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Dokumentenidentifikation DE602004003030T2 16.05.2007
EP-Veröffentlichungsnummer 0001587880
Titel INFRAROT-ABSORBIERENDE VERBINDUNGEN UND IHRE VERWENDUNG IN BEBILDERBAREN ELEMENTEN
Anmelder Eastman Kodak Co., Rochester, N.Y., US
Erfinder COLLINS, Jeffrey, Greeley, CO 80634, US;
TAO, Ting, Fort Collins, CO 80525, US;
JORDAN, Thomas, Windsor, CO 80550-4915, US
Vertreter WAGNER & GEYER Partnerschaft Patent- und Rechtsanwälte, 80538 München
DE-Aktenzeichen 602004003030
Vertragsstaaten DE, GB
Sprache des Dokument EN
EP-Anmeldetag 20.01.2004
EP-Aktenzeichen 047036850
WO-Anmeldetag 20.01.2004
PCT-Aktenzeichen PCT/US2004/001589
WO-Veröffentlichungsnummer 2004069938
WO-Veröffentlichungsdatum 19.08.2004
EP-Offenlegungsdatum 26.10.2005
EP date of grant 02.11.2006
Veröffentlichungstag im Patentblatt 16.05.2007
IPC-Hauptklasse C09B 69/02(2006.01)A, F, I, 20051017, B, H, EP
IPC-Nebenklasse G03C 1/498(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, EP   B41M 5/40(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, EP   B41C 1/10(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, EP   B41M 5/36(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, EP   C09B 23/08(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, EP   C09B 43/16(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, EP   

Beschreibung[de]

Die vorliegende Erfindung betrifft infrarotabsorbierende Verbindungen und bebilderbare Elemente, die diese Verbindungen enthalten. Insbesondere betrifft die Erfindung infrarotabsorbierende Verbindungen, in denen das Anion und das Kation nahinfrarote und/oder infrarote Strahlung absorbieren.

Im Offsetdruck werden Farbaufnahmebereiche, auch als Bildbereiche bezeichnet, auf einer hydrophilen Oberfläche erzeugt. Wenn die Oberfläche mit Wasser befeuchtet und Farbe aufgetragen wird, nehmen die hydrophilen Bereiche das Wasser auf und stoßen die Farbe ab, während die Farbaufnahmebereiche die Farbe aufnehmen und das Wasser abstoßen. Die Farbe wird auf die Oberfläche eines Materials übertragen, auf dem das Bild reproduziert werden soll. Üblicherweise wird die Farbe zunächst auf ein Zwischenmaterial übertragen, das als Drucktuch bezeichnet wird, welches die Farbe wiederum auf die Oberfläche des Materials überträgt, auf dem das Bild reproduziert werden soll.

Bebilderbare Elemente, die als Offsetdruckplatten-Precursor verwendbar sind, umfassen üblicherweise eine bebilderbare Schicht, die über der hydrophilen Oberfläche eines Substrats aufgebracht wird. Die bebilderbare Schicht umfasst eine oder mehrere strahlungsempfindliche Komponenten, die in einem geeigneten Bindemittel dispergiert sein können. Alternativ hierzu kann die strahlungsempfindliche Komponente auch als Bindemittel verwendet werden. Wenn nach der Bebilderung die bebilderten Bereiche der bebilderbaren Schicht in dem Entwicklungsprozess entfernt werden, wodurch die darunterliegende hydrophile Oberfläche des Substrats freigelegt wird, arbeitet der Precursor positiv. Wenn, im Unterschied dazu, die unbebilderten Bereiche in dem Entwicklungsprozess entfernt werden, arbeitet der Precursor negativ. In jedem Fall sind die Bereiche der bebilderbaren Schicht (d.h. die Bildbereiche), die zurückbleiben, farbaufnehmend, und die Bereiche der hydrophilen Schicht, die von dem Entwicklungsprozess freigelegt werden, nehmen Wasser und wässrige Lösungen auf, typischerweise eine Feuchtlösung, und stoßen Farbe ab.

Die direktdigitale Bebilderung von Offsetdruckplatten, die keine Bebilderung durch ein Negativ erfordert, gewinnt in der Druckindustrie zunehmend an Bedeutung. Negativ arbeitende, alkalisch entwickelbare bebilderbare Elemente, die Verbindungen umfassen, die eine Säure bei thermischer Bebilderung erzeugen, sind zur Verwendung mit Infrarotlasern entwickelt worden. Beispielsweise beschreibt Haley in US-A-5,372,907 eine strahlungsintensive Zusammensetzung, die sowohl gegenüber ultravioletter als auch gegenüber infraroter Strahlung empfindlich ist. Die Zusammensetzung umfasst (1) ein Resolharz, (2) ein Novolakharz, (3) einen Säuregenerator und (4) eine infrarotabsorbierende Verbindung.

Die Säureerzeugung ist zwar in Systemen relativ effizient, in denen die Säure durch Bebilderung mit UV-Strahlung erzeugt wird, aber sie ist weniger effizient in Systemen, in denen die Säure durch Bebilderung mit Nahinfrarot- und Infrarotstrahlung (700 nm bis 3000 nm) erzeugt wird. Außerdem weisen die infrarotabsorbierenden Verbindungen typischerweise Gegenionen auf, die Halogene und/oder Schwermetalle enthalten, also Stoffe, die eine Umweltvergiftung bewirken können. Wenn die bebilderten Elemente nach Bebilderung erwärmt werden, entstehen möglicherweise stark ätzende Säuren, wie z.B. Chlorwasserstoffsäure, die in die Atmosphäre abgegeben werden. Es besteht somit Bedarf nach einem effizienteren Verfahren zur Erzeugung von Bildern durch direktdigitale Bebilderung mit Infrarotstrahlung, die keine infrarotabsorbierende Verbindung erfordert, welche Halogen oder ein Schwermetall enthält.

Nach einem Aspekt ist die Erfindung eine infrarotabsorbierende Verbindung. Die infrarotabsorbierende Verbindung hat folgende Struktur: wobei:

Y1 und Y2 unabhängig voneinander für Wasserstoff, Halogen, Alkyl, Diphenylamin oder Phenylthio stehen;

R1, R2, R3 und R4 unabhängig voneinander für Wasserstoff, Methyl oder SO3 stehen, mit der Maßgabe, dass zwei aus R1, R2, R3 und R4 für SO3 stehen;

R5 und R6 jeweils unabhängig für eine Alkylgruppe stehen;

Z1, Z2, Z4 und Z5 jeweils unabhängig für eine Benzogruppe oder eine Naphtogruppe stehen;

Z3 und Z6 jeweils unabhängig für zwei Wasserstoffatome, einen Cyclohexenrest oder einen Cyclopentenrest stehen;

X1, X2, X3 und X4 jeweils unabhängig für S, O, NH, CH2 oder C(CH3)2 stehen; und

n1 und n2 jeweils unabhängig für 0 bis 4 stehen.

Nach einem weiteren Aspekt ist die Erfindung ein bebilderbares Element, das die infrarotabsorbierende Verbindung umfasst. Nach einem weiteren Aspekt ist die Erfindung ein Verfahren zur Ausbildung eines Bildes durch Bebilderung des bebilderbaren Elements mit Infrarotstrahlung und Entwicklung des bebilderten bebilderbaren Elements.

Bei Verwendung als photothermische Umwandlungsmaterialien in bebilderbaren Elementen stellen diese infrarotabsorbierenden Verbindungen ein effizientes Verfahren zur Ausbildung von Bildern durch direktdigitale Bebilderung mit nahinfraroter und/oder infraroter Strahlung bereit. Weil jede Verbindung zwei Chromophore enthält, handelt es sich hierbei um effiziente Absorbenzien eines großen Bereichs an infraroter und nahinfraroter Strahlung. Sie verbessern sowohl die Punktstabilität als auch die Empfindlichkeit bebilderbarer Elemente. Zudem sind sie frei von Halogenen und enthalten keine Schwermetalle, wie Arsen oder Antimon.

1 zeigt die Belichtungsänderung des 50% Punktes für Vergleichsbeispiel 1 und für die Beispiele 3 und 4.

Sofern nichts anderes bestimmt ist, bezeichnen in der Beschreibung und in den Ansprüchen die Benennungen infrarotabsorbierende Verbindung, Novolakharz, Resolharz, Polymerbindemittel, säureaktivierbares Vernetzungsmittel, Säuregenerator und ähnliche Benennungen Mischungen dieser Materialien. Soweit nichts anderes bestimmt ist, beziehen sich die Prozentangaben auf Gew.-%. Die thermische Bebilderung bezieht sich auf eine Bebilderung entweder mit einem Wärmekörper oder mit einem Infrarotlaser.

Die Struktur der infrarotabsorbierenden Verbindungen ist in der vorstehenden Struktur I dargestellt. Die infrarotabsorbierenden Verbindungen umfassen ein Anion, das Infrarotstrahlung absorbiert, und ein Kation, das Infrarotstrahlung absorbiert. Sowohl das Anion als auch das Kation absorbieren Strahlung im Bereich von ca. 700 nm bis ca. 3000 nm, vorzugsweise von ca. 750 nm bis ca. 1200 nm. Das Anion hat zwei SO3 Gruppen.

Wie in Struktur I gezeigt, stehen Y1 und Y2 unabhängig voneinander für Wasserstoff, Halogen, Alkyl, Diphenylamin oder Phenylthio. Typische Halogengruppen sind Chlor und Brom. Typische Alkylgruppen sind Alkylgruppen aus einem bis vier Kohlenstoffatomen, wie Methyl, Ethyl, i-Propyl, n-Propyl, t-Butyl und n-Butyl. Typischerweise stehen Y1 und Y2 unabhängig voneinander für Wasserstoff, Chlor, Halogen, Phenylthio oder Diphenylamin.

R1, R2, R3 und R4 stehen unabhängig voneinander für Wasserstoff, Methyl oder SO3 Gruppen. Zwei aus R1, R2, R3 und R4 stehen für SO3 Gruppen, so dass das Anion zwei SO3 Gruppen aufweist und eine Gesamtladung von minus eins hat. R5 und R6 stehen jeweils unabhängig für eine Alkylgruppe. Typische Alkylgruppen sind Alkylgruppen aus einem bis vier Kohlenstoffatomen, wie Methyl, Ethyl, i-Propyl, Propyl, t-Butyl und n-Butyl.

Z1, Z2, Z4 und Z5 sind unabhängig eine Benzogruppe oder eine Naphthogruppe, d.h. Z1, Z2, Z4 und Z5 stellen jeweils unabhängig entweder einen Benzorest oder einen Naphthorest dar.

Z3 und Z6 stehen jeweils unabhängig für zwei Wasserstoffatome, einen Cyclohexenrest oder einen Cyclopentenrest. Z3 und/oder Z6 können jeweils entweder für einen Cyclohexenring oder für einen Cyclopentenring stehen. Alternativ hierzu kann die Verbindung eine offenkettige Verbindung sein, in der Z3 und/oder Z6 für zwei Wasserstoffatome steht. In diesem Fall wird die Struktur dargestellt durch -CH=C(Y)-CH=.

X1, X3 und X4 stehen jeweils unabhängig für S, O, NH, CH2 oder C(CH3)2. Typischerweise stehen X1, X2, X3 und X4 jeweils für C(CH3)2.

n1 und n2 stehen jeweils unabhängig für 0 bis 4, vorzugsweise für 1 bis 4.

In einem Ausführungsbeispiel sind R1 und R2 gleich; R3 und R4 sind gleich; R5 und R6 sind gleich; Z1 und Z2 sind gleich; Z4 und Z5 sind gleich; X1 und X2 sind gleich; X3 und X4 sind gleich und n1 und n2 sind gleich.

Die infrarotabsorbierenden Verbindungen sind herstellbar durch Mischen einer Lösung aus Salz, die das gewünschte infrarotabsorbierende Kation enthält, mit einer Lösung aus Salz, die das gewünschte infrarotabsorbierende Anion enthält, und das anschließende Abfiltern des resultierenden Präzipitats. Das Anion des Salzes, das das gewünschte infrarotabsorbierende Cation enthält, ist typischerweise Sulfat, Bisulfat oder Halogenid, wie z.B. Chlorid oder Bromid. Das Kation des Salzes, das das gewünschte Anion enthält, ist typischerweise Ammonium, substituiertes Ammonium, wie Trimethylammonium oder Tri-n-butylammonium, Lithium, Natrium oder Kalium. Das Lösungsmittel kann Wasser oder ein Lösungsmittel sein, das eine Mischung aus Wasser und einem hydrophilen Lösungsmittel, wie Alkohol, enthält.

Die infrarotabsorbierenden Verbindungen sind als photothermische Umwandlungsmaterialien verwendbar. Photothermische Umwandlungsmaterialien absorbieren Strahlung, typischerweise Infrarotstrahlung, und wandeln diese in Wärme um. Bebilderbare Elemente, die zur Bebilderung mit Infrarotstrahlung vorgesehen sind, umfassen typischerweise ein photothermisches Umwandlungsmaterial. Obwohl ein photothermisches Umwandlungsmaterial für die Bebilderung nicht nötig ist, können bebilderbare Elemente, die ein photothermisches Umwandlungsmaterial enthalten, auch mit einem Wärmekörper bebildert werden, wie beispielsweise einem Thermokopf oder einem Array aus Thermoköpfen. In den thermisch bebilderbaren Elementen, die keine Unterschicht umfassen, befindet sich das photothermische Umwandlungsmaterial in der bebilderbaren Schicht und/oder in einer separaten Absorptionsschicht zwischen der bebilderbaren Schicht und dem Substrat. In den Elementen, die auch eine Unterschicht umfassen, befindet sich das photothermische Umwandlungsmaterial in der bebilderbaren Schicht und/oder in der Unterschicht und/oder in einer separaten Absorptionsschicht zwischen der bebilderbaren Schicht und der Unterschicht.

Die Menge des photothermischen Umwandlungsmaterials in dem Element reicht im Allgemeinen aus, um eine optische Dichte von mindestens 0,05 und vorzugsweise von ca. 0,5 bis ca. 2 bei Bebilderungswellenlänge zu erzielen. Wie in der Technik bekannt, lässt sich die Menge des photothermischen Umwandlungsmaterials, das erforderlich ist, um eine bestimmte optische Dichte zu erzeugen, aus der Dicke der Schicht, der Konzentration an photothermischem Umwandlungsmaterial in der Schicht und dem Extinktionskoeffizienten des photothermischen Umwandlungsmaterials bei der für die Bebilderung verwendeten Wellenlänge anhand des Beerschen Gesetzes ermitteln.

Das bebilderbare Element umfasst eine bebilderbare Zusammensetzung über der Oberfläche eines Substrats. Weitere Schichten, die herkömmliche Komponenten von bebilderbaren Elementen sind, können ebenfalls vorhanden sein. Beispielsweise kann sich die bebilderbare Schicht auf dem Substrat befinden, oder es können andere Schichten, wie z.B. eine Unterschicht oder eine Absorbensschicht, zwischen der bebilderbaren Schicht und dem Substrat angeordnet sein.

Die bebilderbare Zusammensetzung kann eine negativ arbeitende bebilderbare Zusammensetzung sein. Diese Zusammensetzungen umfassen eine infrarotabsorbierende Verbindung, die auch als photothermisches Umwandlungsmaterial bezeichnet wird, einen Säuregenerator, ein säureaktivierbares Vernetzungsmittel und ein polymeres Bindemittel. Andere Inhaltsstoffe, die herkömmliche Inhaltsstoffe negativ arbeitender bebilderbarer Zusammensetzungen sind, können ebenfalls vorhanden sein. Diese Zusammensetzungen werden beispielsweise von Haley in US-A-5,372,907; von Nguyen in US-A-5,919,601, von Kobayashi in US-A-5,965,319 und von Busman in US-A-5,763,134 beschrieben.

Säuregeneratoren sind Precursor, die eine Brönsted-Säure durch thermisch veranlasste Zersetzung erzeugen. Nicht ionische Säuregeneratoren umfassen beispielsweise haloalkylsubstituierte s-Triazine, die beispielsweise von Smith in US-A-3,779,778 beschrieben werden. Haloalkylsubstituierte s-Triazine sind s-Triazine, die mit 1 bis 3 CX3 Gruppen substituiert sind, in denen X für Brom oder vorzugsweise Chlor steht. Beispiele sind 2-Phenyl-4,6-Bis(trichlormethyl)-s-Triazin, 2,4,6-Tris(trichlormethyl)-s-Triazin, 2-Methyl-4,6-Bis(trichlormethyl)-s-Triazin, 2-Styryl-4,6-Bis(trichlormethyl)-s-Triazin, 2-(p-Methoxystyrol)-4,6-Bis(trichlormethyl)-s-Triazin, 2-(4-Methoxynaphtho-1-yl)-4,6-Bistrichlormethyl-s-Triazin, 2-(4-Ethoxynaphtho-1-yl)-4,6-Bistrichlormethyl-s-Triazin und 2-[4-(2-Ethoxyethyl)-naphtho-1-yl]-4,6-Bis-trichlormethyl-s-Triazin).

Ionische Säuregeneratoren umfassen beispielsweise Oniumsalze, in denen das Oniumkation Iodonium, Sulphonium, Phosphonium, Oxysulphoxonium, Oxysulphonium, Sulphoxonium, Ammonium, Diazonium, Selenonium oder Arsonium ist, und in denen das Anion ein nicht nucleophiles Anion ist, wie Tetrafluorborat, Hexafluorphosphat, Hexafluorarsenat, Hexafluorantimonat, Triflat, Tetrakis(pentafluorphenyl)borat, Pentafluorethylsulfonat, p-Methylbenzylsulfonat, Ethylsulfonat, Trifluormethylacetat und Pentafluorethylacetat. Typische Oniumsalze enthalten beispielsweise Diphenyliodoniumchlorid, Diphenyliodoniumhexafluorphosphat, Diphenyliodoniumhexafluorantimonat, 4,4'-Dicumyliodoniumchlorid, 4,4'-Dicumyliodoniumhexofluorphosphate, N-Methoxy-&agr;-Picolinium-p-Toluolsulfonat, 4-Methoxybenzendiazoniumtetrafluorborat, 4,4'-Bisdodecylphenyliodonium-Hexafluorphosphat, 2-Cyanethyltriphenylphosphoniumchlorid, Bis-[4-diphenylsulfoniophenyl]sulfid-Bishexafluorphosphat, Bis-4-dodecylphenyliodoniumhexafluorantimonat, Triphenylsulfoniumhexafluorantimonat, Triphenylsulfoniumtetrafluorborat, 2-Methoxy-4-aminophenyldiazoniumhexafluorphosphat, Phenoxyphenyldiazoniumhexafluorantimonat und Anilinphenyldiazoniumhexafluorantimonat.

Besonders geeignete ionische Säuregeneratoren sind u.a. Iodonium, Sulfonium und Diazoniumsalze, in denen das Anion ein organisches Sulfat oder Thiosulfat ist, wie beispielsweise Methylsulfat oder Thiosulfat, Ethylsulfat oder Thiosulfat, Hexylsulfat oder Thiosulfat, Octylsulfat oder Thiosulfat, Decylsulfat oder Thiosulfat, Dodecylsulfat und Thiosulfat, Trifluormethylsulfat oder Thiosulfat, Benzylsulfat oder Thiosulfat, Pentafluorphenylsulfat und Thiosulfat. Typische Säuregeneratoren sind u.a. Diphenyliodoniumoctylsulfat, Diphenyliodoniumoctylthiosulfat, Triphenylsulfoniumoctylsulfat, 4,4'-Dicumyliodonium p-Tolylsulfat, 2-Methoxy-4-(Phenylamin)benzendiazoniumoctylsulfat, 2-Methoxy-4-(Phenylamin)benzendiazoniumhexadecylsulfat, 2-Methoxy-4-(Phenylamin)benzendiazoniumdodecylsulfat und 2-Methoxy-4-(Phenylamin)benzendiazoniumvinylbenzylthiosulfat. Diese Säuregeneratoren können durch Mischen eines Oniumsalzes, wie z.B. Oniumchlorid, Bromid oder Bisulfat, das das gewünschte Kation enthält, mit einem Natrium- oder Kaliumsalz hergestellt werden, das das gewünschte Anion enthält, d.h. das gewünschte Alkyl- oder Arylsulfat oder Thiosulfat, entweder in Wasser oder in einer wässrigen Lösung, die ein hydrophiles Lösungsmittel, wie z.B. einen Alkohol, enthält.

Säureaktivierbare Vernetzungsmittel können mindestens zwei säureaktivierbare Reaktivgruppen umfassen, wie z.B. die Hydroxymethylgruppe, die Alkoxymethylgruppe, die Epoxygruppe und die Vinylethergruppe, die an einen aromatischen Ring gebunden sind. Beispiele sind Methylolmelaminharze, Resolharze, epoxidierte Novolakharze und Harnstoffharze. Weitere Beispiele sind Aminoharze mit mindestens zwei Alkoxymethylgruppen (z.B. alkoxymethylierte Melaminharze, Alkoxymethylierte Glycolurile und alkoxymethylierte Benzoguanamine). Phenolderivate, die mindestens zwei Gruppen umfassen, wie z.B. die Hydroxymethylgruppe und/oder die Alkoxymethylgruppe, verleihen in einem Bildbereich eine gute Festigkeit bei Erzeugung des Bildes. Beispiele für Phenolderivate sind u.a. Resolharze. Zu Resolharzen zählen beispielsweise GP649D99 Resol (Georgia Pacific) und BKS-5928 Resolharz (Union Carbide).

Novolakharze werden typischerweise durch Kondensation eines Phenols, wie z.B. Phenol, m-Cresol, o-Cresol, p-Cresol usw., mit einem Aldehyd, wie Formaldehyd, Paraformaldehyd, Acetaldehyd usw., oder einem Keton, wie Aceton, in Anwesenheit eines Säurekatalysators hergestellt. Normalerweise wird eines von zwei Verfahren verwendet, nämlich das Lösungsmittelkondensationsverfahren oder das Heizschmelzkondensationsverfahren. Typische Novokalharze sind beispielsweise Phenolformaldehydharze, Cresolformaldehydharze, Phenolcresolformaldehydharze, p-t-Butylphenolformaldehydharze und Pyrogallolacetonharze. Ein zur Verwendung in der Erfindung geeignetes Novolakharz ist das Harz aus m-Cresol und Formaldehyd.

Resolharze werden durch Reaktion von Phenolverbindungen mit Aldehyden hergestellt, aber unter anderen Reaktionsbedingungen als denjenigen, bei denen Novalakharze hergestellt werden. Ein typisches Beispiel eines mit Novolakharzen verwendbaren Resolharzes ist das aus Bisphenol A und Formaldehyd hergestellte Resolharz.

Welches säureaktivierbare Vernetzungsmittel in der Zusammensetzung verwendet wird, kann von dem polymeren Bindemittel abhängen. Es ist jede Kombination aus säureaktivierbarem Vernetzungsmittel und polymerem Bindemittel verwendbar, die mit dem vernetzten Bindemittel unter den Bebilderungsbedingungen reagiert. In der Technik sind verschiedene Kombinationen des polymeren Bindemittels und des säureaktivierbaren Vernetzungsmittels bekannt. Im Allgemeinen ist das Bindemittel ein Polymer oder eine Polymermischung, die einer säurekatalysierten Kondensationsreaktion mit dem Vernetzungsmittel unterzogen werden kann, wenn das Element auf ca. 60–220°C erwärmt wird.

Beispielsweise beschreibt Haley in US-A-5,372,907 eine strahlungsintensive Zusammensetzung, die sowohl gegenüber ultravioletter/sichtbarer als auch gegenüber infraroter Strahlung empfindlich ist. Die Zusammensetzung umfasst ein Resolharz und ein Novolakharz. In diesen Zusammensetzungen ist das Novolakharz das polymere Bindemittel, und das Resolharz ist das säureaktivierbare Vernetzungsmittel. Nguyen beschreibt in US-A-5,919,601 strahlungsempfindliche Zusammensetzungen, die durch infrarote und ultraviolette/sichtbare Strahlung bebilderbar sind. Diese Zusammensetzungen umfassen polymere Bindemittel, die anhängende Reaktivgruppen enthalten, die aus Hydroxy, Carboxylsäure, Sulfonamid und Alkoxymethylamiden ausgewählt sind, und ein Resolharz, ein C1-C5 Alkoxymethylmelamin oder Glycolurilharz, ein Poly(C1-C5-Alkoxymethylstyrol), ein Poly(C1-C5-Alkoxymethylacrylamid), ein Derivat davon oder eine Kombination davon. Vorzugsweise ist das Vernetzungsharz ein Resolharz, hergestellt aus C1-C5 Alkylphenol und Formaldehyd; einem Tetra C1-C5-Alkoxymethylglycoluril; einem Polymer von (4-Methoxymethylstyrol); einem Polymer von (N-Methoxymethyl)acrylamid; einem Polymer von (N-i-Butoxymethyl)acrylamid oder einem butylierten Phenolharz. Kobayashi beschreibt in US-A-5,965,319 ein negativ arbeitendes Aufzeichnungsmaterial, das ein säureaktivierbares Vernetzungsmittel umfasst, vorzugweise mit mindestens zwei Hydroxymethyl- oder Alkoxymethylgruppen, die an einen Benzolring gebunden sind, und eine Polymerverbindung mit einer alkalisch löslichen Gruppe, wie einem Novolakharz. Typische Vernetzungsmittel sind Phenole, die Hydroxymethylgruppen enthalten, hergestellt durch Kondensation von Phenolen mit Formaldehyd. Busman beschreibt in US-A-5,763,134 aktivierbare Vernetzungsmittel, wie 1,3,5-Trihydroxymethylbenzol, 1,3,5-Triacetoxymethylbenzol und 1,2,4,5-Tetraacetoxymethylbenzol. Einschlägigen Fachleuten sind weitere polymere Bindemittel und säureaktivierbare Vernetzungsmittel bekannt.

Die bebilderbare Zusammensetzung kann zudem weitere Inhaltsstoffe enthalten, wie Farbstoffe und Tenside, bei denen es sich um herkömmliche Inhaltsstoffe von bebilderbaren Zusammensetzungen handelt. Tenside können in der bebilderbaren Zusammensetzung beispielsweise als Beschichtungsmittel vorkommen. Ein Farbstoff kann vorhanden sein, um die Sichtprüfung des belichteten und/oder entwickelten Elements zu erleichtern. Druckfarbstoffe ermöglichen die Unterscheidung der belichteten Bereiche während der Verarbeitung von den unbelichteten Bereichen. Kontrastfarbstoffe tragen dazu bei, die unbebilderten Bereiche in dem entwickelten bebilderbaren Element von den bebilderten Bereichen zu unterscheiden. Vorzugsweise absorbiert der Farbstoff nicht die Bebilderungsstrahlung. Triarylmethanfarbstoffe, wie Ethylviolett, Kristallviolett, Malachitgrün, Brillantgrün, Viktoriablau B, Viktoriablau R und Viktoriareinblau BO und D11 können als Kontrastfarbstoffe dienen.

Die negativ arbeitende bebilderbare Zusammensetzung umfasst typischerweise zwischen ca. 0,1 und 10 Gew.-% und vorzugsweise zwischen ca. 0,5 und 10 Gew.-% der infrarotabsorbierenden Verbindung (photothermisches Umwandlungsmaterial), bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Die bebilderbare Zusammensetzung umfasst typischerweise zwischen ca. 0,01 und 50 Gew.-%, vorzugsweise zwischen ca. 0,1 und 25 Gew.-% und am besten zwischen ca. 0,5 und 20 Gew.-% des Säuregenerators, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Diese Zusammensetzungen umfassen typischerweise zwischen ca. 5 und 70 Gew.-% und vorzugsweise zwischen ca. 10 und 65 Gew.-% des Vernetzungsmittels, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Die bebilderbare Zusammensetzung umfasst typischerweise zwischen ca. 10 und 90 Gew.-%, vorzugsweise zwischen ca. 20 und 85 Gew.-% und am besten zwischen ca. 30 und 80 Gew.-% des Polymers, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.

Die infrarotabsorbierenden Verbindungen sind als photothermische Umwandlungsmaterialien in positiv arbeitenden bebilderbaren Zusammensetzungen verwendbar. Positiv arbeitende, thermisch bebilderbare Elemente, in denen die bebilderbare Zusammensetzung ein Polymermaterial und einen Lösungsinhibitor umfasst, sind in der Technik bekannt. Das Polymermaterial ist ein wasserunlösliches und alkalisch lösliches Bindemittel, wie beispielsweise und wie zuvor besprochen ein Phenolharz, etwa ein Novolakharz. Es wird angenommen, dass die Lösungsinhibitoren gegenüber Strahlung im Bereich von ca. 600 nm bis ca. 800 nm oder gegenüber Strahlung im Bereich von ca. 800 nm bis ca. 1200 nm nicht photoreaktiv sind, also in den Strahlungsbereichen, die typischerweise für die Bebilderung thermisch bebilderbarer Elemente verwendet werden. Das Element kann eine Unterschicht zwischen der bebilderbaren Schicht und dem Substrat umfassen. Das photothermische Umwandlungsmaterial kann in der bebilderbaren Schicht, in einer Unterschicht oder in einer separaten Absorbensschicht zwischen der bebilderbaren Schicht und der Unterschicht, soweit die Unterschicht vorhanden ist, oder zwischen der bebilderbaren Schicht und dem Substrat, soweit die Unterschicht nicht vorhanden ist, vorhanden sein. Derartige Systeme werden beispielsweise von Parsons in US-A-6,280,899, von Shimazu in US-A-6,294,311 und in US-A-6,352,812 sowie von Savariar-Hauck in US-A-6,358,669 beschrieben.

Verwendbare Polargruppen für Lösungsinhibitoren sind z.B. Diazogruppen, Diazoniumgruppen, Ketogruppen, Sulfonsäureestergruppen, Phosphatestergruppen, Triarylmethangruppen, Oniumgruppen, wie Sulfonium-, Iodonium- und Phosphoniumgruppen, wo ein Stickstoffatom in einen heterozyklischen Ring eingebracht wird, Gruppen, die ein positiv geladenes Atom enthalten, insbesondere ein positiv geladenes Stickstoffatom, typischerweise ein quaternisiertes Stickstoffatom, d.h. Ammoniumgruppen. Verbindungen, die ein positiv geladenes (d.h. quaternisiertes) Stickstoffatom als Lösungsinhibitor enthalten, umfassen beispielsweise Tetraalkylammoniumverbindungen, Chinoliniumverbindungen, Benzothiazoliumverbindungen, Pyridiniumverbindungen und Imidazoliumverbindungen. Verbindungen, die andere Polargruppen, wie Ether, Amin, Azo, Nitro, Ferrocenium, Sulfoxid, Sulfon und Disulfon enthalten, sind ebenfalls als Lösungsinhibitoren geeignet.

Quaternisierte heterozyklische Verbindungen sind als Lösungsinhibitoren geeignet. Repräsentative Imidazoliumverbindungen umfassen Monazolin C (Cocoat-Imidazolin), Monazolin O (Öl-Imidazolin) und Monazolin T (Tallöl-Imidazolin) (Unigema, Wilmington, DE, USA). Repräsentative Chinolinium-Lösungsinhibitoren umfassen 1-Ethyl-2-Methylchinoliniumiodid, 1-Ethyl-4-Methylchinoliniumiodid und Cyaninfarbstoffe, die einen Chinoliniumrest, wie Quinoldine Blue, enthalten. Repräsentative Benzothiazoliumverbindungen umfassen 3-Ethyl-2(3H)-Benzothiazolyliden-2-Methyl-1-(Propenyl)benzothiazolium kationische Farbstoffe und 3-Ethyl-2-Methylbenzothiazoliumiodid. Geeignete Pyridiniumlösungsinhibitoren umfassen Cetylpyridiniumbromid und Ethylviologendicationen. Diazoniumsalze sind als Lösungsinhibitoren verwendbar und umfassen beispielsweise substituierte und unsubstituierte Diphenylamindiazoniumsalze, wie methoxysubstituierte Diphenylamindiazoniumhexafluorborate.

Eine bevorzugte Gruppe von Lösungsinhibitoren sind Triarylmethanfarbstoffe, wie Ethylviolett, Kristallviolett, Malachitgrün, Brillantgrün, Viktoriablau B, Viktoriablau R und Viktoriareinblau BO. Diese Verbindungen können auch als Kontrastfarbstoffe dienen, die die unbebilderten Bereiche in dem entwickelten bebilderbaren Element von den bebilderten Bereichen unterscheiden. Der Lösungsinhibitor kann eine monomere und/oder eine polymere Verbindung sein, die einen o-Diazonaphthochinonrest umfasst, wie zuvor erörtert.

Wenn ein Lösungsinhibitor in der bebilderbaren Schicht vorhanden ist, umfasst er im Allgemeinen mindestens ca. 0,1 Gew.-% und typischerweise zwischen ca. 0,5 Gew.-% und ca. 30 Gew.-%, vorzugsweise ca. 1 Gew.-% bis 15 Gew.-%, bezogen auf das Trockengewicht der Schicht.

Alternativ oder zusätzlich hierzu kann das Polymermaterial in der bebilderbaren Schicht Polargruppen umfassen, die als Akzeptorstellen für die Wasserstoffbindung mit den Hydroxygruppen in dem Polymermaterial dienen und somit als Polymermaterial und als Lösungsinhibitor dienen. Die Derivatisierung der Hydroxylgruppen erhöht die Molmasse des Polymermaterials und reduziert die Anzahl von Hydroxylgruppen, wodurch sich typischerweise sowohl die Löslichkeit als auch die Lösungsgeschwindigkeit des Polymermaterials in dem Entwickler reduziert. Zwar ist es wichtig, dass der Grad der Derivatisierung hoch genug ist, damit das Polymermaterial als Lösungsinhibitor dient, aber er sollte nicht so hoch sein, dass das Polymermaterial nach der thermischen Bebilderung nicht im Entwickler löslich ist. Die Derivatisierung von Phenolharzen mit Verbindungen, die den Diazonaphthochinonrest enthalten, ist in der Technik bekannt und wird beispielsweise von West in US-A-5,705,308 und 5,705,322 beschrieben.

Obwohl der Grad der erforderlichen Derivatisierung von der Art des Polymermaterials und der Art des Rests abhängt, der die Polargruppen enthält, die in das Polymermaterial eingebracht werden, werden typischerweise ca. 0,5 Mol-% bis ca. 5 Mol-%, vorzugsweise zwischen ca. 1 Mol-% und ca. 3 Mol-% der Hydroxylgruppen derivatisiert. Diese derivatisierten Polymermaterialien können in der bebilderbaren Farbaufnahmeschicht entweder alleine verwendet oder sie können mit anderen Polymermaterialien und/oder Lösungsinhibitoren kombiniert werden.

Eine Gruppe von Polymermaterialien, die Polargruppen umfassen und als Lösungsinhibitor dienen, sind derivatisierte Phenolpolymermaterialien, in denen ein Teil der Phenolhydroxylgruppen in Sulfonsäureester umgewandelt worden ist, vorzugsweise Phenylsulfonate oder p-Toluolsulfonate. Die Derivatisierung kann durch Reaktion des Polymermaterials mit beispielsweise einem Sulfonylchlorid erfolgen, wie einem p-Toluolsulfonylchlorid in Anwesenheit einer Base, wie einem tertiären Amin. Ein geeignetes Material ist Novolakharz, in dem zwischen ca. 1 Mol-% und 3 Mol-%, vorzugsweise zwischen ca. 1,5 Mol-% und ca. 2,5 Mol-% der Hydroxylgruppen in Phenylsulfonat oder p-Toluolsulfonatgruppen (Tosylgruppen) umgewandelt worden sind.

Fachleute werden selbstverständlich wissen, dass Phenolpolymere, die mit Polargruppen derivatisiert worden sind (z.B. Polymere, in denen einige der Hydroxylgruppen mit Sulfonsäureestergruppen oder mit Gruppen derivatisiert worden sind, die der Diazonaphthochinonrest enthalten), in wässrigem alkalischem Entwickler löslich sind, aber dass eine Schicht, die eines oder mehrere dieser Materialien umfasst oder im Wesentlichen daraus besteht, in wässrigem alkalischem Entwickler „unlöslich" ist. Dies ist darauf zurückzuführen, dass die Löslichkeit und Unlöslichkeit der Schicht durch die relativen Raten bestimmt wird, mit der die bebilderten und unbebilderten Bereiche der Schicht von dem Entwickler entfernt werden. Nach der thermischen Bebilderung einer Schicht, die einen oder mehrere dieser derivatisierten Phenolpolymermaterialien umfasst oder im Wesentlichen daraus besteht, werden die belichteten Bereiche der Schicht durch den wässrigen alkalischen Entwickler schneller als die unbebilderten Bereiche entfernt. Wenn die Entwicklung für eine entsprechende Zeit ausgeführt wird, werden die bebilderten Bereiche entfernt, und die unbebilderten Bereiche verbleiben, so dass ein aus den unbelichteten Bereichen bestehendes Bild gebildet wird. Somit sind die bebilderten Bereiche in dem Entwickler "entfernbar" oder "löslich", und die unbebilderten Bereiche sind in dem Entwickler „nicht entfernbar" oder „unlöslich".

Wenn das bebilderbare Element eine Unterschicht umfasst, ist das Polymermaterial in der Unterschicht vorzugsweise in einem alkalischen Entwickler löslich. Zudem ist dieses Polymermaterial in dem Lösungsmittel vorzugsweise unlöslich, das zur Beschichtung der bebilderbaren Schicht verwendet wird, so dass die bebilderbare Schicht nicht über der Unterschicht aufgetragen werden kann, ohne die Unterschicht aufzulösen. In der Unterschicht verwendbare Polymermaterialien sind u.a. solche, die eine Säure und/oder Phenolfunktionalität und Mischungen dieser Materialien enthalten. Geeignete Polymermaterialien sind carboxyfunktionelle Acryle, Vinylacetat/Crotonat-/Vinylneodecanoat-Copolymere, Styrolmaleinanhydrid-Copolymere, Phenolharze, Holzharz-Maleat und Kombinationen daraus. Unterschichten, die gegenüber Feuchtlösung und aggressiven Waschlösungen beständig sind, werden von Shimazu in US-A-6,294,311 beschrieben.

Besonders geeignete Polymermaterialien sind Copolymere, die N-substituierte Maleimide, insbesondere N-Phenylmaleimid, Polyvinylacetale, Methacrylamid, insbesondere Methacrylamid, und Acryl- und/oder Methacrylsäure, insbesondere Methacrylsäure, enthalten. Vorzugsweise sind zwei Funktionsgruppen in dem Polymermaterial vorhanden und am besten sind alle drei Funktionsgruppen in dem Polymermaterial enthalten. Die bevorzugten Polymermaterialien dieser Art sind Copolymere von N-Phenylmaleimid, Methacrylamid und Methacrylsäure, am besten solche, die zwischen ca. 25 und ca. 75 Mol-% enthalten, vorzugsweise zwischen ca. 35 und ca. 60 Mol-% N-Phenylmaleimid, zwischen ca. 10 und ca. 50 Mol-% und vorzugsweise zwischen ca. 15 und ca. 40 Mol-% Methacrylamid und zwischen ca. 5 und ca. 30 Mol-%, vorzugsweise zwischen ca. 10 und ca. 30 Mol-% Methacrylsäure. Andere hydrophile Monomere, wie Hydroxyethylmethacrylat, können anstelle einiger oder des gesamten Methacrylamids verwendet werden. Andere alkalisch lösliche Monomere, wie Acrylsäure, können anstelle einiger oder des gesamten Methacrylamids verwendet werden.

Eine weitere Gruppe bevorzugter Polymermaterialien für das Polymermaterial in der Unterschicht sind in alkalischem Entwickler lösliche Copolymere, die ein Monomer umfassen, das eine Harnstoffbindung in deren Seitenkette umfasst, (d.h. eine anhängende Harnstoffgruppe), wie von Ishizuka in US-A-5,731,127 beschrieben. Diese Copolymere umfassen zwischen ca. 10 und 80 Gew.-% und vorzugsweise zwischen ca. 20 und 80 Gew.-% eines oder mehrerer Monomere, dargestellt durch die allgemeine Formel: CH2=C(R)-CO2-X-NH-CO-NH-Y-Z,worin R für -H oder -CH3; X für eine zweiwertige Bindungsgruppe steht; Y für eine substituierte oder unsubstituierte zweiwertige aromatische Gruppe steht und Z für -OH, -COOH, or -SO2NH2 steht.

R steht vorzugsweise für -CH3. Vorzugsweise ist X eine substituierte oder unsubstituierte Alkylengruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Phenylen[-(C6H4)-]gruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Naphthalen[-(C10H6)-]gruppe, wie -(CH2)n-, worin n für 2 bis 8; 1,2-, 1,3- und 1,4-Phenylen und 1,4-, 2,7- und 1,8-Naphthalen steht. Vorzugsweise ist X unsubstituiert, besser steht n für 2 oder 3 und am besten steht X für -(CH2CH2)-. Vorzugsweise ist Y eine substituierte oder unsubstituierte Phenylengruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Naphthalengruppe, wie 1,2-, 1,3- und 1,4-Phenylen und 1,4-, 2,7- und 1,8-Naphthalen. Besser ist Y unsubstituiert, am besten unsubstituiertes 1,4-Phenylen. Z steht für -OH, -COOH oder -SO2NH2, vorzugsweise -OH. Ein bevorzugtes Monomer ist: CH2=C(CH3)-CO2-CH2CH2-NH-CO-NH-p-C6H4-Z,worin Z für -OH, -COOH, or -SO2NH2, vorzugsweise für -OH steht.

In der Synthese eines Copolymers kann eines oder können mehrere harnstoffgruppenhaltige Monomere verwendet werden. Die Copolymere umfassen zudem 20 bis 90 Gew.-% andere polymerisierbare Monomere, wie Maleimid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Acrylester, Methacrylester, Acrylnitril, Methacrylnitril, Acrylamide und Methacrylamide. Ein Copolymer, das mehr als 60 Mol-% und nicht mehr als 90 Mol-% Acrylnitril und/oder Methacrylnitril zusätzlich zu Acrylamid und/oder Methacrylamid enthält, liefert überlegene physische Eigenschaften. Vorzugsweise umfassen die alkalisch löslichen Copolymere 30 bis 70 Gew.-% harnstoffgruppenhaltiges Monomer; 20 bis 60 Gew.-% Arylnitril oder Methacrylnitril, vorzugsweise Acrylnitril, und 5 bis 25 Gew.-% Acrylamid oder Methacrylamid, vorzugsweise Methacrylamid.

Eine weitere Gruppe von Polymermaterialien, die in der Unterschicht verwendbar sind, umfassen in alkalischem Entwickler lösliche Copolymere, die ca. 10 bis 90 Mol-% einer Sulfonamidmonomereinheit umfassen, insbesondere solche, die N-(p-Aminsulfonylphenyl)methacrylamid, N-(m-Aminsulfonylphenyl)methacrylamid, N-(o-Aminsulfonylphenyl)methacrylamid und/oder das entsprechende Acrylamid enthalten. Geeignete in alkalischem Entwickler lösliche Polymermaterialien, die eine anhängende Sulfonamidgruppe umfassen, deren Herstellungsverfahren sowie zu deren Herstellung geeignete Monomere werden von Aoshima in US-A-5,141,838 beschrieben. Besonders geeignete Polymermaterialien umfassen (1) die Sulfonamidmonomereinheit, insbesondere N-(p-Aminsulfonylphenyl)methacrylamid; (2) Acrylnitril und/oder Methacrylnitril; sowie (3) Methylmethacrylat und/oder Methylacrylat.

Die infrarotabsorbierende Verbindung (photothermisches Umwandlungsmaterial) kann in der bebilderbaren Schicht, in einer separaten Absorbensschicht und/oder in einer Unterschicht vorhanden sein. Soweit vorhanden, befindet sich eine Absorbensschicht zwischen der bebilderbaren Schicht und dem Substrat. Soweit eine Unterschicht vorhanden ist, befindet sich die Absorbensschicht zwischen der bebilderbaren Schicht und der Unterschicht. Sie besteht sich vorzugsweise im Wesentlichen aus dem photothermischen Umwandlungsmaterial und wahlweise einem Tensid. Es kann möglich sein, weniger photothermisches Umwandlungsmaterial zu verwenden, wenn dieses in einer separaten Absorbensschicht statt in der Unterschicht und/oder der bebilderbaren Schicht vorhanden ist. Wenn eine Absorbensschicht vorhanden ist, ist die bebilderbare Schicht vorzugsweise im Wesentlichen frei von photothermischem Umwandlungsmaterial, d.h. die bebilderbare Schicht absorbiert vorzugsweise keine zur Bebilderung verwendete Strahlung, also typischerweise Strahlung im Bereich von 800 nm bis 1200 nm. Die Absorbensschicht hat vorzugsweise eine Dicke, die ausreicht, um mindestens 90%, vorzugsweise mindestens 99% der Bebilderungsstrahlung zu absorbieren. Typischerweise hat die Absorbensschicht ein Auftragsgewicht von ca. 0,02 g/m2 bis ca. 2 g/m2, vorzugsweise von ca. 0,05 g/m2 bis ca. 1,5 g/m2. Wie zuvor beschrieben, reicht die Menge des photothermischen Umwandlungsmaterials in dem Element im Allgemeinen aus, um eine optische Dichte von mindestens 0,05 und vorzugsweise von ca. 0,5 bis ca. 2 bei Bebilderungswellenlänge zu erzielen.

Die bebilderbare Zusammensetzung kann auf einer Vielzahl von Substraten aufgebracht werden. Welches Substrat zum Einsatz kommt, wird im Allgemeinen von der vorgesehenen Anwendung bestimmt. Für den Offsetdruck umfasst das Substrat einen Träger, bei dem es sich um jedes Material handeln kann, das zur Herstellung bebilderbarer Elemente für Offsetdruckplatten verwendbar ist. Der Träger ist vorzugsweise stark, stabil und biegsam. Er sollte auch unter Einsatzbedingungen maßhaltig sein, so dass die Farbaufzeichnung in einem Vollfarbenbild passgenau bleibt. Typischerweise kann der Träger ein beliebiges selbsttragendes Material sein, wie Polymerfolie, z.B. Polyethylenterephthalatfolie, Keramik, Metalle oder steife Papiere oder eine Laminierung dieser Materialien. Bevorzugte Metallträger sind Aluminium, Zink, Titan und Legierungen daraus.

Typischerweise enthalten Polymerfolien eine Unterbeschichtung auf einer oder auf beiden Oberflächen, um die Oberflächeneigenschaften zu modifizieren und die Hydrophilie der Oberfläche zu erhöhen, die Haftung der nachfolgenden Schichten zu verbessern, die Planlage der Papiersubstrate zu verbessern und ähnliches. Die Art dieser Schicht oder Schichten hängt von dem Substrat und von der Zusammensetzung der nachfolgend aufgetragenen Schichten ab. Beispiele der Substratschichtmaterialien sind haftvermittelnde Materialien, wie Alkoxysilane, Aminopropyltriethoxysilan, Glycidoxypropyltriethoxysilan und epoxyfunktionelle Polymere sowie herkömmliche Substratmaterialien, die auf Polyesterträgern in fotografischen Filmen zum Einsatz kommen.

Die Oberfläche eines Aluminiumträgers kann mithilfe bekannter Techniken behandelt werden, wie physisches Anodisieren, elektrochemisches Aufrauen, chemisches Aufrauen und Anodisieren. Das Substrat sollte ausreichend dick sein, um dem durch den Druckvorgang bedingten Verschleiß standzuhalten, und dünn genug, um ein Umwickeln der Druckform zu ermöglichen, üblicherweise ca. 100 bis ca. 600 &mgr;m. Typischerweise umfasst das Substrat eine Zwischenschicht zwischen dem Aluminiumträger und der Schicht aus der bebilderbaren Zusammensetzung. Die Zwischenschicht kann durch Behandlung des Trägers mit beispielsweise Silicat, Dextrin, Hexafluorkieselsäure, Phosphat/Fluorid, Polyvinylphosphonsäure (PVPA) oder Vinylphosphonsäure-Copolymeren gebildet werden.

Die Rückseite des Substrats (d.h. die Seite gegenüber der Unterschicht und der Schicht aus der bebilderbaren Zusammensetzung) kann mit einem Antistatikmittel und/oder einer Gleitschicht oder Mattschicht beschichtet werden, um Handhabung und Haptik des bebilderbaren Elements zu verbessern. Typischerweise hat die bebilderbare Schicht ein Beschichtungsgewicht von ca. 0,5 bis ca. 4 g/m2, vorzugsweise von 0,8 bis 3 g/m2.

Das bebilderbare Element kann mittels konventioneller Techniken durch aufeinanderfolgendes Aufbringen der Unterschicht über der hydrophilen Oberfläche des Substrats, durch Aufbringen der Absorbensschicht oder der Barriereschicht, soweit vorhanden, über der Unterschicht und durch Aufbringen der bebilderbaren Schicht hergestellt werden.

Die Begriffe „Lösungsmittel" und „Beschichtungslösungsmittel" umfassen Mischungen von Lösungsmitteln. Diese Begriffe werden verwendet, obwohl einige oder alle Materialien in dem Lösungsmittel statt in Lösung suspendiert oder dispergiert werden können. Die Auswahl der Beschichtungslösungsmittel hängt von der Art der Komponenten in den verschiedenen Schichten ab.

Die Unterschicht kann mit jedem herkömmlichen Verfahren aufgebracht werden, wie z.B. Beschichten oder Laminieren. Die Inhaltsstoffe werden typischerweise in einem geeigneten Beschichtungslösungsmittel dispergiert oder gelöst, und die resultierende Mischung wird mithilfe herkömmlicher Verfahren, wie Rotationsbeschichtung, Rakelbeschichtungen, Gravurstreichverfahren, Die-Coating oder Walzenbeschichtung aufgetragen.

Die bebilderbare Schicht wird auf dem Substrat oder, sofern vorhanden, über der Unterschicht aufgetragen. Sofern eine Unterschicht vorhanden ist, sollte die bebilderbare Schicht aus dem Lösungsmittel aufgetragen werden, in dem die Unterschicht im Wesentlichen unlöslich ist, um zu verhindern, dass sich diese Schichten auflösen und mischen. Das Beschichtungslösungsmittel für die bebilderbare Schicht sollte ein Lösungsmittel sein, in dem die Komponenten der bebilderbaren Schicht ausreichend löslich sind, so dass die bebilderbare Schicht ausgebildet werden kann, und in der mögliche darunterliegende Schichten im Wesentlichen unlöslich sind. Typischerweise sind die zum Beschichten der darunterliegenden Schichten verwendeten Lösungsmittel stärker polar als das zum Beschichten der bebilderbaren Schicht verwendete Lösungsmittel. Ein Trocknungszwischenschritt, d.h. zum Trocknen der Unterschicht, sofern vorhanden, und zum Entfernen des Beschichtungslösungsmittels vor dem Auftragen der bebilderbaren Schicht darüber, ist ebenfalls verwendbar, um ein Vermischen der Schichten zu verhindern. Alternativ hierzu können die Unterschicht, die bebilderbare Schicht oder beide Schichten mithilfe herkömmlicher Extrusionsbeschichtungsverfahren aus einer Schmelzmischung der Schichtenkomponenten aufgetragen werden. Eine derartige Schmelzmischung enthält typischerweise keine flüchtigen organischen Lösungsmittel.

Die thermische Bebilderung kann mithilfe bekannter Techniken erfolgen. Das Element kann dann thermisch mit einem Laser oder einem Laserarray bebildert werden, der modulierte Nahinfrarot- oder Infrarotstrahlung in einem Wellenlängenbereich abstrahlt, der von dem bebilderbaren Element absorbiert wird. Infrarotstrahlung und insbesondere Infrarotstrahlung im Bereich von ca. 800 nm bis ca. 1200 nm, typischerweise von 830 nm oder 1064 nm, wird typischerweise zur Bebilderung thermisch bebilderbarer Elemente eingesetzt. Die Bebilderung wird üblicherweise mit einem Laser durchgeführt, der bei ca. 830 nm oder bei ca. 1064 nm abstrahlt. Geeignete kommerziell verfügbare Bebilderungsvorrichtungen umfassen Belichter des Typs Creo® Trendsetter (CREO) und Gerber Crescent 42T (Gerber).

Alternativ hierzu kann das bebilderbare Element thermisch mithilfe eines Wärmekörpers bebildert werden, wie z.B. einer herkömmlichen Vorrichtung, die einen Thermodruckkopf enthält. Eine geeignete Bebilderungsvorrichtung umfasst mindestens einen Thermodruckkopf, normalerweise aber einen Array aus Thermodruckköpfen, wie das TDK Modell Nr. LV5416, das in Thermofaxgeräten und in Sublimationsdruckern oder im Thermoplotter des Typs GS618-400 (Oyo Instruments, Houston, TX, USA) zum Einsatz kommt.

Nach der Bebilderung kann das bebilderte, bebilderbare Element ggf. erwärmt werden. Dieser optionale Schritt lässt sich durch Strahlung, Konvektion, Kontakt mit erwärmten Flächen, beispielsweise mit Walzen, oder durch Eintauchen in ein erwärmtes Bad vollziehen, das eine inerte Flüssigkeit, wie beispielsweise Wasser, enthält. Vorzugsweise wird das bebilderte, bebilderbare Element in einem Ofen erwärmt.

Die Erwärmungstemperatur wird typischerweise anhand des Schleierbildungspunktes des bebilderbaren Elements ermittelt. Der Schleierbildungspunkt ist als die niedrigste Temperatur definiert, die bei einer Erwärmungszeit von zwei Minuten erforderlich ist, um ein thermisch bebilderbares Element nicht verarbeitbar werden zu lassen. Für negativ arbeitende Elemente, die einen Säuregenerator enthalten, beträgt die Temperatur ungefähr 28°C (ca. 50°F) oder weniger unterhalb des Schleierbildungspunktes bei einer Erwärmungszeit von zwei Minuten, vorzugsweise ungefähr 17°C (ca. 30°F) oder weniger unterhalb des Schleierbildungspunktes bei einer Erwärmungszeit von zwei Minuten und am besten ca. 8°C (ca. 15°F) unterhalb des Schleierbildungspunktes bei einer Erwärmungszeit von zwei Minuten. Typischerweise beträgt die Erwärmungstemperatur ca. 110°C bis ca. 150°C (ca. 230°F bis ca. 300°F). Die Erwärmungszeit kann stark variieren, je nachdem, welches Verfahren zur Anwendung der Wärme und welche sonstigen Schritte in dem Verfahren gewählt werden. Wenn ein Wärmeübertragungsmedium verwendet wird, beträgt die Erwärmungszeit vorzugsweise ca. 30 Sekunden bis ca. 30 Minuten, am besten ca. 1 Minute bis ca. 5 Minuten. Wenn das bebilderte bebilderbare Element in einem Ofen erwärmt wird, beträgt die Erwärmungszeit vorzugsweise ca. 1 Minute bis ca. 5 Minuten.

Die Bebilderung erzeugt ein bebildertes Element, das ein Latentbild der bebilderten und komplementären unbebilderten Bereiche enthält. Die Entwicklung des bebilderten Elements zur Ausbildung einer Druckplatte oder Druckform wandelt das Latentbild in ein Bild um, indem die bebilderten Bereiche oder die unbebilderten Bereiche entfernt werden, wodurch die hydrophile Oberfläche des darunter liegenden Substrats freigelegt wird.

Der Entwickler kann eine beliebige Flüssigkeit oder Lösung sein, die in die unerwünschten Bereiche der bebilderbaren Schicht eindringt und diese entfernt, ohne die komplementären Bereiche wesentlich zu beeinträchtigen. Geeignete Entwickler hängen von den Löslichkeitseigenschaften der in dem bebilderbaren Element vorhandenen Inhaltsstoffe ab.

Gängige Komponenten der Entwickler sind Tenside, chelatbildende Mittel, wie Salze von Ethylendiamintetraessigsäure, organische Lösungsmittel, wie Benzylalkohol und Phenoxyethanol, und alkalische Komponenten, wie anorganische Metasilicate, organische Metasilicate, Hydroxide oder Bicarbonate. Typische Tenside sind: Alkalimetallsalze von Alkylnaphthalensulfonaten; Alkalimetallsalze der Sulfatmonoester von aliphatischen Alkoholen, typischerweise mit sechs bis neun Kohlenstoffatomen, und Alkalimetallsulfonate, typischerweise mit sechs bis neun Kohlenstoffatomen. Ein Entwickler kann zudem ein Puffersystem umfassen, um den pH-Wert relativ konstant zu halten. In der Technik sind zahlreiche Puffersysteme bekannt. Typischerweise enthalten Puffersysteme beispielsweise: Kombinationen aus wasserlöslichen Aminen, wie Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin oder Triisopropylamin, mit einer Sulfonsäure, wie Benzolsulfonsäure oder 4-Toluolsulfonsäure; Mischungen des Tetranatriumsalzes von Ethylendiamintetraessigsäure (EDTA) und EDTA; Mischungen aus Phosphatsalzen, wie Mischungen von monoalkalischen Phosphatsalzen mit Trialkaliphosphatsalzen, sowie Mischungen aus Alkaliboraten mit Borsäure. Der Rest des Entwicklers wird typischerweise mit Wasser aufgefüllt.

Entwickler mit hohen pH-Werten werden typischerweise für positiv arbeitende bebilderbare Elemente verwendet, und für negativ arbeitende bebilderbare Elemente werden typischerweise lösungsmittelbasierende Entwickler verwendet. Entwickler mit hohen pH-Werten können mit negativ arbeitenden bebilderbaren Elementen zufriedenstellend verwendet werden, wenn die bebilderbare Schicht ein Phenolpolymer enthält, wie z.B. ein Novolakharz. Ein Entwickler mit einem hohen pH-Wert hat typischerweise einen pH von mindestens ca. 11, besser von mindestens ca. 12 und vorzugsweise von ca. 12 bis ca. 14.

Entwickler mit hohen pH-Werten umfassen mindestens ein alkalisches Metallsilicat, wie Lithiumsilicat, Natriumsilicat und/oder Kaliumsilicat. Natriumsilicat und Kaliumsilicat werden bevorzugt, wobei Kaliumsilicat am meisten bevorzugt wird. Falls gewünscht, kann eine Mischung aus Alkalimetallsilicaten verwendet werden. Besonders bevorzugte Entwickler mit hohem pH-Wert umfassen ein Alkalimetallsilicat mit einem Gewichtsverhältnis von SiO2 zu M2O von mindestens ca. 0,3, wobei M für das Alkali-metall steht. Vorzugsweise liegt das Verhältnis zwischen ca. 0,3 und ca. 1,2. Vorzugsweise liegt es zwischen ca. 0,6 und ca. 1,1 und am besten zwischen ca. 0,7 und ca. 1,0.

Die Menge des Alkalimetallsilicats in dem Entwickler mit hohem pH-Wert beträgt typischerweise mindestens 20 g SiO2 je 1000 g Entwickler (d.h. mindestens ca. 2 Gew.-%) und vorzugsweise zwischen ca. 20 g und 80 g SiO2 je 1000 g Entwickler (d.h. ca. 2 Gew.-% bis ca. 8 Gew.-%). Am besten beträgt diese zwischen ca. 40 g und 65 g SiO2 je 1000 g Entwickler (d.h. zwischen ca. 4 Gew.-% und ca. 6,5 Gew.-%).

Neben dem Alkalimetallsilicat kann die Alkalinität durch eine geeignete Konzentration einer geeigneten Base hergestellt werden, beispielsweise mit Ammoniumhydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid und/oder Kaliumhydroxid. Eine bevorzugte Base ist Kaliumhydroxid. Optionale Komponenten von Entwicklern mit hohem pH-Wert sind anionische, nichtionische oder amphotere Tenside (bis zu 3% des gesamten Mischungsgewichts), Biocide (antimikrobielle Mittel oder Fungizide), Schaumhemmer oder Chelatbildner (wie Alkaligluconate), und Verdickungsmittel (wasserlösliche oder wasserdispergierbare Polyhydroxyverbindungen, wie Glycerin oder Polyethylenglycol). Diese Entwickler enthalten typischerweise jedoch keine organischen Lösungsmittel. Typische kommerziell verfügbare Entwickler mit hohem pH-Wert sind u.a.: GoldstarTM Entwickler, ProThermTM Entwickler, 4030 Entwickler, PD-1 Entwickler, und MX Entwickler, erhältlich von Kodak Polychrome Graphics, Norwalk, CT, USA.

Lösungsmittelbasierte alkalische Entwickler enthalten ein organisches Lösungsmittel oder eine Mischung aus organischen Lösungsmitteln. Der Entwickler ist einphasig. Das organische Lösungsmittel oder die Mischung aus organischen Lösungsmitteln muss daher entweder mit Wasser mischbar sein oder ausreichend in dem Entwickler löslich sein, so dass keine Phasentrennung auftritt. Die folgenden Lösungsmittel und Mischungen sind daher zur Verwendung in dem Entwickler geeignet. Die Reaktionsprodukte von Phenol mit Ethylenoxid und Propylenoxid, wie etwa Ethylenglycolphenylether (Phenoxyethanol); Benzylalkohol; Ester von Ethylenglycol und von Propylenglycol mit Säuren, die sechs oder weniger Kohlenstoffatome besitzen, und Ether von Ethylenglycol, Diethylenglycol und von Propylenglycol mit Alkylgruppen, die sechs oder weniger Kohlenstoffatome besitzen, wie etwa 2-Ethoxyethanol und 2-Butoxyethanol. Es kann ein einzelnes organisches Lösungsmittel oder eine Mischung aus organischen Lösungsmitteln verwendet werden. Das organische Lösungsmittel ist typischerweise in dem Entwickler in einer Konzentration von ca. 0,5 Gew.-% bis ca. 15 Gew.-% vorhanden, bezogen auf das Gewicht des Entwicklers, vorzugsweise von ca. 3 Gew.-% bis ca. 5 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Entwicklers. Typische kommerziell erhältliche lösungsmittelbasierte Entwickler sind u.a. 956 Entwickler und 955 Entwickler, zu beziehen von Kodak Polychrome Graphics, Norwalk, CT, USA.

Der Entwickler wird typischerweise auf den belichteten Precursor aufgetragen, indem das Element mit ausreichender Kraft eingesprüht wird, um die bebilderten Bereiche zu entfernen. Alternativ hierzu kann die Entwicklung in einem Prozessor durchgeführt werden, der mit einem Entwicklertauchbad ausgestattet ist, einer Sektion zur Spülung mit Wasser, einer Gummiersektion, einer Trocknungssektion und einer Leitfähigkeitsmesseinheit, oder der bebilderte Precursor kann mit dem Entwickler gebürstet werden. In jedem Fall wird eine Druckplatte hergestellt. Die Entwicklung kann in einem kommerziell erhältlichen Aufsprühprozessor durchgeführt werden, wie dem Typ 85 NS (Kodak Polychrome Graphics).

In der weiteren Entwicklung wird die Druckplatte mit Wasser gespült und getrocknet. Das Trocknen kann mithilfe von Infrarotstrahlern oder mit Warmluft erfolgen. Nach dem Trocknen kann die Druckplatte mit einer Gummierlösung behandelt werden, die ein oder mehrere wasserlösliche Polymere umfasst, beispielsweise Polyvinylalkohol, Polymethacrylsäure, Polymethacrylamid, Polyhydroxyethylmethacrylat, Polyvinylmethylether, Gelatine und Polysaccharid, wie Dextrin, Pullulan, Cellulose, Gummiarabicum und Alginsäure. Ein bevorzugtes Material ist Gummiarabicum.

Eine entwickelte und gummierte Platte kann zudem eingebrannt werden, um die Auflagenhöhe der Platte zu erhöhen. Das Einbrennen kann beispielsweise bei ca. 220°C bis ca. 240°C für ca. 7 bis 10 Minuten oder bei einer Temperatur von ca. 120°C für ca. 30 Minuten erfolgen.

Die infrarotabsorbierenden Verbindungen sind als photothermische Umwandlungsmaterialien in bebilderbaren Elementen verwendbar. Die bebilderbaren Elemente sind in der Fotomaskenlithografie, in der Kontaktlithografie, in mikroelektronischen und mikrooptischen Vorrichtungen, in Fotolacken für die Herstellung gedruckter Leiterplatten und zur Herstellung der Offetdruckplatten-Precursor verwendbar. Wenn die bebilderbaren Elemente zur Herstellung von Offsetdruckplatten verwendet werden, haben die Punkte eine hohe Stabilität.

Die bebilderbaren Elemente sind insbesondere als Offsetdruckplatten-Precursor verwendbar. Sobald das bebilderbare Element bebildert und entwickelt worden ist, um eine Offsetdruckplatte oder Druckform auszubilden, kann der Druckvorgang ausgeführt werden, indem eine Feuchtlösung und anschließend eine Druckfarbe auf das Bild auf der Oberfläche aufgetragen wird. Die Feuchtlösung wird von den unbebilderten Bereichen aufgenommen, d.h. der Oberfläche des hydrophilen Substrats, das durch den Bebilderungs- und Entwicklungsprozess freigelegt worden ist, und die Farbe wird von den bebilderten Bereichen aufgenommen, d.h. den Bereichen der bebilderbaren Zusammensetzung, die von dem Entwicklungsprozess nicht entfernt worden sind. Die Farbe wird dann auf ein geeignetes Empfangsmaterial übertragen (z.B. Gewebe, Papier, Metall, Glas oder Kunststoff), und zwar entweder direkt oder indirekt mit einem Offsetdrucktuch, um einen gewünschten Abdruck des Bildes darauf zu erhalten.

Die vorteilhaften Eigenschaften dieser Erfindung werden unter Bezugnahme auf folgende Beispiele deutlich, die jedoch nicht einschränkend zu verstehen sind.

Beispiele

In den Beispielen bezieht sich der Begriff "Beschichtungslösung" auf die Mischung von aufgetragenem Lösungsmittel oder aufgetragenen Lösungsmitteln und Additiven, wobei sich die Additive auch in der Suspension statt in der Lösung befinden können. Vorbehaltlich anderslautender Angaben sind die angegebenen Prozentsätze Prozentsätze nach Gewicht, bezogen auf die gesamten Feststoffe in der Beschichtungslösung. BYK 307 Polyethoxylatiertes Dimethylpolysiloxan-Copolymer (Byk-Chemie, Wallingford, CT, USA BYK 333 Polyethermodifiziertes Dimethylpolysiloxan-Copolymer (Byk-Chemie, Wallingford, CT, USA) D11 Ethanaminium, N-[4-[[4-(Diethylamin)phenyl][4-(Ethylamin)-1-Naphthalenyl]methylen]-2,5-Cyclohexadien-1-Yliden]-N-Ethyl-, Salz mit 5-Benzoyl-4-Hydroxy-2-Methoxybenzolsulfonsäure (1:1); Farbmittel (siehe folgende Struktur), (PCAS, Longjumeau, Frankreich) DOWANOL® PM Propylenglycolmethylether (Dow, Midland, MI, USA) IR-Farbstoff 66e 2-[2-[3-[(1,3-Dihydro-1,3,3-Trimethyl-2H-Indol- 2-Yliden)ethyliden]-2-(Phenylthio)-1-Cyclohexen-1-yl]Ethenyl]-1,3,3-Trimethyl-3H-Indoliumchlorid; Lambdamax = 788 nm (FEW, Wolfen, Deutschland)
IR-Farbstoff A Infrarotabsorbierende Verbindung (siehe nachstehende Struktur) (Eastman Kodak, Rochester, NY, USA) MSOS 2-Methoxy-4-(Phenylamin)-Benzendiazoniumoctylsulfat, ein Säuregenerator N-13 Novolaharz; 100% m-Cresol; MW 13,000 (Eastman Kodak Rochester, NY, USA) ProThermTM Wässriger alkalischer Positiventwickler (Kodak Polychrome Graphics, Norwalk, CT, USA) Resolharz Resolharz GP649D99 (Georgia-Pacific, Atlanta, GA, USA)

Beispiel 1

Dieses Beispiel zeigt die Bildung von 2-[2-[2-Chlor-3-[(1,3-Dihydro-1,3,3-Trimethyl-2H-indol-2-yliden)ethyliden]-1-Cyclohexen-1-yl]ethenyl]-1,3,3-Trimethyl-3H-indoliumsalz mit 2-[2-[2-Chlor-3-[(1,3-Dihydro-1,1,3-timethyl-7-sulfo-2H-benz[e]indol-2-yliden)ethyliden]-1-Cyclohexen-1-yl]ethenyl]-1,1,3-Trimethyl-7-sulfo-1H-benz[e]indoliumintramolekularsalz (Verbindung 1), einer erfindungsgemäßen infrarotabsorbierenden Verbindung.

5,6 g 2-[2-[2-Chlor-3-[(1,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-2H-indol-2-yliden)ethyliden]-1-cyclohexen-1-yl]ethenyl]-1,3,3-trimethyl-3H-indoliumbromid (Honeywell Specialty Chemicals, Morristown, NJ, USA) wurden in 100 g Wasser und 100 g DOWANOL® PM (Lösung A) gelöst. 9,3 g N,N-Dibutyl-1-butanaminverbindung mit 2-[2-[2-Chlor-3-[(1,3-dihydro-1,1,3-trimethyl-7-sulfo-2H-benz[e]indol-2-yliden)ethyliden]-1-cyclohexen-1-yl]ethenyl]-1,1,3-trimethyl-7-sulfo-1H-benz[e]indoliumintramolekularsalz (Eastman Kodak, Rochester, NY < USA) wurden in 100 g Wasser und 300 g DOWANOL® PM (Lösung B) gelöst. Lösung A wurde Lösung B langsam unter Rühren zugegeben. Zur Bildung eines Präzipitats wurden dann 600 g Wasser zugegeben. Die Reaktionsmischung wurde weitere 10 Minuten gerührt und in Dunkelheit bei Raumtemperatur für 2 Stunden gelagert. Das Präzipitat wurde mittels Filtration gesammelt, mit 50 ml Aceton gewaschen und bei Raumtemperatur für 12 Stunden getrocknet. Ertrag: 13,0 g.

Proton NMR (in DMSO-d6): &dgr; 1,67 (12H, s), 1,88 (4H, br), 1,95 (12H, s), 2,74 (8H, m), 3,69 (6H, s), 3,81 (6H, s), 6,32 (4H, m), 7,20–8,50 (22H, m).

Beispiel 2

Dieses Beispiel zeigt die Bildung von 2-[2-[3-[(1,3-Dihydro-1,3,3-trimethyl-2H-indol-2-yliden)ethyliden]-2-(phenylthio)-1-cyclohexen-1-yl]ethenyl]-1,3,3-trimethyl-3H-indoliumsalz mit 2-[2-[2-Chlor-3-[(1,3-dihydro-1,1,3-trimethyl-7-sulfo-2H-benz[e]indol-2-yliden)ethyliden]-1-cyclohexen-1-yl]ethenyl]-1,1,3-trimethyl-7-sulfo-1H-benz[e]indoliumintramolekularsalz (Verbindung 2), einer erfindungsgemäßen infrarotabsorbierenden Verbindung.

0,60 g des IR-Farbstoffs 66e wurden in 10 g Wasser und 10 g DOWANOL® PM (Lösung C) gelöst. 0,93 g N,N-Dibutyl-1-butanaminverbindung mit 2-[2-[2-Chlor-3-[(1,3-dihydro-1,1,3-trimethyl-7-sulfo-2H-benz[e]indol-2-yliden)ethyliden]-1-cyclohexen-1-yl]ethenyl]-1,1,3-trimethyl-7-sulfo-1H-benz[e]indoliumintramolekularsalz (Eastman Kodak, Rochester, NY, USA) wurden in 10 g Wasser und 30 g DOWANOL® PM (Lösung D) gelöst. Lösung C wurde Lösung D langsam unter Rühren zugegeben. Zur Bildung eines Präzipitats wurden dann 60 g Wasser zugegeben. Die Reaktionsmischung wurde weitere 10 Minuten gerührt und in Dunkelheit bei Raumtemperatur für 3 Stunden gelagert. Das Präzipitat wurde mittels Filtration gesammelt, mit 50 ml Aceton gewaschen und bei Raumtemperatur für 12 Stunden getrocknet. Ertrag: 0,93 g.

Proton NMR (in Aceton-d6): &dgr; 1,41 (12H, s), 1,90 (4H, br), 1,95 (12H, s), 2,76 (8H, m), 3,64 (6H, s), 3,81 (6H, s), 6,34 (4H, m), 7,00–8,70 (2ZH, m).

Vergleichsbeispiel 1

Eine Beschichtungslösung wurde durch Kombination von 6,8 g DOWANOL® PM Lösung aus 25% Resolharz, 8,56 g einer Acetonlösung aus 34% N-13, 0,60 g MSOS, 0,471 g IR-Farbstoff A; 0,07 g D11, 0,21 g und 0,05 g 10% BYK 307 bzw. 10% BYK 333 in 49,06 g 1-Methoxy-2-propanol, 32,9 g N,N-Dimethylformamid, 0,94 g Wasser und 0,34 g Aceton hergestellt. Ein elektrochemisch aufgerautes und anodisiertes Aluminiumsubstrat, das mit Polyvinylphosphorsäure (PVPA) nachbehandelt wurde, wurde mit der vorstehend genannten Lösung mit einem Trockenauftragsgewicht von ca. 1,4 g/m2 (ca. 130 mg/ft2) beschichtet und bei 88°C (190°F) für ca. 2 Minuten auf einer Drehtrommel getrocknet.

Das resultierende bebilderbare Element wurde mit einem Belichter des Typs CREO® Trendsetter 3244x (CreoScitex, Burnaby, British Columbia, Kanada) bei 830 nm und einer Leistung von 5,5 W sowie einem Trommeldrehzahlband von 96 bis 250 U/min (50 bis 130 mJ/cm2) bebildert. Die bebilderten bebilderbaren Elemente wurde in einem Vorheizofen des Typs Heavy Duty Oven (Wisconsin Oven Corp., East Troy, WI, USA) bei einer Temperatur von ca. 133°C (ca. 271°F) für ca. 2 Minuten vorgewärmt und in einem Prozessor des Typs Unigraph Quartz K85 (Glunz & Jensen, Norfolk, England, UK) entwickelt, der mit Entwickler des Typs ProThermTM bei einer Temperatur von 25°C befüllt war.

Die Mindestbelichtungsenergie zur Erzielung der verarbeiteten Maximaldichte betrug ca. 70 mJ/cm2. Die Stabilität der 50% Punktraster über dem Belichtungsstärkenband ist in 1 dargestellt.

Beispiel 3

Eine Beschichtungslösung wurde durch Kombination von 6,8 g DOWANOL® PM Lösung aus 25% Resolharz, 8,56 g einer Acetonlösung aus 34% N-13, 0,60 g MSOS, 0.383 g der in Beispiel 1 hergestellten infrarotabsorbierenden Verbindung; 0,07 g D11, 0,21 g und 0,05 g 10% BYK 307 bzw. 10% BYK 333 in 49,15 g 1-Methoxy-2-propanol, 32,9 g N,N-Dimethylformamid, 0,94 g Wasser und 0,34 g Aceton hergestellt. Das Substrat des Vergleichsbeispiels 1 wurde mit der Beschichtungslösung beschichtet, und das resultierende bebilderbare Element wurde bei 88°C (190°F) für ca. 2 Minuten auf einer Drehtrommel getrocknet. Das Trockenauftragsgewicht betrug ca. 1,4 g/m2 (ca. 130 mg/ft2).

Die resultierenden bebilderbaren Elemente wurden bebildert und wie in Vergleichsbeispiel 1 beschrieben verarbeitet. Die Mindestbelichtungsenergie zur Erzielung der verarbeiteten Maximaldichte betrug ca. 70 mJ/cm2. Die Stabilität der 50% Punktraster über dem Belichtungsstärkenband ist in 1 dargestellt.

Beispiel 4

Eine Beschichtungslösung wurde durch Lösen von 6,8 g DOWANOL® PM Lösung aus 25% Resolharz, 8,56 g einer Acetonlösung aus 34% N-13, 0,60 g MSOS, 0,408 g der in Beispiel 2 hergestellten infrarotabsorbierenden Verbindung; 0,07 g D11, 0,21 g und 0,05 g 10% BYK 307 bzw. 10% BYK 333 in 49,15 g 1-Methoxy-2-propanol, 32,9 g N,N-Dimethylformamid, 0,94 g Wasser und 0,34 g Aceton hergestellt. Das Substrat des Vergleichsbeispiels 1 wurde mit der Beschichtungslösung beschichtet, und das resultierende bebilderbare Element wurde bei 88°C (190°F) für ca. 2 Minuten auf einer Drehtrommel getrocknet. Das Trockenauftragsgewicht betrug ca. 1,4 g/m2 (ca. 130 mg/ft2).

Die resultierenden bebilderbaren Elemente wurden bebildert und wie in Vergleichsbeispiel 1 beschrieben verarbeitet. Die Mindestbelichtungsenergie zur Erzielung der verarbeiteten Maximaldichte betrug ca. 70 mJ/cm2. Die Stabilität der 50% Punktraster über dem Belichtungsstärkenband ist in 1 dargestellt.

Beispiel 5 Dieses Beispiel zeigt die Synthese von 2-Methoxy-4-(Phenylamin)-Benzendiazoniumoctylsulfat (MOS), einen Säuregenerator

64,0 g 35% Natriumoctylsulfat (Aldrich, Milwaukee, WI, USA) in Wasser wurde langsam zu 31,0 g 2-Methoxy-4-(phenylamin)-benzendiazoniumbisulfat (Diverstec, Fort Collins, CO, USA) in 500 ml Wasser unter Rühren zugegeben. Die resultierende Mischung wurde in Dunkelheit bei 0–5°C für 5 Stunden gelagert. Nach Dekantieren des Wassers wurde das resultierende Öl in 200 ml Ethylacetat gelöst. Die resultierende Lösung wurde mit 50 ml 5% wässrigem Natriumbicarbonat und mit 50 ml Wasser gewaschen. Die organische Schicht wurde über wasserfreiem Magnesiumsulfat für 6 Stunden getrocknet, das Lösungsmittel wurde durch Vakuum entfernt. Auf diese Weise wurden 35,1 g Öl hergestellt.

Proton NMR (in Aceton-d6): &dgr; 0,84 (3H, t), 1,22 (10H, m), 1,53 (2H, p), 3,88 (2H, t), 4,10 (3H, s), 6,50–7,60 (7H, m), 8,17 (1H, d) und 10,9 (1H, s).

Obwohl die Erfindung mit besonderem Bezug auf bevorzugte Ausführungsbeispiele beschrieben wurde, ist die Erfindung nicht darauf beschränkt, sondern kann innerhalb des Geltungsbereichs der anliegenden Ansprüche Änderungen und Abwandlungen unterzogen werden.


Anspruch[de]
Infrarot absorbierende Verbindung von folgender Struktur: in welcher:

Y1 und Y2 unabhängig voneinander für Wasserstoff, Halogen, Alkyl, Diphenylamin oder Phenylthio stehen;

R1, R2, R3 und R4 unabhängig voneinander für Wasserstoff, Methyl oder SO3 stehen, mit der Maßgabe, dass zwei aus R1, R2, R3 und R4 für SO3 stehen;

R5 und R6 jeweils unabhängig für eine Alkylgruppe stehen;

Z1, Z2, Z4 und Z5 jeweils unabhängig für eine Benzogruppe oder eine Naphtogruppe stehen;

Z3 und Z6 jeweils unabhängig für zwei Wasserstoffatome, einen Cyclohexenrest oder einen Cyclopentenrest stehen;

X1, X2, X3 und X4 jeweils unabhängig für S, O, NH, CH2 oder C(CH3)2 stehen;

und

n1 und n2 jeweils unabhängig für 0 bis 4 stehen.
Verbindung nach Anspruch 1, worin Z3 und Z6 jeweils für einen Cyclohexenrest oder einen Cyclopentenrest stehen und worin n1 und n2 jeweils unabhängig für 1 bis 4 stehen. Verbindung nach Anspruch 1 oder 2, worin Y1 und Y2 jeweils unabhängig für Wasserstoff, Chlor, Phenylthio oder Diphenylamin stehen. Verbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, worin R5 und R6 jeweils für eine Alkylgruppe aus einem bis vier Kohlenstoffatomen stehen. Verbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, worin R1 und R2 gleich sind; R3 und R4 gleich sind; R5 und R6 gleich sind; Z1 und Z2 gleich sind; Z4 und Z5 gleich sind; X1 und X2 gleich sind; X3 und X4 gleich sind und n1 und n2 gleich sind. Bebilderbares Element mit einer bebilderbaren Schicht über einem Substrat, worin die bebilderbare Schicht eine bebilderbare Zusammensetzung umfasst; und worin das bebilderbare Element die infrarotabsorbierende Verbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 5 umfasst. Bebilderbares Element nach Anspruch 6, worin die bebilderbare Zusammensetzung die infrarotabsorbierende Verbindung, einen Säuregenerator, ein säureaktivierbares Vernetzungsmittel und ein Polymerbindemittel umfasst. Bebilderbares Element nach Anspruch 6, worin das bebilderbare Element zudem eine Unterschicht zwischen der bebilderbaren Schicht und dem Substrat umfasst, und worin die bebilderbare Schicht einen Phenolrest und einen Lösungsinhibitor umfasst. Bebilderbares Element nach Anspruch 8, worin die infrarotabsorbierende Verbindung in der Unterschicht oder in einer Absorptionsschicht zwischen der bebilderbaren Schicht und der Unterschicht enthalten ist. Verfahren zur Ausbildung eines Bildes mit folgenden Schritten:

a) thermisches Bebildern des bebilderbaren Elements nach einem der Ansprüche 6 bis 9 und Ausbilden eines bebilderten, bebilderbaren Element aus bebilderten Bereichen und komplementären unbebilderten Bereichen; und

b) Entwickeln des bebilderten, bebilderbaren Elements und Entfernen entweder der bebilderten Bereiche oder der unbebilderten Bereiche zur Ausbildung des Bildes.






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A Täglicher Lebensbedarf
B Arbeitsverfahren; Transportieren
C Chemie; Hüttenwesen
D Textilien; Papier
E Bauwesen; Erdbohren; Bergbau
F Maschinenbau; Beleuchtung; Heizung; Waffen; Sprengen
G Physik
H Elektrotechnik

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