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Dokumentenidentifikation DE102005039932A1 08.02.2007
Titel Testmaske für die Mikroskopie
Anmelder Leica Microsystems Semiconductor GmbH, 35578 Wetzlar, DE
Erfinder Steinberg, Walter, 35789 Weilmünster, DE;
Schlüter, Gerhard, 57234 Wilnsdorf, DE;
Ferber, Michael, 35584 Wetzlar, DE
DE-Anmeldedatum 24.08.2005
DE-Aktenzeichen 102005039932
Offenlegungstag 08.02.2007
Veröffentlichungstag im Patentblatt 08.02.2007
IPC-Hauptklasse G02B 21/00(2006.01)A, F, I, 20051017, B, H, DE
Zusammenfassung Es ist eine Testmaske (1) für die Mikroskopie offenbart, die auf einem Substrat aus Quarz gebildet ist. Die Testmaske (1) besteht aus einer Vielzahl von Untermasken (4), die derart ausgebildet sind, dass jede Untermaske (4) Strukturen umfasst, die sich innerhalb einer Untermaske (4) hinsichtlich der Form und der Größe unterscheiden. Hinzu kommt, dass die Strukturen der einzelnen Untermasken (4) je nach Größe für optische oder teilchenoptische Messungen ausgebildet sind.

Beschreibung[de]

Die Erfindung betrifft eine Testmaske für die Mikroskopie. Im Besonderen betrifft die Erfindung eine Testmaske für die Mikroskopie, die auf ein Substrat aufgebracht ist.

Bisher wurden für die verschiedenen Messsysteme (optische, teilchenoptische) unterschiedliche Testmasken verwendet. Dabei wurde eine Maske mit größeren Strukturen für optische Messsysteme verwendet. Ein Maske, die kleinere Strukturen aufgebracht hat, wurde für elektronenoptische, bzw. teilchenoptische Messsysteme verwendet.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde eine Testmaske zu schaffen, die sowohl für optische als auch elektronenoptische, teilchenoptische Messsysteme geeignet ist.

Die objektive Aufgabe wird durch eine Testmaske gelöst, die die Merkmale des Patentanspruchs 1 aufweist.

Die Erfindung hat den Vorteil, dass die Testmaske eine Vielzahl von Untermasken umfasst. Jede Untermaske ist mit Strukturen versehen, die sich hinsichtlich der Form und der Größe unterscheiden. Die Untermasken sind dabei derart ausgebildet, dass sie je nach Größe für optische oder teilchenoptische Messungen geeignet sind.

Das Substrat der Testmaske besteht aus Glas und ist mit einer Chromschicht versehen. Die Strukturen können in gleicher Form z. B. auch auf einer Resistmaske (belichteter und entwickelter Fotolack, auf chrombeschichteten Glas- bzw. Quarzglassubstrat [ADI = After Development Inspection]), einer geätzten, aber noch nicht gestrippten Maske [AEI = After Etch Inspection], einer semitransparenten MoSi-Maske, einer chromlosen Maske, einer EUV-Maske oder einer vergleichbaren Maske zur Anwendung kommen. In der konkreten Ausgestaltung der gegenwärtigen Erfindung wurde ein Maske Chrom auf Quarzglas gewählt. Die unterschiedlichen Strukturen werden durch ätzen gebildet. Bei einigen der Untermasken sind diese als positiv und als negativ vorhanden. Die Untermasken sind in einer zweidimensionalen Matrixanordnung platziert.

Die Untermasken bestehen aus einem ersten Satz und einem zweiten Satz. Der erste Satz der Untermasken unterscheidet sich vom zweiten Satz der Untermasken hinsichtlich der Größe. Der erste Satz der Untermasken besitzt bei dem hier beschriebenen Ausführungsbeispiel eine zehnfach größere Seitenlänge als der zweite Satz der Untermasken. Es ist für einen Fachmann selbstverständlich, dass das Seitenverhältnis zwischen erstem und zweiten Satz von Untermasken auch ein anderes als zehn sein kann. Jede Untermaske hat ein zentrales Kreuz ausgebildet, dass durch abätzen der Chromschicht gebildet ist und dem ersten Satz der Untermasken zuzuordnen ist.

Der erste Satz der Untermasken besitzt etwa eine Seitenlänge von 500 &mgr;m und der zweite Satz der Untermasken weist eine Seitenlänge von etwa 50 &mgr;m auf.

Der erste Satz der Untermasken umfasst mehrere Strukturen die durch abätzen der Chromschicht gebildet werden. Eine Struktur ist ein Kreuz, das zentral in einem Quadrat von einer Seitenlänge von 500 &mgr;m angeordnet ist. Das Kreuz ist dabei durch abätzen der Chromsicht gebildet. Zum Kreuz existiert auch die inverse Struktur, das heißt, dass das Kreuz aus einer Chromschicht gebildet ist und der Rest der Chromschicht abgetragen wurde. Eine weitere Struktur sind Quadrate, die ebenfalls in einem Quadrat von 500 &mgr;m Seitenlänge angeordnet sind. Entlang einer Linie nehmen die Quadrate hinsichtlich ihrer Größe ab. Ebenso sind die Quadrate um 45° gedreht, sodass diese auf der Spitze stehen. Hierzu existiert ebenfalls das inverse Bild. Eine weitere mögliche Struktur ist eine Vielzahl von parallelen Linien, die zentral in einem Quadrat von 500 &mgr;m Seitenlänge angeordnet sind. Der Abstand der Linien nimmt zum Zentrum hin ab. Eine zentrale Linie besitzt die doppelte Länge als die anderen parallel angeordneten Linien. Diese zentral angeordneten Linien sind in einer dazu passenden Struktur um 90° gedreht. Einer weiteren Struktur sind mehrere Quadrate auf einem Quadrat mit einer Seitenlänge von 500 &mgr;m angeordnet. Die Quadrate entstehen durch entfernen der Chromschicht. Die einzelnen Quadrate sind durch Gitterlinien aus der Chromschicht voneinander getrennt. Hierzu existiert ebenfalls die inverse Struktur. Die Quadrate bestehen aus einer Chromschicht und sind durch Linien ohne Chromschicht voneinander getrennt. In einer weiteren Struktur ist ein Quadrat zentral in einem Quadrat von einer Seitenlänge von ebenfalls 500 &mgr;m angeordnet. Das Quadrat ist aus einer Chromschicht gebildet und wird von einer umlaufenden Linie, die vom Chrom befreit ist, von der restlichen Chromschicht des Quadrates getrennt. Das zentral angeordnete Quadrat hat eine Seitenlänge von 4 &mgr;m und die umlaufende, vom Chrom befreite Linie hat eine Breite von 2 &mgr;m. Hierzu existiert ebenfalls die inverse Struktur.

Der zweite Satz der Untermasken umfasst ebenfalls mehrere unterschiedliche Strukturen. Zum einen sind mehrere Linien sternförmig angeordnet, die durch abätzen der Chromschicht gebildet sind. Die sternförmig angeordneten Linien sind zentral in einem Quadrat mit einer Seitenlänge von 50 &mgr;m angeordnet. Hierzu existiert ebenfalls die inverse Struktur. Eine weitere Struktur ist durch zwei diagonal verlaufende Linien gebildet, die senkrecht zueinander verlaufen. Die Linien sind durch abätzen der Chromschicht gebildet worden und sind zentral in einem Quadrat aus 50 &mgr;m Seitenlänge angeordnet. Zu dieser Struktur existiert ebenfalls die inverse Struktur. Bei einer weiteren Struktur sind mehrere kleine Quadrate zentral in Form einer Matrix angeordnet. Die Quadrate sind durch abtragen der Chromschicht entstanden. Die Quadrate sind in einem Quadrat mit einer Seitenlänge von 50 &mgr;m angeordnet. Hierzu existiert ebenfalls die inverse Struktur.

Eine weitere Struktur ist ein einzelnes, zentral angeordnetes Quadrat, das durch abätzen der Chromschicht entstanden ist. Dieses zentral angeordnete Quadrat ist ebenfalls in einem Quadrat mit einer Seitenlänge von 50 &mgr;m angeordnet. Hierzu existiert ebenfalls die inverse Struktur. Eine weitere Struktur ist ein zentral angeordnetes Kreuz in einem Quadrat mit einer Seitenlänge von 50 &mgr;m. Die Linien des Kreuzes sind durch abätzen der Chromschicht entstanden. Hierzu existiert ebenfalls die inverse Struktur. Schließlich sind mehrere parallele Linien vorgesehen, die ebenfalls durch abätzen der Chromschicht gebildet werden. Die Linien verlaufen von einer Seite des Quadrats mit einer Seitenlänge von 50 &mgr;m zu der gegenüberliegenden Seite. Hierzu existiert ebenfalls eine Struktur, bei der die Linien um 90° gedreht sind.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung können den Unteransprüchen entnommen werden.

In der Zeichnung ist der Erfindungsgegenstand schematisch dargestellt und wird anhand der Figuren nachfolgend beschrieben. Dabei zeigen:

1 eine schematische Ansicht einer Maske auf der mehrere Untermasken in Matrixanordnung angeordnet sind;

2a zeigt eine vergrößerte Darstellung einer auf der Testmaske angeordneten Untermaske;

2b zeigt eine schematische Ansicht eines zweiten Satzes von Untermasken wie sie innerhalb einer jeden Untermaske vorhanden sind;

3 zeigt ein Kreuz eines ersten Satzes von Untermasken;

4 zeigt die inverse Struktur der in 3 dargestellten Struktur;

5 zeigt die Anordnung mehrerer in der Größe abnehmender Quadrate in einem Quadrat mit einer Seitenlänge von 500 &mgr;m;

6 zeigt die zu 5 inverse Struktur;

7 zeigt parallele Linien die in einem Quadrat mit einer Seitenlänge von 500 &mgr;m angeordnet sind, wobei eine zentrale Linie doppelt so lang ist, als die parallel angeordneten Linien;

8 zeigt die in 7 angeordneten Linien um 90° gedreht;

9 zeigt mehrere kleine Quadrate die in Matrixanordnung in einem Quadrat mit 500 &mgr;m Seitenlänge angeordnet sind;

10 zeigt die inverse Struktur zu der Struktur aus 9;

11 zeigt ein zentral angeordnetes Quadrat, das durch eine umlaufende, von der Chromschicht befreite Linie, von dem Rest der Chromschicht getrennt ist;

12 zeigt die inverse Struktur zu der in 11 dargestellten Struktur;

13 zeigt mehrere sternförmig angeordnete Linien, die zentral in einem Quadrat aus 50 &mgr;m Seitenlänge angeordnet sind;

14 zeigt die in der zu 13 dargestellte inverse Struktur;

15 zeigt zwei diagonal verlaufende Linien die in einem Quadrat aus 50 &mgr;m Seitenlänge angeordnet sind;

16 zeigt die in der zu 15 dargestellte inverse Struktur;

17 zeigt mehrere kleine Quadrate, die zentral in einem Quadrat mit der Seitenlänge von 50 &mgr;m angeordnet sind;

18 zeigt die zu 17 inverse Struktur;

19 zeigt ein zentrales kleines Quadrat, das in einem Quadrat mit der Seitenlänge von 50 &mgr;m angeordnet ist;

20 zeigt die zu 19 inverse Struktur;

21 zeigt ein Kreuz das zentral in einem Quadrat mit einer Seitenlänge von 50 &mgr;m angeordnet ist;

22 zeigt die zu 20 inverse Struktur;

23 zeigt mehrere parallele Linien, die von einer Seite eines Quadrates mit einer Seitenlänge von 50 &mgr;m, zur anderen Seite des Quadrates verlaufen;

24 zeigt die in 23 dargestellten Linien, wobei diese um 90° gedreht sind.

1 zeigt eine schematische Darstellung einer Testmaske 1. Die Testmaske 1 weist eine Teilenummer 2 auf und ist ebenfalls mit einem Produktnamen 3 versehen. Auf der Testmaske sind mehrere Untermasken 4 oder Dies in Matrixform angeordnet. Die in 1 dargestellte Ausführungsform der Testmaske 1 weist eine quadratische Form auf und besitzt eine Seitenlänge von 150 mm. In jeder Spalte und in jeder Zeile sind 29 Untermasken 4 angeordnet. Das Substrat der Testmaske 1 ist Quarz. Die in der Beschreibung angegebenen Dimensionen und Verhältnisse der einzelnen Dimensionen zueinander sind lediglich als Richtwert zu verstehen. Es ist für einen Fachmann selbstverständlich, wie die Dimensionen zu wählen sind, damit die einzelnen Untermasken für die optische und/oder elektronenoptische Untersuchung geeignet sind.

2a zeigt eine vergrößerte Darstellung einer auf der Testmaske 1 aufgebrachten Untermaske 4. Jede Untermaske 4 weist eine Seitenlänge 5 von 5 mm auf. In der in 2a gezeigten Darstellung der Testmaske und in allen folgenden Darstellungen ist die auf der Testmaske aufgebrachte Chromschicht 6 dunkel dargestellt. Strukturen, die von der Chromschicht 6 befreit sind, sind hell dargestellt. Diese Strukturen sind mit dem Bezugszeichen 7 gekennzeichnet. Zentral auf der Untermaske 4 ist ein Kreuz angeordnet, das zu einem ersten Satz Untermasken gehört. Links und rechts von dem Kreuz des ersten Satzes der Untermasken ist das Kreuz als inverses Kreuz auf der Untermaske 4 aufgebracht. Ferner ist auf der Untermaske eine weitere Zusammenstellung 9 eines ersten Satzes von Untermasken aufgebracht. Zusätzlich zu dem ersten Satz von Untermasken sind mehrere Zusammenstellungen 1) eines zweiten Satzes von Untermasken auf der Untermaske 4 angeordnet.

2b zeigt die Zusammenstellung 10 des zweiten Satzes von Untermasken. Dabei ist zu bemerken, dass jede Untermaske des zweiten Satzes eine Seitenlänge aufweist, die um das zehnfache kleiner ist, als die Seitenlänge des zweiten Satzes der Untermasken.

3 zeigt ein zentrales Kreuz 11, das in jedem ersten Satz der Untermasken vorgesehen ist. Das zentrale Kreuz ist auf einem Quadrat mit einer Seitenlänge 12 von 500 &mgr;m ausgebildet. Das in 3 dargestellte Kreuz 11 ist durch abätzen einer Chromschicht gebildet. Das Quadrat 13 in dem das Kreuz 11 ausgebildet ist, besitzt einen umlaufenden Rand 14 der ebenfalls von der Chromschicht befreit ist. Der umlaufende Rand (14) weist eine dicke von 50 &mgr;m auf. Ebenfalls ist auf der Untermaske 13 mit dem Kreuz 11 die fortlaufende Nummerierung 15 strukturiert, die angibt in welcher Reihe und in welcher Spalte der Testmaske 1 sich die Untermaske befindet. Im vorliegenden Beispiel ist die Untermaske 13 in der achtzehnten Reihe und der fünfundzwanzigsten Spalte auf der Testmaske 1 vorhanden. Das zentrale Kreuz 11 weist eine Schenkellänge 16 von ca. 200 &mgr;m auf. Jeder Endbereich eines Schenkels des Kreuzes 11 ist mit einer breiten Fläche 20 versehen. Fläche 20 besitzt eine Breite 17 von ca. 4 &mgr;m. Die Schenkel des Kreuzes 11 besitzen eine Breite 18 von 1 &mgr;m. Der Abstand der breiten Flächen 20 auf den Schenkeln des Kreuzes 11 beträgt 10 &mgr;m.

4 zeigt eine Struktur 21, die die inverse Struktur des Kreuzes 11 aus 3 ist. Die Dimensionierung des Kreuzes 11 in 4 entspricht der Dimensionierung des Kreuzes 11 in 3. Das Kreuz 11 in 4 entsteht dadurch, dass die Chromschicht um das Kreuz 11 weggeätzt wird. Ebenso ist ein umlaufender Rand 22 um das Quadrat, mit einer Seitenlänge 12 von 500 &mgr;m, durch eine Chromschicht gebildet. Die in den 3 und 4 dargestellten breiten Flächen 20 an den Enden der Schenkel des Kreuzes 11 dienen zum Testen der Messgenauigkeit von optischen Systemen. Die Schenkel des Kreuzes 11 in den 3 und 4 dienen zum Testen der Messgenauigkeit von elektronenoptischen bzw. teilchenoptischen Systemen. Ein teilchenoptisches System bzw. ein elektronenoptisches System ist ein CDSEM, d.h. ein Raster-Elektronenmikroskop zur Messung kritischer Strukturbreiten.

6 zeigt eine weitere Struktur des ersten Satzes der Untermasken. Der erste Satz der Untermasken hat dabei mehrere Quadrate 30 ausgebildet. Die Quadrate 30 sind durch abätzen der Chromschicht um die Quadrate 30 herum entstanden. Die Quadrate 30 sind entlang einer ersten Linie 31 angeordnet. Ferner sind die Quadrate 30 um 45° gedreht und entlang einer zweiten Linie 32 angeordnet. Die entlang der ersten Linie 31 und entlang der zweiten Linie 32 angeordneten Quadrate 30 nehmen in ihrer Größe bzw. Fläche ab. Durch die Abnahme der Größe der Quadrate 30 kann die Abstufung des Auflösungsvermögens eines optischen Systems bzw. eines elektronenoptischen oder teilchenoptischen Systems ermittelt werden.

Die Quadrate (30) sind innerhalb eines Quadrates mit einer Seitenlänge 12 von 500 &mgr;m strukturiert. 6 ist die inverse Darstellung der strukturierten Quadrate 30 aus 5. Die Quadrate 30 sind somit Flächen der Chromschicht und die die Quadrate umgebende Chromschicht ist durch abätzen abgetragen worden.

7 zeigt einen weiteren ersten Satz von Untermasken, bei dem die Struktur in einem Quadrat mit einer Seitenlänge 12 von 500 &mgr;m realisiert ist. Die Struktur besteht aus einem Satz 40 von zentral angeordneten Linien 41. Die Linien 41 sind parallel und nehmen in ihrem Abstand zu Zentrum der Untermaske hin ab. Ferner ist eine zentrale Linie 44 ausgebildet, die die doppelte Länge aufweist, wie die übrigen Linien 41. Die Linien 41 weisen eine Länge 42 von 10 &mgr;m auf. Die zentrale Linie 44 besitzt eine Länge 43 von 20 &mgr;m. Die Linien 41 und die zentrale Linie 44 sind durch abätzen der Chromschicht entstanden. 8 zeigt eine andere Anordnung der in 7 gezeigten Linien 41 und der zentralen Linie 44. Hier sind die Linien um 90° gedreht und ebenfalls in einer Chromschicht durch abätzen strukturiert. Die lange zentrale Linie 44 dient zum zentrieren eines optischen Strahlengangs. Die in 7 und 8 dargestellten Strukturen sind auf der Maske, um bei optischen Mikroskopen die sphärische Aberration feststellen zu können.

9 zeigt ebenfalls einen ersten Satz von Untermasken, der durch einen Satz von Gitterlinien 51 gebildet ist. Die Gitterlinien (51), die aus einer Chromschicht bestehen, werden durch eine Vielzahl von Quadraten 52 voneinander getrennt. Die Quadrate 52 entstehen dadurch, dass die Chromschicht weggeätzt wird. Die Vielzahl der Quadrate 52 ist auf einem Quadrat mit einer Seitenlänge von 500 &mgr;m ausgebildet. 10 zeigt die in 9 dargestellte Untermaske in der inversen Form. Hier sind die Gitterlinien 51 von der Chromschicht befreit. Die Quadrate 52 bestehen folglich aus einer Chromschicht.

11 zeigt einen weiteren ersten Satz der Untermasken, der ein Quadrat (61) umfasst, dass in einer Chromschicht ausgebildet ist und aus einer Chromschicht besteht. Das Quadrat 61 ist von einer umlaufenden Linie 62 umgeben, die durch abätzen der Chromschicht gebildet wird. Der Rest der Untermaske, die ein Quadrat mit einer Seitenlänge 12 von 500 &mgr;m umfasst, ist weiterhin mit der Chromschicht bedeckt. Das Quadrat 61 besitzt eine Seitenlänge von 4 &mgr;m und der umlaufende Rand besitzt eine Seitenlänge 64 von 8 &mgr;m. 12 zeigt das in 11 dargestellte Quadrat 61 in inverser Form. Das Quadrat 61 ist folglich durch Abätzen der Chromschicht gebildet. Folglich ist die umlaufende Linie 62 eine Chromschicht. Die in den 11 und 12 dargestellten Strukturen dienen zur Overlay-Bestimmung (optisch). Ebenso dienen diese Strukturen zum Test von Algorithmen zur Bestimmung des Overlays.

13 zeigt einen zweiten Satz von Untermasken, bei dem Strukturen in einer Chromschicht gebildet sind, der eine Seitenlänge 120 von 50 &mgr;m aufweist. Als eine erste Struktur sind in der Chromschicht mehrere Linien (70) sternförmig angeordnet. Bei der in 13 dargestellten Struktur werden die Linien 70 durch abätzen der Chromschicht gebildet. 14 zeigt die Negativ-Darstellung der in 13 dargestellten Struktur. Die Linien 70 sind nun folglich als Chromschicht dargestellt. Die in den 13 und 14 dargestellten Strukturen dienen zur Bestimmung des Astigmatismus bei verschiedenen Fokuslagen. Bei Strukturen bzw. Strukturabständen, die kleiner als 0,2 &mgr;m sind, findet somit die CDSEM-Messung statt.

15 zeigt einen weiteren zweiten Satz der Untermasken, bei dem zwei diagonal angeordnete Linien 80 vorgesehen sind. Die Linien 80 sind dabei in einem Quadrat mit einer Seitenlänge von 50 &mgr;m ausgebildet. Die Linien 80 entstehen durch abätzen der Chromschicht. 16 zeigt die Inverse der in 15 dargestellten Struktur.

17 zeigt einen weiteren Satz der Untermasken, bei dem mehrere quadratische Punkte 90 strukturiert sind. Die quadratischen Punkte 90 entstehen durch abätzen der Chromschicht. Die quadratischen Punkte (90) sind zentral in einem Quadrat mit einer Seitenlänge 120 von 50 &mgr;m angeordnet. 18 zeigt die Inverse der Struktur aus 17. Die Quadrate 90 bestehen folglich aus einer Chromschicht. Die Anordnung von dots (18) und holes (17) gibt somit ein Werkzeug an die Hand, mit dem der Proximity-Effekt von elektronenoptischen bzw. teilchenoptischen Systemen bestimmt werden kann.

19 zeigt eine weitere Ausführungsform eines zweiten Satzes von Untermasken. Dabei ist ein einziges Quadrat 95 von der Chromschicht befreit. Dieses Quadrat 95 ist zentral in einem Quadrat mit einer Seitenlänge 120 von 50 &mgr;m angeordnet. 20 zeigt die Inverse der in 19 dargestellten Struktur. Folglich ist das Quadrat 95 aus einer Chromschicht gebildet, die von einem freien Bereich umgeben ist, der kein Chrom enthält. Die in 19 und 20 dargestellten Strukturen werden ebenfalls zur Bestimmung des Proximity-Effekts von elektronenoptischen bzw. teilchenoptischen Systemen verwendet.

21 zeigt einen weiteren zweiten Satz von Untermasken, der aus einem Kreuz 100 besteht, das zentral in einem Quadrat mit einer Seitenlänge 120 von 50 &mgr;m angeordnet ist. Das Kreuz 100 ist durch abätzen der Chromschicht gebildet. 22 zeigt die Inverse der in 21 dargestellten Struktur. Folglich besteht das Kreuz 100 aus zwei, sich schneidenden Chromlinien.

23 zeigt eine Vielzahl von Linien 110 die in einem Quadrat mit einer Seitenlänge 120 von 50 &mgr;m geätzt sind. 24 hingegen zeigt diese mehreren Linien 110 um 90° gedreht. Die beiden in 23 und 24 dargestellten Strukturen dienen zur Ermittlung der Bildfeldwölbung optischer Systeme.


Anspruch[de]
Eine Testmaske für die Mikroskopie ist auf ein Substrat aufgebracht, dadurch gekennzeichnet, dass die Testmaske eine Vielzahl von Untermasken umfasst, wobei jede Untermaske Strukturen umfasst, dass sich die Strukturen innerhalb einer Untermaske hinsichtlich der Form und der Größe unterscheiden, und dass die Strukturen der einzelnen Untermasken, je nach Größe, für optische oder teilchenoptische Messungen ausgebildet sind. Testmaske nach Anspruch 1, wobei das Substrat der Testmaske aus Glas besteht, die mit einer Chromschicht versehen ist, in der die unterschiedlichen Strukturen geätzt sind. Testmaske nach einem der Ansprüche 1 bis 2, wobei einige der Untermasken als Positiv und als Negativ auf dem Substrat vorhanden sind. Testmaske nach Anspruch 1, wobei die Untermasken in einer 2-dimensionalen Matrixanordnung auf dem Substrat platziert sind. Testmaske nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Untermasken aus einen ersten Satz und einem zweiten Satz bestehen und wobei sich der erste Satz der Untermasken vom zweiten Satz der Untermasken hinsichtlich der Größe unterscheiden, und dass der erste Satz der Untermasken eine zehnfache Seitenlänge hinsichtlich dem zweiten Satz der Untermasken aufweist. Testmaske nach Anspruch 5, dass die Seitenlänge des ersten Satzes der Untermasken etwa 500 &mgr;m entspricht, und dass die Seitenlänge des zweiten Satzes der Untermasken etwa 50 &mgr;m entspricht. Testmaske nach Anspruch 5, wobei jede Untermaske ein zentrales Kreuz ausgebildet hat, das durch Abätzen der Chromschicht gebildet ist und dem ersten Satz der Untermasken zuzuordnen ist. Testmaske nach Anspruch 7, wobei das zentrale Kreuz eine Schenkellänge von 200 &mgr;m besitzt, dass jeder Endbereich eines Schenkels mit einer 4 &mgr;m breiten Fläche versehen ist, dass die Flächen an jedem Endbereich des Schenkels 10 &mgr;m beabstandet sind, und dass ein 50 &mgr;m breiter Rahmen das Kreuz umgibt. Testmaske nach Anspruch 8, wobei das zentrale Kreuz links und rechts von jeweils einem inversen des zentralen Kreuzes benachbart ist. Testmaske nach Anspruch 6, wobei jede erste Satz der Untermasken Quadrate ausgebildet hat, die durch Abätzen der Chromschicht entstanden sind. Testmaske nach Anspruch 10, wobei die Quadrate entlang einer ersten Linie und entlang einer zweiten Linie angeordnet sind, dass die Quadrate entlang der ersten Linie in der Fläche abnehmen und dass die Quadrate entlang der zweiten Linie ebenfalls in der Fläche abnehmen und um 45° gedreht sind. Testmaske nach Anspruch 6, wobei jeder erste Satz der Untermasken einen Satz von zentral angeordneten Linien ausgebildet hat, die zu einem Zentrum hinsichtlich der Breite und des Abstandes abnehmen, dass eine zentrale Linie ausgebildet ist, die die doppelte Länge der Linie aufweist, und dass die zentral angeordneten Linien durch Abätzen der Chromschicht entstanden sind. Testmaske nach Anspruch 12, wobei die zentral angeordneten Linien um 90° gedreht sind. Testmaske nach Anspruch 12, wobei die zentral angeordneten Linien eine Länge von 10 &mgr;m aufweisen. Testmaske nach Anspruch 12, wobei die zentrale Linie eine Länge von 20 &mgr;m aufweist. Testmaske nach Anspruch 6, wobei jeder erste Satz der Untermasken durch einen Satz von Gitterlinien gebildet ist, wobei die Gitterlinien durch Quadrate getrennt sind, die durch Abätzen der Chromschicht entstanden sind. Testmaske nach Anspruch 16, wobei jeder erste Satz der Untermasken durch einen Satz von Gitterlinien gebildet ist, wobei die Gitterlinien durch Abätzen der Chromschicht entstanden sind und durch Quadrate der Chromschicht getrennt sind. Testmaske nach Anspruch 6, wobei jeder erste Satz der Untermasken ein Quadrat umfasst, das aus einer Chromschicht gebildet ist, die von der übrigen Chromschicht durch eine umlaufende abgeätzte Linie getrennt ist. Testmaske nach Anspruch 18, wobei jeder erste Satz der Untermasken ein Quadrat umfasst, das aus einer abgeätzten Chromschicht gebildet ist, die von der übrigen abgeätzten Chromschicht durch eine umlaufende Linie aus Chrom getrennt ist. Testmaske nach einem der Ansprüche 18 und 19, wobei das Quadrat eine Seitenlänge von 4 &mgr;m und dass die umlaufende Linie eine Linienstärke von 2 &mgr;m besitzt. Testmaske nach Anspruch 6, wobei jeder zweite Satz der Untermasken sternförmig angeordnete Linien umfasst, die aus einer Chromschicht durch Abätzen gebildet sind. Testmaske nach Anspruch 21, wobei jeder zweite Satz der Untermasken sternförmig angeordnete Linien aus Chrom umfasst, und dass übrige Chromschicht durch Abätzen abgetragen ist. Testmaske nach Anspruch 6, wobei jeder zweite Satz der Untermasken aus zwei diagonal angeordneten Linien besteht, die aus einer Chromschicht durch Abätzen gebildet und zentral in einem Quadrat aus einer Chromschicht angeordnet sind. Testmaske nach Anspruch 23, wobei jeder zweite Satz der Untermasken aus zwei diagonal angeordneten Linien besteht, die aus einer Chromschicht bestehen und zentral in einem Quadrat angeordnet sind, das von der Chromschicht befreit ist. Testmaske nach Anspruch 6, wobei jeder zweite Satz der Untermasken aus mehreren quadratischen Punkten besteht, die aus einer Chromschicht durch Abätzen gebildet und zentral in einem Quadrat aus einer Chromschicht angeordnet sind. Testmaske nach Anspruch 25, wobei jeder zweite Satz der Untermasken aus mehreren quadratischen Punkten besteht, die aus einer Chromschicht bestehen und zentral in einem Quadrat angeordnet sind, das von der Chromschicht befreit ist. Testmaske nach Anspruch 6, wobei jeder zweite Satz der Untermasken aus einem einzigen quadratischen Punkt besteht, der aus einer Chromschicht durch Abätzen gebildet und zentral in einem Quadrat aus einer Chromschicht angeordnet ist. Testmaske nach Anspruch 27, wobei jeder zweite Satz der Untermasken aus einem einzigen quadratischen Punkt besteht, der aus einer Chromschicht besteht und zentral in einem Quadrat angeordnet ist, das von der Chromschicht befreit ist. Testmaske nach Anspruch 6, wobei jeder zweite Satz der Untermasken aus zwei sich senkrecht schneidenden Linien besteht, die aus einer Chromschicht durch Abätzen gebildet und zentral in einem Quadrat aus einer Chromschicht angeordnet sind. Testmaske nach Anspruch 29, wobei jeder zweite Satz der Untermasken aus zwei sich senkrecht schneidenden Linien besteht, die aus einer Chromschicht bestehen und zentral in einem Quadrat angeordnet sind, das von der Chromschicht befreit ist. Testmaske nach Anspruch 8, wobei jeder zweite Satz der Untermasken aus mehreren äquidistanten, parallelen Linien besteht, die aus einer Chromschicht durch Abätzen gebildet sind. Testmaske nach Anspruch 31, wobei jeder zweite Satz der Untermasken aus mehreren äquidistanten, parallelen Linien besteht, die alle um 90° gedreht angeordnet sind.






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