stellt eine ganze Zahl von 2 bis 4 der, und n stellt eine ganze Zahl von 1 bis 3 dar.

Spezifische Beispiele der durch Formel (18) dargestellten Phenolderivate (Vernetzungsmittel (KZ-1) bis (KZ-8)), die erfindungsgemäss bevorzugt verwendet werden, sind nachstehend gezeigt, aber es sollte nicht so angesehen werden, wie wenn die vorliegende Erfindung darauf beschränkt wäre.

Diese Phenolderivate können gemäss gut bekannten Verfahren synthetisiert werden. Beispielsweise kann (KZ-1) synthetisiert werden durch die Reaktion von Phenol und Formaldehyd mit sekundärem Amin, wie Dimethylamin und Morpholin, um Tri(dialkylaminomethyl)phenol zu erhalten, und das erhaltene Produkt wird mit Essigsäureanhydrid umgesetzt, gefolgt von Umsetzung mit Ethanol in Gegenwart einer schwachen Base, wie Kaliumcarbonat, wodurch (KZ-1) wie im folgenden Reaktionsschema 1 gezeigt, erhalten wird.

REAKTIONSSCHEMA 1

(KZ-1) kann auch durch andere Verfahren synthetisiert werden. Beispielsweise werden Phenol und Formaldehyd oder Paraformaldehyd einer Umsetzung in Gegenwart einer Base, wie KOH, unterworfen, um 2,4,5-Trihydroxymethylphenol zu erhalten, und das Reaktionsprodukt wird anschliessend einer Umsetzung mit Ethanol in Gegenwart von Säure, wie Schwefelsäure, unterworfen, wodurch (KZ-1) wie im folgenden Reaktionsschema 2 gezeigt, erhalten wird.

REAKTIONSSCHEMA 2

Diese Phenolderivate können allein oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Wenn Phenolderivate synthetisiert werden, kondensieren die Phenolderivate manchmal miteinander, um Verunreinigungen, wie Dimere oder Trimere, als Nebenprodukte zu bilden. Die hergestellten Phenolderivate können unter Intaktlassen der Verunreinigungen verwendet werden. In einem solchen Fall beträgt der Gehalt an Verunreinigungen bevorzugt 30 % oder weniger, bevorzugter 20 % oder weniger.

Phenolderivate werden erfindungsgemäss in einer Menge von 5 bis 70 Gew.%, bevorzugt von 10 bis 50 Gew.%, basierenden auf dem Gesamtfeststoffgehalt der Tintenaufnahmeschicht, verwendet. Wenn die Zugabemenge der Phenolderivate als Vernetzungsmittel weniger als 5 Gew.% beträgt, wird die Filmfestigkeit des Bildbereichs nach der Bildaufzeichnung verschlechtert, während die Lagerungsstabilität sich nachteilig verringert, wenn die Zugabemenge 70 Gew.% übersteigt.

Als nächstes werden die anderen konstitutiven Bestandteile ausser dem in alkalischer wässriger Lösung löslichen Harz und der vernetzbaren Verbindung, die in einer Schicht, enthaltend ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Harz und eine vernetzbare Verbindung, enthalten sein können, nachstehend beschrieben.

Licht/Wärme-Umwandlungsmittel:

Die oben beschriebenen Licht/Wärme-Umwandlungsmittel können bevorzugt als die Licht/Wärme-Umwandlungsmittel verwendet werden, die zu einer Schicht, enthaltend ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Harz und eine vernetzbare Verbindung, zur erfindungsgemässen Verwendung zugegeben werden.

Säurebildendes Mittel:

Die später beschriebenen säurebildenden Mittel können bevorzugt als die säurebildenden Mittel verwendet werden, die zu einer Schicht, enthaltend ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Harz und eine vernetzbare Verbindung, zur erfindungsgemässen Verwendung zugegeben werden.

Sensibilisierungsfarbstoffe:

Die oben beschriebenen Sensibilisierungsfarbstoffe enthalten in einer Schicht, enthaltend eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom Positivtyp, können bevorzugt als die Sensibilisierungsfarbstoffe verwendet werden, die zu einer Schicht, enthaltend ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Harz und eine vernetzbare Verbindung zur erfindungsgemässen Verbindung zugegeben werden.

Tenside:

Die später beschriebenen Tenside können bevorzugt als die Tenside verwendet werden, die zu einer Schicht, enthaltend ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Harz und eine vernetzbare Verbindung, zur erfindungsgemässen Verwendung zugegeben werden.

Andere konstitutive Bestandteile:

Als andere konstitutive Bestandteile ausser den oben beschriebenen Bestandteilen, die zu einer Schicht, enthaltend ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Harz und eine vernetzbare Verbindung, zur erfindungsgemässen Verwendung zugegeben werden, können bevorzugt diejenigen verwendet werden, die anderen konstitutiven Bestandteilen, enthalten in einer Schicht, enthaltend eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom Positivtyp, ähnlich sind.

Thermische wärmeempfindliche Schicht vom Fusionstyp:

Als nächstes wird eine thermische wärmeempfindliche Schicht vom Fusionstyp beschrieben.

Eine thermische wärmeempfindliche Schicht vom Fusionstyp (im folgenden manchmal nur als "wärmeempfindliche Schicht" bezeichnet), kann zumindest einen Bestandteil, ausgewählt aus feinen Polymerteilchen mit einer wärmereaktiven funktionellen Gruppe, einer Mikrokapsel, enthaltend eine Verbindung mit einer wärmeempfindlichen funktionellen Gruppe, und einem thermoplastischen Polymer aus feinen Teilchen enthalten.

Als oben beschriebene wärmereaktive funktionelle Gruppen können beispielhaft ethylenisch ungesättigte Gruppen, die durch Polymerisation reagieren (z.B. eine Acryloylgruppe, eine Methacryloylgruppe, eine Vinylgruppe, eine Allylgruppe usw.), Isocyanatgruppen, die durch Addition reagieren oder der Block der Isocyanatgruppen und funktionelle Gruppen mit aktiven Wasserstoffatomen der Gegenverbindungen der Reaktion (z.B. eine Aminogruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Carboxylgruppe usw.), Epoxygruppen, die durch Addition reagieren und Aminogruppen, Carboxylgruppen und Hydroxylgruppen der Gegenverbindungen der Reaktion, eine Carboxylgruppe, eine Hydroxylgruppe und eine Aminogruppe, die durch Kondensation reagieren, und ein Säureanhydrid und eine Aminogruppe und eine Hydroxylgruppe, die durch Ringöffnungs-Addition reagieren, genannt werden. So lange eine chemische Bindung gebildet wird, können jedoch funktionelle Gruppen, die auf jede Weise reagieren, erfindungsgemäss verwendet werden.

Feine Polymerteilchen mit wärmereaktiven funktionellen Gruppen:

Als feine Polymerteilchen mit wärmereaktiven funktionellen Gruppen zur Verwendung in einer thermischen wärmeempfindlichen Schicht vom Fusionstyp können beispielhaft Polymere mit einer Acryloylgruppe, einer Methacryloylgruppe, einer Vinylgruppe, einer Allylgruppe, einer Epoxygruppe, einer Aminogruppe, einer Hydroxylgruppe, einer Carboxylgruppe, einer Isocyanatgruppe, einem Säureanhydrid und die Schutzgruppen von ihnen speziell genannt werden. Diese funktionellen Gruppen können in die feinen Polymerteilchen bei der Polymerisation der feinen Polymerteilchen eingeschlossen werden oder können durch Verwendung einer hochpolymeren Reaktion nach Polymerisation der feinen Polymerteilchen eingeschlossen werden. Alternativ können feine Polymerteilchen durch Lösen eines Polymers mit einer wärmeempfindlichen funktionellen Gruppe in einem organischen Lösungsmittel, Emulgieren und Dispergieren der Lösung in Wasser mit einem Emulgiermittel oder einem Dispergiermittel, und dann Verdampfen des organischen Lösungsmittels hergestellt werden.

Wenn diese funktionellen Gruppen in die feinen Polymerteilchen bei der Polymerisation eingeschlossen werden, ist es bevorzugt, dass Monomere mit diesen funktionellen Gruppen eine Emulsionspolymerisation oder Suspensionspolymerisation durchlaufen.

Spezifische Beispiele der Monomere mit solchen funktionellen Gruppen schliessen Allylmethacrylat, Allylacrylat, Vinylmethacrylat, Vinylacrylat, Glycidylmethacrylat, Glycidylacrylat, 2-Isocyanatoethylmethacrylat oder ihre Alkohol-Blockisocyanate usw., 2-Isocyanatoethylacrylat oder sein Alkohol-Blockisocyanat usw., 2-Aminoethylmethacrylat, 2-Aminoethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 2-Hydroxyethylacrylat, Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid, bifunktionelles Acrylat und bifunktionelles Methacarylat ein, aber die vorliegende Erfindung ist nicht hierauf beschränkt.

Als Monomere ohne wärmereaktive funktionelle Gruppe, die mit diesen Monomeren copolymerisierbar sind, können beispielhaft Styrol, Alkylacrylat, Alkylmethacrylat, Acrylnitril und Vinylacetat angeführt werden, aber die vorliegende Erfindung ist nicht darauf beschränkt, so lange sie Monomere sind, die keine wärmereaktiven funktionellen Gruppen haben.

Hochpolymerreaktionen, die im Fall, in dem eine wärmereaktive funktionelle Gruppe nach Polymerisation der feinen Polymerteilchen eingeführt wird, verwendet werden, sind z.B. in WO 96/34316 offenbart.

Von den obigen feinen Polymerteilchen mit einer wärmereaktiven funktionellen Gruppe sind feine Polymerteilchen, in denen die feinen Polymerteilchen miteinander durch Wärme verschmelzen, bevorzugt, und diejenigen mit hydrophilen Oberflächen, die in Wasser dispergierbar sind, sind besonders bevorzugt. Es ist bevorzugt, dass nur feine Polymerteilchen beschichtet werden, und der Kontaktwinkel des Films (Wassertropfen in Luft), hergestellt durch Trocknen bei niedrigerer Temperatur als der Koagulationstemperatur der feinen Polymerteilchen, ist niedriger als der Kontaktwinkel des Films (Wassertropfen in Luft), hergestellt durch Trocknen bei höherer Temperatur als der Koagulationstemperatur der feinen Polymerteilchen. Wenn hydrophile Polymere, wie Polyvinylalkohol und Polyethylenglykol oder Oligomere oder hydrophile Verbindungen mit niedrigem Molekulargewicht auf den Oberflächen der feinen Polymerteilchen adsorbiert werden, dann werden die Oberflächen der feinen Polymerteilchen hydrophil gemacht, aber das Verfahren ist nicht hierauf beschränkt.

Die Koagulationstemperatur dieser feinen Polymerteilchen mit wärmereaktiven funktionellen Gruppen beträgt bevorzugt 70°C oder mehr, bevorzugter 100°C oder mehr, im Hinblick auf die Alterungsstabilität.

Diese feinen Polymerteilchen haben bevorzugt eine durchschnittliche Teilchengrösse von 0,01 bis 20 &mgr;m, bevorzugter 0,05 bis 2,0 &mgr;m, und besonders bevorzugt 0,1 bis 1,0 &mgr;m. Wenn die durchschnittliche Teilchengrösse zu gross ist, wird die Auflösung schlecht, und wenn sie zu klein ist, wird die Alterungsstabilität verschlechtert.

Die Zugabemenge dieser feinen Polymerteilchen mit wärmereaktiven funktionellen Gruppen beträgt bevorzugt 50 Gew.% oder mehr, bevorzugter 60 Gew.% oder mehr, basierend auf dem Feststoffgehalt der wärmeempfindlichen Schicht.

Mikrokapsel, enthaltend eine Verbindung mit wärmereaktiver funktioneller Gruppe:

Die in der wärmeempfindlichen Schicht des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers enthaltenen Mikrokapseln enthalten eine Verbindung mit einer wärmereaktiven funktionellen Gruppe. Als Verbindung mit einer wärmereaktiven funktionellen Gruppe können beispielhaft Verbindungen mit zumindest einer funktionellen Gruppe, ausgewählt aus einer polymerisierbaren ungesättigten Gruppe, einer Hydroxylgruppe, einer Carboxylgruppe, einer Carboxylatgruppe, einem Säureanhydrid, einer Aminogruppe, einer Epoxygruppe, einer Isocyanatgruppe oder dem Block von Isocyanatgruppen, genannt werden.

Als Verbindung mit einer polymerisierbaren ungesättigten Gruppe können Verbindungen mit zumindest einer, bevorzugt zwei oder mehr, ethylenisch ungesättigten Verbindungen, z.B. eine Acryloylgruppe, eine Methacryloylgruppe, eine Vinylgruppe oder eine Arylgruppe, genannt werden. Diese Verbindungen sind auf diesem industriellen Gebiet gut bekannt und diese Verbindungen können ohne besondere Beschränkung in der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Chemische Formen sind Monomere, Präpolymere, d.h. Dimere, Trimere, Oligomere und Mischungen davon, und Copolymer davon.

Als spezifische Beispiele solcher Verbindungen können beispielhaft ungesättigte Carbonsäuren, z.B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure, Maleinsäure usw.) und Ester und Amide davon genannt werden, und bevorzugt sind beispielsweise die Ester von ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen mehrwertigen Alkoholen und die Amide von ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen mehrwertigen Aminen.

Ferner werden auch die Additionsreaktionsprodukte von ungesättigten Carbonsäureestern oder ungesättigten Carbonsäureamiden mit nukleophilen Substituenten, wie eine Hydroxylgruppe, eine Aminogruppe, eine Mercaptogruppe usw., mit monofunktionellen oder polyfunktionellen Isocyanaten oder Epoxiden und die Dehydratations-Kondensationsreaktionsprodukte dieser ungesättigten Carbonsäureester oder Amide mit monofunktionellen oder polyfunktionellen Carbonsäuren bevorzugt erfindungsgemäss verwendet.

Ferner werden auch die Additionsreaktionsprodukte von ungesättigten Carbonsäureestern oder Amiden mit elektrophilen Substituenten, wie einer Isocyanatgruppe oder einer Epoxygruppe, mit monofunktionellem oder polyfunktionellem Alkohol, Amin und Thiol, und die Substitutionsreaktionsprodukte von ungesättigten Carbonsäureestern oder Amiden mit eliminierbaren Substituenten, wie eine Halogengruppe und eine Tosyloxygruppe, mit monofunktionellem oder polyfunktionellem Alkohol, Amin und Thiol bevorzugt erfindungsgemäss verwendet.

Als andere bevorzugte Beispiele können beispielhaft die Verbindungen, in denen ungesättigte Carbonsäure mit ungesättigter Phosphonsäure oder Chlormethylstyrol substituiert ist, genannt werden.

Spezifische Beispiele der polymerisierbaren Verbindungen von Estern von ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen mehrwertigen Alkoholen schliessen als Acrylate Ethylenglykoldiacrylat, Triethylenglykoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat, Tetramethylenglykoldiacrylat, Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat, Trimethylolpropandiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantris(acryloyloxypropyi)ether, Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythritpentaacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat, Sorbittriacrylat, Sorbittetraacrylat, Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Polyesteracrylatoligomer usw. ein.

Beispiele von Methacrylaten schliessen Tetramethylenglykoldimethacrylat, Triethylenglykoldimethacrylat, Neopentylglykoldimethacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritdimethacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat, Pentaerythrittetramethacrylat, Dipentaerythritdimethacrylat, Dipentaerythrithexamethacrylat, Sorbittrimethacrylat, Sorbittetramethacrylat, Bis[p-(3-methacryloyloxy-2-hydroxypropyl)phenyl]dimethylmethan, Bis[p-(methacryloyloxy)phenyl]dimethylmethan usw. ein.

Beispiele von Itaconaten schliessen Ethylenglykoldiitaconat, Propylenglykoldiitaconat, 1,3-Butandioldiitaconat, 1,4-Butandioldiitaconat, Tetramethylenglykoldiitaconat, Pentaerythritdiitaconat, Sorbittetraitaconat usw. ein.

Beispiele von Crotonaten schliessen Ethylenglykoldicrotonat, Tetramethylenglykoldicrotonat, Pentaerythritdicrotonat, Sorbittetradicrotonat usw. ein.

Beispiele von Isocrotonaten schliessen Ethylenglykoldiisocrotonat, Pentaerythritdiisocrotonat, Sorbittetraisocrotonat usw. ein.

Beispiele von Maleaten schliessen Ethylenglykoldimaleat, Triethylenglykoldimaleat, Pentaerythritdimaleat, Sorbittetramaleat usw. ein.

Als Beispiele anderer Ester können beispielhaft aliphatische Alkoholester, offenbart in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334 und JP-A-57-196231, Ester mit einem aromatischen Skelett, offenbart in JP-A-59-5240, JP-A-59-5241 und JP-A-2-226149, und Ester mit einer Aminogruppe, offenbart in JP-A-1-165613, genannt werden.

Ferner schliessen Beispiele von Amidmonomeren von aliphatischen mehrwertigen Aminverbindungen und ungesättigten Carbonsäuren Methylenbis-acrylamid, Methylenbis-methacrylamid, 1,6-Hexamethylenbis-acrylamid, 1,6-Hexamethylenbis-methacrylamid, Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbis-acrylamid, Xylylenbis-methacrylamid usw. ein.

Als Beispiele anderer bevorzugter Amidmonomere können beispielhaft diejenigen mit Cyclohexylenstruktur, offenbart in JP-B-54-21726, genannt werden.

Ferner werden auch additionspolymerisierbare Verbindungen auf Urethanbasis, hergestellt durch eine Additionsreaktion von Isocyanat und einer Hydroxylgruppe, bevorzugt verwendet, und als solche speziellen Beispiele können beispielsweise die Urethanverbindungen mit zwei oder mehr polymerisierbaren ungesättigten Gruppen in einem Molekül, erhalten durch Zugabe eines ungesättigten Monomers mit einer Hydroxylgruppe, dargestellt durch die folgende Formel (I), zu einer Polyisocyanatverbindung mit zwei oder mehr Isocyanatgruppen in einem Molekül, offenbart in JP-B-48-41708, genannt werden: CH2=C(R1)COOCH2CH(R2)OH(I) worin R1 und R2 jeweils H oder CH3 darstellen.

Ferner können als bevorzugte Beispiele auch die Urethanacrylate, wie in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 und JP-B-2-16765 offenbart, und die Urethanverbindungen mit einem Ethylenoxidskelett, wie in JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417 und JP-B-62-39418 offenbart, beispielhaft genannt werden.

Die radikalpolymerisierbaren Verbindungen mit Aminostruktur oder Sulfidstruktur im Molekül, wie in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 und JP-A-1-105238 offenbart, können ebenfalls beispielhaft als bevorzugte Verbindungen genannt werden.

Als andere bevorzugte Beispiele können polyfunktionelle Acrylate und Methacrylate, wie Polyesteracrylate, und die durch Umsetzen von Epoxyharz und Methacrylsäure erhaltenen Epoxyacrylate, wie in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 und JP-B-52-30490 offenbart, beispielhaft genannt werden. Zusätzlich können auch die spezifischen ungesättigten Verbindungen, offenbart in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 und JP-B-1-40336, und die Verbindungen auf Vinylsulfonsäurebasis, offenbart in JP-A-2-25493, beispielhaft als bevorzugte Verbindungen genannt werden. Ferner werden die Verbindungen, enthaltend eine Perfluoralkylgruppe, offenbart in JP-A-61-22048, in einigen Fällen bevorzugt verwendet. Die in Bulletin of Nihon Setchaku Kyokai, Bd. 20, Nr. 7, Seiten 300 bis 308 (1984) als lichthärtende Monomere und Oligomere eingeführten können in der vorliegenden Erfindung ebenfalls bevorzugt verwendet werden.

Als bevorzugte Beispiele von Epoxyverbindungen können Glycerinpolyglycidylether, Polyethylenglykoldiglycidylether, Polypropylendiglycidylether, Trimethylolpropanpolyglycidylether, Sorbitpolyglycidylether, Bisphenole und Polyphenole oder hydrierte Polyglycidylether hiervon beispielhaft genannt werden.

Als bevorzugte Beispiele von Isocyanatverbindungen, können Tolylendiisocyanat, Diphenylmethandiisocyanat, Polymethylenpolyphenylpolyisocyanat, Xylylendiisocyanat, Naphthalindiisocyanat, Cyclohexanphenylendiisocyanat, Isophorondiisocyanat, Hexamethylendiisocyanat, Cyclohexyldiisocyanat oder Verbindungen, erhalten durch Blocken der Verbindungen mit Alkohol oder Amin, beispielhaft genannt werden.

Als bevorzugte Beispiele der Aminverbindungen können Ethylendiamin, Diethylentriamin, Triethylentriamin, Hexamethylendiamin, Propylendiamin und Polyethylenimin beispielhaft genannt werden.

Als bevorzugte Beispiele der Verbindungen mit einer Hydroxylgruppe können beispielhaft Verbindungen mit Methylolgruppen an den Enden, mehrwertige Alkohole, wie Pentaerythrit, und Bisphenol/Polyphenole genannt werden.

Als bevorzugte Beispiele der Verbindungen mit einer Carboxylgruppe können beispielhaft aromatische mehrwertige Carbonsäuren, wie Pyromellitsäure, Trimellitsäure und Phthalsäure, und aliphatische mehrwertige Carbonsäuren, wie Adipinsäure, genannt werden.

Als bevorzugte Säureanhydride können beispielhaft Pyromellitanhydrid und Benzophenontetracarbonsäureanhydrid genannt werden.

Als bevorzugte Beispiele der Copolymere von ethylenisch ungesättigten Verbindungen können beispielhaft Allylmethacrylat-Copolymere genannt werden. Beispielsweise können Allylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymere, Allylmethacrylat/Ethylmethacrylat-Copolymere und Allylmethacrylat/Butylmethacrylat-Copolymere genannt werden.

Verschiedene gut bekannte Verfahren der Mikroverkapselung können erfindungsgemäss verwendet werden, z.B. ein Verfahren, das eine Koazervierung verwendet, wie in den US-PSen 2 800 457 und 2 800 458 offenbart, eine Grenzflächenpolymerisation, wie in GB-PS 990 443, US-PS 3 287 154, JP-B-38-19574, JP-B-42-446 und JP-B-42-711 offenbart, ein Polymerpräzipitationsverfahren, wie in den US-PSen 3 418 250 und 3 660 304 offenbart, ein Verfahren unter Verwendung von Isocyanatpolyol-Wandmaterialien, wie in US-PS 3 796 669 offenbart, ein Verfahren unter Verwendung von Isocyanat-Wandmaterialien, wie in US-PS 3 914 511 offenbart, ein Verfahren unter Verwendung von Harnstoff-Formaldehyd-Wandmaterialien oder Harnstoff-Formaldehyd-Resorcinol-Wandmaterialien, wie in den US-PSen 4 001 140, 4 087 376 und 4 089 802 offenbart, ein Verfahren unter Verwendung von Wandmaterialien, wie Melamin-Formaldehydharze und Hydroxycellulose, wie in US-PS 4 025 445 offenbart, und das in-situ-Monomerpolymerisationsverfahren, wie in JP-B-36-9163 und JP-B-51-9079 offenbart, ein Sprühtrocknungsverfahren, wie in GB-PS 930 422 und US-PS 3 111 407 offenbart, und ein elektrolytisches Dispersionskühlverfahren, wie in den GB-PSen 952 807 und 967 074 offenbart, können beispielhaft als Mikroverkapselungsverfahren genannt werden, aber die vorliegende Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Die erfindungsgemäss bevorzugt verwendeten Mikrokapselwände haben dreidimensionale Vernetzungen und haben die Eigenschaft, in einem Lösungsmittel zu quellen. Berücksichtigt man diese Punkte, werden Polyharnstoff, Polyurethan, Polyester, Polycarbonat, Polyamid und Mischungen dieser Verbindungen bevorzugt als Mikrokapselwände verwendet, und Polyharnstoff und Polyurethan sind besonders bevorzugt. Verbindungen mit wärmereaktiven funktionellen Gruppen können in diesen Mikrokapselwänden enthalten sein.

Die Mikrokapseln haben bevorzugt eine durchschnittliche Teilchengrösse von 0,01 bis 20 &mgr;m, bevorzugter 0,05 bis 2,0 &mgr;m, und besonders bevorzugt von 0,10 bis 1,0 &mgr;m. Wenn die durchschnittliche Teilchengrösse zu gross ist, wird die Auflösung schlecht, und wenn sie zu klein ist, wird die Alterungsstabilität verschlechtert.

Diese Mikrokapseln können miteinander durch Wärme verschmelzen oder nicht. Kurz gesagt wird der Inhalt in den Mikrokapseln, der an die Oberfläche der Mikrokapseln sickert oder aus den Mikrokapseln herausströmt oder in die Mikrokapselwände beim Beschichten eintritt, ausreichen, um eine chemische Reaktion durch Wärme hervorzurufen. Die Mikrokapseln können mit zu der wärmeempfindlichen Schicht zugegebenen hydrophilen Harzen oder Verbindungen mit niedrigem Molekulargewicht reagieren. Zwei oder mehr Arten von Mikrokapseln können entsprechend unterschiedliche funktionelle Gruppen haben, um miteinander eine Wärmereaktion zu durchlaufen.

Folglich ist es für Mikrokapseln bevorzugt, dass sie durch Wärme geschmolzen und miteinander verschmolzen werden, im Hinblick auf die Bildzeichnung, aber dies ist nicht essentiell.

Die Zugabemenge der Mikrokapseln zu einer wärmeempfindlichen Schicht beträgt bevorzugt 10 bis 60 Gew.%, bevorzugter 15 bis 40 Gew.%, basierend auf dem Feststoffgehalt. Nicht nur eine gute Entwickelbarkeit auf der Vorrichtung, sondern auch eine gute Empfindlichkeit und Drucklebensdauer können innerhalb dieses Bereichs der Zugabemenge erhalten werden.

Wenn die Mikrokapseln zu einer wärmeempfindlichen Schicht zugegeben werden, kann ein Lösungsmittel, durch das der Inhalt der Mikrokapseln gelöst wird und die Mikrokapselwände quellen, zu dem Dispersionsmedium der Mikrokapseln zugegeben werden. Die Diffusion der in den Mikrokapseln enthaltenen Verbindungen mit einer wärmereaktiven funktionellen Gruppe aus den Mikrokapseln wird aufgrund eines solchen Lösungsmittels beschleunigt.

Das Lösungsmittel hängt von dem Dispersionsmedium der Mikrokapseln, den Wandmaterialien der Mikrokapseln, der Wanddicke und dem Inhalt der Mikrokapseln ab, aber ein Lösungsmittel kann einfach aus vielen kommerziell erhältlichen Lösungsmitteln ausgewählt werden. Beispielsweise werden Alkohole, Ether, Acetale, Ester, Ketone, mehrwertige Alkohole, Amide, Amine und Fettsäuren bevorzugt verwendet, wenn die Mikrokapseln wasserdispergierbare Mikrokapseln, umfassend ein vernetztes Polyharnstoff- oder Polyurethan-Wandmaterial, sind.

Spezifische Beispiele des Lösungsmittel schliessen Methanol, Ethanol, t-Butanol, n-Propanol, Tetrahydrofuran, Methyllactat, Ethyllactat, Methylethylketon, Propylenglykolmonomethylether, Ethylenglykoldiethylether, Ethylenglykolmonomethylether, &ggr;-Butyrolacton, N,N-Dimethylformamid und N,N-Dimethylacetamid ein. Die Lösungsmittel sind jedoch nicht darauf beschränkt, und von diesen Lösungsmitteln können zwei oder mehr als Mischung verwendet werden.

Lösungsmittel, die nicht in der Mikrokapsel-Dispersionslösung gelöst sind, sondern gelöst werden, wenn sie als Mischung mit den obigen Lösungsmitteln verwendet werden, können verwendet werden. Die Zugabemenge der Lösungsmittel hängt von der Kombination der Materialien ab, aber wenn die Menge weniger als der optimale Wert ist, wird die Bildzeichnung unzureichend, während die Stabilität der Dispersionslösung verschlechtert wird, wenn sie den optimalen Wert übersteigt. Die Zugabemenge beträgt im allgemeinen 5 bis 95 Gew.%, bevorzugt 10 bis 90 Gew.%, und bevorzugter 15 bis 85 Gew.% der Lösungsmenge.

Feine thermoplastische Polymerteilchen:

Die in Research Disclosure Nr. 33303 (Januar 1992), JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250 und EP 931 647 beschriebenen feinen thermoplastischen Polymerteilchen werden erfindungsgemäss bevorzugt verwendet. Spezifische Beispiele schliessen Homopolymere und Copolymere von Monomeren, wie Ethylen, Styrol, Vinylchlorid, Methylacrylat, Ethylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Vinylidenchlorid, Acrylnitril und Vinylcarbazol und Mischungen hiervon ein. Polystyrol und Methylpolymethacrylat können beispielhaft als bevorzugtere unter diesen genannt werden.

Besonders bevorzugt sind jedoch feine Polymerteilchen mit eine wärmereaktiven funktionellen Gruppe und Mikrokapseln, enthaltend eine Verbindung mit einer wärmereaktiven funktionellen Gruppe.

Verbindung, die die Reaktion startet oder beschleunigt:

Da feine Polymerteilchen mit einer wärmereaktiven funktionellen Gruppe oder Mikrokapseln, enthaltend eine Verbindung mit eine wärmereaktiven funktionellen Gruppe, in der wärmeempfindlichen Schicht des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers, wie oben beschrieben verwendet werden, können Verbindungen, die diese Reaktionen starten oder beschleunigen, falls erforderlich, verwendet werden. Als Verbindungen, die Reaktionen starten oder beschleunigen, können beispielhaft Verbindungen, die Radikale oder Kationen durch Wärme bilden, genannt werden, z.B. können Lophindimere, Trihalogenmethylverbindungen, Peroxide, Azoverbindungen, Oniumsalze, enthaltend ein Diazoniumsalz oder ein Diphenyliodoniumsalz, Acylphosphin und Imidosulfonat, genannt werden.

Diese Verbindungen können zu der wärmeempfindlichen Schicht in einer Menge von 1 bis 20 Gew.%, bevorzugt 3 bis 10 Gew.%, zugegeben werden. Innerhalb dieses Bereichs wird die Entwickelbarkeit auf der Vorrichtung nicht beeinträchtigt, und es können gute Start- oder Beschleunigungswirkungen der Reaktion erhalten werden.

Hydrophiles Harz:

Hydrophile Harze können zu der wärmeempfindlichen Schicht zugegeben werden. Es wird nicht nur die Entwickelbarkeit auf der Vorrichtung verbessert, sondern auch die Filmfestigkeit der wärmeempfindlichen Schicht selbst wird durch die Zugabe der hydrophilen Harze erhöht. Lithografische Druckplattenvorläufer, die keinen Entwicklungsvorgang benötigen, können durch Härten der hydrophilen Harze durch Vernetzen erhalten werden.

Als hydrophile Harze werden bevorzugt diejenigen mit einer Hydroxylgruppe, wie Hydroxyl, Carboxyl, Hydroxyethyl, Hydroxypropyl, Amino, Aminoethyl, Aminopropyl und Carboxymethyl, und hydrophile Binderharze aus der Sol/Gel-Umwandlungsreihe bevorzugt verwendet.

Spezifische Beispiele der hydrophilen Harze schliessen Gummi arabicum, Kasein, Gelatine, Stärkederivate, Carboxymethylcellulose und Na-Salze davon, Celluloseacetat, Natriumalginat, Vinylacetat-Maleinsäure-Copolymere, Styrol-Maleinsäure-Copolymere, Polyacrylsäuren und Salze davon, Polymethacrylsäuren und Salze davon, Homopolymere und Copolymere von Hydroxyethylmethacrylat, Homopolymere und Copolymere von Hydroxyethylacrylat, Homopolymere und Copolymere von Hydroxypropylmethacrylat, Homopolymere und Copolymere von Hydroxypropylacrylat, Homopolymere und Copolymere von Hydroxybutylmethacrylat, Homopolymere und Copolymere von Hydroxybutylacrylat, Polyethylenglykole, Hydroxypropylenpolymere und Polyvinylalkohole ein, und zusätzlich zu diesen können beispielhaft hydrolysiertes Polyvinylacetat mit einem Hydrolysegrad von zumindest 60 Gew.%, bevorzugt zumindest 80 Gew.%, Polyvinylformal, Polyvinylbutyral, Polyvinylpyrrolidon, Homopolymere und Copolymere von Acrylamid, Homopolymere und Copolymere von Methacrylamid und Homopolymere und Copolymere von N-Methylolacrylamid beispielhaft genannt werden.

Die obigen hydrophilen Harze können vernetzt sein. Als Wasserschutzmittel zum Härten der oben beschriebenen hydrophilen Harze können beispielhaft Glyoxal, Aldehyde, wie Melamin-Formaldehydharze und Harnstoff-Formaldehydharze, Methylolverbindungen, wie N-Methylolharnstoff, N-Methylolmelamin und methylolierte Polyamidharze, aktive Vinylverbindungen, wie Divinylsulfon und Bis(&bgr;-hydroxyethylsulfonsäure), Epoxyverbindungen, wie Epichlorhydrin, Polyethylenglykoldiglycidylether, Polyamid-Polyamin-Epichlorhydrin-Addukte und Polyamidepichlorhydrinharze, Esterverbindungen, wie Monochloracetat und Thioglykolat, Polycarbonsäuren, wie Polyacrylsäure, Methylvinylether-Maleinsäure-Copolymere, Borsäure, Titanylsulfat, anorganische Vernetzungsmittel, wie Salze von Cu, Al, Sn, V und Cr, und modifizierte Polyamid-Polyimid-Harze genannt werden.

Zusätzlich zu diesen können in Kombination vernetzende Katalysatoren, wie Ammoniumchlorid, ein Silan-Kupplungsmittel und ein Titanat-Kupplungsmittel, verwendet werden.

Licht/Wärme-Umwandlungsmaterialien:

Bildzeichnen durch Laserbestrahlung kann dadurch bewirkt werden, dass ein Licht/Wärme-Umwandlungsmaterial in der wärmeempfindlichen Schicht enthalten ist. Insbesondere tritt die Schmelz- und Erwärmungsreaktion der feinen Teilchen wirksam durch Zugabe eines Licht/Wärme-Umwandlungsmaterials zu feinen Teilchen auf.

Als Licht/Wärme-Umwandlungsmaterialien sind für diesen Zweck Substanzen, die Licht von 700 nm oder mehr absorbieren, ausreichend, und verschiedene Pigmente und Farbstoffe können verwendet werden.

Als Pigmente zur erfindungsgemässen Verwendung können kommerziell erhältliche Pigmente und in Color Index (C.I.) Binran (Color Index Handbook), Saishin Ganryo Binran (The Latest Pigment Handbook), zusammengestellt von Nihon Ganryo Gijutsu Kyokai (1977), Saishin Ganryo Oyo Gijutsu (The Latest Pigment Applied Technique), veröffentlicht von CMC Publishing Co. (1986), und Insatsu Ink Gijutsu (Printing Ink Technique), CMC Publishing Co. (1984), beschriebene Pigmente verwendet werden.

Verschiedene Arten von Pigmenten können verwendet werden. Beispielsweise können Schwarzpigmente, Braunpigmente, Rotpigmente, Purpurpigmente, Blaupigmente, Grünpigmente, Fluoreszenzpigmente, Metallpulverpigmente und Polymer-Anhaftungspigmente genannt werden. Spezifisch können ein unlösliches Azopigment, ein Azolackpigment, ein Kondensationsazopigment, ein Chelatazopigment, ein Phthalocyaninpigment, ein Anthrachinonpigment, ein Perylenpigment, ein Perinonpigment, ein Thioindigopigment, ein Chinacridonpigment, ein Dioxazinpigment, ein Isoindolinonpigment, ein Chinophthalonpigment, ein Formbeizenpigment, ein Azinpigment, ein Nitrosopigment, ein Nitropigment, ein natürliches Pigment, ein Fluoreszenzpigment, ein anorganisches Pigment und Russ verwendet werden.

Diese Pigmente können ohne Oberflächenbehandlung verwendet werden oder können oberflächenbehandelt sein. Als Oberflächenbehandlungsverfahren können beispielhaft ein Verfahren der Oberflächenbeschichtung mit hydrophilen Harzen und lipophilen Harzen, ein Verfahren des Anheftens von Tensiden und ein Verfahren der Anlagerung von reaktiven Substanzen (z.B. Kieselsäuresol, Aluminiumoxidsol, Silan-Kupplungsmittel, Epoxyverbindungen und Polyisocyanatverbindungen) auf der Pigmentoberfläche genannt werden. Diese Oberflächenbehandlungsverfahren sind in Kinzoku Sekken no Seishitsu to Oyo (Natures and Applications of Metal Soaps), Saiwai Shobo Co., Insatsu Ink Gijutsu (Printing Ink Technique), CMC Publishing Co., (1984), und Saishin Ganryo Oyo Gijutsu (The Latest Pigment Applied Technique), CMC Publishing Co. (1986), beschrieben. Von diesen Pigmenten sind Infrarotabsorbierende und Nahinfrarot-absorbierende Pigment im Hinblick darauf bevorzugt, dass sie zur Verwendung für Infrarotstrahlen oder Nahinfrarotstrahlen emittierende Laser geeignet sind. Russ wird bevorzugt als solch ein Infrarot-absorbierendes und Nahinfrarot-absorbierendes Pigment verwendet. Russe, die einfach mit wasserlöslichen oder hydrophilen Harzen dispergiert und mit hydrophilen Harzen oder Kieselsäuresol oberflächenbeschichtet werden, um die hydrophilen Eigenschaften nicht zu verschlechtern, werden besonders bevorzugt verwendet.

Pigmente haben vorzugsweise eine Teilchengrösse von 0,01 bis 1 &mgr;m, bevorzugter 0,01 bis 0,5 &mgr;m.

Als Farbstoffe für diesen Zweck können die kommerziell erhältlichen und gut bekannten Farbstoffe, die beispielsweise in Senryo Binran (Dye Handbook), zusammengestellt von Yuki Gosei Kagaku Kyokai (1970), beschrieben sind, eingesetzt werden. Spezifische Beispiele dieser Farbstoffe schliessen einen Azofarbstoff, einen Metallkomplexazofarbstoff, einen Pyrazolonazofarbstoff, einen Anthrachinonfarbstoff, einen Phthalocyaninfarbstoff, einen Carboniumfarbstoff, einen Chinoniminfarbstoff, einen Methinfarbstoff und einen Cyaninfarbstoff ein. Unter diesen Farbstoffen sind Infrarot-absorbierende und Nahinfrarot-absorbierende Farbstoffe insbesondere im Hinblick darauf bevorzugt, dass sie zur Verwendung mit Infrarotstrahlen und Nahinfrarotstrahlen emittierenden Lasern geeignet sind.

Als solche Farbstoffe, die Infrarotstrahlen oder Nahinfrarotstrahlen absorbieren, können beispielhaft Cyaninfarbstoffe, offenbart in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, US-PS 4 973 572 und JP-A-10-268512, Methinfarbstoffe, offenbart in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690 und JP-A-58-194595, Naphthochinonfarbstoffe, offenbart in JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940 und JP-A-60-63744, Squaryliumfarbstoffe, offenbart in JP-A-58-112792, Cyaninfarbstoffe, offenbart in GB-PS 434 875, Farbstoffe, offenbart in US-PS 4 756 993, Cyaninfarbstoffe, offenbart in US-PS 4 973 572 und Farbstoffe, offenbart in JP-A-10-268512, genannt werden.

Ferner werden auch Nahinfrarot-absorbierende Sensibilisierungsfarbstoffe, offenbart in US-PS 5 156 938 bevorzugt verwendet. Zusätzlich werden besonders bevorzugt substituierte Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, offenbart in US-PS 3 881 924, Trimethinthiapyryliumsalze, offenbart in JP-A-57-142645 (entsprechend US-PS 4 327 169), Verbindungen auf Pyryliumbasis, offenbart in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, JP-A-59-84248, JP-A-59-84249, JP-A-59-146063 und JP-A-59-146061, Cyaninfarbstoffe, offenbart in JP-A-59-216146, Pentamethinthiopyryliumsalze, offenbart in US-PS 4 283 475, Pyryliumverbindungen, offenbart in JP-B-5-13514 und JP-B-5-19702, Epolight III-178, Epolight III-130 und Epolight III-125 (hergestellt von Epoline Co., Ltd.) verwendet.

Unter diesen Farbstoffen werden besonders bevorzugt wasserlösliche Cyaninfarbstoffe verwendet.

Spezifische Beispiele dieser Verbindungen sind nachstehend gezeigt.

Als nächstes werden nachstehend feine Licht/Wärme-Umwandlungsmetallteilchen beschrieben. Die feinen Metallteilchen zur Verwendung als erfindungsgemässe feine Licht/Wärme-Umwandlungsmetallteilchen können alle feinen Metallteilchen sein, so lange sie Licht/Wärme-umwandelnd sind und durch Bestrahlung verschmolzen werden, aber bevorzugte Metalle, die die feinen Metallteilchen aufbauen, sind Einzel- oder Legierungsmetalle, ausgewählt aus den metallischen Elementen, die zur Gruppe VIII oder Gruppe IB des Periodensystems gehören. Feine Einzel- oder Legierungsmetallteilchen von Ag, Au, Cu, Pt und Pd sind besonders bevorzugt.

Metallkolloide zur erfindungsgemässen Verwendung können durch Zugabe einer wässrigen Lösung, enthaltend die obigen Metallsalze oder Metallkomplexsalze, zu einer wässrigen Lösung, enthaltend einen Dispersionsstabilisator, dann weitere Zugabe eines Reduktionsmittels zu der Lösung, um Metallkolloide herzustellen, und anschliessende Entfernung unnötiger Salze erhalten werden.

Als Dispersionsstabilisatoren zur erfindungsgemässen Verwendung können Carbonsäuren, wie Zitronensäure und Oxalsäure, und deren Salze und Polymere, wie PVP, PVA, Gelatine und Acrylatharze verwendet werden.

Als Reduktionsmittel zur erfindungsgemässen Verwendung können beispielhaft Basenmetallsalze, wie FeSO4 und SnSO4, Borhydridverbindungen, Formaldehyd, Dextrin, Glucose, Rochelle-Salz, Weinsäure, Natriumthiosulfat und Hydrophosphit genannt werden.

Die Metallkolloide zur erfindungsgemässen Verwendung haben eine durchschnittliche Teilchengrösse von 1 bis 500 nm, bevorzugt von 1 bis 100 nm, und bevorzugter von 1 bis 50 nm. Der Dispersionsgrad der Metallkolloide kann eine Polydispersion sein, aber ist bevorzugt eine Monodispersion mit einem Variationskoeffizienten von 30 oder weniger.

Als Verfahren zur Entfernung von Salzen können ein Ultrafiltrationsverfahren und ein Verfahren des Zugebens von Methanol/Wasser oder Ethanol/Wasser zur kolloiden Dispersion und natürliches Präzipitierenlassen oder durch Zentrifugation und dann Entfernung des Überstands erfindungsgemäss verwendet werden.

Wenn die Licht/Wärme-Umwandlungsmittel organische Licht/Wärme-Umwandlungsmittel sind, können sie zu der Bildzeichnungsschicht (wärmeempfindliche Schicht) in einer Menge bis zu 30 Gew.%, bevorzugt 5 bis 25 Gew.%, und besonders bevorzugt 7 bis 20 Gew.%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt der wärmeempfindlichen Schicht zugegeben werden.

Wenn die Licht/Wärme-Umwandlungsmittel Licht/Wärme-Umwandlungsmittel aus feinen Metallteilchen sind, beträgt ihre Zugabemenge 5 Gew.% oder mehr, bevorzugt 10 Gew.% oder mehr, und besonders bevorzugt 20 Gew.% oder mehr, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt der wärmeempfindlichen Schicht. Wenn die Zugabemenge weniger als 5 Gew.% beträgt, ist die Empfindlichkeit niedrig.

Neben den oben beschriebenen Verbindungen können ferner verschiedene andere Verbindungen, falls erforderlich, zu der erfindungsgemässen Bildzeichnungsschicht (wärmeempfindliche Schicht) zugegeben werden. Beispielsweise können polyfunktionelle Monomere zu der Matrix der wärmeempfindlichen Schicht zugegeben werden. Die oben beschriebenen zu den Mikrokapseln zuzugebenden Monomere können als die polyfunktionellen Monomere verwendet werden. Als besonders bevorzugtes Monomer kann Trimethylolpropantriacrylat beispielhaft genannt werden.

Ferner ist es bevorzugt, eine kleine Menge eines thermischen Polymerisationsinhibitors zum Hemmen unnötiger thermischer Polymerisation der ethylenisch ungesättigten Verbindung während der Herstellung oder Lagerung der Beschichtungslösung der wärmeempfindlichen Schicht zuzugeben. Beispiele geeigneter thermischer Polymerisationsinhibitoren schliessen Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-kresol, Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4'-Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol) und N-Nitroso-N-phenylhydroxylamin-Aluminiumsalz ein. Die Zugabemenge der thermischen Polymerisationsinhibitoren beträgt bevorzugt etwa 0,01 bis etwa 5 %, auf Basis des Gewichts der Gesamtzusammensetzungen.

Ferner können, falls erforderlich, höhere Fettsäuren und Derivate davon, wie Behensäure und Behensäureamid, zugegeben und lokal auf der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht während des Trocknungsverfahrens nach dem Beschichten verteilt werden, im Hinblick auf die Verhinderung der Behinderung einer Polymerisation aufgrund von Sauerstoff. Die Zugabemenge der höheren Fettsäure und der Derivate davon beträgt bevorzugt etwa 0,1 bis etwa 10 Gew.% des Gesamtfeststoffgehalts der wärmeempfindlichen Schicht.

Die erfindungsgemässe Bildzeichnungsschicht (wärmeempfindliche Schicht) kann, falls erforderlich, Weichmacher zur Verbesserung der Filmflexibilität enthalten, beispielsweise können Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Trikresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat usw. verwendet werden.

Die Tintenaufnahmeschicht des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers kann im allgemeinen durch Lösen aller oben beschriebenen Bestandteile in einem Lösungsmittel und Beschichten der Beschichtungslösung auf einen geeigneten Träger, beschichtet mit einer Schicht, enthaltend einen Latex, hergestellt werden. Beispiele der hier verwendeten Lösungsmittel schliessen Tetrahydrofuran, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Toluol, Ethylacetat, Ethyllactat, Methyllactat, Dimethylsulfoxid, Wasser, Sulforan, &ggr;-Butyrolacton usw. ein, aber die Lösungsmittel sind nicht darauf beschränkt.

Dies Lösungsmittel werden alleine oder als Mischung verwendet. Wenn eine Beschichtungslösung hergestellt wird, beträgt die Konzentration der obigen konstitutiven Bestandteile der Tintenaufnahmeschicht (Gesamtfeststoffgehalt, einschliesslich Additive) in einem Lösungsmittel bevorzugt 1 bis 50 Gew.%.

Es können verschiedene Beschichtungsverfahren, z.B. Balkenbeschichtung, Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung, Vorhangbeschichtung, Tauchbeschichtung, Luftmesserbeschichtung, Rakelbeschichtung und Walzenbeschichtung, verwendet werden.

Tenside, z.B. die in JP-A-62-170950 offenbarten Fluortenside, können zu der Tintenaufnahmeschicht des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften zugegeben werden. Die Zugabemenge beträgt vorzugsweise 0,01 bis 1 Gew.%, bevorzugter 0,05 bis 0,5 Gew.%, des Gesamtfeststoffgehalts der Tintenaufnahmeschicht.

Die nach dem Beschichten und Trocknen erhaltene Beschichtungsmenge der Tintenaufnahmeschicht (Feststoffgehalt) variiert in Abhängigkeit vom Zweck, aber die Beschichtungsmenge eines allgemeinen lithografischen Druckplattenvorläufers beträgt vorzugsweise 0,5 bis 5,0 g/m2, bevorzugter 0,5 bis 1,5 g/m2. Wenn die Beschichtungsmenge kleiner als dieser Bereich ist, wird die scheinbare Empfindlichkeit gross, aber die Filmeigenschaften der Tintenaufnahmeschicht, die eine Funktion beim Bildaufzeichnen haben, nehmen ab.

Säurebildendes Mittel:

Wenn der erfindungsgemässe lithografische Druckplattenvorläufer zur Bildbildung durch Laserbelichtung verwendet wird, ist es bevorzugt, eine Verbindung, die durch Licht oder Wärme eine Säure bildet (im folgenden als säurebildendes Mittel bezeichnet), zu der Schicht, enthaltend einen Latex, und zu der Aufzeichnungsschicht (Schicht, enthaltend eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht oder ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Harz und eine vernetzbare Verbindung) des lithografischen Druckplattenvorläufers zuzugeben. Die oben beschriebene polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht bildet jedoch selbst manchmal durch Licht Säure und zeigt die Funktion des säurebildenden Mittels. In einem solchen Fall ist ein säurebildendes Mittel nicht essentiell, da ein Bild ohne Verwendung eines anderen säurebildenden Mittels erhalten werden kann.

Als säurebildendes Mittel können die folgenden, gut bekannten Verbindungen erfindungsgemäss verwendet werden.

Beispielsweise können Oniumsalze, wie ein Diazoniumsalz, ein Ammoniumsalz, ein Phosphoniumsalz, ein Iodoniumsalz, ein Selenoniumsalz und ein Arsoniumsalz, ein organisches Halogenid, ein organisches Metall/organisches Halogenid, Licht-säurebildende Mittel mit einer Schutzgruppe vom o-Nitrobenzyltyp, Verbindungen, die durch Photolyse eine Sulfonsäure bilden, dargestellt durch Iminosulfat, Disulfonverbindungen, o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurehalogenide und o-Naphthochinondiazidverbindungen genannt werden.

Als andere säurebildende Mittel können Cyclohexylcitrat, Sulfonsäurealkylester, wie p-Acetaminobenzolsulfonsäurecyclohexylester und p-Brombenzolsulfonsäurecyclohexylester und das durch die folgende Formel, offenbart in JP-A-10-282672, dargestellte Alkylsulfonat verwendet werden.

Unter den obigen Verbindungen, die eine Säure aufgrund der Zersetzung durch Licht, Wärme oder Bestrahlung mit Bestrahlungslicht bilden, werden besonders nützliche Verbindungen nachstehend beschrieben.

  • (1) Ein Oxazolderivat, dargestellt durch die folgende Formel (PAG1), substituiert mit einer Trihalogenmethylgruppe, und ein S-Triazinderivat, dargestellt durch die Formel (PAG2):
    worin R1 eine substituierte oder unsubstituierte Aryl- oder Alkenylgruppe darstellt; R2 eine substituierte oder unsubstituierte Aryl-, Alkenyl- oder Alkinylgruppe oder -CY3 darstellt; und Y ein Chloratom oder ein Bromatom darstellt.

    Spezifisch können die folgenden Verbindungen beispielhaft genannt werden, aber die vorliegende Erfindung ist nicht hierauf beschränkt.
  • (2) Ein Iodoniumsalz, dargestellt durch die folgende Formel (PAG3) und ein Sulfoniumsalz oder ein Diazoniumsalz, dargestellt durch die Formel (PAG4):
    worin Ar1 und Ar2 jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe darstellen. Als bevorzugte Substituenten können beispielhaft eine Alkylgruppe, eine Halogenalkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxylgruppe, eine Nitrogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Mercaptogruppe und ein Halogenatom genannt werden.

R3, R4 und R5 stellen jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Alkyl- oder Arylgruppe, bevorzugt eine Arylgruppe mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen, eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen und Substitutionsderivate davon dar. Bevorzugte Substituenten der Arylgruppe schliessen eine Alkoxylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Alkinylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Nitrogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Hydroxylgruppe und ein Halogenatom ein. Bevorzugte Substituenten der Alkylgruppe schliessen eine Alkoxylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Carboxylgruppe und eine Alkoxycarbonylgruppe ein.

Z stellt ein Gegenion dar, z.B. können Perfluoralkansulfonsäureanion, wie BF4, AsF6, PF6, SbF6, SiF6, ClO4, CF3SO3; kombinierte, mehrkernige, aromatische Sulfonsäureanionen, wie Pentafluorbenzolsulfonsäureanion und Naphthalin-1-sulfonsäureanion; Anthrachinonsulfonsäureanion; und sulfonsäuregruppenhaltige Farbstoffe genannt werden, aber die vorliegende Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Ferner können zwei von R3, R4 und R5 und Ar1 und Ar2 über entsprechende Einfachbindungen oder Substituenten verbunden sein.

Spezifische Beispiele davon sind nachstehend gezeigt, aber die vorliegende Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Oniumsalze, dargestellt durch die Formeln (PAG3) und (PAG4), sind gut bekannt und können gemäss den z.B. in W. Knapczyk et al., J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969), A.L. Maycock et al., J. Org. Chem, 35, 2532 (1970), B. Goethas et al., Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546 (1964), H.M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51, 358 (1929), J.V. Crivello et al., J. Polym. Chem. Ed., 18, 2677 (1980), US-PSen 2 807 648, 4 247 473 und JP-A-53-101331 beschriebenen Verfahren synthetisiert werden.

  • (3) Ein Disulfonderivat, dargestellt durch die Formel (PAG5), und ein Iminosulfonatderivat, dargestellt durch die Formel (PAG6)
    worin Ar3 und Ar4 jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe darstellen; R6 eine substituierte oder unsubstituierte Alkyl- oder Arylgruppe darstellt; A eine substituierte oder unsubstituierte Alkylen-, Alkenylen- oder Arylengruppe darstellt.

Spezifische Beispiel sind nachstehend gezeigt, aber die vorliegende Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Der Gehalt dieser säurebildenden Mittel beträgt im allgemeinen 0,01 bis 50 Gew.%, bevorzugt 0,1 bis 40 Gew.%, bevorzugter 0,5 bis 30 Gew.%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt der bildbildenden Schicht des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers.

Wenn ein säurebildendes Mittel zu einer latexhaltigen Schicht zugegeben wird, wird das säurebildende Mittel zu der Beschichtungslösung einer latexhaltigen Schicht, die einen Elektrolytvorläufer mit hohem Molekulargewicht enthält, zugegeben, die Beschichtungslösung wird auf einen später beschriebenen Träger beschichtet, die Beschichtungsschicht wird einer Gesamtbildbelichtung und Erwärmen unterworfen, um die Funktion des säurebildenden Mittels hervorzurufen, wodurch eine latexhaltige Schicht gebildet wird.

Folglich verliert das säurebildende Mittel seine Aktivität sogar vor der Bildaufzeichnung des lithografischen Druckplattenvorläufers nachdem eine latexhaltige Schicht gebildet wurde. Daher wird das säurebildende Mittel als säurebildendes Mittel mit einer anderen Rolle als dem in einer Aufzeichnungsschicht enthaltenen verwendet.

Sensibilisierungsfarbstoff:

Wenn das zu einer Tintenaufnahmeschicht, enthaltend eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom Positivtyp, zuzugebende säurebildende Mittel keine Empfindlichkeit gegenüber den Wellenlängen des ultravioletten bis sichtbaren Bereichs hat, werden verschiedene Farbstoffe verwendet, um das säurebildende Mittel gegenüber dem Licht des ultravioletten bis sichtbaren Bereichs zu aktivieren.

Beispiele solcher erfindungsgemäss bevorzugt verwendeten Sensibilisierungsfarbstoffe schliessen einen auf Pyran basierenden Farbstoff, einen Cyaninfarbstoff, einen Squaryliumfarbstoff, einen Merocyaninfarbstoff, einen Pyryliumfarbstoff, ein Michler-Keton, Thioxanthon, einen Ketokumarinfarbstoff und 9-Phenylacridin ein. Unter diesen Sensibilisierungsfarbstoffen können polycyclische aromatische Verbindungen, z.B. ein Bisbenzylidenketonfarbstoff und 9,10-Diphenylanthracen, verwendet werden.

Als andere Komponenten können z.B. Farbstoffe mit grosser Absorption im Bereich sichtbarer Strahlung als Bildfärbemittel verwendet werden, um es einfach zu machen, den Bildbereich und den Nichtbildbereich nach Bildbildung zu unterscheiden.

Spezifisch können beispielhaft Ölgelb #101, Ölgelb #103, Ölpink #312, Ölgrün BG, Ölblau BOS, Ölblau #603, Ölschwarz BY, Ölschwarz BS, Ölschwarz T-505 (Produkte von Orient Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Victoriareinblau, Kristallviolett (C.I. 42555), Methylviolett (C.I. 42535), Ethylviolett, Rhodamin B (C.I. 145170B), Malachitgrün (C.I. 42000) und Methylenblau (C.I. 52015) genannt werden. Ferner können auch Farbstoffe, offenbart in JP-A-62-293247, verwendet werden.

Die Zugabemenge dieser Farbstoffe beträgt 0,01 bis 10 Gew.%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt der Tintenaufnahmeschicht des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers.

Tensid:

Nicht-ionische Tenside, wie in JP-A-62-251740 und JP-A-3-208514 offenbart, und amphotere Tenside, wie in JP-A-59-121044 und JP-A-4-131149 offenbart, können zu der latexhaltigen Schicht des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers zum Zweck der Verbreiterung des Stabilitätsbereichs gegenüber Druckbedingungen zugegeben werden.

Spezifische Beispiele nicht-ionischer Tenside schliessen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid, Polyoxyethylennonylphenylether usw. ein.

Spezifische Beispiele amphoterer Tenside schliessen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliniumbetain und Tenside vom N-Tetradecyl-N,N-betain-Typ (z.B. Amorgen K, Handelsname, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) usw. ein.

Der Gehalt der nicht-ionischen und amphoteren Tenside im Gesamtfeststoffgehalt der latexhaltigen Schicht beträgt bevorzugt 0,05 bis 15 Gew.%, bevorzugter 0,1 bis 5 Gew.%.

Träger:

Ein Träger (ein Substrat) zur Verwendung in dem lithografischen Druckplattenvorläufer, auf dem eine Schicht, enthaltend einen Latex (Schicht (A)) und eine Tintenaufnahmeschicht (Schicht (B)) beschichtet werden, ist eine dimensionsstabile Platte, und jeder der gut bekannten Träger, die bisher als Träger von lithografischen Druckplatten verwendet wurden, kann bevorzugt verwendet werden. Beispiele solcher Träger schliessen Papier; mit Kunststoff (z.B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol) laminiertes Papier, Metallplatten, z.B. Aluminium (einschliesslich Aluminiumlegierungen), Zink, Eisen und Kupfer; Kunststoffilme, z.B. Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetat; und Papier- oder Kunststoffilme, die mit den obigen Metallen laminiert oder beschichtet sind, ein; und eine Aluminiumplatte wird besonders bevorzugt verwendet. Aluminiumplatten schliessen eine reine Aluminiumplatte und eine Aluminiumlegierungsplatte ein. Verschiedene Aluminiumlegierungen können verwendet werden, z.B. Legierungen von Aluminium mit Metallen, wie Silicium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink, Blei, Wismut oder Nickel. Diese Legierungszusammensetzungen schliessen eine vernachlässigbare Menge an Verunreinigungen zusätzlich zu einer bestimmten Menge Eisen und Titan ein.

Falls erforderlich, wird der Träger einer Oberflächenbehandlung unterworfen. Beispielsweise wird im Fall eines lithografischen Druckplattenvorläufers die Oberfläche des Trägers vor dem Beschichten einer Schicht, enthaltend einen Latex (Schicht (A)) und einer Tintenaufnahmeschicht (Schicht (B)) einer Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen.

Im Fall eines Metallträgers, insbesondere eines Trägers mit einer Aluminiumoberfläche, ist es bevorzugt, eine Oberflächenbehandlung, wie eine Oberflächenkörnungsbehandlung, eine Eintauchbehandlung in eine wässrige Lösung von Natriumsilicat, Kaliumfluorzirkonat, Phosphat usw., oder eine Anodisierungsbehandlung durchzuführen. Weiter werden, wie in US-PS 2 714 066 offenbart, eine Aluminiumplatte, die einer Eintauchbehandlung in einer wässrigen Natriumsilicatlösung nach der Oberflächenkörnungsbehandlung unterworfen wurde, oder eine Aluminiumplatte, die einer Eintauchbehandlung in einer wässrigen Alkalimetallsilicatlösung nach der Anodisierungsbehandlung, wie in US-PS 3 181 461 offenbart, unterworfen wurde, bevorzugt verwendet. Eine Anodisierungsbehandlung wird durch Anschalten von Elektrizität, wobei die Aluminiumplatte die Anode ist, in einer elektrolytischen Lösung, umfassend eine wässrige oder nicht-wässrige Lösung einer anorganischen Säure, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure, Borsäure usw., oder einer organischen Säure, wie Oxalsäure, Sulfaminsäure usw., oder Salzen dieser Säuren allein oder in Kombination von zwei oder mehreren durchgeführt.

Elektroabscheidung von Silicat, wie in US-PS 3 658 662 offenbart, ist ebenfalls nützlich.

Diese Hydrophilisierungsbehandlungen werden zur Verhinderung schädlicher Reaktionen eines Trägers mit der Schicht, enthaltend Latex, angeordnet auf dem Träger, oder zur Verbesserung der Adhäsion des Trägers mit der latexhaltigen Schicht, neben dem Hydrophilmachen des Trägers durchgeführt.

Vor der Oberflächenaufrauhung einer Aluminiumplatte durch Körnen kann, falls gewünscht, die Oberfläche einer Aluminiumplatte einer Vorbehandlung unterworfen werden, um ein Walzöl von der Plattenoberfläche zu entfernen oder die saubere Aluminiumplattenoberfläche freizulegen. Im allgemeinen werden Lösungsmittel, wie Trichlen und Tenside, in der Entfettungsbehandlung zur Entfernung eines Walzöls verwendet, und Alkaliätzmittel, z.B. Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid, werden häufig zum Freilegen sauberer Oberflächen verwendet.

Als Oberflächenkörnungsverfahren können mechanische, chemische und elektrochemische Verfahren verwendet werden. Mechanische Verfahren schliessen ein Kugelabriebverfahren, ein Strahlverfahren und ein Bürstenverfahren, in dem eine Wasserdispersionsaufschlämmung eines Abriebmittels, wie Bimsstein oder dergleichen, auf der Oberfläche eine Platte mit eine Nylonbürste gerieben wird, ein. Als chemisches Verfahren ist ein Verfahren des Eintauchens in eine gesättigte wässrige Lösung eines Aluminiumsalzes einer Mineralsäure, wie in JP-A-54-31187 offenbart, bevorzugt und als elektrochemisches Verfahren können ein Verfahren des Durchführens von Elektrolyse mit Wechselstrom in einer sauren Elektrolyselösung von Salzsäure, Salpetersäure oder einer Kombination dieser Säure beispielhaft als bevorzugtes Verfahren genannt werden. Unter diesen Oberflächenaufrauhungsverfahren ist ein Verfahren, das mechanisches Aufrauhen mit elektrochemischem Aufrauhen kombiniert, wie in JP-A-55-137993 offenbart, bevorzugt, da starke Adhäsion einer latexhaltigen Schicht und eines sensibilisierten Bildes auf dem Träger erhalten werden kann.

Oberflächenkörnung, wie oben beschrieben, wird bevorzugt durchgeführt, um eine Zentrallinien-Oberflächenrauhigkeit (Ra) der Oberfläche einer Aluminiumplatte von 0,3 bis 1,0 &mgr;m zu erreichen. Die so oberflächenbehandelte Aluminiumplatte wird Waschen und chemischem Ätzen, falls erforderlich, unterworfen.

Die Ätzlösung wird im allgemeinen aus wässrigen Lösungen von Base oder Säure zum Lösen von Aluminium ausgewählt. In diesem Fall wird die Ätzlösung so ausgewählt, dass kein Film, der sich von dem von dem Inhaltsstoff der Ätzlösung abgeleiteten Aluminium unterscheidet, auf der geätzten Fläche gebildet wird. Beispiele bevorzugter Ätzmittel schliessen als basische Substanzen Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Trinatriumphosphat, Dinatriumphosphat, Trikaliumphosphat und Dikaliumphosphat; und als saure Substanzen Schwefelsäure, Perschwefelsäure, Phosphorsäure, Salzsäure und Salze davon ein. Salze von Metallen mit niedrigerer Ionisierungstendenz als der von Aluminium, z.B. Zink, Chrom, Kobalt, Nickel und Kupfer, sind nicht bevorzugt, da ein unnötiger Film auf der geätzten Oberfläche gebildet wird.

Die Konzentration und Temperatur dieser Ätzmittel werden am bevorzugtesten so eingestellt, dass die Lösungsgeschwindigkeit des verwendeten Aluminiums oder der Legierung in den Bereich von 0,3 bis 40 g/m2 pro Eintauchzeit von 1 Stunde fällt, aber niedrigere oder höhere als diese können verwendet werden.

Ätzen wird durch Eintauchen einer Aluminiumplatte in die Ätzlösung oder Beschichten der Ätzlösung auf die Aluminiumplatte durchgeführt, und Ätzen wird bevorzugt so durchgeführt, dass die Ätzmenge von 0,5 bis 10 g/m2 beträgt.

Da die Ätzgeschwindigkeit mit den obigen Ätzmitteln schnell ist, ist es bevorzugt, eine basische Ätzlösung zu verwenden. In diesem Fall wird im allgemeinen eine Entschmutzungsbehandlung durchgeführt, da Schmutz gebildet wird. Als Säuren zur Verwendung in der Entschmutzungsbehandlung werden Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Fluorwasserstoffsäure, Borfluorsäure usw. verwendet.

Die ätzbehandelte Aluminiumplatte wird, falls erforderlich, gewaschen und anodisiert. Die Anodisierung kann durch Verfahren, die bis jetzt auf diesem Gebiet verwendet wurden, bewirkt werden. Spezifisch kann ein anodischer Oxidfilm durch Anwendung eines elektrischen Gleich- oder Wechselstroms an eine Aluminiumplatte in einer wässrigen oder nicht-wässrigen Lösung, umfassend Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, Sulfaminsäure oder Benzolsulfonsäure, einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren auf der Oberfläche des Aluminiumträgers gebildet werden.

Die Bedingungen der Anodisierungsbehandlung können nicht beliebig bestimmt werden, da die Bedingungen abhängig von der zu verwendenden elektrolytischen Lösung schwanken, aber die Konzentration der Elektrolytlösung beträgt im allgemeinen zweckmässig von 1 bis 80 Gew.%, die Temperatur beträgt 5 bis 70°C, die elektrische Stromdichte beträgt 0,5 bis 60 A/dm2, die Spannung beträgt 1 bis 100 V und die Elektrolysezeit beträgt 30 Sekunden bis 5 Minuten.

Unter diesen Anodisierungsbehandlungen sind ein Verfahren des Bewirkens der Anodisierung in Schwefelsäure bei hoher elektrischer Stromdichte, wie in GB-PS 1 412 768 offenbart, und ein Verfahren des Bewirkens der Anodisierung mit Phosphorsäure als Elektrolysebad, wie in US-PS 3 511 661 offenbart, besonders bevorzugt.

Die so oberflächenaufgerauhte und anodisierte Aluminiumplatte kann, falls erforderlich, hydrophilisiert werden. Als bevorzugte Beispiele der Hydrophilisierungsbehandlungen gibt es Verfahren des Behandelns mit Alkalimetallsilicat, z.B. mit einer wässrigen Lösung von Natriumsilicat, wie in den US-PSen 2 714 065 und 3 181 461 offenbart, Behandlungen mit Kaliumfluorzirkonat, wie in JP-B-36-22063 offenbart (der Ausdruck "JP-B", wie er hier verwendet wird, bedeutet eine "geprüfte japanische Patentveröffentlichung") und mit Polyvinylsulfonsäure, wie in US-PS 4 153 461 offenbart.

Andere Schicht:

Die Rückseitenoberfläche eines Trägers wird, falls erforderlich, mit einer Rückseitenbeschichtungsschicht ausgestattet. Beschichtungsschichten, umfassend ein Metalloxid, erhalten durch Hydrolysieren und Polykondensieren der in JP-A-5-45885 offenbarten organischen Verbindungen mit hohem Molekulargewicht und der in JP-A-6-35174 offenbarten organischen oder anorganischen Metallverbindungen, werden bevorzugt als solche eine Rückseitenbeschichtungsschicht verwendet.

Unter diesen Beschichtungsschichten sind Alkoxylverbindungen von Silicium, wie Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4, Si(OC3H7)4, Si(OC4H9)4 billig und leicht erhältlich, und Beschichtungsschichten der aus diesen Verbindungen erhaltenen Metalloxide haben ausgezeichnete hydrophile Eigenschaften und sind besonders bevorzugt.

Plattenherstellungsverfahren:

Das Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte aus dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer wird beschrieben. Wärmeempfindliche Aufzeichnung wird direkt bildweise auf dem lithografischen Druckplattenvorläufer mittels eines thermischen Aufzeichnungskopfes durchgeführt oder die Aufzeichnung wird durch bildweise Belichtung mit Licht bewirkt.

Als Lichtquellen des zur Bildbelichtung verwendeten Aktivierungslichts werden z.B. eine Quecksilberlampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Xenonlampe, eine chemische Lampe und eine Kohlenstoffbogenlampe verwendet. Radiale Strahlen schliessen Elektronenstrahlen, Röntgenstrahlen, Ionenstrahlen und Ferninfrarotstrahlen ein. Ferner werden auch g-Strahlen, i-Strahlen, Tief-UV-Strahlen, Energiestrahlen mit hoher Dichte (Laserstrahlen) verwendet. Als Laserstrahlen können ein Helium-Neon-Laser, ein Argonlaser, eine Kryptonlaser, ein Helium-Cadmium-Laser, ein KrF-Exzimerlaser, ein Festkörperlaser und ein Halbleiterlaser verwendet werden.

Ein Festkörperlaser und ein Halbleiterlaser, emittierend Infrarotstrahlen der Wellenlänge von 760 bis 1.200 nm, werden erfindungsgemäss besonders bevorzugt verwendet.

Selbst wenn nach dem obigen Bildaufzeichnen durch Licht eine Entwicklung durchgeführt wird oder nicht, ist es unter dem Gesichtspunkt der Verbesserung der Empfindlichkeit beim Aufzeichnen bevorzugt, eine Wärmebehandlung durchzuführen. Das Erwärmen wird bevorzugt bei 80 bis 160°C für 10 Sekunden bis 5 Minuten durchgeführt. Durch Durchführung dieser Wärmebehandlung kann die zum Aufzeichnen benötigte Energie beim Belichten mit jeder der obigen Lichtquellen reduziert werden.

Nach dem Bildaufzeichnen durch das obige Verfahren durchläuft der erfindungsgemässe lithografische Druckplattenvorläufer eine Entwicklung mit einer Entwicklungslösung und wird ferner, falls erforderlich, einer Gummierungs- und Brennbehandlung unterworfen. Die so erhaltene Druckplatte kann auf einer Druckvorrichtung installiert werden und Drucken kann bewirkt werden. Ferner kann die Druckplatte auf einer Druckvorrichtung unmittelbar nach der Bildaufzeichnung installiert werden, um Drucken durchzuführen, ohne ein Entwicklungsverfahren zu durchlaufen, wenn ein lithografischer Druckplattenvorläufer mit einer Aufzeichnungsschicht, enthaltend eine polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht verwendet wird. In diesem Fall quillt das erwärmte oder belichtete Gebiet durch eine Spüllösung und der gequollene Teil wird im Anfangsstadium des Druckens entfernt, wodurch eine lithografische Druckplatte gebildet wird. Das heisst, bei dem Plattenherstellungsverfahren unter Verwendung des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers kann die Plattenherstellung ohne Durchlaufen einer Entwicklung und anderer Vorbehandlungen durch Auswahl einer geeigneten Tintenaufnahmeschicht bewirkt werden.

Wenn eine Schicht, enthaltend ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Harz, oder eine Schicht, enthaltend ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Harz und eine vernetzbare Verbindung als Tintenaufnahmeschicht des erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufers verwendet wird, ist ein Nassentwicklungsverfahren erforderlich.

Bislang bekannte alkalische wässrige Lösungen und reines Wasser können als Entwicklungslösung und Auffrischer in diesem Nassverfahren verwendet werden. Beispielsweise können anorganische Alkalisalze von Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natrium-tert-phosphat, Kalium-tert-phosphat, Ammonium-tert-phosphat, Natrium-sek-phosphat, Kalium-sek-phosphat, Ammonium-sek-phosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid genannt werden. Ferner werden auch organische alkalische Mittel, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiimin und Pyridin, verwendet.

Diese alkalischen Mittel werden allein oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet.

Von diesen alkalischen Mitteln ist eine besonders bevorzugte Entwicklungslösung eine wässrige Silicatlösung, wie Natriumsilicat und Kaliumsilicat, aus dem Grund, dass die Einstellung der Entwicklungseigenschaften durch das Verhältnis von Siliciumoxid (SiO2), dem Bestandteil des Silicats, zu Alkalimetalloxid (M2O) und den Konzentrationen möglich wird. Beispielsweise werden Alkalimetallsilicate, wie in JP-A-54-62004 und JP-B-57-7427 offenbart, wirksam verwendet.

Es ist bekannt, dass ein grosses Volumen von PS-Platten ohne Ersetzen der Entwicklungslösung in einem Entwicklungstank über einen langen Zeitraum durch Zugabe einer Auffrischlösung mit höherer Alkalinität als derjenigen der Entwicklungslösung zu der Entwicklungslösung prozessiert werden kann, wenn die Entwicklung unter Verwendung eines automatischen Prozessiergeräts durchgeführt wird. Dieses Auffrischsystem kann erfindungsgemäss bevorzugt angewandt werden. Die Entwicklungslösung und der Auffrischer können verschiedene Tenside und organische Lösungsmittel gemäss der Notwendigkeit für den Zweck des Beschleunigens oder Kontrollierens der Entwicklung, des Dispergierens des Entwicklerschlamms und des Verbesserns der Affinität des Bildbereichs einer Druckplatte gegenüber Tinte enthalten. Als bevorzugte Tenside können beispielhaft anionische, kationische, nicht-ionische und amphotere Tenside genannt werden.

Ferner können eine Entwicklungslösung und ein Auffrischer Reduktionsmittel, wie Hydrochinon, Resorcin, Natriumsalze und Kaliumsalze von anorganischen Säuren, wie schweflige Säure, Wasserstoffschwefligsäure und weitere organische Carbonsäuren, Entschäumungsmittel und Wasserweichmacher, falls erforderlich, enthalten.

Die Druckplatte, die dem Entwicklungsprozess mit der oben beschriebenen Entwicklungslösung und den Auffrischer unterworfen wurde, wird mit Waschwasser, einem tensidhaltigen Spülwasser, einer Desensibilisierungslösung, enthaltend Gummi arabicum und Stärkederivate, nachbehandelt. Wenn ein Bild auf dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer mit einer latexhaltigen Schicht und einer Tintenaufnahmeschicht aufgezeichnet wird, und der Druckplattenvorläufer als Druckplatte verwendet wird, können diese Behandlungen in verschiedenen Kombinationen als Nachbehandlung verwendet werden.

In den letzten Jahren wurde eine automatische Verarbeitungsvorrichtung, vorherrschend in der Plattenherstellungs-/Druckindustrie zum Zweck der Rationalisierung und Standardisierung der Plattenherstellungsarbeit verwendet. Eine solche automatische Verarbeitungsvorrichtung besteht im allgemeinen aus einem Entwicklungsteil und einem Nachbehandlungsteil und ist mit einer Einheit zum Transportieren einer Druckplatte, Prozesslösungstanks und Sprüheinheiten ausgestattet. Die Entwicklung wird durch Sprühen jeder zu der Druckplatte hochgepumpten Prozesslösung mittels einer Sprühdüse, während die belichtete Druckplatte horizontal transportiert wird, bewirkt. Ein Verfahren des Entwicklungsverarbeitens einer Druckplatte, während die Druckplatte, eingetaucht in einen Prozesslösungstank, gefüllt mit einer Prozesslösung mittels einer Leitrolle in Flüssigkeit transportiert wird, ist ebenfalls bekannt. Bei einer solchen automatischen Verarbeitung kann die Verarbeitung durchgeführt werden, während jeder Auffrischer in jede Prozesslösung entsprechend der Verarbeitungsmenge, der Betriebszeit usw. aufgefrischt wird.

Ausserdem ist auch ein nicht-retournierbares System, in dem die Verarbeitung im wesentlichen mit einer jungfräulichen Lösung durchgeführt wird, anwendbar.

Der erfindungsgemässe lithografische Druckplattenvorläufer mit einer latexhaltigen Schicht und einer Tintenaufnahmeschicht wird einer Bildbelichtung, einer Entwicklung, Waschen und/oder Spülen und/oder Gummieren unterworfen, um dadurch eine Druckplatte zu erhalten. Wenn ein unnötiger Bildbereich (z.B. die Filmrandspur des Originalfilms) auf der so erhaltenen lithografischen Druckplatte vorhanden ist, wird der unnötige Bildbereich ausradiert. Zu diesem Ausradieren wird bevorzugt ein Verfahren des Beschichtens einer Radierlösung auf dem unnötigen Bildbereich, Stehenlassen für eine vorherbestimmte Zeit und dann Waschen mit Wasser, wie in JP-A-2-13293 offenbart, verwendet, und ein Verfahren des Bestrahlens des unnötigen Bildbereichs mit durch eine optische Faser eingeführtem Aktivierungslicht und dann Durchführung von Entwicklung, wie in JP-A-59-174842 offenbart, wird auch eingesetzt.

BEISPIEL

Die vorliegende Erfindung wird nachstehend im Detail unter Bezugnahme auf spezifische Beispiele beschrieben, aber sie sollte nicht so konstruiert werden, als wäre die vorliegende Erfindung darauf beschränkt.

Synthese der Latexlösung (1):

8 g des folgenden Monomers (1), 1 g Divinylbenzol und 0,45 g Natriumdodecylsulfat wurden in einen Dreihalskolben mit einer Kapazität von 1.000 ml gegeben, der Kolbeninhalt wurde mit 28 g destilliertem Wasser gelöst und unter einem Stickstofffluss gerührt, während die Temperatur für 30 Minuten bei 65°C gehalten wurde. Eine durch Lösen von 18,6 mg 2,2'-Azobis(2-amidinopropan)dihydrochlorid in 2 g destilliertem Wasser erhaltene Lösung wurde zu der obigen Lösung zugegeben, und das Rühren wurde bei der gleichen Temperatur für weitere 6 Stunden fortgesetzt. Nach Beendigung der Reaktion wurde die Reaktionsmischung durch einen Glasfilter filtriert, wodurch die Latexlösung (1) erhalten wurde. Die Konzentration des Feststoffgehalts der so erhaltenen Latexlösung (1) betrug 20 Gew.%, und die durchschnittliche Teilchengrösse des Latex betrug 87 nm.

Monomer (1)
Synthese der Latexlösung (2):

300 ml destilliertes Wasser, 10 g Dispergiermittel Trax® H-45 (hergestellt von Nippon Oils and Fats Co., Ltd.) und 104,4 g einer Mischung, umfassend Styrol/Chlormethylstyrol/Divinylbenzol (Molverhältnis: 44/44/12) wurden in einen Dreihalskolben mit einer Kapazität von 500 ml gegeben, der Kolbeninhalt wurde auf 60°C erwärmt, gefolgt von 30-minütigem Rühren unter Stickstofffluss. Eine durch Lösen von 0,8 g Kaliumpersulfat in 15 ml destilliertem Wasser erhaltene Lösung wurde zu der obigen Lösung zugegeben und 1 Minute danach wurde eine durch Lösen von 0,25 g Natriumhydrogensulfit in 5 ml destilliertem Wasser erhaltene Lösung zu der obigen Reaktionslösung zugegeben, und das Rühren wurde bei der gleichen Temperatur für 6 Stunden fortgesetzt. Nach 6 Stunden wurde die Reaktionsmischung durch einen Glasfilter filtriert, 350 g destilliertes Wasser und 140 g Isopropanol wurden zu dem erhaltenen Filtrat zugegeben, 36,14 g Triethylamin wurden während 30 Minuten zugetropft, und die Reaktionsmischung wurde 6 Stunden bei 60°C gerührt. Die erhaltene Reaktionsmischung wurde durch einen Glasfilter filtriert, und das Filtrat wurde 24 Stunden dialysiert (das destillierte Wasser wurde zweimal ausgetauscht), um dadurch das verbleibende Monomer und nicht-reagiertes Triethylamin zu entfernen. Anschliessend wurde die Reaktionslösung in ein Becherglas mit einer Kapazität von 2 1 gegossen, 30 Minuten bei 85°C erwärmt, dann auf Raumtemperatur gekühlt, und dann wurden 200 ml einer gesättigten Kochsalzlösung während 30 Minuten zu der Lösung zugetropft, um den Latex zu koagulieren. Der koagulierte Latex wurde durch einen Glasfilter filtriert, der filtrierte Latex wurde sorgfältig mit destilliertem Wasser gewaschen und unter reduziertem Druck getrocknet, wodurch ein farbloser Latex als Pulver erhalten wurde. Die durchschnittliche Teilchengrösse des erhaltenen Latex betrug 78 nm. 10 g des Latex und 40 g AR wurden in einen Kunststoffbehälter gegeben, 2 g Glasperlen wurden zu dem Behälter zugegeben, und der Inhalt des Behälters wurde mit einem Farbschüttler für 1 Stunde gut geschüttelt, wodurch die Latexlösung (2) erhalten wurde.

Synthese der Latexlösung (3):

9,2 g Natriumdodecylsulfat und 1.200 ml destilliertes Wasser wurden in einen Dreihalskolben mit einer Kapazität von 1.000 ml gegeben, und der Kolbeninhalt wurde unter Stickstofffluss 10 Minuten bei 50°C gerührt. Eine durch Mischen von 0,462 g Kaliumpersulfat, 11,3 ml destilliertem Wasser und 3,5 ml gesättigter wässriger Lösung von Natriumhydrogencarbonat erhaltene Lösung wurde zu der obigen Lösung zugegeben, und eine durch Mischen einer gemischten Lösung von 113,76 g t-Butylmethacrylat und 39,65 g Ethylenglykoldimethacrylat, 0,46 g Kaliumpersulfat, 14,2 ml destilliertem Wasser und 3,5 ml gesättigter wässriger Natriumhydrogencarbonatlösung erhaltene Lösung wurde während 3 Stunden zugetropft. Nach Beendigung der tropfenweisen Zugabe wurde für 1 Stunde weitergerührt. Die so erhaltene Reaktionsmischung wurde auf Raumtemperatur gekühlt und durch einen Glasfilter filtriert, wodurch die Latexlösung (3) erhalten wurde. Die Konzentration des Feststoffgehalts der so erhaltenen Latexlösung (3) betrug 11 Gew.%, und die durchschnittliche Teilchengrösse des Latex betrug 21 nm.

Herstellung der Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A):

Eine 1050-Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde mit Trichlorethylen entfettet und dann unter Verwendung einer Nylonbürste und einer Suspension von 400 mesh-Bimsstein und Wasser einer Bürstenkörnungsbehandlung unterworfen, und die Plattenoberfläche wurde sorgfältig mit Wasser gewaschen. Ätzen wurde durch Eintauchen der Platte in eine wässrige 25 %-ige Natriumhydroxidlösung bei 45°C für 9 Sekunden bewirkt, die Platte wurde mit Wasser gewaschen, dann 20 Sekunden in eine wässrige 2 %-ige Salpetersäurelösung eingetaucht, gefolgt von Waschen mit Wasser. Die Ätzmenge der gekörnten Oberfläche zu dieser Zeit betrug etwa 3 g/m2. Die Platte wurde durch Gleichstrom mit einer wässrigen 7 %-igen Schwefelsäurelösung als Elektrolyselösung bei einer elektrischen Dichte von 15 A/dm2 anodisiert. Der erhaltene anodische Oxidfilm betrug 3 g/m2. Die Platte wurde dann mit Wasser gewaschen und getrocknet. Die Aluminiumplatte wurde dann in eine wässrige 2,5 Gew.%-ige Natriumsilicatlösung (70°C) 14 Sekunden eingetaucht, mit Wasser gewaschen und getrocknet.

Die unten gezeigte Lösung (1) wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte durch einen Stabbalken beschichtet und bei 100°C 3 Minuten getrocknet, wodurch eine Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A) hergestellt wurde. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile zu dieser Zeit betrug 0,2 g/m2.

Herstellung der Aluminiumplatte (S-2) mit Schicht (A):

Eine Aluminiumplatte wurde den selben Behandlungen wie bei der Herstellung der Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A) unterworfen, und die Lösung (2), wie nachstehend beschrieben, wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte durch einen Stabbalken beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 80°C für 3 Minuten getrocknet, wodurch die Aluminiumplatte (S-2) mit Schicht (A) hergestellt wurde. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile zu dieser Zeit betrug 0,2 g/m2.

Herstellung der Aluminiumplatte (S-3) mit Schicht (A):

Eine Aluminiumplatte wurde denselben Behandlungen wie bei der Herstellung der Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A) unterworfen, und die Lösung (3), wie nachstehend beschrieben, wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte durch einen Stabbalken beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 100°C für 3 Minuten getrocknet, wodurch die Aluminiumplatte (S-3) mit Schicht (A) hergestellt wurde. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile zu dieser Zeit betrug 0,5 g/m2.

Herstellung der Aluminiumplatte (S-4) mit Schicht (A):

Eine Aluminiumplatte wurde denselben Behandlungen wie bei der Herstellung der Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A) unterworfen, und Lösung (4), wie nachstehend beschrieben, wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte durch Rotationsbeschichtung bei einer Rotationsgeschwindigkeit von 2,5 s–1 (150 U/min) beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 80°C für 3 Minuten getrocknet, wodurch die Aluminiumplatte (S-4) mit Schicht (A) hergestellt wurde. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile zu dieser Zeit betrug 0,3 g/m2.

Infrarotabsorber (1):
Infrarotabsorber (2):
Infrarotabsorber (3)
Herstellung der Aluminiumplatte (S-5) mit Schicht (A):

Eine Aluminiumplatte wurde denselben Behandlungen wie bei der Herstellung der Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A) unterworfen, und Lösung (5), wie nachstehend beschrieben, wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte durch Rotationsbeschichtung bei einer Rotationsgeschwindigkeit von 150 U/min beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 100°C für 3 Minuten getrocknet, wodurch die Aluminiumplatte (S-5) mit Schicht (A) hergestellt wurde. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile zu dieser Zeit betrug 0,15 g/m2.

Herstellung der Aluminiumplatte (S-6) mit Schicht (A):

Eine Aluminiumplatte wurde denselben Behandlungen wie bei der Herstellung der Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A) unterworfen, und Lösung (6), wie nachstehend beschrieben, wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte durch Rotationsbeschichtung bei einer Rotationsgeschwindigkeit von 2,5 s–1 (150 U/min) beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 130°C für 3 Minuten getrocknet, wodurch die Aluminiumplatte (S-6) mit Schicht (A) hergestellt wurde. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile zu dieser Zeit betrug 0,20 g/m2.

Verbindung mit hohem Molekulargewicht (1):
Herstellung der Aluminiumplatte (S-7) mit Schicht (A):

Eine Aluminiumplatte wurde denselben Behandlungen wie bei der Herstellung der Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A) unterworfen, und Lösung (7), wie nachstehend beschrieben, wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte durch einen Stabbalken beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 80°C für 3 Minuten getrocknet, wodurch die Aluminiumplatte (S-7) mit Schicht (A) hergestellt wurde. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile zu dieser Zeit betrug 0,2 g/m2.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (1):

Die unten gezeigte Lösung (A) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-1) mit einer Schicht (A) mittels eines Drahtstabs aufgeschichtet, und die aufgeschichtete Schicht wurde für 3 Minuten bei 80°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,0 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (1) erhalten.

Polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ (1):
Polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ (2):
Polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom positiven Typ (3):
In wässriger Alkalilösung lösliche, hochmolekulargewichtige Verbindung (1):
Polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom negativen Typ (1):
Polaritätsumwandelnde Verbindung mit hohem Molekulargewicht vom negativen Typ (2):
Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (2):

Die unten gezeigte Lösung (B) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-2) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabs aufgeschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 3 Minuten bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 0,8 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (2) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (3):

Die unten gezeigte Lösung (C) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-3) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabs aufgeschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 3 Minuten bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,0 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (3) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (4):

Die unten gezeigte Lösung (D) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-4) mit Schicht (A) mittels Rotationsbeschichtung bei einer Rotationsgeschwindigkeit von 2,5 s–1 (150 U/min) beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 3 Minuten bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,0 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (4) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (5):

Die unten gezeigte Lösung (E) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-5) mit Schicht (A) mittels Rotationsbeschichtung bei einer Rotationsgeschwindigkeit von 2,5 s–1 (150 U/min) beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 3 Minuten bei 80°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,2 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (5) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (6):

Die unten gezeigte Lösung (F) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-6) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabs aufgeschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 3 Minuten bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,5 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (6) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (7):

Die unten gezeigte Lösung (G) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabs aufgeschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 3 Minuten bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,0 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (7) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (8):

Die unten gezeigte Lösung (H) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-2) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabs aufgeschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 3 Minuten bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,8 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (8) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (9):

Die unten gezeigte Lösung (I) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-3) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabs aufgeschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 3 Minuten bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,5 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (9) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (10):

Die unten gezeigte Lösung (J) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-6) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabs aufgeschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 3 Minuten bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,0 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (10) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (11):

Die nachstehend gezeigte Lösung (K) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A) durch einen Stabbalken beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 100°C 2 Minuten getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,1 g/m2. So wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (11) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (12):

Die nachstehend gezeigte Lösung (L) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-2) mit Schicht (A) durch Rotationsbeschichtung bei einer Rotationsgeschwindigkeit von 2,5 s–1 (150 U/min) beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 100°C für 2 Minuten getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,1 g/m2. So wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (12) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (13):

Die unten gezeigte Lösung (M) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-3) mit Schicht (A) durch einen Stabbalken beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 100°C für 2 Minuten getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,0 g/m2. So wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (13) erhalten.

Polaritätsumwandelnde Verbindung vom Negativtyp mit hohem Molekulargewicht (3):
Polaritätsumwandelnde Verbindung vom Negativtyp mit hohem Molekulargewicht (4):
Polaritätsumwandelnde Verbindung vom Negativtyp mit hohem Molekulargewicht (5):
Säurebildendes Mittel:
Vernetzungsmittel (1):
Wasserlösliches Polymer (1):
Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (14)

Die unten gezeigte Lösung (N) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-4) mit Schicht (A) durch Rotationsbeschichtung bei einer Rotationsgeschwindigkeit von 2,5 s–1 (150 U/min) beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 100°C für 2 Minuten getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,2 g/m2. So wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (14) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (15):

Die unten gezeigte Lösung (O) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-5) mit Schicht (A) durch Rotationsbeschichtung bei einer Rotationsgeschwindigkeit von 150 U/min beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 100°C für 2 Minuten getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,0 g/m2. So wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (15) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (16):

Die unten gezeigte Lösung (P) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-4) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabs aufgeschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,2 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (16) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (17):

Die unten gezeigte Lösung (Q) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-5) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabs aufgeschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,2 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (17) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (18):

Die unten gezeigte Lösung (R) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-1) mit Schicht (A) mittels Rotationsbeschichtung bei einer Rotationsgeschwindigkeit von 2,5 s–1 (150 U/min) aufgeschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,2 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (18) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (19):

Eine 1050-Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde mit Trichlorethylen entfettet und dann unter Verwendung einer Nylonbürste und einer Suspension von 400 mesh Bimsstein in Wasser einer Bürstenkörnungsbehandlung unterworfen, und die Oberfläche der Platte wurde sorgfältig mit Wasser gewaschen. Durch Eintauchen der Platte in eine 25 %-ige wässrige Natriumhydroxidlösung bei 45°C für 9 Sekunden wurde eine Ätzung bewirkt, die Platte wurde mit Wasser gewaschen, dann für 20 Sekunden in eine 2 %-ige wässrige Salpetersäurelösung eingetaucht und anschliessend mit Wasser gewaschen. Die Ätzmenge der gekörnten Oberfläche betrug hierbei etwa 3 g/m2. Die Platte wurde durch Gleichstrom mit einer 7 %-igen wässrigen Schwefelsäurelösung als Elektrolytlösung mit einer elektrischen Dichte von 15 A/dm2 anodisiert. Es wurde eine anodische Oxidschicht von 3 g/m2 erhalten. Die Platte wurde dann mit Wasser gewaschen und getrocknet. Dann wurde die Platte in eine 2,5 Gew.%-ige wässrige Natriumsilicatlösung (70°C) für 14 Sekunden eingetaucht, mit Wasser gewaschen und getrocknet.

Die unten angegebene Lösung (S) wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte mittels Rotationsbeschichtung mit einer Rotationsgeschwindigkeit von 2,5 s–1 (150 U/min) beschichtet und die aufgeschichtete Schicht wurde für 3 Minuten bei 80°C getrocknet. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile betrug hierbei 1,2 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (19) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (20):

Eine 1050-Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde mit Trichlorethylen entfettet und dann unter Verwendung einer Nylonbürste und einer Suspension von 400 mesh Bimsstein in Wasser einer Bürstenkörnungsbehandlung unterworfen, und die Oberfläche der Platte wurde sorgfältig mit Wasser gewaschen. Durch Eintauchen der Platte in eine 25 %-ige wässrige Natriumhydroxidlösung bei 45°C für 9 Sekunden wurde eine Ätzung bewirkt, die Platte wurde mit Wasser gewaschen, dann für 20 Sekunden in eine 2 %-ige wässrige Salpetersäurelösung eingetaucht und anschliessend mit Wasser gewaschen. Die Ätzmenge der gekörnten Oberfläche betrug hierbei etwa 3 g/m2. Die Platte wurde durch Gleichstrom mit einer 7 %-igen wässrigen Schwefelsäurelösung als Elektrolytlösung mit einer elektrischen Dichte von 15 A/dm2 anodisiert. Es wurde eine anodische Oxidschicht von 3 g/m2 erhalten. Die Platte wurde dann mit Wasser gewaschen und getrocknet.

Die unten angegebene Lösung (T) wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte aufgeschichtet und die aufgeschichtete Schicht wurde für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile betrug hierbei 1,8 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (20) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (21):

Eine 1050 Aluminiumplatte mit eine Dicke von 0,3 mm wurde mit Trichlorethylen entfettet und dann unter Verwendung einer Nylonbürste und einer Suspension von 400 mesh-Bimsstein und Wasser einer Bürstenbehandlung unterworfen, und die Oberfläche der Platte wurde sorgfältig mit Wasser gespült. Ätzen wurde durch Eintauchen der Platte in eine wässrige 25 %-ige Natriumhydroxidlösung bei 45°C für 9 Sekunden bewirkt, die Platte wurde mit Wasser gewaschen, dann für 20 Sekunden in eine wässrige 2 %-ige Salpetersäurelösung eingetaucht, gefolgt von Waschen mit Wasser. Die Ätzmenge der gekörnten Oberfläche zu diesem Zeitpunkt betrug etwa 3 g/m2. Die Platte wurde durch Gleichstrom mit einer wässrigen 7 %-igen Schwefelsäurelösung als Elektrolyselösung bei einer elektrischen Dichte von 15 A/dm2 anodisiert. Der erhaltene anodische Oxidfilm betrug 3 g/m2. Die Platte wurde dann mit Wasser gewaschen und getrocknet.

Die unten gezeigte Lösung (U) wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 100°C für 2 Minuten getrocknet. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile zu diesem Zeitpunkt betrug 1,1 g/m2. So wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (21) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (22):

Eine 1050-Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde mit Trichlorethylen entfettet und dann unter Verwendung einer Nylonbürste und einer Suspension von 400 mesh Bimsstein in Wasser einer Bürstenkörnungsbehandlung unterworfen, und die Oberfläche der Platte wurde sorgfältig mit Wasser gewaschen. Durch Eintauchen der Platte in eine 25 %-ige wässrige Natriumhydroxidlösung bei 45°C für 9 Sekunden wurde eine Ätzung bewirkt, die Platte wurde mit Wasser gewaschen, dann für 20 Sekunden in eine 2 %-ige wässrige Salpetersäurelösung eingetaucht und anschliessend mit Wasser gewaschen. Die Ätzmenge der gekörnten Oberfläche betrug hierbei etwa 3 g/m2. Die Platte wurde durch Gleichstrom mit einer 7 %-igen wässrigen Schwefelsäurelösung als Elektrolytlösung mit einer elektrischen Dichte von 15 A/dm2 anodisiert. Es wurde eine anodische Oxidschicht von 3 g/m2 erhalten. Die Platte wurde dann mit Wasser gewaschen und getrocknet.

Die unten angegebene Lösung (V) wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte aufgeschichtet und die aufgeschichtete Schicht wurde für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile betrug hierbei 1,1 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (22) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (23):

Eine 1050-Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde mit Trichlorethylen entfettet und dann unter Verwendung einer Nylonbürste und einer Suspension von 400 mesh Bimsstein in Wasser einer Bürstenkörnungsbehandlung unterworfen, und die Oberfläche der Platte wurde sorgfältig mit Wasser gewaschen. Durch Eintauchen der Platte in eine 25 %-ige wässrige Natriumhydroxidlösung bei 45°C für 9 Sekunden wurde eine Ätzung bewirkt, die Platte wurde mit Wasser gewaschen, dann für 20 Sekunden in eine 2 %-ige wässrige Salpetersäurelösung eingetaucht und anschliessend mit Wasser gewaschen. Die Ätzmenge der gekörnten Oberfläche betrug hierbei etwa 3 g/m2. Die Platte wurde durch Gleichstrom mit einer 7 %-igen wässrigen Schwefelsäurelösung als Elektrolytlösung mit einer elektrischen Dichte von 15 A/dm2 anodisiert. Es wurde eine anodische Oxidschicht von 3 g/m2 erhalten. Die Platte wurde dann mit Wasser gewaschen und getrocknet. Die Aluminiumplatte wurde dann in eine 2,5 Gew.%-ige wässrige Natriumsilicatlösung (70°C) für 14 Sekunden eingetaucht, mit Wasser gewaschen und getrocknet.

Die unten angegebene Lösung (15) wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte aufgeschichtet und die aufgeschichtete Schicht wurde für 3 Minuten bei 100°C getrocknet. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile betrug hierbei 0,2 g/m2.

Die unten angegebene Lösung (W) wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte-aufgeschichtet und die aufgeschichtete Schicht wurde für 3 Minuten bei 80°C getrocknet. Das Beschichtungsgewicht der festen Bestandteile betrug hierbei 1,2 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (23) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (24):

Die unten angegebene Lösung (A) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-7) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabes aufgeschichtet und die aufgeschichtete Schicht wurde für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,0 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (24) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (25):

Die unten angegebene Lösung (G) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-7) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabes aufgeschichtet und die aufgeschichtete Schicht wurde für 3 Minuten bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,0 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (25) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (26):

Die unten gezeigte Lösung (K) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-7) mit Schicht (A) durch einen Stabbalken beschichtet, und die Beschichtungsschicht wurde bei 100°C für 2 Minuten getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,1 g/m2. So wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (26) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (27):

Die unten angegebene Lösung (P) wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-4) mit Schicht (A) mittels eines Drahtstabes aufgeschichtet und die aufgeschichtete Schicht wurde für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Trockenbeschichtungsgewicht betrug 1,2 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (27) erhalten.

SYNTHESE DER FEINEN POLYMERTEILCHEN Synthese der feinen Polymerteilchen (1) mit wärmereaktiver funktioneller Gruppe:

7,5 g Allylmethacrylat und 7,5 g Butylmethacrylat wurden zu 200 ml wässriger Polyoxyethylennonylphenollösung (Konzentration: 9,84 × 10–3 moll–1) zugegeben und unter Rühren der resultierenden Lösung wurde die Innenatmosphäre des Systems durch Stickstoffgas ersetzt. Die Lösung wurde auf eine Temperatur von 25°C kontrolliert., und 10 ml wässrige Cer(IV)-Ammoniumsalzlösung (Konzentration: 0,984 × 10–3 moll–1) wurden zugegeben. In diesem Fall wurde wässrige Ammoniumnitratlösung (Konzentration: 8,8 × 10–3 moll–1) zugegeben, um den pH auf 1,3 bis 1,4 einzustellen. Die resultierende Lösung wurde 8 Stunden gerührt. Die Konzentration der festen Bestandteile der so erhaltenen Lösung betrug 9,5 %, und die durchschnittliche Teilchengrösse betrug 0,4 &mgr;m.

Synthese von feinen Polymerteilchen (1) ohne wärmereaktive funktionelle Gruppe:

Die Polymerisation wurde auf die gleiche Weise wie im obigen Synthesebeispiel 1 durchgeführt, ausser dass 15 g Styrol anstelle von Allylmethacrylat und Butylmethacrylat in der Synthese der obigen feinen Polymerteilchen (1) verwendet wurden. Die Konzentration der festen Bestandteile der so erhaltenen Lösung betrug 9,0 %, und die durchschnittliche Teilchengrösse betrug 0,3 &mgr;m.

Herstellung der Mikrokapsel (1):

40 g D-110N (ein Produkt von Takeda Pharmaceutical Co.) als Ölphasenbestandteil, 10 g Trimethylolpropandiacrylat, 10 g eines Copolymers von Allylmethacrylat und Butylmethacrylat (Molverhältnis: 7/3), 5,0 g IR und 0,1 g Pionin A41 (ein Produkt von Takemoto Oils and Fats Co.) wurden in 60 g Ethylacetat gelöst. 120 g einer 4 %-igen wässrigen Lösung von PVA205 (ein Produkt von Kuraray Co.) wurde als Bestandteil der wässrigen Phase hergestellt. Der Ölphasenbestandteil und der Bestandteil der wässrigen Phase wurden unter Verwendung eines Homogenisators bei 166,7 s–1 (10.000 U/min) emulgiert. 40 g Wasser wurden zu der Emulsion gegeben, und die Emulsion wurde bei Raumtemperatur für 30 Minuten und bei 40°C für 3 Stunden gerührt. Die Konzentration des Feststoffgehalts der so erhaltenen Mikrokapselflüssigkeit betrug 20 %, und die durchschnittliche Teilchengrösse betrug 0,5 &mgr;m.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (28):

Eine Lösung mit den folgenden Komponenten wurde durch 10-minütiges Dispergieren mit einem Lackschüttler hergestellt. Die Lösung wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-1) mit der Schicht (A) aufgebracht und für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Beschichtungsgewicht nach dem Trocknen betrug 0,5 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (28) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (29):

Eine Lösung mit den folgenden Komponenten wurde durch 10-minütiges Dispergieren mit einem Lackschüttler hergestellt. Die Lösung wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-2) mit der Schicht (A) aufgebracht und für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Beschichtungsgewicht nach dem Trocknen betrug 0,5 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (29) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (30):

Eine Lösung mit den folgenden Komponenten wurde durch 10-minütiges Dispergieren mit einem Lackschüttler hergestellt. Die Lösung wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte (S-7) mit der Schicht (A) aufgebracht und für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Beschichtungsgewicht nach dem Trocknen betrug 0,5 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (30) erhalten.

Herstellung des lithografischen Druckplattenvorläufers (31):

Eine 1050-Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde mit Trichlorethylen entfettet und dann unter Verwendung einer Nylonbürste und einer Suspension von 400 mesh Bimsstein in Wasser einer Bürstenkörnungsbehandlung unterworfen, und die Oberfläche der Platte wurde sorgfältig mit Wasser gewaschen. Durch Eintauchen der Platte in eine 25 %-ige wässrige Natriumhydroxidlösung bei 45°C für 9 Sekunden wurde eine Ätzung bewirkt, die Platte wurde mit Wasser gewaschen, dann für 20 Sekunden in eine 2 %-ige wässrige Salpetersäurelösung eingetaucht und anschliessend mit Wasser gewaschen. Die Ätzmenge der gekörnten Oberfläche betrug hierbei 3 g/m2. Die Platte wurde durch Gleichstrom mit einer 7 %-igen wässrigen Schwefelsäurelösung als Elektrolytlösung bei einer Stromdichte von 15 A/dm2 anodisiert. Es wurde eine anodische Oxidschicht von 3 g/m2 erhalten. Die Platte wurde dann mit Wasser gewaschen und getrocknet.

Eine Lösung mit den folgenden Komponenten wurde durch 10-minütiges Dispergieren mit einem Lackschüttler hergestellt. Die Lösung wurde auf die oben hergestellte Aluminiumplatte aufgebracht und für 1 Minute bei 100°C getrocknet. Das Beschichtungsgewicht nach dem Trocknen betrug 0,5 g/m2. Auf diese Weise wurde der lithografische Druckplattenvorläufer (31) erhalten.

BEISPIELE 1 BIS 7 UND VERGLEICHSBEISPIELE 1 UND 2

Jeder der oben erhaltenen lithografischen Druckplattenvorläufer (1) bis (6), (19), (23) und (24) wurde mit einem Halbleiterlaser, der Infrarotstrahlung mit einer Wellenlänge von 840 nm emittierte, mit einer Hauptrastergeschwindigkeit von 2,0 m/s belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte für 1 Minute in destilliertes Wasser eingetaucht und die Linienbreite des Nichtbildbereichs wurde mit einem optischen Mikroskop beobachtet. Die der Linienbreite entsprechende Laserbelichtungsenergie wurde bestimmt und als Mass für die Empfindlichkeit angenommen.

Ferner wurde, nachdem jeder der lithografischen Druckplattenvorläufer (1) bis (6), (19), (23) und (24) mit einem Halbleiterlaser, der Infrarotstrahlung mit einer Wellenlänge von 840 nm emittierte, mit einer Hauptrastergeschwindigkeit von 2,0 m/s bzw. 4,0 m/s belichtet worden war, ein Druckvorgang in einer üblichen Weise ohne jegliche Behandlung durchgeführt. Zum Drucken wurde eine Heidel KOR-D-Druckmaschine verwendet. Es wurde bestimmt, ob im Nichtbildbereich des 3.000-sten Druckblattes eine Fleckbildung auftrat oder nicht, und wieviel Blatt guter Drucke erhalten werden konnten. Die erhaltenen Ergebnisse sind unten in Tabelle 1 gezeigt.

Alle lithografischen Druckplattenvorläufer (1) bis (6) und (24), die eine Schicht (A) aufwiesen, zeigten eine hohe Empfindlichkeit, und im Nichtbildbereich des 3.000-sten Blattes trat in beiden Fällen der Belichtung mit einer Hauptrastergeschwindigkeit von 2,0 m/s und 4,0 m/s keine Fleckbildung auf.

Im Gegensatz dazu zeigte der lithografische Druckplattenvorläufer (19), der nur einen Aluminiumträger mit darauf bereitgestellter tintenaufnehmender Schicht umfasste, eine etwas niedrigere Empfindlichkeit. Im Nichtbildbereich des 3.000-sten Blattes trat bei einer Rastergeschwindigkeit von 2,0 m/s keine Fleckbildung auf und es konnten 45.000 Blatt guter Drucke erhalten werden, jedoch wurde bei einer Rastergeschwindigkeit von 4,0 m/s das 1.000-ste Blatt fleckig. Der Grund hierfür liegt in der Tatsache, dass in dem lithografischen Druckplattenvorläufer (19) die Löslichkeitsumwandlung der tintenaufnehmenden Schicht von der Oberfläche der tintenaufnehmenden Schicht her abläuft, und folglich die tintenaufnehmende Schicht bei einer hohen Rastergeschwindigkeit von 4,0 m/s keine vollständige Löslichkeitsumwandlung durchlaufen kann, so dass eine zurückbleibende Schicht der tintenaufnehmenden Schicht auftritt.

Andererseits ist der lithografische Druckplattenvorläufer (23) aus Vergleichsbeispiel 2 ein lithografischer Druckplattenvorläufer, der einen Aluminiumträger mit darauf bereitgestellter Schicht, die einen IR-Absorber und ein wasserlösliches Polymer enthält, und eine tintenaufnehmende Schicht umfasst. Bezüglich der Linienbreitenempfindlichkeit und der Fleckbildung im Nichtbildbereich des 3.000-sten Blattes war dieser lithografische Druckplattenvorläufer auf nahezu dem gleichen Niveau wie die lithografischen Druckplattenvorläufer der Beispiele 1 bis 7 bei beiden Rastergeschwindigkeiten von 2,0 m/s und 4,0 m/s. Der Grund hierfür ist, dass die Schicht, die einen IR-Absorber und ein wasserlösliches Polymer enthält, den Effekt der Schicht (A) zeigt, d.h. die tintenaufnehmende Schicht wird von der Unterseite her löslich gemacht und die Wärmediffusion in den Träger wird inhibiert, weshalb eine Schichtrückstandsbildung auch dann nicht auftritt, wenn die tintenaufnehmende Schicht nicht vollständig löslich gemacht wird. Da die Schicht, die einen IR-Absorber und ein wasserlösliches Polymer enthält, jedoch langsam durch die Benetzungslösung während des Druckens aufgelöst wurde, so dass der Bildbereich entfernt wurde, wurden nur 20.000 Blatt guter Drucke erhalten.

BEISPIELE 8 BIS 12 UND VERGLEICHSBEISPIEL 3

Jeder der oben erhaltenen lithografischen Druckplattenvorläufer (7) bis (10), (29) und (25) wurde mit einem Halbleiterlaser, der IR-Strahlung mit einer Wellenlänge von 840 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde jede Platte unter Verwendung eines automatischen Prozessors PS Processor 900VR (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd., der mit einer Entwicklungslösung DP-4® und einer Spüllösung FR-3® (1/7) (Produkte von Fuji Photo Film Co., Ltd.) beschickt war, entwicklungsverarbeitet. DP-4® wurde in zweierlei Weise auf 1/6 bzw. 1/12 verdünnt. Die Linienbreite des Nichtbildbereichs, die durch jede Entwicklungslösung erzielt wurde, wurde gemessen, und die Belichtungsenergie des Lasers, die der Linienbreite entsprach, wurde bestimmt und als Empfindlichkeit angenommen. Der Unterschied der Linienbreite zwischen dem Wert, der für die Entwicklungslösung in einer Verdünnung von 1/6 erhalten wurde, und demjenigen bei einer Verdünnung von 1/12 wurde aufgezeichnet. Je kleiner der Unterschied, desto besser ist die Entwicklungsbreite. Ein Unterschied von 20 mJ/cm2 oder weniger ist in der Praxis ausreichend. Die erhaltenen Ergebnisse sind unten in Tabelle 2 angegeben.

TABELLE 2

Jeder der lithografischen Druckplattenvorläufer (7) bis (10) und (25), die jeweils die Schicht (A) aufwiesen, zeigten eine hohe Empfindlichkeit und die Entwicklungsbreite war auf einem für die Praxis ausreichenden Niveau.

Im Gegensatz dazu zeigte der lithografische Druckplattenvorläufer (20) aus Vergleichsbeispiel 3, der nur einen Aluminiumträger mit darauf bereitgestellter tintenaufnehmender Schicht umfasste, eine etwas geringere Empfindlichkeit und die Entwicklungsbreite erreichte kein für die Praxis ausreichendes Niveau.

BEISPIELE 13 BIS 18 UND VERGLEICHSBEISPIEL 4

Jeder der oben erhaltenen lithografischen Druckplattenvorläufer (11) bis (15), (21) und (26) wurde mit einem Halbleiterlaser, der Infrarotstrahlen mit einer Wellenlänge von 840 nm emittiert, bei einer Hauptabtastgeschwindigkeit von 2,0 m/s belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte in eine wässrige Lösung mit einem pH-Wert von 8,8 (Wasser: 84,7 %, Isopropanol: 10 %, Triethylamin: 5 %, konzentrierte Salzsäure: 0,3 %) für 1 Minute eingetaucht, und die Linienbreite des Bildbereichs wurde mit einem optischen Mikroskop beobachtet. Die Belichtungsenergie des Lasers entsprechend der Linienbreite wurde erhalten, und dies wurde als Empfindlichkeit betrachtet.

Nachdem jeder der lithografischen Druckplattenvorläufer (11) bis (15), (21) und (26) mit einem Halbleiterlaser, der Infrarotstrahlen mit einer Wellenlänge von 840 nm emittiert, mit einer Hauptabtastgeschwindigkeit von 2,0 m/s bzw. 4,0 m/s belichtet wurde, wurde ferner Druck auf gewöhnliche Weise ohne jede Behandlung gedruckt. Eine Heidel® KOR-D-Druckmaschine wurde beim Drucken verwendet. Die Bedingungen der Spüllösung zu dieser Zeit waren wie folgt:

Spüllösung, pH 8,8 (Wasser: 84,7 %, Isopropanol: 10 %, Triethylamin: 5 %, konzentrierte Salzsäure: 0,3 %)

Es wurde bewertet, ob die Tinte am Bildbereich des 1.000-sten gedruckten Blattes ausreichend anhaftete oder nicht und wieviele Blätter mit gutem Druck erhalten werden konnten. Die Ergebnisse sind nachstehend in Tabelle 3 gezeigt.

TABELLE 3

Jede Platte der lithografischen Druckplattenvorläufer (11) bis (15) und (26) zeigte hohe Empfindlichkeit, und die Tintenadhäsion im Bildbereich war gut.

Im Gegensatz dazu zeigte der lithografische Druckplattenvorläufer (21) von Vergleichsbeispiel 4 eine etwas geringere Empfindlichkeit und unzureichende Tintenadhäsion, wenn er einer Belichtung mit einer Abtastgeschwindigkeit von 4,0 m/s unterworfen wurde. Es wurden keine guten Drucke erhalten.

BEISPIELE 19 BIS 22 UND VERGLEICHSBEISPIEL 5

Jeder der oben erhaltenen lithografischen Druckplattenvorläufer (16) bis (18), (22) und (27) wurde mit einem Halbleiterlaser, der IR-Strahlung mit eine Wellenlänge von 840 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde jede Platte in einem Ofen für 1 Minute bei 140°C wärmebehandelt und dann unter Verwendung eines automatischen Prozessors PS Processor 900VR (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), der mit einer Entwicklungslösung DP-4® und einer Spüllösung FR-3® (1/7) (Produkte von Fuji Photo Film Co., Ltd.) beschickt war, entwicklungsverarbeitet. DP-4® wurde auf zweierlei Weise auf 1/6 bzw. 1/12 verdünnt. Die Linienbreite im Nichtbildbereich, die mit jeder Entwicklungslösung erzielt wurde, wurde gemessen, und die Belichtungsenergie des Lasers, die der Linienbreite entsprach, wurde erhalten und als Empfindlichkeit angesehen. Der Unterschied der Linienbreite zwischen dem Wert, der mit der Entwicklungslösung in einer Verdünnung von 1/6 erhalten wurde, und demjenigen bei einer Verdünnung von 1/12, wurde aufgezeichnet. Je kleiner der Unterschied, desto besser ist die Entwicklungsbreite. Ein Unterschied von 20 mJ/cm2 oder weniger ist in der Praxis ausreichend. Die erhaltenen Ergebnisse sind unten in Tabelle 4 gezeigt.

TABELLE 4

Jeder der lithografischen Druckplattenvorläufer (16) bis (18) und (27), die jeweils die Schicht (A) aufwiesen, zeigten eine hohe Empfindlichkeit und die Entwicklungsbreite war auf einem für die Praxis ausreichenden Niveau.

Im Gegensatz dazu zeigte der lithografische Druckplattenvorläufer (22) aus Vergleichsbeispiel 5, der nur einen Aluminiumträger mit darauf bereitgestellter tintenaufnehmender Schicht umfasste, eine etwas geringere Empfindlichkeit, und die Entwicklungsbreite erreichte kein für die Praxis ausreichendes Niveau.

BEISPIELE 23 BIS 25 UND VERGLEICHSBEISPIEL 6

Jeder der oben erhaltenen lithografischen Druckplattenvorläufer (28) bis (31) wurde mit einem Trendsetter 3244VFS-Aufbau-IR-Halbleiterlaser vom wassergekühlten Typ, hergestellt von Creo Co., unter Bedingungen einer Ausgangsleistung von 9 W, einer Umdrehungszahl der äusseren Trommel von 210 U/min, einer Plattenoberflächenenergie von 100 mJ/cm2 und einem Auflösungsgrad von 2.400 dpi belichtet. Der Plattenvorläufer wurde auf dem Zylinder einer SOR-M-Druckmaschine, hergestellt von Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft, ohne jegliche Behandlung installiert. Es wurde eine Benetzungslösung zugeführt, Tinte wurde Zugeführt, Papier wurde zugeführt, und dann wurde ein Druckvorgang durchgeführt.

Hierbei wurde die Anzahl der anfänglich bedruckten Blätter (die Anzahl der bedruckten Blätter) bis zum Erhalt guter Drucke bestimmt, sowie wieviel Blatt guter Drucke erhalten werden könnten. Die erhaltenen Ergebnisse sind unten in Tabelle 5 gezeigt.

TABELLE 5

Jede Platte aus den lithografischen Druckplattenvorläufern (28) bis (30) zeigte eine kleine Anzahl anfänglich bedruckter Blätter, und es konnte eine grosse Anzahl guter Drucke erhalten werden.

Im Gegensatz dazu war der lithografische Druckplattenvorläufer (31) aus Vergleichsbeispiel 6 bezüglich der anfänglich bedruckten Blätter weitgehend mit den Platten aus den lithografischen Druckplattenvorläufern (28) bis (30) identisch, es konnten jedoch nur 5.000 gute Drucke erhalten werden.

Entsprechend dem erfindungsgemässen lithografischen Druckplattenvorläufer wird die Wärmediffusion zum Träger beim Bildaufzeichnen im Wärmemodus durch Bereitstellung einer Schicht, enthaltend einen Latex (Schicht (A)) auf dem Träger gehemmt. Ferner kann der erfindungsgemässe lithografische Druckplattenvorläufer mit Wasser oder einer wässrigen Lösung entwickelt werden, verlangt keine spezielle Behandlung, wie den Nassentwicklungsprozess oder Reiben nach der Abbildung, ist hinsichtlich der Empfindlichkeit und der Festigkeit des Bildbereichs verbessert, d.h. ausgezeichnet in der Drucklebensdauer, und stellt klare Drucke ohne Restfarben und Flecken bereit.

Ferner kann die vorliegende Erfindung einen lithografischen Druckplattenvorläufer bereitstellen, der zur direkten Plattenherstellung aus digitalen Daten durch Aufzeichnen mit einem Feststofflaser oder einem Halbleiterlaser, der Infrarotstrahlen abstrahlt, in der Lage ist. Ausserdem kann eine bessere Festigkeit des Bildbereichs, d.h. Drucklebensdauer, durch Verwendung von vernetzten organischen Harzteilchen als Latex, der in der Schicht (A) enthalten ist, erhalten werden.


Anspruch[de]
  1. Vorläufer für eine lithographische Druckplatte, welcher einen Träger umfasst, der eine hydrophile Oberfläche aufweist, auf der in dieser Reihenfolge eine Schicht (Schicht A), die einen Latex enthält, und eine Tinten-aufnahmefähige Schicht (Schicht B) vorgesehen ist, die entweder in Wasser oder einer wässrigen Lösung entwickelt werden kann, worin mindestens eine der Schicht A oder der Schicht B eine Licht/Wärme-umwandelnde Verbindung enthält, worin der Latex auf vernetzten organischen Harzpartikeln beruht.
  2. Vorläufer für eine lithogräphische Druckplatte gemäß Anspruch 1, worin das Licht/Wärme-umwandelnde Material Licht mit 700nm oder mehr absorbiert.
Es folgt kein Blatt Zeichnungen






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