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Dokumentenidentifikation DE10126185B4 19.07.2007
Titel Prüfkörper für optoelektronische Bildanalysesysteme
Anmelder Robert Bosch GmbH, 70469 Stuttgart, DE
Erfinder Koeberle, Konrad, 71522 Backnang, DE;
Hausenbiegl, Günter, 71384 Weinstadt, DE;
Proell, Harald, 71642 Ludwigsburg, DE
DE-Anmeldedatum 30.05.2001
DE-Aktenzeichen 10126185
Offenlegungstag 12.12.2002
Veröffentlichungstag der Patenterteilung 19.07.2007
Veröffentlichungstag im Patentblatt 19.07.2007
IPC-Hauptklasse G06K 9/18(2006.01)A, F, I, 20051017, B, H, DE
IPC-Nebenklasse G01M 11/02(2006.01)A, L, I, 20051017, B, H, DE   

Beschreibung[de]
Stand der Technik

Die Erfindung betrifft einen Prüfkörper für optoelektronische Bildanalysesysteme, der einen ebenen Basiskörper aufweist, auf dem mehrere geometrische Strukturen angeordnet sind, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Prüfkörpers.

Nach der Herstellung von Produkten bzw. Bauteilen ist es meist erforderlich, diese vor ihrem Einsatz mit einem geeigneten Reinigungsverfahren von Schmutzpartikeln zu säubern. Im Rahmen der Qualitätssicherung wird üblicherweise die Leistungsfähigkeit der entwickelten Reinigungsverfahren mit Hilfe von lichtmikroskopischen Systemen überprüft.

Dazu wird ein Produkt bzw. Bauteil, welches nach dem entwickelten Reinigungsverfahren gesäubert wurde, nochmals eingehend gereinigt, wobei die dabei entfernten Schmutzpartikel beispielsweise in einer Reinigungsflüssigkeit verbleiben, welche durch einen Filter geleitet wird. Dabei bleiben die Schmutzpartikel auf dem Filter zurück, der unter einem Lichtmikroskop des lichtmikroskopischen Systems positioniert wird. Mit Hilfe des lichtmikroskopischen Systems wird der beladene Filter analysiert, wobei das Lichtmikroskop mit einem Bildanalysesystem bzw. Auswertesystem verbunden ist. Bei der Auswertung werden helle und dunkle Flecken unterschieden sowie deren Größe und Anzahl bestimmt. Anschließend erfolgt eine Klassifizierung der dunklen Flecken, die die Schmutzpartikel darstellen.

Nachteilig dabei ist jedoch, daß die erhaltenen Auswerteprotokolle der aus der Praxis bekannten Bildanalysesysteme derzeit nicht verifizierbar sind, da die genaue reale Belegung des Filters, d.h. die Anzahl an Schmutzpartikeln verschiedener Partikelgrößenklassen, nicht bekannt ist und über eine manuelle Auswertung nur schwer ermittelbar ist. Deshalb ist eine Abweichung zwischen dem Auswerteprotokoll und der realen Belegung nicht bestimmbar.

Aus der Praxis sind Prüfkörper bzw. sogenannte Standards bekannt, welche mit einer einzigen geometrischen Struktur belegt sind. Diese einzelne Struktur, dessen Abmessungen bekannt ist, wird mittels eines optoelektronischen Bildanalysesystemes in einem einzelnen Meßschritt ausgemessen und klassifiziert.

Mit derartigen Prüfkörpern können nachteilhafterweise jedoch nur Einzelmessungen durchgeführt werden, wohingegen mit einem Bildanalysesystem eine Gesamtheit realer mit Schmutzpartikeln belegter Filter dahingehend ausgewertet werden soll, daß eine Klassifikation der Schmutzpartikel nach Größe und Anzahl vorliegt, anhand der eine Bewertung eines angewendeten Reinigungsverfahrens durchgeführt werden kann.

Filter mit Schmutzpartikeln werden mit bekannten optoelektronischen Bildanalysesystemen derart ausgewertet, daß die beladene Filterfläche in verschiedene Prüfparzellen bzw. Prüfflächen aufgeteilt wird, die nacheinander von dem Bildanalysesystem abgetastet werden. Nach Beendigung des automatischen Prüflaufes werden die verschiedenen Einzelmessungen zusammengelegt, und es wird eine Auswertung für die gesamte Filterfläche erstellt. Mit den aus der Praxis bekannten Prüfkörpern ist ein derartiger automatischer Meßlauf eines optoelektronischen Bildanalysesystems nicht simulierbar, da diese nur mit einer einzelnen geometrischen Struktur belegt sind oder mehrere ineinanderverschachtelte geometrische Strukturen aufweisen, welche von den Bildanalysesystemen nicht aufgelöst werden können.

Des weiteren ist es bekannt, reale Schmutzpartikel auf einem Basiskörper anzuordnen und in einer mit dem Basiskörper eine feste Verbindung ausbildende Einbettungsmasse zu lokalisieren.

Dabei ist jedoch von Nachteil, daß bekannte Einbettungsmassen nicht dauerbeständig sind und die Anordnung der Partikel nicht gleich bleibt, so daß derartige Prüfkörper mit zunehmender Lebensdauer unbrauchbar werden.

Ein weiterer Nachteil besteht darin, dass die Abmessungen der verwendeten Schmutzpartikel erst manuell bestimmt werden müssen, um die Auswertung eines optoelektronischen Bildanalysesystems bewerten zu können, wobei derartige Standards Unikate darstellen, die nur sehr schwer, wenn überhaupt, reproduzierbar sind.

Weiterhin ist aus der DE 27 12 590 C2 ein optischer Dichtestandard bekannt, der der Eichung und Prüfung eines Instrumentes dient, in welchem ein Standard mit einer beleuchteten Zone längs einer vorgegebenen Abtastachse abgetastet wird. Dabei wird überprüft, ob das Instrument zur Erfassung der optischen Dichte eines Mediums geeignet ist. Darüber hinaus sind aus der EP 1063569 A2 und der DE 35 07 778 A1 Prüfkörper bekannt, auf denen Muster abgebildet sind, mit deren Hilfe sich die Mustererkennung eines optischen Systems überprüfen lässt. Aus der DE 196 49 925 A1 ist ein weiterer Prüfkörper bekannt, der mit einer photometrisch aktiven, fluoreszenzaktiven, chemolumineszenten oder biolumineszenten Testsubstanz versehen ist und zur Eichung von optischen Systemen dient, die die Reinigung, Desinfektion und/oder Sterilisation von Gegenständen überprüft.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Prüfkörpers, der auf Dauer einen standardisierten Abgleich von eingesetzten optoelektronischen Bildanalysesystemen zur Partikelanalyse realitätsnah ermöglicht.

Vorteile der Erfindung

Der erfindungsgemäße Prüfkörper für optoelektrische Bildanalysesysteme mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 hat demgegenüber den Vorteil, dass unter Verwendung des erfindungsgemäßen Prüfkörpers ein automatischer Messverlauf simuliert werden kann und dessen Ergebnis eindeutig verifizierbar ist bzw. anhand der bekannten Belegung des Prüfkörpers exakt bewertet werden kann.

Dies wird dadurch erreicht, dass auf einem ebenen Basiskörper des Prüfkörpers mehrere geometrische Strukturen unterschiedlicher Größe in einer vorgegebenen d.h. bekannten Belegung angeordnet sind, die sich optisch von dem Basiskörper abheben, und die Belegung des Basiskörpers mit den geometrischen Strukturen derart vorgesehen ist, dass eine Überlagerung der Strukturen vermieden wird. Dadurch wird zum einen die reale Belegung eines Filters hinreichend genau nachgebildet, und zum anderen werden geometrische Strukturen zur Verfügung gestellt, die für ein Bildanalysesystem auflösbar sind.

Der erfindungsgemäße Prüfkörper bietet bei einem automatischen Meßlauf den Vorteil, daß bei einer Aufteilung der Oberfläche des Prüfkörpers in mehrere Prüfparzellen, welche nacheinander von einem optoelektronischen Bildanalysesystem angefahren, ausgemessen und anschließend bewertet werden, der besonders problematische Anwendungsfall, daß ein Partikel bzw. im vorliegenden Fall eine geometrische Struktur nur teilweise in einer Prüfparzelle bzw. einem Prüfabschnitt angeordnet ist und der andere Teil der geometrischen Struktur in einem benachbarten Prüfabschnitt angeordnet ist, exakt überprüft werden kann, in wiefern bei der Auswertung dieses Schmutzpartikels bzw. dieser geometrischen Struktur auf eine einzige Struktur erkannt wird, ob durch die Aufteilung von dem Bildanalysesystem mehrere verschiedene Schmutzpartikel bzw. geometrische Strukturen bzw. eine geometrische Struktur mehrfach erkannt wird, oder ob keine Struktur erkannt wird.

Dieser problematische Fall kann zu erheblichen Abweichungen der Meßreihe des Bildanalysesystems von der realen Belegung eines Filters führen, was unerwünscht ist, da anhand der Auswertung eines optoelektronischen Bildanalysesystemes die Güte eines Reinigungsverfahrens bewertet wird und bei ermittelten hohen Verunreinigungen eines Bauteils mit bestimmten Schmutzpartikeln einer bestimmten Größenklasse entsprechende Maßnahmen zur Verbesserung des Reinigungsverfahren unternommen werden.

Mit dem erfindungsgemäßen Prüfkörper ist vorteilhafterweise die Leistungsfähigkeit eines optoelektronischen Bildanalysesystems anhand einer Abweichung einer Auswertung des Prüfkörpers mittels eines optoelektronischen Bildanalysesystemes von der tatsächlichen Belegung des Prüfkörpers bestimmbar, was bisher nahezu unmöglich war.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gemäß den Merkmalen des Patentanspruches 11 können in vorteilhafter Weise reproduzierbare Prüfkörper mit beliebigen geometrischen Strukturen mit einer vorgegebenen Belegung auf einfache Art und Weise erzeugt werden. Insbesondere können mit dem Verfahren nach der Erfindung dauerbeständige Prüfkörper mit einer hohen Präzision gefertigt werden, die beliebig oft mit gleicher Güte reproduzierbar sind. Damit kann in vorteilhafter Weise auf Dauer ein standardisierter Abgleich von eingesetzten optoelektronischen Bildanalysesystemen zur Partikelanalyse realitätsnah erfolgen.

Die Realitätsnähe ergibt sich insbesondere aus der Tatsache, daß die vorgegebene Belegung des Prüfkörpers mit den geometrischen Strukturen und auch die Form der Strukturen der Belegung von realen Filtern und der Form von realen Schmutzpartikeln nachgebildet bzw. simuliert wird.

Zeichnung

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigt

1 einen Basiskörper, der mit mehreren geometrischen Strukturen einer vorgegebenen Belegung versehen ist;

2 eine vergrößerte Darstellung der Anordnung der geometrischen Strukturen gemäß dem Ausschnitt X aus 1; und

3 eine Anordnung mehrerer Kreisflächen in einer Matrix.

Beschreibung des Ausführungsbeispiels

Die 1 zeigt in vereinfachter Darstellung einen Prüfkörper 1 für optoelektronische Bildanalysesysteme, der einen ebenen Basiskörper 2 aufweist, auf dem mehrere geometrische Strukturen 3 unterschiedlicher Form und Größe in einer dauerbeständigen vorgegebenen Belegung fest angeordnet sind. Die Strukturen 3 heben sich optisch von dem Basiskörper 2 ab, wobei die Belegung des Basiskörpers 2 mit den geometrischen Strukturen derart vorgesehen ist, daß eine Überlagerung der geometrischen Strukturen 3 untereinander vermieden wird.

Der Basiskörper 2 besteht im vorliegenden Ausführungsbeispiel aus einer transparenten Glaskeramikplatte, welche vorzugsweise eine Dicke von etwa 2,4 mm aufweist, auf welcher die geometrischen Strukturen 3 in der vorgegebenen Belegung fest angeordnet sind.

Für die Belegung des Basiskörpers 2 bzw. der Meßfläche des Basiskörpers 2 sind verschiedene Freiheitsgrade vorgesehen, wobei die Belegung des Basiskörpers 2 insbesondere in Abhängigkeit der Form der geometrischen Strukturen 3 ausgebildet ist. Unter der Form der geometrischen Strukturen 3sind bei einem Rechteck das Seitenverhältnis sowie die Abmessungen insgesamt zu verstehen, wobei bei der Auswertung der Belegung des Prüfkörpers 1 mit einem Bildanalysesystem die Diagonale einer als Rechteck ausgebildeten geometrischen Struktur 3 von besonderem Interesse ist.

Selbstverständlich liegt es im Ermessen des Fachmannes die geometrischen Strukturen als andere zweidimensionale geometrische Formen, wie beispielsweise Dreiecke, Kreise, Ellipsen oder dergleichen auszugestalten. Ein wesentliches Kriterium bei der Gestaltung der geometrischen Strukturen 3 stellt die Gestaltung des Umrisses jeder einzelnen geometrischen Struktur 3 dar, der für ein einwandfreies Meßergebnis scharf und klar ausgebildet sein sollte.

2 zeigt einen Ausschnitt X gemäß 1 in stark vergrößerter Darstellung, wobei die verschiedenen Größen, Formen und Orientierungen der einzelnen geometrischen Strukturen 3 besser erkennbar sind. Die geometrischen Strukturen 3 sind als Rechtecke mit unterschiedlichen Seitenverhältnissen und einer maximalen Länge bzw. Diagonale von ca. 20 &mgr;m bis 700 &mgr;m ausgebildet.

Des weiteren weisen die geometrischen Strukturen 3 eine vorgegebene bzw. definierte Orientierung auf dem Basiskörper 2 auf, die einen weiteren Freiheitsgrad bzw. einen weiteren Parameter der Belegung des Basiskörpers 2 darstellt. Die geometrischen Strukturen 3 sind in der Regel nicht mit der gleichen Orientierung auf dem Basiskörper 2 angeordnet. Dies ist darin begründet, daß die auf realen Filtern angeordneten Schmutzpartikel ebenfalls verschiedene Orientierungen aufweisen und der Prüfkörper 1 somit so realitätsnah wie möglich ausgestaltet ist. Damit kann die Wirksamkeit bzw. Leistungsfähigkeit der optoelektronischen Bildanalysesysteme noch besser überprüft werden.

Einen weiteren Freiheitsgrad der Belegung des Basiskörpers 2 stellt die Vorgabe einer absoluten Position jeder einzelnen geometrischen Struktur 3 auf dem Basiskörper 2 dar. Die Absolutkoordinaten einer geometrischen Struktur 3 auf dem Basiskörper 2 sind insbesondere dann von besonderen Interesse, wenn der Prüfkörper 1 bzw. die Meßfläche des Basiskörpers 2 in mehrere Meß- bzw. Prüffelder unterteilt wird und mehrere geometrische Strukturen 3 an der Grenze zwischen zwei, drei oder vier Meßfeldern angeordnet sind. Idealerweise wird die Gesamtheit einer solchen Struktur in einem Meßfeld vollständig und in den anderen Meßfeldern nicht erfaßt.

Liefert das Bildanalysesystem nach der Erfassung der geometrischen Strukturen 3 in seiner Auswertung eine von der tatsächlichen Anzahl der geometrischen Strukturen abweichende Anzahl, so kann die Abweichung darin begründet sein, daß das Bildanalysesystem anstatt einer geometrischen Struktur 3 mehrere oder gar keine geometrische Strukturen 3 erkennt und klassifiziert.

Weiter ist die Belegung des Basiskörpers 2 durch eine Anzahl an geometrischen Strukturen 3 einer bestimmten Größenklasse sowie in Abhängigkeit eines Abstandes zwischen jeweils zwei benachbarten Strukturen vorgegeben. Die geometrischen Strukturen 3 werden vorzugsweise sehr nahe nebeneinander planiert, um überprüfen zu können, wie das Bildanalysesystem diese auflöst. Dabei ist von besonderem Interesse, ob das Bildanalysesystem aus den vielen kleinen geometrischen Strukturen eine einzige geometrische Struktur bildet oder ob es alle einzeln auflösen und einzeln klassifizieren kann.

In diesem Zusammenhang wird auf die Darstellung in der 2 hingewiesen, bei der mehrere geometrische Strukturen 4A bis 4E stufenförmig aneinander gereiht sind, wobei der Abstand zwischen den geometrischen Strukturen 4A bis 4E etwa so groß gewählt ist wie die Größe der geometrischen Strukturen 4A bis 4E selbst. Aus der Praxis ist bekannt, daß derartige Anordnungen von geometrischen Strukturen zueinander, die stellvertretend für reale Schmutzpartikel stehen, dazu führen, daß nur ein einziger Partikel von dem Bildanalysesystem erkannt und klassifiziert wird.

Mit dem Prüfkörper 1 können zusätzlich unterschiedliche Aspektverhältnisse betrachtet werden, die der Realität sehr nahe kommen. So stehen die großen quadratischen geometrischen Strukturen stellvertretend für Spänchen, während die länglichen nadelförmigen geometrischen Strukturen als Stellvertreter für nadelförmige Fasern bzw. Partikel vorgesehen sind.

Die vorbeschriebenen Freiheitsgrade der Belegung des Prüfkörpers 1 bzw. des Basiskörpers 2 mit den geometrischen Strukturen 3 werden in Abhängigkeit des jeweils vorliegenden realen Anwendungsfalles definiert, und der Prüfkörper 1 wird entsprechend den festgelegten Werten hergestellt, womit im allgemeinen ein einmal modellierter Prüfkörper mit hoher Präzision beliebig oft reproduzierbar ist.

Die Herstellung des Prüfkörpers 1 erfolgt im wesentlichen in zwei Schritten. Zunächst wird eine Vorlage, vorzugsweise eine CAD-Zeichnung, für die Belegung des Basiskörpers 2 mit geometrischen Strukturen erstellt. Dabei werden in einem ersten Schritt mehrere verschiedene Flächenelemente mit jeweils ca. 20 bis 30 geometrischen Strukturen 3 unterschiedlicher Form und Orientierung angefertigt. Das Flächenelement weist im vorliegenden Ausführungsbeispiel eine Größe von 1 mm × 1 mm auf, wobei es selbstverständlich im Ermessen des Fachmannes liegt, die Größenverhältnisse eines solchen Flächenelementes sowie die Anzahl der Strukturen davon abweichend vorzusehen. Anschließend werden jeweils mehrere dieser unterschiedlichen Flächenelemente innerhalb einer in der 3 dargestellten Kreisfläche 5 statistisch angeordnet. Die Aufteilung der Kreisfläche 5 in verschiedene Flächenelemente dient der Vereinfachung und bietet eine größere Übersichtlichkeit.

Alternativ hierzu kann es vorgesehen sein, die gesamte Fläche 5 auf einmal mit Strukturen zu versehen, wobei die Größe und Form der belegten Fläche frei wählbar ist und anstatt der Kreisform auch ein Quadrat oder ein Rechteck vorgesehen werden kann.

Eine bestimmte Anzahl der Kreisflächen 5 wird in einer Matrix 6 mit einem definierten Abstand zueinander, der vom Mittelpunkt einer jeden Kreisfläche zu dem Mittelpunkt der benachbart angeordneten Kreisfläche gemessen wird, positioniert.

Anschließend wird die Vorlage in Rasterdaten konvertiert, und es wird ein Basiskörper 2, der als transparente Glaskeramikplatte ausgeführt ist und eine aufgedampfte Metallbeschichtung aufweist, belichtet und geätzt, so daß die einzelnen geometrischen Strukturen 3 der Kreisflächen 5 auf dem Basiskörper 2 verbleiben, während die Metallschicht in den anderen Bereichen des Basiskörpers 2 durch den Ätzvorgang entfernt wird. Die Matrix 6 bildet dabei eine Schablone bzw. Vorlage zur gleichzeitigen Herstellung der geometrischen Strukturen 3 auf mehreren Basiskörpern 2.

Die Glaskeramikplatte mit den jeweils in den Kreisflächen 5 angeordneten geometrischen Strukturen 3 wird auseinander gesägt, so daß in einem Fertigungsprozeß mehrere Prüfkörper 1 entstehen. Diese werden anschließend in nicht näher dargestellte Metallträger eingebettet, die in Mikroskoptischen der optoelektronischen Bildanalysesysteme exakt positioniert werden können.

Bei der aufgedampften Metallschicht handelt es sich im vorliegenden Ausführungsbeispiel um eine Chromschicht, wobei es jedoch im Ermessen des Fachmannes liegt, für die Beschichtung des Basiskörpers 2 andere geeignete Metalle, Metallegierungen oder auch geeignete nichtmetallische Werkstoffe vorzusehen.

Mit diesem Herstellverfahren sind Prüfkörper mit sehr hoher Präzision reproduzierbar, da bei der Herstellung der geometrischen Strukturen 3 ein sehr hoher Genauigkeitsgrad bezüglich der Abmessungen erreicht wird, wobei der Genauigkeitsgrad bei etwa 0,1 &mgr;m liegt.

Der Prüfkörper 1 ist zur Überprüfung optoelektronischer Bildanalysesysteme verschiedenster Bauarten anwendbar. Die Prüfkörper 1 sind für optoelektronische Bildanalysesysteme geeignet, die mit einem Auflichtsystem oder mit einem Durchlichtsystem ausgebildet sind.

Darüber hinaus sind mit den vorgeschlagenen Prüfkörpern 1 nahezu alle in der Realität auftretende Anordnungen und Formen von Schmutzpartikeln nachbildbar bzw. simulierbar, da die geometrischen Strukturen 3 als Kombinationen verschiedenster geometrischer Formen, wie beispielsweise Kreise, Dreiecke, Vierecke und auch jede beliebige andere geeignete geometrische Form, problemlos ausgeführt werden können.

Die vorgestellte Simulation einer realen Belegung einer Filterfläche zeichnet sich dadurch aus, daß sie in weiten Bereichen, insbesondere bei der Auswahl der Größe, Anzahl, Orientierung der einzelnen geometrischen Strukturen sowie bei der Gestaltung der Größe und der Form der belegten Fläche, eine enorme Variabilität aufweist. Dadurch, daß die Herstellung des Prüfkörpers 1 durch die computergestützte Erstellung der Vorlage und dem darauf aufbauenden Belichten und Ätzen der vorbeschichteten Glasplatte erfolgt, können sehr schnell Anpassungen an reale Aufgabenstellungen, wie beispielsweise Änderungen des Größenbereichs der geometrischen Strukturen, vorgenommen werden.

Darüber hinaus können mit dieser Vorgehensweise bzw. mit der Zeichnung als Ausgangspunkt jederzeit identische Prüfkörper mit gleicher Genauigkeit gefertigt werden, und es sind aufgrund der Zeichnungsvorlage die Belegungsparameter des Prüfkörpers bzw. die Größe, Lage und Orientierung jeder einzelnen Struktur bekannt. Damit kann die bildanalytische Auswertung hinsichtlich der Genauigkeit der Messung und der vollständigen Erfassung der Strukturen, insbesondere bei automatischen Messungen über eine größere Bildfolge, beurteilt werden.


Anspruch[de]
Prüfkörper (1) für ein optoelektronisches Bildanalysesystem zur Partikelanalyse, der einen ebenen Basiskörper (2) aufweist, auf dem mehrere geometrische Strukturen (3) unterschiedlicher Form in einer dauerbeständigen vorgebbaren Belegung fest angeordnet sind, wobei sich die Strukturen (3) optisch von dem Basiskörper (2) abheben und die Belegung des Basiskörpers (2) mit den Strukturen derart vorgesehen ist, dass eine Überlagerung der Strukturen (3) untereinander vermieden wird, und wobei zumindest ein Teil der Strukturen (3) statistisch angeordnet ist. Prüfkörper nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Belegung des Basiskörpers (2) in Abhängigkeit der Form der Strukturen (3) vorgesehen ist. Prüfkörper nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Belegung der Basiskörper (2) in Abhängigkeit der Position der Strukturen (3) auf dem Basiskörper (2) erfolgt. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Orientierung der Strukturen (3) auf dem Basiskörper (2) einen Freiheitsgrad der Belegung des Basiskörpers (2) darstellt. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Belegung des Basiskörpers (2) durch eine Anzahl an Strukturen (3) einer bestimmten Größenklasse vorgebbar ist. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein Abstand zwischen zwei benachbarten Strukturen (3) einen Freiheitsgrad der Belegung darstellt. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Strukturen (3) jeweils eine Beschichtung, vorzugsweise eine Metallbeschichtung des Basiskörpers (2) darstellen. Prüfkörper nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Metall wenigstens chromhaltig ist. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Basiskörper (2) transparent ausgeführt ist und vorzugsweise eine Glaskeramikplatte ist. Prüfkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Basiskörper (2) in einen Metallträger eingebettet ist. Verfahren zur Herstellung eines Prüfkörpers (1), der einen Basiskörper (2) und mehrere darauf angeordnete geometrische Strukturen (3) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass auf den Basiskörper (2) eine dünne und durchsichtige Schicht aufgebracht wird und aus dieser Schicht vorgegebene dauerfeste geometrische Strukturen (3) mit einer vorgegebenen Belegung herausgearbeitet werden, die zumindest teilweise statistisch angeordnet sind. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht eine Metallschicht darstellt, welche auf den Basiskörper (2) aufgedampft wird. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Basiskörper (2) mit der Schicht derart bearbeitet wird, daß die Schicht nur in den Bereichen, in welchen die geometrische Strukturen (3) auf dem Basiskörper (2) vorgesehen sind, verbleibt. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung der Belegung des Basiskörpers (2) ein Flächenelement aus mehreren geometrischen Strukturen (3) in Abhängigkeit verschiedener Freiheitsgrade definiert wird. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Flächenelemente innerhalb einer Kreisfläche (5) angeordnet sind. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Kreisflächen (5) in einem definierten Abstand zueinander in einer Matrix (6) angeordnet werden. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Matrix (6) als Schablone zur Herstellung der geometrischen Strukturen (3) auf dem Basiskörper (2) verwendet wird.






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