PatentDe  


Dokumentenidentifikation DE10056845B4 31.08.2006
Titel Verfahren zur Entwicklung von lichtempfindlichen Materialien
Anmelder Mitsubishi Paper Mills Limited, Tokio/Tokyo, JP
Erfinder Suzuki, Shigeyoshi, Tokio/Tokyo, JP;
Tsubai, Yasuo, Tokio/Tokyo, JP;
Kuriu, Sadao, Tokio/Tokyo, JP;
Maruyama, Toshihiko, Tokio/Tokyo, JP;
Hirata, Kenji, Tokio/Tokyo, JP;
Asano, Masato, Tokio/Tokyo, JP;
Saikawa, Masahiko, Tokio/Tokyo, JP;
Furukawa, Akira, Tokio/Tokyo, JP
Vertreter Patent- und Rechtsanwälte Kraus & Weisert, 80539 München
DE-Anmeldedatum 16.11.2000
DE-Aktenzeichen 10056845
Offenlegungstag 05.07.2001
Veröffentlichungstag der Patenterteilung 31.08.2006
Veröffentlichungstag im Patentblatt 31.08.2006
IPC-Hauptklasse G03F 7/34(2006.01)A, F, I, 20051017, B, H, DE

Beschreibung[de]
HINTERGRUND DER ERFINDUNG: 1. Gebiet der Erfindung:

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials durch enges Kontaktieren eines Abschälmittels mit dem Material anstelle des Abwaschens der lichtempfindlichen Schicht (beispielsweise einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht oder einer lichtempfindlichen Nicht-Silbersalzschicht) des lichtempfindlichen Materials. Insbesondere betrifft sie ein Verarbeitungsverfahren, das vorzugsweise zur Herstellung einer lithografischen Aluminium-Druckplatte unter Anwendung eines Silberkomplex-Diffusionstransferverfahrens angewandt wird, worin eine anodisierte Aluminiumplatte als Träger verwendet wird.

Bezüglich einer lithografischen Druckplatte unter Anwendung eines Silberkomplex-Diffusionstransferverfahrens (des DTR-Verfahrens) sind einige Beispiele auf den Seiten 101 bis 130 von André Rott und Edith Weyde, "Photographic Silver Halide Diffusion Processes, veröffentlicht von Focal Press, London und New York (1972), beschrieben.

Wie darin beschrieben, waren zwei Arten an lithografischen Druckplatten bekannt, bei denen das DTR-Verfahren angewandt wurde, d.h. ein Zweiblatt-Typ, worin ein Transfermaterial und ein bildaufnehmendes Material voneinander getrennt sind, und ein Einzelblatt-Typ, worin diese Materialien auf einem Träger bereitgestellt sind. Die lithografische Druckplatte vom Zweiblatt-Typ ist detailliert in JP-OS 158844/1982 beschrieben. Ferner ist der Einzelblatt-Typ detailliert in US-PS 3 728 114 beschrieben.

Die lithografische Druckplatte vom Einzelblatt-Typ, bei der das Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren unter Verwendung einer Aluminiumplatte als Träger (nachfolgend als lithografische Aluminium-Druckplatte bezeichnet) angewandt wird, ist detailliert in den JP-OSen 118244/1982, 158844/1982, 260491/1999, 116151/1991 und 282295/1992 und den US-PSen 4 567 131, und 5 427 889, beschrieben.

In der oben genannten lithografischen Aluminium-Druckplatte trägt ein aufgerauhter und anodisierter Aluminiumträger physikalische Entwicklungskeime, und ferner ist darauf eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht bereitgestellt. Ein allgemeines Verfahren zur Herstellung dieser lithografischen Druckplatte umfasst die Schritte der Belichtung, der DTR-Entwicklungsverarbeitung, der Waschverarbeitung mit Wasser (Abwaschen: Entfernen einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht mit einer Waschlösung) und eine Finishingverarbeitung.

Genauer wird ein metallischer Silberbildbereich auf den physikalischen Entwicklungskeimen mittels der Entwicklungsverarbeitung ausgebildet, und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht wird durch die nachfolgende Waschverarbeitung entfernt, wodurch der Silbermetall-Bildbereich freigelegt wird (nachfolgend als Silberbildbereich bezeichnet). Gleichzeitig wird die anodisierte Aluminiumoberfläche selbst als Nicht-Bildbereich freigelegt.

Nach der Waschverarbeitung wird eine Finishinglösung, die ein schützendes Kolloid, wie beispielsweise Gummi arabicum, Dextrin, Carboxymethylcellulose, Polystyrolsulfonsäure usw., enthält, auf den freigelegten Silberbildbereich und den Nicht-Bildbereich zum Schutz derselben aufgeschichtet. Der Prozess der sogenannten Gummibeschichtung wird auf der Oberfläche der Platte durchgeführt. Die Finishinglösung wird auch als Fixierlösung bezeichnet und sie ist üblicherweise dergestalt, dass sie eine Verbindung enthält, die den Silberbildbereich oleophil werden lässt, wie beispielsweise eine stickstoffhaltige heterocyclische Verbindung mit einer Mercaptogruppe oder einer Thiongruppe (nachfolgend als oleophiles Mittel bezeichnet).

Die oben genannte lithografische Aluminium-Druckplatte hat den Vorteil, dass in einfacher Weise eine Druckplatte erhalten werden kann, die eine exzellente Druckdauerhaftigkeit aufweist, im Vergleich zu einer lithografischen Druckplatte, worin eine Grundierungsschicht, eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht und eine physikalische Entwicklungskeimschicht in dieser Reihenfolge auf einem flexiblen Träger, wie beispielsweise einer Folie oder einem Polyethylen-beschichteten Papier usw. bereitgestellt sind, jedoch ist sie auch mit verschiedenen Problemen behaftet.

Eines dieser Probleme ist, dass die Silberhalogenid-Emulsionsschicht usw. durch eine Waschlösung entfernt werden, so dass es erforderlich ist, eine grosse Menge an Gelatine oder silberhaltiger Waschlösung zu behandeln und zu entsorgen usw., was ein ernstes wirtschaftliches und Umweltproblem darstellen kann.

Zur Lösung der oben genannten Probleme wurde in den US-PSen 5 068 165 und 5 213 943 und JP-OS 318553/1992 vorgeschlagen, die Emulsionsschicht durch eine enge Kontaktierung eines Abschälblattes mit der Emulsionsschicht, wodurch die Emulsionsschicht abgeschält wird, abzuschälen. Genauer werden Abschälblätter gezeigt, die ein Substrat und eine auf das Substrat aufgeschichtete Gelatineschicht oder gehärtete Gelatineschicht, die ein Mattierungsmittel enthält, aufweisen. Die Abschälblätter in den spezifischen Beispielen haben jedoch nicht nur die Nachteile, dass sie eine lange Kontaktzeit bis zu ihrer Abschälung benötigen.

Ein weiteres Problem ist, dass die Menge an Abfallflüssigkeit aus der Entwicklungslösung gross ist. Das heisst, es wurde eine Entwicklungslösung zur Herstellung einer lithografischen Aluminium-Druckplatte verwendet, die ein Entwicklungsmittel, wie beispielsweise Hydrochinon usw. enthält. Bei dieser Entwicklungslösung muss erzwungenermassen eine relativ grosse Menge dieser Entwicklungslösung aufgefrischt werden, so dass überschüssige überfliessende Entwicklungslösung verbraucht und entsorgt wird. Dadurch wird die Menge der Entwicklungslösung, die für die Entwicklung der lithografischen Aluminium-Druckplatte pro Einheitsfläche verwendet wird, im Vergleich zu der lithografischen Druckplatte, die einen flexiblen Träger verwendet, gross. Selbst wenn eine Entwicklungslösung für eine vorherbestimmte Verarbeitungsbetriebszeit verwendet wird, muss die verwendete Entwicklungslösung durch eine neue Entwicklungslösung ausgetauscht werden. Folglich bestehen ökonomische und Umweltprobleme, da eine grosse Menge an Entwicklungslösung als Abfallösung entsorgt werden muss.

Ein weiteres Problem liegt darin, dass die Aluminiumoxidschicht eines anodisierten Aluminiumträgers durch Einwirkung einer Entwicklungslösung mit hohem pH-Wert aufgelöst wird, so dass Veränderungen der Entwicklungsbedingungen die Bildung von DTR-Entwicklungssilber beeinflusst, so dass eine lithografische Druckplatte mit guten Druckeigenschaften nicht in stabiler Weise hergestellt werden kann.

Andererseits ist ein lichtempfindliches Material, das eine lichtempfindliche Zusammensetzung umfasst, die kein Silbersalz enthält, bekannt. Diese lichtempfindliche Zusammensetzung bewirkt die chemische Veränderung der Molekülstruktur durch eine Photoreaktion (Bestrahlung mit UV-Strahlen oder sichtbarem Licht), und als Ergebnis werden die physikalischen Eigenschaften verändert. Chemische Veränderungen durch die Einwirkung von Licht sind Vernetzung, Polymerisation, Zersetzung, Zersetzungspolymerisation, Modifikationen funktioneller Gruppen usw., und ferner sind verschiedene Faktoren betroffen, wie beispielsweise Löslichkeit, Haftfähigkeit, Brechungsindex, Stoffpermeabilität und Phasenänderung usw.. Eine derartige lichtempfindliche Zusammensetzung wurde in der Praxis weitverbreitet angewendet, wie beispielsweise in Druckplatten, Resists, Lacken, Beschichtungsmitteln, Farbfiltern usw.. Darüber hinaus wurde sie im Bereich von Fotoresists unter Anwendung einer fotografischen Plattenherstellungstechnologie (Fotolithografie) und Entwicklung verwendet. Der Fotoresist dient zur Ausnutzung der Veränderung der Löslichkeit durch die Fotoreaktion.

Als ein Beispiel, worin ein lichtempfindliches Material, das die oben genannte fotoempfindliche Zusammensetzung enthält, bei einer lithografischen Druckplatte angewandt wird, ist eine PS-Platte (eine Abkürzung für "vorsensibilisierte Platte") allgemein bekannt, worin eine lichtempfindliche Harzschicht auf einem Aluminiumträger bereitgestellt ist. In der PS-Platte können zwei verschiedene Materialien vorliegen, d.h. ein Negativtyp-Material oder ein Positivtyp-Material. Das Negativtyp-Material dient zur Aushärtung eines belichteten Bereichs und zur Entfernung eines nicht-belichteten Bereichs durch Auflösung dieses Bereichs unter Verwendung einer Entwicklungslösung, wodurch ein ausgehärteter Film (belichteter Bereich) auf dem Aluminiumträger ausgebildet wird, dessen Form von dem Belichtungsmuster abhängt. Das Positivtyp-Material ist dem obigen entgegengesetzt, so dass ein belichteter Bereich durch eine Entwicklungslösung gelöst wird, wodurch in Abhängigkeit von dem Belichtungsmuster ein Film (unbelichteter Bereich) auf dem Aluminiumträger ausgebildet wird.

Materialien zur Herstellung der oben genannten PS-Platten sind detailliert beschrieben in beispielsweise "Outline of PS plate" von Teruhiko Yonezawa (veröffentlicht von Insatsu Gakkai Shuppannbu, Japan), "Light-sensitive polymer", von Gentaro Nagamatsu und Hideo Inui (veröffentlicht von Kodansha, Japan) oder "Photopolymer Technology" von Tsuguo Yamaoka und Gentaro Nagamatsu (veröffentlicht von Nikkan Kogyo, Japan).

Zusätzlich zu der oben genannten PS-Platte gibt es eine lithografische Druckplatte, die in einem CTP (Computer-zu-Platte)-System verwendet wird. Das CTP-System ist ein System, worin Originaldaten, die zu digitalen Informationen umgewandelt wurden, direkt zur bildweisen Belichtung auf einer Druckplatte unter Verwendung von Laserstrahlen herangezogen werden. Als Lichtquelle werden üblicherweise Helium-Neon-Laser, Argonlaser, Nahinfrarot-Halbleiterlaser, YAG-Laser usw. verwendet.

Als eine oben beschriebene CTP-Druckplatte ist eine Druckplatte bekannt, die in der Lage ist, die Laserstrahlbelichtung unter Verwendung einer Fotopolymerisationsreaktion, die ein polymerisierbares Monomer einschliesst, auszunutzen. Dies ist beispielsweise in "Insatsu Zasshi" von Shigeki Shimizu, Bd. 78, Seite 9, 1995 usw. beschrieben. Ferner ist in JP-PS 105353/1994 oder JP-OS 230594/1997 ein Beispiel für eine fotopolymerisierbare Zusammensetzung beschrieben, die ein Polymer, in dessen Seitenkette eine polymerisierbare ungesättigte Verbindungsgruppe mit spezifischer Struktur eingeführt ist, einen Fotopolymerisationsinitiator und eine Verbindung mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Bindung umfasst.

Als Beispiele für lichtempfindliche Zusammensetzungen zur Ausbildung eines Negativtyp-Abbildes unter Verwendung eines Laserstrahls sind beispielsweise die JP-OSen 90885/1998, 127694/1997 und 138500/1997 usw. zu nennen, und für die besondere Verwendung einer lithografischen Druckplatte sind diejenigen zu nennen, die in den JP-OSen 20629/1997, 271029/1995, 244226/1997, 212252/1999 und 231535/1999 usw. beschrieben sind. von diesen enthalten lithografische Druckplatten mit einer lichtempfindlichen Schicht im wesentlichen ein Phenolharz, einen Lichtabsorber und einen Säureerzeuger. Eine solche lithografische Druckplatte wird beispielsweise der Belichtung mit einem Laser hohe Leistung usw. unterzogen, so dass die veränderte Löslichkeit des Phenolharzes durch eine Entwicklungslösung durch eine Säure, die durch den Säureerzeuger erzeugt wird, aufgrund der Veränderung der Vernetzungsdichte usw. ausgenutzt wird.

Das lichtempfindliche Material, das die oben genannte lichtempfindliche Zusammensetzung umfasst, ist mit dem Problem verbunden, dass die Komponenten der Entwicklungslösung im Laufe der Zeit veränderlich sind, da die nicht-gehärtete lichtempfindliche Schicht in der Entwicklungslösung aufgelöst und entfernt wird, so dass eine grosse Menge Auffrischlösung für die Entwicklungslösung erforderlich ist, wodurch die Menge an Abfallösung gross wird.

In der US-Patentschrift 5,362,602 wird ein Verfahren zur Entwicklung eines lichtempfindlichen Materials offenbart, bei dem das lichtempfindliche Material, enthaltend eine lichtempfindliche Schicht auf einem Träger, zunächst belichtet und danach mit einer wässrigen alkalischen Entwicklerlösung beaufschlagt wird. Im Anschluss daran wird die Oberfläche der in oben genannter Weise behandelten lichtempfindlichen Schicht in engen Kontakt mit einem Empfangsmedium/Abschälmittel gebracht, an dem die lichtempfindliche Schicht anhaftet. Abschließend wird der Verbund aus Empfangsmedium und anhaftender lichtempfindlicher Schicht vom Trägermaterial abgelöst/abgezogen (vgl. dazu insbesondere die Textstellen in Sp. 3, Z. 35 bis Sp. 4, Z. 6, in Sp. 6, Z. 43-Z. 62 und in Sp. 24, Z. 35-Z.64).

In der US Patentschrift 3,615,486 wird ein Verfahren zur Entwicklung eines lichtempfindlichen Materials offenbart, bei dem das lichtempfindliche Material zunächst belichtet/gehärtet und danach mit einem Lösungsmittel beaufschlagt oder erhitzt wird. Anschließend wird die Oberfläche des in oben genannter Weise behandelten lichtempfindlichen Materials auf ein Empfangsmedium/Abschälmittel gepresst, beispielsweise eine poröse Schicht oder ein poröses Blatt. Abschließend wird das Empfangsmedium zusammen mit den daran anhaftenden unbelichteten ungehärteten Teilen des lichtempfindlichen Materials von demselben abgelöst/abgezogen (vgl. dazu insbesondere die Textstellen in Sp. 1, Z. 7-Z. 22, Z. 37-Z. 41 und Z. 61-Z 63).

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG:

Folglich ist es ein erstes erfindungsgemässes Ziel, ein Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials bereitzustellen, das zur gleichförmigen und vollständigen Entfernung der lichtempfindlichen Schicht, die eine Silberhalogenidemulsion oder eine nicht-silbersalzhaltige lichtempfindliche Zusammensetzung umfasst, innerhalb eines kurzen Zeitraums zu entfernen. Ein weiteres erfindungsgemässes Ziel ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials, das zur gleichförmigen und vollständigen Entfernung der lichtempfindlichen Schicht innerhalb eines kurzen Zeitraums ohne Verwendung einer Waschlösung geeignet ist (so dass keine durch die Waschlösung hervorgerufene Abfallösung anfällt). Noch ein weiteres erfindungsgemässes Ziel ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung einer Platte, wonach eine lithografische Aluminium-Druckplatte, die in stabiler Weise exzellente Druckeigenschaften aufweist, zu geringen Kosten ohne Umweltverschmutzung durch deutliche Reduzierung oder weitestgehende Vermeidung von Abfallösungen der Entwicklungslösung, hergestellt werden kann.

Die obigen erfindungsgemässen Ziele können durch ein Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials erreicht werden, das die Belichtung eines lichtempfindlichen Materials mit mindestens einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Träger und Entwicklung durch ein Tauchsystem oder ein Beschichtungssystem und anschliessende Abschälung von zumindest der lichtempfindlichen Schicht durch enge Kontaktierung eines Abschälmittels mit dem lichtempfindlichen Material umfasst, worin das Abschälmittel ein Material mit einer Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit ist, bei der die Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach der Kontaktierung mit einer Flüssigkeit 60 % oder mehr bezogen auf die Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,2 Sekunden nach diesem Kontakt ist.

Darüber hinaus kann das erfindungsgemässe Verarbeitungsverfahren angewandt werden bei einem lichtempfindlichen Material mit einer nicht-silberhaltigen lichtempfindlichen Schicht (einer lichtempfindlichen Schicht, die eine lichtempfindliche Zusammensetzung umfasst, die kein Silbersalz enthält).

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNG:

1 ist eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel einer Plattenherstellungsvorrichtung zeigt, wie sie in dem erfindungsgemässen Verarbeitungsverfahren verwendet wird.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN:

Das Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials umfasst die Belichtung des lichtempfindlichen Materials und die Durchführung einer Entwicklungsbehandlung damit und das anschliessende Abschälen von zumindest der lichtempfindlichen Schicht durch enges Kontaktieren eines Abschälmittels mit dem lichtempfindlichen Material. Durch das Abschälen der lichtempfindlichen Schicht nach dem erfindungsgemässen Verfahren kann die lichtempfindliche Schicht gleichförmig und vollständig innerhalb eines kurzen Zeitraums abgeschält werden. Ferner ist bei einer lithografischen Druckplatte mit einer Silberhalogenidemulsion keine Waschlösung erforderlich. Ferner neigen in einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, die kein Silbersalz enthält, die Zusammensetzungen der Entwicklungslösung nicht zu Veränderungen, so dass die Entwicklung in stabiler Weise durchgeführt werden kann. Darüber hinaus ist keine grosse Menge an Auffrischlösung für die Entwicklungslösung erforderlich.

Erfindungsgemäss kann die Entwicklungsbehandlung ein Tauchbehandlungssystem sein, worin ein lichtempfindliches Material in eine Entwicklungslösung eingetaucht wird, oder ein Beschichtungsentwicklungssystem, worin eine Entwicklungslösung auf das lichtempfindliche Material aufgeschichtet wird. Erfindungsgemäss ist letzteres Beschichtungsentwicklungssystem bevorzugt.

Die Beschichtung mit der Entwicklungslösung kann unter Verwendung einer Beschichtungsvorrichtung für eine Entwicklungslösung durchgeführt werden, wie sie beispielsweise in den JP-OSen 76603/1973, 289343/1993, 27680/1994, 27682/1994, 62952/1998 und 62951/1998 offenbart ist. Durch die Verwendung eines solchen Beschichtungsentwicklungssystems kann die Menge an Abfallflüssigkeit der Entwicklungslösung auf weitestgehend Null gebracht oder deutlich verringert werden.

Das erfindungsgemässe Abschälmittel umfasst ein Material mit einer Bindemittelschicht, worin feine Teilchen, wie beispielsweise Silica, Alumina usw. zu einem Substrat dispergiert sind. Ferner ist das erfindungsgemässe Abschälmittel ein Material, das die Eigenschaft besitzt, eine hohe Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit aufzuweisen, wobei die Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit einer Flüssigkeit 60 % oder mehr auf Basis der Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,2 Sekunden nach demselben beträgt. Darüber hinaus ist das erfindungsgemässe Abschälmittel ein Material (ein Abschälblatt) mit der Eigenschaft einer hohen Flüssigkeitsabsorptionskapazität, wobei die Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach der Kontaktierung mit einer Flüssigkeit 10 ml oder mehr pro 1 m2 des Abschälblattes ist.

Ein bevorzugtes Beispiel für das erfindungsgemässe Verfahren zur Herstellung einer Platte unter Verwendung des Abschälmittels ist beispielsweise ein Verfahren, worin unter Verwendung einer Vorrichtung mit einer Beschichtungseinrichtung für eine Entwicklungslösung und des oben genannten Abschälblattes eine Entwicklungslösung in einer für die Entwicklung notwendigen Menge auf die Oberfläche einer Platte einer lithografischen Druckplatte, in dem ein Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren angewandt wird und die mindestens eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht auf einem anodisierten Aluminiumträger aufweist, aufgeschichtet wird. Sobald die Entwicklung beendet ist, wird das Abschälblatt mit der Oberfläche der Platte kontaktiert, so dass hydrophile Kolloidschichten, wie beispielsweise die Silberhalogenid-Emulsionsschicht usw. gleichförmig und vollständig innerhalb eines kurzen Zeitraums von dem Aluminiumträger entfernt werden.

Die vorliegende Erfindung ist nicht an irgendeine Schlussfolgerung gebunden, jedoch kann die Funktionsweise der vorliegenden Erfindung wie folgt angenommen werden. Eine Entwicklungslösung wird an der Innenseite der hydrophilen Kolloidschicht der entwickelten lithografischen Aluminium-Druckplatte und auf der Oberfläche der Platte zurückgehalten. Wenn das erfindungsgemäss Abschälmittel in engen Kontakt damit gebracht wird, wird das Abschälmittel in engen Kontakt mit der Oberfläche der lithografischen Druckplatte gebracht, indem die Entwicklungslösung rasch von der oberen Seite der lithografischen Druckplatte in grosser Menge absorbiert wird. Zur Abschälung der hydrophilen Kolloidschicht von dem Träger ist es erforderlich, dass die Adhäsionskraft zwischen dem Abschälmittel und der lithografischen Druckplattenoberfläche grösser ist als die zwischen der hydrophilen Kolloidschicht und dem Träger. Folglich wird, wenn die Abschälung während des Zeitraums gestartet wird, in dem die Entwicklungslösung im unteren Bereich (dem Bereich nahe dem Träger) der hydrophilen Kolloidschicht der Druckplatte in nicht zu grosser Menge durch das Abschälmittel absorbiert wird (d.h. die Konzentration der Entwicklungslösung ist im unteren Bereich grösser als im oberen Bereich, mit anderen Worten liegt ein Konzentrationsgradient der Entwicklungslösung in der Schicht vor), die hydrophile Kolloidschicht gleichförmig und vollständig von dem Träger entfernt.

Nachfolgend wird die vorliegende Erfindung unter hauptsächlicher Bezugnahme auf das Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Aluminium-Druckplatte detaillierter beschrieben. Die erfindungsgemäss zu verwendende lithografische Druckplatte weist im allgemeinen eine physikalische Entwicklungskeimschicht und mindestens eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht in dieser Reihenfolge auf einem Aluminiumträger auf. Es ist jedoch bekannt, dass die DTR-Entwicklung ohne Verwendung der physikalischen Entwicklungskeimschicht durchgeführt werden kann, so dass diese nicht notwendigerweise verwendet wird. Als erfindungsgemäss zu verwendende Aluminiumträger für die lithografische Aluminium-Druckplatte werden solche verwendet, die 1,0 g oder mehr poröses Aluminiumoxid pro 1 m2 enthalten, vorzugsweise 1,5 bis 5 g/m2.

Als erfindungsgemäss zu verwendende physikalische Entwicklungskeime in der physikalischen Entwicklungskeimschicht können bekannte physikalische Entwicklungskeime verwendet werden, die im Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren angewandt werden. Beispiele hierfür sind ein Kolloid von Gold, Silber und dergleichen, ein Metallsulfid, das erhalten wird durch Vermischen eines wasserlöslichen Salzes von Palladium, Zink und dergleichen mit einem Sulfid usw.. Als Schutzkolloid können verschiedene hydrophile Kolloide verwendet werden. Bezüglich der Details zu physikalischen Entwicklungskeimen und deren Herstellungsverfahren sei beispielsweise auf Andre Rott und Edith Weyde, "Photographic Silver Halide Diffusion Processes", veröffentlicht von Focal Press, London und New York (1972), verwiesen.

Die Silberhalogenidemulsion kann ausgewählt werden aus Silberchlorid, Silberbromid, Silberiodid, Silberchlorbromid, Silberchloriodbromid, Silberiodbromid usw., die allgemein verwendet werden, und diejenigen, die hauptsächlich Silberchlorid enthalten (was 50 mol-% oder mehr an Silberchlorid bedeutet), sind bevorzugt. Bezüglich des Emulsionstyps kann dieser entweder vom Negativtyp oder vom Positivtyp sein. Diese Silberhalogenidemulsionen können bei Bedarf chemisch oder spektral sensibilisiert sein.

In der Silberhalogenid-Emulsionsschicht können bei Bedarf verschiedene Arten anionischer, kationischer, Betain- oder nicht-ionischer Tenside; Antischleiermittel, wie beispielsweise Mercaptotetrazol usw.; Chelatbildner, wie beispielsweise Ethylendiamintetraacetat usw.; Entwicklungsmittel, wie beispielsweise Hydrochinon, 3-Pyrazolidone usw., enthalten sein.

Als hydrophiles Kolloid der Silberhalogenid-Emulsionsschicht wird vorzugsweise Gelatine zur Herstellung von Silberhalogenidteilchen verwendet. Als Gelatine können verschiedene Gelatinen verwendet werden, wie beispielsweise säurebehandelte Gelatine und alkalibehandelte Gelatine. Auch modifizierte Gelatinen hiervon (z.B. phthalalierte Gelatine und amidierte Gelatine) können verwendet werden. Ferner kann eine hydrophile hochmolekulargewichtige Verbindung, wie beispielsweise Polyvinylpyrrolidon, verschiedene Stärken, Albumin, Polyvinylalkohol, Gummi arabicum und Hydroxyethylcellulose, enthalten sein. Als zu verwendendes hydrophiles Kolloid wird wünschenswerterweise ein hydrophiles Kolloid verwendet, das im wesentlichen keinen Härter enthält.

Die erfindungsgemäss zu verwendende Silberhalogenid-Emulsionsschicht enthält vorzugsweise 70 Gew.% oder weniger, weiter bevorzugt 60 bis 20 Gew.%, eines hydrophilen Kolloids auf Basis der Menge des Silberhalogenids in Einheiten von Silbernitrat. Wenn die Silberhalogenid-Emulsionsschicht, die zur Lichtempfindlichkeit beiträgt, zwei oder mehr Schichten umfasst, wird die Menge des hydrophilen Kolloids innerhalb des obigen Bereichs auf Basis des Gesamtgewichts des Silberhalogenids und des durchschnittlichen Gewichtsverhältnisses des hydrophilen Kolloids eingestellt.

In der erfindungsgemässen lithografischen Aluminium-Druckplatte liegt die Beschichtungsmenge an Silberhalogenid in Einheiten von Silbernitrat vorzugsweise innerhalb des Bereichs von 0,5 bis 5 g/m2.

Wenn die oben genannte, hoch silberdichte Emulsion verwendet wird, kann die Beschichtungsmenge an Entwicklungslösung deutlich verringert werden, so dass die Menge der Entwicklungslösung, die zu entsorgen ist, ebenfalls deutlich verringert werden kann. Darüber hinaus wird die Toleranz gegenüber veränderlichen Entwicklungsbedingungen durch Veränderung der Umgebungsbedingungen vergrössert, und die Entwicklungszeit kann verkürzt werden (schnelle Entwicklung). Darüber hinaus kann die Menge an aufzuschichtendem Silberhalogenid deutlich verringert werden, und trotzdem kann eine lithografische Druckplatte mit exzellenten Druckeigenschaften erhalten werden.

Erfindungsgemäss ist es bevorzugt, eine Schutzschicht, die ein hydrophiles Kolloid umfasst, auf der Silberhalogenid-Emulsionsschicht bereitzustellen. Durch Ausbildung der Schutzschicht kann die Entwicklung von der Oberseite der lithografischen Aluminium-Druckplatte, auf die eine Entwicklungslösung aufgeschichtet wird, durchgeführt werden, ohne dass Entwicklungsungleichmässigkeiten hervorgerufen werden, wodurch die Beschichtungsmenge der Entwicklungslösung als Ergebnis der Verbesserungen der Übertragungsgeschwindigkeit und der Übertragungseffizienz verringert werden kann. Ausserdem kann der enge Kontakt mit dem Abschälmittel weiter verbessert und das Abschälen der Emulsionsschicht in vollständigerer Weise innerhalb eines kurzen Zeitraums durchgeführt werden. Ferner wird im wesentlichen keine Abfallösung der Entwicklungslösung erzeugt, und es kann eine lithografische Druckplatte mit exzellenten Druckeigenschaften erhalten werden.

Als hydrophiles Kolloid für die oben genannte Schutzschicht können hydrophile Kolloide, wie beispielsweise verschiedene Arten an Gelatinen, wie sie bei der Silberhalogenidemulsion genannt wurden, Polyvinylpyrrolidon, verschiedene Arten an Stärke, Albumin, Polyvinylalkohol, Gummi arabicum, Hydroxyethylcellulose und dergleichen, einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.

Die Menge des aufzuschichtenden hydrophilen Kolloids für die Schutzschicht liegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 3 g, weiter bevorzugt 0,3 bis 2 g pro m2 der lithografischen Aluminium-Druckplatte. Die Schutzschicht kann eine Mehrzahl an Schichten von zwei oder mehr sein.

Erfindungsgemäss kann eine wasserquellbare Zwischenschicht, wie in den US-PSen 5 068 165 und 5 213 943 beschrieben, oder eine Zwischenschicht, die hydrophobe Polymerkügelchen enthält, wie in den US-PSen 5 273 858 und 5 362 602 beschrieben, zwischen der physikalischen Entwicklungskeimschicht und der Silberhalogenid-Emulsionsschicht bereitgestellt werden.

Die erfindungsgemässe lithografische Aluminium-Druckplatte enthält vorzugsweise eine organische Carbonsäure in mindestens einer Schicht, ausgewählt aus der Silberhalogenid-Emulsionsschicht, der physikalischen Entwicklungskeimschicht, der Schutzschicht und der Zwischenschicht. Es ist weiter bevorzugt, dass die organische Carbonsäure in einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht oder einer Zwischenschicht enthalten ist. Die organische Carbonsäure ist vorzugsweise eine Polycarbonsäure mit zwei oder mehr Carboxygruppen (die als Salz vorliegen können) im Molekül.

Als erfindungsgemäss verwendbare organische Carbonsäure sind beispielsweise eine organische Säure, wie Zitronensäure, Phthalsäure, Salicylsäure, Capronsäure, Adipinsäure, Bernsteinsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, DL-Äpfelsäure, DL-Aspartamsäure, L-Glutaminsäure, Benzoesäure, Zimtsäure, &agr;-Methylzimtsäure, &bgr;-Naphthonsäure, Malonsäure, Erythorbinsäure, Weinsäure usw. zu nennen.

Die Menge dieser organischen Carbonsäure kann in Abhängigkeit von der Art der Carbonsäure, der Schicht, zu der sie hinzugegeben wird, und anderen Bedingungen variieren, sie liegt jedoch üblicherweise im Bereich von 0,01 bis 10 mmol, vorzugsweise 0,05 bis 5 mmol, pro m2 der lithografischen Aluminium-Druckplatte. Die organische(n) Carbonsäure(n) kann/können zu zwei oder mehr Schichten hinzugegeben werden, und die jeweiligen organischen Carbonsäuren können in den jeweiligen Schichten die gleichen oder unterschiedliche sein.

Die erfindungsgemäss zu verwendende Entwicklungslösung kann ein Entwicklungsmittel enthalten, wie beispielsweise Polyhydroxybenzole, einschliesslich Hydrochinon usw., 3-Pyrazolidone, einschliesslich 1-Phenyl-3-pyrazolidinon und dessen Derivate; eine alkalische Substanz, wie beispielsweise Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat und Aminverbindungen; ein Konservierungsmittel, wie beispielsweise Natriumsulfit; einen Viskositätsmodifikator, wie beispielsweise Carboxymethylcellulose; ein Antischleiermittel, wie beispielsweise Kaliumbromid; einen Entwicklungsmodifikator, wie beispielsweise Polyoxyalkylenverbindungen; einen Chelatbildner, wie beispielsweise Ethylendiamintetraessigsäure; ein Silberhalogenid-Lösungsmittel, wie beispielsweise Thiosulfate, einschliesslich Natriumthiosulfat, Kaliumthiosulfat usw., 2-Mercaptobenzoesäure und dessen Derivate, cyclische Imide, einschliesslich Uracil, Alkanolamin, Diamin, mesoionische Verbindungen, Thioether und dergleichen. Der pH-Wert der Entwicklungslösung beträgt üblicherweise etwa 11 bis 14, vorzugsweise etwa 12 bis 13,5.

Es ist bevorzugt, eine weitere Verbindung (oleophiles Mittel) zuzugeben, damit der Silberbildbereich oleophil wird. Als oleophiles Mittel können die Verbindungen genannt werden, die auf den Seiten 105 bis 106 von André Rott und Edith Weyde, "Photographic Silver Halide Diffusion Processes", veröffentlicht von Focal Press, London und New York (1972), offenbart sind. Beispielsweise sind eine Verbindung mit einer Mercaptogruppe oder einer Thiongruppe, eine quaternäre Ammoniumgruppe usw. zu nennen, und eine Verbindung mit einer Mercaptogruppe oder einer Thiongruppe wird erfindungsgemäss bevorzugt verwendet. Eine besonders bevorzugte Verbindung ist eine stickstoffhaltige heterocyclische Ringverbindung mit einer Mercaptogruppe oder einer Thiongruppe, die in JP-PS 29723/1973 und JP-OS 12928/1983 offenbart ist.

In dem erfindungsgemässen Entwicklungssystem ist, wie oben festgestellt, eine Beschichtungsentwicklung bevorzugt, und Beschichtungsvorrichtungen für eine Entwicklungslösung, wie beispielsweise in den JP-OSen 76603/1973, 289343/1993, 27680/1994, 27682/1994, 62952/1998 und 62951/1998 offenbart, werden bevorzugt verwendet. Gemäss der Erfindung ist die Beschichtungsentwicklung stärker bevorzugt, sie ist jedoch nicht ausschliesslich auf die Beschichtungsentwicklung beschränkt, und die Entwicklung kann eine Tauchentwicklung aus dem Stand der Technik sein.

In der lithografischen Aluminium-Druckplatte werden die Gelatine und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht im wesentlichen nicht gehärtet, so dass die absorbierte Menge an Entwicklungslösung relativ gross wird. Zur Verringerung der Menge an Abfallentwicklungslösung auf im wesentlichen Null und zur Abschälung der hydrophilen Kolloidschicht, wie beispielsweise der Silberhalogenid-Emulsionsschicht, in einer effizienten Weise innerhalb eines kurzen Zeitraums ist es bevorzugt, dass die Menge an Entwicklungslösung etwa 50 ml oder weniger, besonders bevorzugt etwa 10 bis 40 ml pro Gramm des hydrophilen Kolloids der lithografischen Druckplatte, mit der das Abschälmittel in engen Kontakt gebracht wird, beträgt.

Die auf der Oberfläche der lithografischen Druckplatte vorliegende Entwicklungslösung kann mit einem Quetschmittel (z.B. Gummiwalzen) vor dem Abschälschritt abgequetscht werden, in Abhängigkeit von dem Aufbau der lithografischen Druckplatte, der Zusammensetzung der Entwicklungslösung und dergleichen.

Die Temperatur der Entwicklungslösung liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 15 bis 40°C, und die Entwicklungszeit kann innerhalb des Bereichs von etwa 5 bis 40 Sekunden variieren. Diese Bedingungen können gegebenenfalls in Abhängigkeit von dem Aufbau der lithografischen Aluminium-Druckplatte, der Zusammensetzung der Entwicklungslösung und dergleichen bestimmt werden.

In dem erfindungsgemäss vorzugsweise zu verwendenden Entwicklungssystem wird nur die für die Entwicklung notwendige Entwicklungslösung aufgeschichtet. Folglich wird die Menge, um die das Aluminiumoxid durch Auflösung in der Entwicklungslösung verringert wird, reduziert, beispielsweise auf 0,6 g oder weniger, vorzugsweise 0,5 g oder weniger pro m2 der lithografischen Druckplatte, wodurch eine lithografische Aluminium-Druckplatte mit exzellenter Druckdauerhaftigkeit erhalten werden kann.

Zum Zeitpunkt der Beendigung der Entwicklung wird das oben genannte Abschälmittel auf die Oberfläche der lithografischen Druckplatte aufgebracht. Wenn ein hydrophiles Kolloid, wie beispielsweise Gelatine usw. auf der Aluminiumplatte verbleibt, werden in dem Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Aluminium-Druckplatte die tintenaufnehmende Eigenschaft und die Druckdauerhaftigkeit verschlechtert, weshalb der Abschälschritt des Entfernens der Silberhalogenid-Emulsionsschicht usw. nach der Entwicklung ein extrem wichtiger Schritt für die Druckeigenschaften der lithografischen Aluminium-Druckplatte darstellt.

Die hiesigen Erfinder haben ernsthafte Studien bezüglich des oben genannten Abschälblattes angestellt und haben im Ergebnis die überraschende Tatsache herausgefunden, dass die Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit innerhalb eines kurzen Zeitraums und die Flüssigkeitsabsorptionskapazität innerhalb eines kurzen Zeitraums extrem wichtig sind. In der vorliegenden Beschreibung kennzeichnet die Flüssigkeitsabsorptionsmenge des Abschälmittels die Flüssigkeitsabsorptionsmenge an Flüssigkeit, die in der abzuschälenden hydrophilen Kolloidschicht und an deren oberer Oberfläche zurückgehalten wird, und in der lithografischen Aluminium-Druckplatte bedeutet sie vorzugsweise eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge an Entwicklungslösung. Es kann eine gemischte Lösung aus Entwicklungslösung und Wasser oder einer sauren wässrigen Lösung sein, die auf die Oberfläche der lithografischen Druckplatte zum Zweck der Benetzung oder Neutralisation nach der Entwicklung (vor dem Abschälen) aufgebracht wird.

Das erfindungsgemässe Abschälmittel umfasst ein Material mit einer hohen Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit, wobei die Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit einer Flüssigkeit 60 oder mehr auf Basis der Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,2 Sekunden nach demselben beträgt, vorzugsweise 70 bis 100 %. Darüber hinaus ist das erfindungsgemässe Abschälmittel ein Material, das zusätzlich zu der oben genannten Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge oder -kapazität bei 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit einer Flüssigkeit von 10 ml oder mehr, vorzugsweise 15 ml oder mehr, besonders bevorzugt 20 ml oder mehr (der obere Grenzwert ist nicht besonders festgelegt, jedoch vorzugsweise bis zu 80 ml) pro m2 des Abschälmittels zeigt. Die Flüssigkeitsabsorptionskapazität hängt auch von der Menge der durch die hydrophile Kolloidschicht zurückgehaltenen Flüssigkeit ab. Folglich kann festgestellt werden, dass dies besonders bevorzugte Eigenschaften bei der Herstellung einer lithografischen Aluminium-Druckplatte darstellen, der etwa 20 ml oder mehr einer Entwicklungslösung pro m2 der lithografischen Druckplatte aufgeschichtet werden. Die erfindungsgemässe Flüssigkeitsabsorptionsmenge kann beispielsweise gemessen werden mit einer Messvorrichtung nach dem Bristow-Verfahren (z.B. einem dynamischen Scanning-Flüssigkeitsabsorptionsmessgerät). Das Bristow-Verfahren ist allgemein bekannt als Verfahren zur Messung der Absorptionsmenge einer Flüssigkeit innerhalb einer extrem kurzen Zeit nach dem Kontaktieren mit der Flüssigkeit im Bereich der Tintenstrahl-Aufzeichnungsmaterialien und ist beispielsweise in JP-OS 235865/1999 beschrieben.

Das erfindungsgemässe Abschälmittel ist nicht sonderlich beschränkt, solange es die oben genannten Eigenschaften aufweist, und ein besonders bevorzugtes Beispiel ist ein Material mit einer Schicht, in der feine Teilchen durch ein Bindemittel dispergiert sind. Als feine Teilchen können anorganische und organische feine Teilchen verwendet werden, und beispielsweise sind anorganische feine Teilchen, wie beispielsweise leichtes (synthetisches) Calciumcarbonat, schweres (natürliches) Calciumcarbonat, Kaolin, Talk, Calciumsulfat, Bariumsulfat, Titandioxid, Zinkoxid, Zinksulfid, Zinkcarbonat, Satinweiss, Aluminiumsilicat, Diatomeenerde, Calciumsilicat, Magnesiumsilicat, synthetisches amorphes Silica, kolloidales Silica, kolloidales Alumina, Pseudoboehmit, Aluminiumhydroxid, Aluminium, Lithopon, Zeolith, hydriertes Halosit, Magnesiumcarbonat, Magnesiumhydroxid usw.; und organische feine Teilchen, wie beispielsweise Polystyrol, Polymethylmethacrylat usw., zu nennen.

Die durchschnittliche Teilchengrösse der feinen Teilchen ist üblicherweise eine Primärteilchengrösse von 10 &mgr;m oder weniger und der untere Grenzwert kann eine Primärteilchengrösse von einigen Nanometern sein.

Die Beschichtungsmenge der feinen Teilchen beträgt vorzugsweise 3 g oder mehr, besonders bevorzugt 5 g oder mehr pro 1 m2 des Abschälmittels, und der obere Grenzwert beträgt bis zu etwa 30 g.

Als Bindemittel zur Dispergierung der feinen Teilchen können üblicherweise verschiede Arten bekannter hydrophiler Bindemittel verwendet werden. Beispielsweise sind Gelatine und deren Derivate, Polyvinylpyrrolidon, Pullulan, Polyvinylalkohol und seine Derivate, Polyethylenglykol; Carboxymethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Dextran, Dextrin, Polyacrylsäure und deren Salze, Agar, Carrageenan, Xanthangumi, Johannisbrotgummi, Alginsäure, Gummi arabicum, copolymerisiertes Polymer vom Polyalkylenoxid-Typ, wasserlösliches Polyvinylbutyral, ein Homopolymer oder Copolymer von Vinylmonomeren mit Sulfonsäuregruppe usw. zu nennen.

Das oben genannte Bindemittel wird vorzugsweise in einem geringeren Anteil, bezogen auf die Menge der feinen Teilchen, verwendet, da eine Schicht mit einer hohen Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit erhalten werden kann. Das Gewichtsverhältnis der feinen Teilchen zu dem Bindemittel beträgt üblicherweise vorzugsweise 100:90 bis 100:0,5, weiter bevorzugt 100:70 bis 100:5.

Vorzugsweise wird ein Vernetzungsmittel (ein Härter) in Kombination mit dem oben genannten Bindemittel verwendet. Spezifische Beispiele für Vernetzungsmittel sind Aldehydverbindungen, wie beispielsweise Formaldehyd, Glutaraldehyd usw.; Ketonverbindungen, wie beispielsweise Diacetyl, Chlorpentandion usw.; 2-Hydroxy-4,6-dichlor-1,3,5-triazin; Verbindungen mit einem reaktiven Halogen, wie in US-PS 3 288 775 offenbart; Divinylbenzol; Verbindungen mit einem reaktiven Olefin, wie in US-PS 3 635 718 offenbart; N-Methylolverbindungen, wie in US-PS 2 732 316 offenbart; Isocyanate, wie in US-PS 3 103 437 offenbart; Aziridinverbindungen, wie in den US-PSen 3 017 280 und 2 983 611 offenbart; Carbodiimidverbindungen, wie in US-PS 3 100 704 offenbart; Epoxyverbindungen, wie in US-PS 3 091 537 offenbart; Halogencarboxyaldehyde, wie Mucochlorsäure; Dioxanderivate, wie Dihydroxydioxan; anorganische Vernetzungsmittel, wie Chromalaun, Zirkonsulfat, Borsäure, Borate und dergleichen und diese Verbindungen können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.

Zur Beschichtung einer Schicht, die die feinen Teilchen in einem Bindemittel enthält, ist es bevorzugt, mindestens ein Tensid, wie beispielsweise ein anionisches, kationisches, nichtionisches oder Betaintyp-Tensid zur Beschichtungslösung zur Herstellung der Schicht zuzugeben.

Die Schicht kann eine Einzelschicht oder zwei oder mehrere Schichten enthalten. Ferner kann unter der Schicht eine Schicht ohne feine Teilchen bereitgestellt werden.

Das Substrat für das Abschälblatt kann entweder ein transparentes oder ein opakes Substrat sein. Beispiele sind nicht-beschichtete Papiere, wie beispielsweise holzfeines Papier, Holzschliffpapier, mittelfeines Druckpapier, superkalanderbehandeltes Papier, einseitiges Kunstdruckpapier, Transparentpapier usw.; beschichtete Papiere, wie beispielsweise Kunstpapier, beschichtetes Papier, leicht beschichtetes Papier, feinbeschichtetes Papier, gussbeschichtetes Papier usw.; ein Papier, das mit einem Harz, wie beispielsweise Polyethylen usw. beschichtet ist, nicht-gewebter Stoff, gewebter Stoff, Polyesterharz, Polycarbonatharz, Celluloseacetatharz, Acrylharz, Cellophan, Aluminiumfolie und ein zusammengesetztes Substrat aus mindestens zwei der oben genannten Materialien.

Die Dicke des Substrats ist nicht beschränkt und liegt üblicherweise im Bereich von 100 bis 500 &mgr;m, vorzugsweise 30 bis 300 &mgr;m.

Das Abschälblatt kann ein blattförmiges Material mit im wesentlichen der gleichen Grösse wie die lithografische Druckplatte sein, jedoch ist es zur Bewirkung einer kontinuierlichen Verarbeitung in einer Plattenherstellungsvorrichtung bevorzugt, ein kontinuierliches Material in Rollenform, wie in 1 gezeigt, zu verwenden. Das Abschälblatt in kontinuierlicher Längsrollenform läuft vorzugsweise von Rolle zu Rolle. Das heisst, das Abschälblatt (2) in kontinuierlich in Längsrichtung aufgewickelter Form wird von einer Masterrolle (5) zugeführt, mit Quetschwalzen (3) in engen Kontakt mit einer lithografischen Druckplatte gebracht, und nach dem Abschälen der Silberhalogenid-Emulsionsschicht usw. rollenförmig (6) aufgewickelt.

Erfindungsgemäss ist die Zeit vom Aufbringen des Abschälmittels auf die Silberhalogenid-Emulsionsschicht bis zum Abschälen derselben nicht sonderlich beschränkt, wenn die Kontaktzeit jedoch zu lange ist, wie beispielsweise 10 oder mehr Sekunden bis zu mehreren 10 Sekunden, so wird die Beschichtungsschicht des Abschälblattes in unerwünschter Weise abgeschält. Daher liegt die Kontaktzeit vorzugsweise innerhalb von etwa 5 Sekunden, weiter bevorzugt innerhalb von 3 Sekunden, im Fall der oben genannten kontinuierlich in Längsrichtung aufgerollten Form.

Zur Unterbrechung des Fortschreitens der Entwicklung oder anderer Verarbeitung kann erfindungsgemäss eine Neutralisierungs- oder Stabilisierungsverarbeitung vor oder nach dem Abschälschritt durchgeführt werden. Das oben genannte oleophile Mittel kann in der Neutralisierungslösung enthalten sein. Wenn die Neutralisierungslösung verwendet wird, ist es wünschenswert, die notwendige Menge durch Verwendung einer Beschichtungsvorrichtung aufzubringen, so das die Abfallösung so gering wie möglich gehalten wird.

Zur Erhöhung der jeweiligen Oleophilizität und Hydrophilizität und zum Schutz der Oberfläche der Platte wird auf den Silberbildbereich und den Nicht-Bildbereich, die auf der lithografischen Aluminium-Druckplatte offenliegen, eine Verarbeitung mit einer Finishinglösung durchgeführt. Erfindungsgemäss ist es bevorzugt, die Finishinglösung unter Verwendung einer Beschichtungsvorrichtung aufzubringen. Es ist bevorzugt, der Finishinglösung Schutzkolloide, wie beispielsweise Gummi arabicum, Dextrin, Natriumalginat, Propylenglykolester von Alginsäure, Hydroxyethylstärke, Carboxymethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Polyvinylpyrrolidon, Polystyrolsulfonsäure, Polyvinylalkohol usw.; zuzugeben, wodurch die Hydrophilizität der anodisierten Schicht im Nicht-Bildbereich geschützt und verbessert wird. Ferner ist es bevorzugt, die oben genannten oleophilen Mittel oder Enzyme zuzufügen, wodurch die Oleophilizität des Bildbereichs weiter verbessert wird.

Das erfindungsgemässe Abschälmittel ist nicht nur auf die lithografische Aluminium-Druckplatte beschränkt, sondern kann auch im Fall einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht einer lithografischen Druckplatte, wie beispielsweise in JP-OS 25739(1981 usw. beschrieben, angewandt werden.

Eine weitere erfindungsgemässe Ausführungsform ist die Anwendung bei einem empfindlichen Material mit einer lichtempfindlichen Nicht-Silberschicht (eine lichtempfindliche Schicht, die eine lichtempfindliche Zusammensetzung umfasst, die kein Silbersalz enthält). Die vorliegende Erfindung kann vorzugsweise bei einer lithografischen Druckplatte angewandt werden, die eine lichtempfindliche Zusammensetzung umfasst.

Das oben genannte lichtempfindliche Material ist ein Material, das eine lichtempfindliche Schicht aufweist, die eine Veränderung der Löslichkeit gegenüber einer alkalischen Lösung im belichteten Bereich oder nicht-belichteten Bereich durch Belichtung hervorruft, und die oben genannten herkömmlicherweise bekannten, lichtempfindlichen Materialien sind hierin eingeschlossen. Dementsprechend ist es bezüglich eines Bindemittels hierfür bevorzugt, eine Löslichkeit in einer wässrigen Alkalilösung aufzuweisen. Genauer ist ein Polymer, das ein carboxylgruppenhaltiges Monomer als copolymerisierbare Komponente enthält, bevorzugt. Das Verhältnis des carboxylgruppenhaltigen Monomers in den copolymerisierbaren Komponenten beträgt vorzugsweise 3 bis 99 Gew.%. Wenn die Menge unterhalb des obigen Bereichs liegt, kann das resultierende Copolymer in einigen Fällen nicht in einer wässrigen Alkalilösung aufgelöst werden.

Als das oben genannte carboxylgruppenhaltige Monomer sind beispielsweise Acrylsäure, Methacrylsäure, 2-Carboxyethylacrylat, 2-Carboxyethylmethacrylat, Chrotonsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Monoalkylmaleat, Monoalkylfumarat, 4-Carboxystyrol usw. zu nennen.

Ferner ist es bevorzugt, ein multidimensionales Copolymer durch Inkorporierung einer anderen Monomerkomponente als des carboxylgruppenhaltigen Monomers in das Copolymer herzustellen und zu verwenden. Ein solches Monomer, das in das Copolymer inkorporiert werden kann, kann Styrolderivate einschliessen, wie beispielsweise Styrol, 4-Methylstyrol, 4-Hydroxystyrol, 4-Acetoxystyrol, 4-Carboxystyrol, 4-Aminostyrol, Chlormethylstyrol, 4-Methoxystyrol usw.; Alkylmethacrylate, wie beispielsweise Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Butylmethacrylat, Hexylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Dodecylmethacrylat usw.; Arylmethacrylate oder Alkylarylmethacrylate, wie beispielsweise Phenylmethacrylat, Benzylmethacrylat usw.; Methacrylate, die eine Alkylenoxygruppe enthalten, wie beispielsweise 2-Hydroxyethylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat, Methoxydiethylenglykolmethacrylat, Methoxypolyethylenglykolmethacrylat, Polypropylenglykolmethacrylat usw.; Methacrylate, die eine Aminogruppe enthalten, wie beispielsweise 2-Dimethylaminoethylmethacrylat, 2-Diethylaminoethylmethacrylat usw.; Acrylate, die den oben genannten Methacrylaten entsprechen; Monomere mit einer Phosphorsäuregruppe, wie beispielsweise Vinylphosphonsäure usw.; aminogruppenhaltige Monomere, wie beispielsweise Allylamin, Diallylamin usw.; Vinylsulfonsäure und deren Salze; Allylsulfonsäure und deren Salze; Methallylsulfonsäure und deren Salze; Styrolsulfonsäure und deren Salze; Monomere, die Sulfonsäuregruppen enthalten, wie beispielsweise 2-Acrylamido-2-methylpropansulfonsäure und deren Salze; Monomere, die einen stickstoffhaltigen heterocyclischen Ring enthalten, wie beispielsweise 4-Vinylpyridin, 2-Vinylpyridin, N-Vinylimidazol, N-Vinylcarbazol usw.; Monomere, die eine quaternäre Ammoniumsalzgruppe enthalten, wie beispielsweise 4-Vinylbenzoltrimethylammoniumchlorid, Acryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, Methacryloxyethyltrimethylammoniumchlorid, ein quaternäres Produkt von Dimethylaminopropylacrylamid mit Methylchlorid, ein quaternäres Produkt von N-Vinylimidazol mit Methylchlorid, 4-Vinylbenzylpyridiniumchlorid usw.; Acrylnitril, Methacrylnitril; Acrylamid- oder Methacrylamidderivate, wie beispielsweise Acrylamid, Methacrylamid, Dimethylacrylamid, Diethylacrylamid, N-Isopropylacrylamid, Diacetonacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Methoxyethylacrylamid, 4-Hydroxyphenylacrylamid usw.; Phenylmaleimid, Hydroxyphenylmaleimid; Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylpropionat, Vinylbutyrat, Vinylstearat, Vinylbenzoat usw.; Vinylether, wie Methylvinylether, Butylvinylether usw.; und andere verschiedene Monomerarten, wie beispielsweise N-Vinylpyrrolidon, Acryloylmorpholin, Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Allylalkohol, Vinyltrimethoxysilan, Glycidylmethacrylat und dergleichen. Der Anteil dieser Monomere in dem Copolymer kann optional gewählt werden, solange der Anteil des carboxylgruppenhaltigen Monomers in dem oben genannten Copolymer beibehalten wird.

Das Molekulargewicht des oben genannten Polymers liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 1.000 bis 1.000.000, weiter bevorzugt etwa 10.000 bis 200.000 in Einheiten des Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewichts.

Ein Beispiel für das erfindungsgemäss zu verwendende lichtempfindliche Material ist von dem Typ, worin eine Vernetzung durch Zersetzung eines Fotopolymerisationsinitiators, der ein Radikal bildet, auftritt, und die Alkalibeständigkeit, Lösungsmittelbeständigkeit und dergleichen im vernetzten Bereich, der zum Abbild-ausbildenden Bereich wird, verbessert wird, da der vernetzte Bereich nicht durch die Einwirkung von starkem Alkali oder dergleichen hydrolysiert wird.

Beispiele für den Fotopolymerisationsinitiator, der ein Radikal bildet, können beliebige Verbindungen einschliessen, die durch Fotoirridation ein Radikal erzeugen, und sind vorzugsweise Trihaloalkyl-substituierte stickstoffhaltige, heterocyclische Verbindungen, wie beispielsweise s-Triazinverbindungen und Oxadiazolderivate; Trihaloalkylsulfonylverbindungen; kationische Farbstoffe, die einen Borkomplex als Paaranion enthalten; eine Kombination aus einem kationischen Farbstoff und einer quaternären Salzverbindung, die einen Boratkomplex enthält; Hexaarylbisimidazol; Titanocenverbindungen; Ketoximverbindungen; Thioverbindungen; organische Peroxide und dergleichen. Ein Beispiel für den Fotopolymerisationsinitiator ist ein Fotoradikal-erzeugendes Mittel. Wenn die Trihaloalkylsubstituierten stickstoffhaltigen heterocyclischen Verbindungen oder die Trihaloalkylsulfonylverbindungen, wie oben genannt, als Fotoradikal-erzeugendes Mittel verwendet werden, so können diese alleine verwendet werden, falls sie eine Absorptionswellenlänge innerhalb der Wellenlängen der Belichtungslichtquelle aufweisen. Wenn der Absorptionswellenlängenbereich der Triazinverbindung ausserhalb des Wellenlängenbereichs der Belichtungslichtquelle liegt, wird vorzugsweise ein Farbstoff zur Absorption von Licht im Wellenlängenbereich der Lichtquelle zugegeben. Als ein solcher Farbstoff sind verschiedene Farbstoffe zu nennen, einschliesslich Methin, Polymethin, Triarylmethan, Indolin, Azin, Thiazin, Xanthen, Oxazin, Acridin, Cyanin, Carbocyanin, Hemicyanin, Rhodamin, Azamethin usw..

Zusätzlich zu den oben genannten jeweiligen Komponenten können vorzugsweise andere Komponenten zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung für verschiedene Zwecke hinzugegeben werden. Verschiedene Arten an Polymerisationsinhibitoren können besonders bevorzugt zum Zweck der Verhinderung der thermischen Polymerisation oder des thermischen Vernetzens und zur Verbesserung der Konservierung der Zusammensetzung über einen langen Zeitraum hinzugegeben werden. Als in diesem Fall zu verwendende Polymerisationsinhibitoren werden vorzugsweise Verbindungen verwendet, die verschiedene Arten an phenolischen Hydroxylgruppen aufweisen, wie beispielsweise Hydrochinone, Catechole, Naphthole, Kresole usw.; sowie Verbindungen vom Chinontyp und besonders bevorzugt Hydrochinon. Die Menge des zuzugebenden Polymerisationsinhibitors liegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-Teilen auf Basis von 100 Gew.-Teilen der Polymerkomponente.

Als lichtempfindliches Material, in dem die Radikalpolymerisation unter Verwendung eines Fotopolymerisationsinitiators (oder Fotoradikalerzeugers) angewandt wird, ist ein System, das ein (polyfunktionelles) Acrylatmonomer einschliesst, allgemein bekannt. In diesem Fall verwendbare Acrylatmonomere sind beispielsweise monofunktionelle Acrylmonomere, wie beispielsweise Butylacrylat, Isobutylacrylat, Laurylacrylat, Cetylacrylat, Stearylacrylat, Cyclohexylacrylat, Isonorborbornylacrylat, Benzylacrylat, 2-Phenoxyethylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat, 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Methoxyethylacrylat usw.; polyfunktionelle Acrylmonomere, wie beispielsweise 1,4-Butandioldiacrylat, 1,6-Hexandioldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Trisacryloyloxyethylisocyanurat, Tripropylenglykoldiacrylat, Ethylenglykolglycerintriacrylat, Glycerinepoxytriacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Pentaerythritoltriacrylat, Pentaerythritoltetraacrylat usw.; und dergleichen.

Als Elemente, die die lichtempfindliche Zusammensetzung bilden, können andere Elemente für verschiedene Zwecke zusätzlich zu den oben genannten Elementen zugegeben werden. Vorzugsweise werden verschiedene Arten an Farbstoffen oder Pigmenten zu der Zusammensetzung zur Erhöhung der Erkennbarkeit der Eigenschaften eines Abbildes mit dem Auge zugegeben, oder verschiedene Arten an anorganischen oder organischen feinen Teilchen werden zur Verhinderung der Blockierung der lichtempfindlichen Zusammensetzung zugegeben. Ferner können zum Schutz der lichtempfindlichen Schicht eine andere Schicht oder andere Schichten, die an die lichtempfindliche Schicht angrenzen, bereitgestellt werden.

Die Dicke der lichtempfindlichen Schicht selbst, die auf einem Träger ausgebildet ist und als lithografische Druckplatte verwendet werden soll, liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 0,5 bis 10 &mgr;m, besonders bevorzugt 1 bis 5 &mgr;m, in Einheiten der Trockenfilmdichte, wodurch die Druckdauerhaftigkeit deutlich verbessert wird. Die lichtempfindliche Schicht kann durch Herstellung einer Lösung durch Vermischen verschiedener Komponenten, wie oben angegeben, Aufschichten auf einen Träger unter Verwendung herkömmlich bekannter, verschiedener Beschichtungssysteme und Trocknen ausgebildet werden. Als Träger kann beispielsweise eine Folie oder ein Polyethylen-beschichtetes Papier verwendet werden. Ein bevorzugter Träger ist eine gekörnte und anodisierte Aluminiumplatte.

Zur Verwendung eines Materials mit der lichtempfindlichen Schicht, die auf dem Träger ausgebildet ist, wie oben angegeben, als Druckplatte, wird eine Adhäsionsbelichtung oder Laserstrahlrasterbelichtung durchgeführt. Die Löslichkeit im belichteten Bereich in einer alkalischen Entwicklungslösung nimmt aufgrund der Vernetzung im belichteten Bereich ab, so dass der unbelichtete Bereich durch die alkalische Entwicklungslösung aufgelöst wird, wodurch ein Muster ausgebildet wird.

Die alkalische Entwicklungslösung ist nicht sonderlich beschränkt, solange es eine Lösung ist, die in der Lage ist, das Polymer oder das Bindemittelharz der vorliegenden Erfindung aufzulösen. Besonders bevorzugt ist eine wässrige Lösung, worin mindestens eine alkalische Verbindung, wie beispielsweise Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natriummetasilicat, Kaliummetasilicat, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Triethylammoniumhydroxid usw., aufgelöst ist, da eine solche Lösung in guter Weise selektiv den unbelichteten Bereich auflösen kann, und die Oberfläche des Trägers unter dem unbelichteten Bereich freilegt. Ferner werden verschiedene Arten an Alkoholen, wie beispielsweise Ethanol, Propanol, Isopropanol, Ethylenglykol, Diethylenglykol, Triethylenglykol, Glycerin, Benzylalkohol usw., vorzugsweise zu der alkalischen Entwicklungslösung einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren hinzugegeben. Nach der Durchführung der Entwicklungsbehandlung unter Verwendung einer solchen alkalischen Entwicklungslösung wird üblicherweise eine Gummibeschichtung unter Verwendung von Gummi arabicum usw. darauf durchgeführt.

Erfindungsgemäss ist das Timing zur Anwendung des Abschälmittels auf dem lichtempfindlichen Material der Zeitpunkt, zu dem die lichtempfindliche Schicht im belichteten oder nicht-belichteten Bereich des lichtempfindlichen Materials durch das Abschälmittel entfernbar wird, nachdem die lichtempfindliche Schicht durch die alkalische Entwicklungslösung teilweise aufgelöst (oder gequollen) oder vollständig aufgelöst ist. Unter den oben genannten Gesichtspunkten ist es bevorzugt, das Beschichtungsentwicklungssystem anzuwenden, worin die notwendige Menge an Entwicklungslösung auf die obere Oberfläche des lichtempfindlichen Materials aufgeschichtet und darauf gehalten wird. Die Menge an aufzuschichtender Entwicklungslösung beträgt vorzugsweise etwa 20 bis 100 ml, weiter bevorzugt 30 bis 80 ml pro m2 an lichtempfindlichem Material.

Erfindungsgemäss ist der Zeitpunkt zur Anwendung des Abschälmittels zum Abschälen der lichtempfindlichen Schicht nicht beschränkt. wenn die Kontaktzeit zu lang ist, wie beispielsweise einige 10 Sekunden, so wird die Beschichtungsschicht des Abschälblattes in unerwünschter Weise abgeschält. Daher ist es in dem oben genannten Fall des kontinuierlich in Längsrichtung aufgerollten Zustands bevorzugt, das Abschälen mit einer Kontaktzeit von innerhalb von 5 Sekunden, besonders bevorzugt innerhalb von 3 Sekunden, durchzuführen.

BEISPIELE

Nachfolgend wird die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme auf Beispiele erläutert.

BEISPIEL 1

Nach dem in US-PS 5 427 889 beschriebenen Verfahren, das hierin durch Bezugnahme eingeschlossen ist, wurden eine elektrolytische Aufrauhbehandlung und eine Anodisierung an einem Aluminiumträger durchgeführt, wodurch ein Aluminiumträger mit einer Dicke von 0,03 bis 0,30 &mgr;m erhalten wurde, bei dem Vertiefungen mit einem Durchmesser von 0,03 bis 0,3 &mgr;m ausgebildet wurden, mit etwa 5.600 pro 100 &mgr;m2 auf einem Plateau mit einem durchschnittlichen Durchmesser von etwa 5 &mgr;m, und die Vertiefung hat einen durchschnittlichen Durchmesser von 0,08 &mgr;m. Dieser Aluminiumträger wurde nach der Oberflächenaufrauhungsbehandlung einer Anodisierung unterzogen, und die Menge an Aluminiumoxid betrug 2,5 g/m2 und die durchschnittliche Rauhigkeit (Ra), gemessen gemäss JIS B 0601 (1994) betrug 0,5 bis 0,6 &mgr;m.

Auf den Aluminiumträger wurde eine Palladiumsulfid-Keimschicht aufgeschichtet und dann getrocknet. Die Menge an in der physikalischen Entwicklungskeimschicht enthaltenen Keimen betrug 3 mg/m2.

Als hydrophiles Kolloid wurde alkalibehandelte Gelatine verwendet. Als Silberhalogenidemulsion wurde eine Silberchloriodbromidemulsion, die 15 mol-% Silberbromid und 0,4 mol-% Silberiodid enthielt und eine durchschnittliche Teilchengrösse von 0,2 &mgr;m aufwies, und die mit 0,006 mmol Kaliumhexachloriridat(IV) pro Mol Silber dotiert war, nach dem gesteuerten Doppelstrahlverfahren hergestellt. Anschliessend wurde die Emulsion ausgeflockt und gewaschen. Darüber hinaus wurde nach Durchführung einer Schwefel-Gold-Sensibilisierung ein Stabilisator zu der Emulsion zugegeben und dann unter Verwendung von 3 mg eines rotempfindlichen Sensibilisierungsfarbstoffs pro 1 g Silber spektralsensibilisiert.

Zu der so hergestellten Silberhalogenidemulsion wurde ein Tensid hinzugegeben, wodurch eine Beschichtungslösung erhalten wurde. Diese Beschichtungslösung für eine Emulsionsschicht wurde auf dem Aluminiumträger, auf dem die oben genannten physikalischen Entwicklungskerne aufgeschichtet wurden, aufgeschichtet, so dass die Menge an Silber 2,2 g/m2 (was 3,46 g in Einheiten von Silbernitrat entspricht) und die Gelatinemenge 2,2 g/m2 betrug, gefolgt von Trocknen, wodurch ein lithografisches Druckmaterial erhalten wurde.

Auf dem so hergestellten lithografischen Druckmaterial (A2-Format) wurde ein Bild mit einer Ausgabevorrichtung mit einem roten LD-Laser bei 633 nm als Lichtquelle ausgegeben. Dann wurde das lithografische Druckmaterial mit einer Entwicklungsvorrichtung zur Plattenherstellung, wie in 1 angegeben, entwickelt, wodurch eine lithografische Druckplatte erhalten wurde.

Die Zusammensetzungen der Entwicklungslösung, der Neutralisierungslösung und der Finishinglösung, die in dieser Entwicklung verwendet wurden, sind unten angegeben.

Die Entwicklungslösung wurde unter Verwendung des in 1 gezeigten Beschichtungsgeräts (1) so aufgeschichtet, dass die Menge 30 ml/g Gelatine im lithografischen Druckmaterial (P) betrug. Die Temperatur der Entwicklungslösung betrug 25°C. 15 Sekunden nach dem Aufschichten der Entwicklungslösung wurde die Masterrolle (5) des Abschälblattes so bewegt, dass das aufgerollte Abschälblatt (2) durch Quetschwalzen (3) in engen Kontakt mit der Oberfläche der lithografischen Druckplatte gebracht und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht abgeschält wurde. Anschliessend wurde das Abschälblatt (2) auf der Rolle (6) aufgerollt. Gummiwalzen (4) wurden nicht verwendet. Das Abschälblatt war ein aufgewickeltes Abschälblatt mit einer feinen Teilchenschicht, die hergestellt wurde durch Aufschichten einer wässrigen Dispersion, worin 100 Gew.-Teile Silica und 30 Gew.-Teile Gelatine in Wasser dispergiert waren, auf einem Polyethylenharz-beschichteten Papier. Trotz der sehr kurzen Kontaktzeit (etwa 1 Sekunde oder kürzer) wurde die gesamte Silberhalogenid-Emulsionsschicht auf die Beschichtungsschicht des aufgewickelten Abschälblattes übertragen. Abfallflüssigkeit aus Entwicklungslösung wurde im wesentlichen nicht erzeugt.

Anschliessend wurden die Neutralisationslösung und die Finishinglösung nacheinander unter Verwendung der gleichen Vorrichtung, die in der Entwicklungsprozedur verwendet wurde, aufgeschichtet. Zwischen der Neutralisationslösungs-Beschichtungsvorrichtung (in der Figur nicht gezeigt) und der Finishinglösungs-Beschichtungsvorrichtung (in der Figur nicht gezeigt) und nach der Finishinglösungs-Beschichtungvorrichtung wurden Trocknungsvorrichtungen (in der Figur nicht gezeigt) bereitgestellt, so dass die Neutralisationslösung und die Finishinglösung getrocknet wurden. Die Beschichtungsmengen der Neutralisierungslösung und der Finishinglösung betrugen jeweils 20 ml/m2 der lithografischen Druckplatte.

Folglich konnten die Plattenherstellungsprozeduren durchgeführt werden, ohne dass wesentliche Mengen an Abfallflüssigkeiten zwischen der Entwicklungsverarbeitung und der Finishingverarbeitung erzeugt wurden. Mit der so hergestellten lithografischen Druckplatte wurde unter Verwendung eines Heidelberg TOK-Druckers (Warenzeichen, eine Offset-Druckpresse, hergestellt von Heidelberg Co.), Tinte (New Champion Black H, Warenzeichen, hergestellt von Dainippon Ink Co., Japan) und kommerziell erhältlicher Benetzungslösung für eine PS-Platte gedruckt. Im Ergebnis zeigte sich die lithografische Druckplatte als exzellent hinsichtlich der tintenaufnehmenden Eigenschaften und hatte eine hohe Druckdauerhaftigkeit von 100.000 Blatt oder mehr.

BEISPIEL 2

Die in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellte Entwicklungslösung wurde auf ein lithografisches Druckmaterial in einer Menge von 40 ml/g Gelatine aufgeschichtet und 15 Sekunden später wurde die Masterrolle (5) des Abschälblattes so bewegt, dass das aufgewickelte Abschälblatt (2) mit Abquetschwalzen (3) in engen Kontakt mit der Oberfläche der lithografischen Druckplatte gebracht wurde und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht abgeschält wurde. Die gesamte Silberhalogenid-Emulsionsschicht wurde auf die Beschichtungsschicht des aufgewickelten Abschälblattes übertragen. Es wurde im wesentlichen keine Abfallflüssigkeit der Entwicklungslösung erzeugt.

Anschliessend wurde das Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt und dann gedruckt. Wie in Beispiel 1 war die lithografische Druckplatte hinsichtlich der Tintenaufnahmeeigenschaften exzellent und hatte eine hohe Druckdauerhaftigkeit von 100.000 Blatt oder mehr.

BEISPIEL 3

Die in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellte Entwicklungslösung wurde in einer Menge von 70 ml/g Gelatine auf ein lithografisches Druckmaterial aufgeschichtet und 12 Sekunden später wurden etwa 40 % der aufgeschichteten Entwicklungslösung durch Gummiwalzen (4) entfernt, und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht wurde in gleicher Weise nach 15 Sekunden entfernt. Anschliessend wurde das Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt, und anschliessend gedruckt. Die lithografische Druckplatte hatte exzellente Tintenaufnahmeeigenschaften und eine hohe Druckdauerhaftigkeit von 10.000 Blatt oder mehr.

BEISPIEL 4

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine physikalische Entwicklungskeimschicht auf einem Aluminiumträger aufgeschichtet und getrocknet.

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Silberhalogenidemulsion hergestellt.

Zu der so hergestellten Silberhalogenidemulsion wurde ein Tensid hinzugegeben, wodurch eine Beschichtungslösung hergestellt wurde. Diese Beschichtungslösung für eine Emulsionsschicht wurde auf den Aluminiumträger, auf den die oben genannten physikalischen Entwicklungskeime aufgeschichtet wurden, aufgeschichtet, so dass die Menge an Silber 2 g/m2 (entsprechend 3,15 g in Einheiten von Silbernitrat) und die Gelatinemenge 2 g/m2 betrug, gefolgt von Trocknen, wodurch ein lithografisches Druckmaterial erhalten wurde.

Auf dem so hergestellten lithografischen Druckmaterial (A2-Format) wurde ein Bild mit einer Ausgabevorrichtung mit einem roten LD-Laser bei 633 nm als Lichtquelle ausgegeben. Dann wurde das lithografische Druckmaterial mit einer Entwicklungsvorrichtung zur Plattenherstellung, wie in 1 angegeben, entwickelt, wodurch eine lithografische Druckplatte erhalten wurde.

Die Entwicklungslösung, die Neutralisationslösung und die Finishinglösung waren die gleichen wie in Beispiel 1.

Die Entwicklungslösung wurde unter Verwendung der Beschichtungsvorrichtung (1), wie in 1 gezeigt, so aufgeschichtet, dass deren Menge 70 ml/m2 des lithografischen Druckmaterials (P) betrug. Die Temperatur der Entwicklungslösung betrug 23°C. 15 Sekunden nach dem Aufschichten der Entwicklungslösung wurde die Masterrolle (5) des Abschälblattes so bewegt, dass das aufgerollte Abschälblatt (2) durch Quetschwalzen (3) in engen Kontakt mit der Plattenoberfläche gebracht und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht abgeschält wurde. Anschliessend wurde das Abschälblatt (2) in Rollenform (6) aufgerollt. Es wurden keine Abquetschwalzen (4) verwendet. Zur Herstellung des Abschälblattes wurden die folgenden Materialien verwendet.

Abschälblatt (A): Ein Material mit einer Schicht, die durch Aufschichten einer wässrigen Dispersion, worin 100 Gew.-Teile Trockenverfahren-Silica mit einer durchschnittlichen Korngrösse von 8 nm und 40 Gew.-Teile Polyvinylalkohol in Wasser dispergiert wurden, in einer Polyvinylalkoholmenge von 6 g/m2 hergestellt wurde.

Abschälblatt (B). Ein Material, das eine wässrige Lösung umfasst, die Gelatine und Polyvinylpyrrolidon in einem Gewichtsverhältnis von 1:1 enthält, die auf einem Polyethylenharz-beschichteten Papier in einer Menge der Polymerfeststoffkomponente von 6 g/m2 aufgeschichtet wurde.

Abschälblatt (C): Ein Material, worin eine Gelatineschicht, die 5 Gew.% Silicateilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengrösse von 5 &mgr;m, basierend auf der Menge an Gelatine, enthielt, auf ein Polyethylenharzbeschichtetes Papier in einer Gelatinemenge von 3 g/m2 aufgeschichtet und gehärtet wurde.

Durch Messung unter Verwendung eines dynamischen Scanning-Flüssigkeitsabsorptionsmessgeräts (erhältlich von Kyowa Seiko K.K., Handelsname: KM350D) zeigte das Abschälblatt (A) Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit der oben genannten Entwicklungslösung von 36 ml/m2, und eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,2 Sekunden nach demselben von 43 ml/m2. Das Abschälblatt (B) hatte Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit der oben genannten Entwicklungslösung von 6 ml/m2 und einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,2 Sekunden nach derselben von 13 ml/m2. Das Abschälblatt (C) hatte Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit der oben genannten Entwicklungslösung von 4 ml/m2 und eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,2 Sekunden nach derselben von 9 ml/m2.

Trotz der sehr kurzen Kontaktzeit (etwa 0, bis 0,3 Sekunden, die in Abhängigkeit von der Vortriebsgeschwindigkeit der Platte variieren kann) wurde die gesamte Silberhalogenid-Emulsionsschicht auf die Beschichtungsschicht des aufgerollten Abschälblattes (A) übertragen. Es wurde im wesentlichen keine Abfallflüssigkeit der Entwicklungslösung erzeugt. Im Gegensatz dazu konnte mit den Abschälblättern (B) und (C) keine Abschälung der Emulsionsschicht erzielt werden.

Die lithografische Druckplatte, die unter Verwendung des Abschälblattes (A) abgeschält wurde, wurde dann nacheinander mit der Neutralisationslösung und der Finishinglösung unter Verwendung der gleichen Beschichtungsvorrichtungen wie für die Entwicklungslösung beschichtet. Trocknungsvorrichtungen (in den Figuren nicht gezeigt) wurden zwischen der Neutralisationslösungs-Beschichtungsvorrichtung (in der Figur nicht gezeigt) und der Finishinglösungs-Beschichtungvorrichtung (in der Figur nicht gezeigt) und nach der Finishinglösungs-Beschichtungsvorrichtung bereitgestellt, so dass die Neutralisationslösung und die Finishinglösung getrocknet wurden. Die Beschichtungsmengen der Neutralisationslösung und der Finishinglösung wurden jeweils auf 20 ml/m2 der lithografischen Druckplatte eingestellt.

Auf diese Weise konnten die Plattenherstellungsprozeduren durchgeführt werden, ohne dass wesentliche Mengen an Abfallflüssigkeiten zwischen der Entwicklungsprozedur und der Finishingprozedur erzeugt wurden. Mit der lithografischen Druckplatte, die unter Verwendung des Abschälblattes (A) hergestellt wurde, wurde unter Verwendung eines Heidelberg TOK-Druckers (Warenzeichen, Offset-Druckpresse, hergestellt von Heidelberg Co.), Tinte (New Champion Black H, Warenzeichen, hergestellt von Dainippon Ink Co., Japan) und einer kommerziell erhältlichen Vernetzungslösung für eine PS-Platte gedruckt. Als Ergebnis zeigte die Druckplatte exzellente Tintenaufnahmeeigenschaften und eine hohe Druckdauerhaftigkeit von 100.000 Blatt oder mehr.

BEISPIEL 5

Das Experiment wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 4 durchgeführt, mit dem Unterschied, dass das unten angegebene Abschälblatt verwendet wurde.

Abschälblatt (D): Ein Material mit einer Schicht, die hergestellt wurde durch Aufschichten einer wässrigen Dispersion, worin 100 Gew.-Teile Trockenverfahren-Silica mit einer durchschnittlichen Korngrösse von 7 nm und 30 Gew.-Teilen Polyvinylalkohol in Wasser dispergiert waren, auf einer Papieroberflächenseite eines Substrats, worin ein Polyethylenharz auf einer Seite des Papiers aufgeschichtet war, in einer Polyvinylalkoholmenge von 6 g/m2.

Abschälblatt (E): Ein Material mit einer Schicht, die hergestellt wurde durch Aufschichten einer Beschichtungslösung, die 100 Gew.-Teile Aluminasol und 5 Gew.-Teile Polyvinylalkohol mit einem Feststoffgehalt von 10 g/m2 enthielt, auf ein synthetisches Papiersubstrat mit einem Basisgewicht von 60 g/m2.

Bei der Messung unter Verwendung eines dynamischen Scanning-Flüssigkeitsabsorptionsmessgeräts zeigte das Abschälblatt (D) die Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach der Kontaktierung mit der oben genannten Entwicklungslösung von 44 ml/m2 und eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,2 Sekunden nach derselben von 53 ml/m2. Das Abschälblatt (E) hatte Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach der Kontaktierung mit der oben genannten Entwicklungslösung von 19 ml/m2 und eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,2 Sekunden nach derselben von 27 ml/m2.

In den beiden Abschälblättern (D) und (E) waren die Abschäleigenschaften der Emulsionsschicht und die Druckeigenschaften jeweils so exzellent wie in Abschälblatt (A). Ferner wurde in beiden Fällen keine Abfallflüssigkeit an Entwicklungslösung erzeugt.

BEISPIEL 6

In der gleichen Weise wie in Beispiel 4 wurden die Abschälblätter (F) bis (H) mit den folgenden Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften hergestellt, mit dem Unterschied, dass die Beschichtungsmenge der Silicaschicht im Abschälblatt (A) verändert wurde. Im Abschälblatt (F) betrugen die Flüssigkeitsabsorptionsmengen (ml) 0,1 Sekunden/0,2 Sekunden nach der Kontaktierung mit der Entwicklungslösung pro m2, 22 ml bzw. 28 ml. Gleichermassen betrugen sie 13 ml/18 ml im Abschälblatt (E) und 17 ml/11 ml im Abschälblatt (H).

Es wurden lithografische Druckmaterialien hergestellt und es wurde gemäss Beispiel 4 gedruckt. Als Ergebnis zeigten die Abschälblätter (F) und (G) exzellente Abschäleigenschaften und Druckeigenschaften wie Abschälblatt (A), beim Abschälblatt (H) wurden jedoch geringfügig verschlechterte Ergebnisse beim Abschälen erzielt. Wenn jedoch die Abquetschwalzen (4) bewegt wurden und eine geringe Menge der Entwicklungslösung bei Herstellen der lithografischen Druckplatte abgequetscht wurde, wurden sowohl hinsichtlich der Abschäleigenschaften als auch der Druckeigenschaften gute Ergebnisse erzielt, auch wenn das Abschälblatt (H) verwendet wurde.

BEISPIEL 7

Gemäss dem in US-PS 5 427 889 offenbarten Verfahren, das hierin unter Bezugnahme eingeschlossen ist, wurden eine elektrolytische Aufrauhbehandlung und eine Anodisierung eines Aluminiumträgers durchgeführt, wodurch ein Aluminiumträger mit einer Dicke von 0,30 mm erhalten wurde, auf den Vertiefungen mit einem Durchmesser von 0,03 bis 0,30 &mgr;m in einer Menge von etwa 2.700/100 &mgr;m2 auf einem Plateau mit einem Durchschnittsdurchmesser von etwa 5 &mgr;m ausgebildet wurden, und die Vertiefungen hatten einen Durchschnittsdurchmesser von 0,13 &mgr;m. Dieser Aluminiumträger wurde nach der Oberflächenaufrauhbehandlung einer Anodisierung unterzogen und wies eine Aluminiumoxidmenge von 2,0 g/m2 und eine durchschnittliche Rauhigkeit (Ra), gemessen gemäss JIS B 0601 (1994), von 0,4 bis 0,5 &mgr;m auf.

Auf den Aluminiumträger wurden Palladiumsulfidkeime aufgeschichtet und getrocknet. Die in der physikalischen Entwicklungskeimschicht enthaltenen Keime betrugen 3 mg/m2.

Als hydrophiles Kolloid wurde alkalibehandelte Gelatine verwendet. Als Silberhalogenidemulsion wurde eine Silberchlorbromidemulsion, die 1,5 mol-% Silberbromid enthielt und eine durchschnittliche Teilchengrösse von 0,3 &mgr;m aufwies, und die mit 0,006 mmol Kaliumhexachloriridat(IV) pro Mol Silber dotiert war, nach dem gesteuerten Doppelstrahlverfahren hergestellt. Dann wurde die Emulsion mit KI entsprechend 0,3 mol-% Silberiodid nach Beendigung der physikalischen Reifung umgewandelt, wodurch eine Silberchloriodbromidemulsion hergestellt wurde. Anschliessend wurde die Emulsion ausgeflockt und gewaschen. Darüber hinaus wurde, nachdem Gelatine zu der Emulsion zugegeben und eine Schwefel-Gold-Sensibilisierung an der Emulsion durchgeführt worden war, ein Stabilisator hinzugegeben und dann unter Verwendung von 3 mg eines rotempfindlichen Sensibilisierungsfarbstoffs pro 1 g Silber spektralsensibilisiert.

Zu der so hergestellten Silberhalogenidemulsion wurde ein Tensid hinzugegeben und der Gelatinegehalt wurde eingestellt, wodurch eine Beschichtungslösung zur Ausbildung einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht mit einem Verhältnis von Silbernitrat zu Gelatine wie unten angegeben hergestellt wurde. Diese Beschichtungslösungen wurden auf dem Aluminiumträger aufgeschichtet, auf den die oben genannten physikalischen Entwicklungskeime aufgeschichtet waren, so dass die Menge an Silber (Silbernitratmenge) 2,5 g/m2 betrug, gefolgt von Trocknen, wodurch ein lithografisches Druckmaterial erhalten wurde.

Probe 1: (Gelatine)/(Silberhalogenid in Einheiten von Silbernitrat) = 0,8

Probe 2: (Gelatine)/(Silberhalogenid in Einheiten von Silbernitrat) = 0,6

Probe 3: (Gelatine)/(Silberhalogenid in Einheiten von Silbernitrat) = 0,4

Auf dem so hergestellten lithografischen Druckmaterial (A2-Format) wurde ein Bild mit einer Ausgabevorrichtung mit einem roten LD-Laser bei 633 nm als Lichtquelle ausgegeben. Dann wurde das lithografische Druckmaterial mit einer Entwicklungsvorrichtung zur Plattenherstellung, wie in 1 angegeben, entwickelt, wodurch eine lithografische Druckplatte erhalten wurde.

Die Entwicklungslösung, die Neutralisationslösung und die Finishinglösung waren die gleichen wie in Beispiel 1.

Die Entwicklungslösung wurde unter Verwendung der in 1 gezeigten Entwicklungsvorrichtung (1) so aufgeschichtet, dass deren Menge auf 60 ml und 40 ml pro m2 des lithografischen Druckmaterials (P) verändert wurde. Es wurde keine Einstellung der Temperatur der Entwicklungslösung durchgeführt, jedoch war die Temperatur zum Zeitpunkt der Entwicklung 23°C und die relative Feuchtigkeit betrug 63 %. Die Plattenoberflächentemperatur zum Zeitpunkt der Entwicklung betrug 21°C. 15 Sekunden nach dem Aufschichten der Entwicklungslösung wurde die Masterrolle (5) des Abschälblattes bewegt, so dass das aufgerollte Abschälblatt (2) durch Gummiwalzen (2) in engen Kontakt mit der Plattenoberfläche gebracht und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht abgeschält wurde. Anschliessend wurde das Abschälblatt (2) rollenförmig (6) aufgerollt. Es wurden keine Abquetschwalzen (4) verwendet. Die Kontaktzeit des Abschälblattes betrug etwa 0,2 Sekunden.

Als Abschälblatt wurde ein Material mit einer Hohlschicht verwendet, das hergestellt wurde durch Aufschichten einer wässrigen Dispersion, worin 100 Gew.-Teile Trockenverfahren-Silica mit einer durchschnittlichen Teilchengrösse von 7 nm und 40 Gew.-Teile Polyvinylalkohol in Wasser dispergiert waren, in einer Polyvinylalkoholmenge von 6 g/m2 auf übliches holzfreies Papier mit einem Gewicht von 70 g/m2. Dieses Abschälblatt hatte Flüssigkeitsabsorptionseigenschaften von einer Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach der Kontaktierung mit der oben genannten Entwicklungslösung von 39 ml/m2, und eine Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,2 Sekunden nach derselben von 48 ml/m2 bei der Messung unter Verwendung eines dynamischen Scanning-Flüssigkeitsabsorptionsmessgeräts.

Die lithografische Druckplatte, bei der die Silberhalogenid-Emulsionsschicht unter Verwendung des Abschälblattes abgeschält wurde, wurde dann nacheinander mit der Neutralisationslösung und der Finishinglösung unter Verwendung der gleichen Beschichtungsvorrichtungen wie für die Entwicklungslösung beschichtet. Trocknungsvorrichtungen (in den Figuren nicht gezeigt) wurden zwischen der Neutralisationslösungs-Beschichtungsvorrichtung (in der Figur nicht gezeigt) und der Finishinglösungs-Beschichtungvorrichtung (in der Figur nicht gezeigt) und nach der Finishinglösungs-Beschichtungsvorrichtung bereitgestellt, so dass die Neutralisationslösung und die Finishinglösung getrocknet wurden. Die Beschichtungsmengen der Neutralisationslösung und der Finishinglösung wurden jeweils auf 20 ml/m2 der lithografischen Druckplatte eingestellt.

Auf diese Weise konnten die Plattenherstellungsprozeduren durchgeführt werden, ohne dass wesentliche Mengen an Abfallflüssigkeiten zwischen der Entwicklungsprozedur und der Finishingprozedur erzeugt wurden. Mit der so hergestellten lithografischen Druckplatte wurde unter Verwendung eines Heidelberg TOK-Druckers (Warenzeichen, Offset-Druckpresse, hergestellt von Heidelberg Co.), Tinte (New Champion Black H, Warenzeichen, hergestellt von Dainippon Ink Co., Japan) und einer kommerziell erhältlichen Vernetzungslösung für eine PS-Platte gedruckt. Dann wurden die Bewertungen des Abschälzustands der Silberhalogenid-Emulsionsschicht, die Tintenaufnahmeeigenschaften bei Drucken und die Druckdauerhaftigkeit vorgenommen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 angegeben.

Abschäleigenschaften der Silberhalogenid-Emulsionsschicht:
  • O:
    keine sichtbaren Rückstände der Silberhalogenidemulsion und vollständige Abschälung.
    X:
    die Silberhalogenid-Emulsionsschicht wurde nicht vollständig abgeschält.
Tintenaufnahmeeigenschaft:

Diese wurde anhand der Anzahl von gedruckten Blättern bestimmt, bis ausreichende Tintenkonzentrationen erhalten wurden. Eine geringere Anzahl an Blättern bedeutet bessere Eigenschaften.

Druckdauerhaftigkeit:

Die Druckdauerhaftigkeit wurde durch die Anzahl von gedruckten Blättern bestimmt, ab der aufgrund von unzureichendem Silberbild kein Druck mehr durchgeführt werden konnte. Eine grössere Anzahl an Blättern bedeutet bessere Eigenschaften.

TABELLE 1
BEISPIEL 8

In der gleichen Weise wie in Beispiel 7, mit dem Unterschied, dass ferner eine Gelatine-Schutzschicht in einer Menge von 0,5 g/m2 zu den Proben 1 bis 3 in Beispiel 7 zugegeben wurde, wurden die Proben 1a, 2a und 3a hergestellt. Lithografische Druckplatten wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 7 hergestellt und in der gleichen Weise ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 angegeben.

TABELLE 2
BEISPIEL 9

Eine lithografische Druckplatte, die eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die kein Silbersalz enthielt, umfasste, wurde gemäss dem in JP-OS 212252/1999 beschriebenen Verfahren hergestellt.

Das heisst, das Polymer der Formel (I), wie unten angegeben, wurde in einem gemischten Lösungsmittel aus Methanol/Dioxan (1:1, Gewichtsverhältnis) unter Erwärmen aufgelöst, wodurch eine 10 Gew.%-ige Lösung in einer Menge von 100 g hergestellt wurde. Zu der Lösung wurden 60 g eines Resolharzes (Shownol CKS-3866, Kondensat von Bisphenol A und Formalin, durchschnittlicher Polymerisationsgrad: 6, erhältlich von Showa Kobunshi K.K., Japan) als Methylolverbindung zugegeben. Ferner wurden als Säureerzeuger 2 g Diphenyliodoniumtrifluormethansulfonat (erhältlich von Tokyo Kasei K.K., Japan) zu der Mischung hinzugegeben und dann wurden 0,1 g des unten gezeigten Fotosensibilisierungsfarbstoffs der Formel (II) zugegeben und darin aufgelöst. Die resultierende Lösung wurde auf eine aufgerauhte und anodisierte Aluminiumplatte unter Verwendung einer Luftrakelklinge so aufgeschichtet, dass die Beschichtungsmenge in getrocknetem Zustand 2,0 g/m2 betrug, und in einem Trockner bei 70°C für 10 Minuten getrocknet, wodurch ein lithografisches Druckplattenmaterial hergestellt wurde.

Als Ausgabevorrichtung wurde ein Halbleiterlaser mit einer Ausgabewellenlänge von 830 nm und einer Leistung von 2 W verwendet. Die oben genannte lithografische Druckplatte wurde auf einer Trommel aufgewickelt und pulsweise belichtet, wodurch ein Auflösungstestmuster aufgedruckt wurde. Nach der Belichtung wurde die lithografische Druckplatte einer Wärmebehandlung bei 100°C für 2 Minuten unterzogen.

Die wärmebehandelte lithografische Druckplatte wurde unter verwendet der in 1 gezeigten Vorrichtung der Entwicklungsbehandlung unterzogen und dann wurde die ungehärtete Harzschicht mit einem Abschälblatt abgeschält. Als Entwicklungslösung wurde eine 6 %-ige wässrige Natriummetasilicatlösung verwendet. Die Entwicklungslösung wurde so aufgeschichtet, das deren Menge 70 ml/m2 der lithografischen Druckplatte betrug. Die Temperatur der Entwicklungslösung betrug 23°C. 15 Sekunden nach dem Aufschichten der Entwicklungslösung wurde die Masterrolle (5) des Abschälblattes bewegt, so dass das aufgerollte Abschälblatt (2) durch Gummiwalzen (3) in engen Kontakt mit der Plattenoberfläche gebracht und die lichtempfindliche Schicht abgeschält wurde. Anschliessend wurde das Abschälblatt (2) in Rollenform (6) aufgerollt. Vor Aufbringen des Abschälblattes auf die Platte wurde überschüssige Entwicklungslösung durch Abquetschwalzen entfernt. Als Abschälblatt wurden die in Beispiel 4 hergestellten Abschälblätter (A), (B) und (C) verwendet.

Beim Abschälblatt (A) wurde trotz der kurzen Kontaktzeit (etwa 0,1 bis 0,3 Sekunden, die in Abhängigkeit von der Vortriebsgeschwindigkeit der Platte variieren kann) die gesamte lichtempfindliche Schicht auf das Abschälblatt übertragen und es wurde im wesentlichen keine Abfallflüssigkeit der Entwicklungslösung erzeugt. Im Gegensatz dazu konnte mit den Abschälblättern (B) und (C) keine Abschälung der lichtempfindlichen Schicht erzielt werden.

Mit der unter Verwendung des Abschälblattes (A) hergestellten lithografischen Druckplatte wurde unter Verwendung eines Heidelberg TOK-Druckers (Warenzeichen, Offset-Druckpresse, hergestellt von Heidelberg Co.), Tinte (New Champion Black H, Warenzeichen, hergestellt von Dainippon Ink Co., Japan) und einer kommerziell erhältlichen Benetzungslösung für eine PS-Platte gedruckt. Als Ergebnis zeigte die lithografische Druckplatte exzellente Tintenaufnahmeeigenschaften und eine hohe Druckdauerhaftigkeit von 100.000 Blatt oder mehr.

BEISPIEL 10

Nach Belichtung einer kommerziell erhältlichen PS-Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 9 eine lithografische Druckplatte hergestellt. Als Ergebnis konnten die gleichen Resultate wie in Beispiel 9 erhalten werden.


Anspruch[de]
  1. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials, umfassend die Belichtung eines lichtempfindlichen Materials mit mindestens einer lichtempfindlichen Schicht auf einem Träger, und Durchführung einer Entwicklung mit einem Tauchsystem oder einem Beschichtungssystem und anschließendes Abschälen von zumindest der lichtempfindlichen Schicht durch enges Kontaktieren eines Abschälmittels mit dem lichtempfindlichen Material, worin das Abschälmittel ein Material ist, das eine Flüssigkeitsabsorptionsgeschwindigkeit aufweist, bei der die Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren des Abschälmittels mit einer Flüssigkeit 60% oder mehr beträgt, bezogen auf die Flüssigkeitsabsorptionsmenge innerhalb von 0,2 Sekunden nach dem Kontaktieren.
  2. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Anspruch 1, worin das Abschälmittel ein Material ist, das eine Flüssigkeitsabsorptionskapazität von 10 ml oder mehr pro m2 innerhalb von 0,1 Sekunden nach dem Kontaktieren mit einer Flüssigkeit aufweist.
  3. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Anspruch 1 oder 2, worin das Abschälmittel ein Material ist, das eine Schicht eines Bindemittels, in der feine Teilchen dispergiert sind, auf einem Substrat aufweist.
  4. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Anspruch 3, worin das Abschälmittel ein Material ist, das eine Schicht eines Bindemittels, in der feine Teilchen in einer Menge von 5 g/m2 oder mehr dispergiert sind, auf einem Substrat aufweist.
  5. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Anspruch 3, worin das Abschälmittel ein Material ist, das eine Schicht eines Bindemittels aufweist, in der das Gewichtsverhältnis von feinen Teilchen zu Bindemittel 100:70 bis 100:5 beträgt.
  6. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Ansprüchen 1 bis 5, worin die Kontaktzeit des Abschälmittels mit dem lichtempfindlichen Material bis zu 5 Sekunden beträgt.
  7. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Ansprüchen 1 bis 6, worin die Kontaktzeit des Abschälmittels mit dem lichtempfindlichen Material bis zu 3 Sekunden beträgt.
  8. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Ansprüchen 1 bis 7, worin das lichtempfindliche Material ein lichtempfindliches Material ist, das ein lichtempfindliches Nicht-Silbermaterial aufweist.
  9. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Anspruch 8, worin das lichtempfindliche Material eine lithografische Druckplatte ist, die eine lichtempfindliche Nicht-Silberschicht, die eine lichtempfindliche Zusammensetzung aufweist, auf einem anodisierten Träger umfasst.
  10. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Ansprüchen 1 bis 7, worin das lichtempfindliche Material eine lithografische Druckplatte ist, die eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht als lichtempfindliche Schicht auf einem anodisierten Aluminiumträger aufweist.
  11. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Anspruch 10, worin die Entwicklung eine Beschichtungsentwicklung ist, bei der die Entwicklungslösung zur Durchführung der Entwicklung auf dem lichtempfindlichen Material aufgeschichtet wird.
  12. Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Materials gemäß Anspruch 11, worin das lichtempfindliche Material ein hydrophiles Kolloid enthält und das Abschälmittel in engem Kontakt mit dem lichtempfindlichen Material in einem Zustand kontaktiert wird, in dem die Menge an Entwicklungslösung pro Gramm an hydrophilem Kolloid 50 ml oder weniger beträgt.
Es folgt ein Blatt Zeichnungen






IPC
A Täglicher Lebensbedarf
B Arbeitsverfahren; Transportieren
C Chemie; Hüttenwesen
D Textilien; Papier
E Bauwesen; Erdbohren; Bergbau
F Maschinenbau; Beleuchtung; Heizung; Waffen; Sprengen
G Physik
H Elektrotechnik

Anmelder
Datum

Patentrecherche

  Patente PDF

Copyright © 2008 Patent-De Alle Rechte vorbehalten. eMail: info@patent-de.com