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No Patent No Titel
1 DE102006009822A1 Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung von akali- und erdalkalihaltigen Oberflächen
2 DE102005052409B3 Beschichtungsverfahren, dessen Verwendung sowie beschichtete Körper
3 DE102005042754A1 Selektive Plasmabehandlung von Substraten zur Vorbehandlung vor einem Beschichtungs- oder Bondprozeß
4 DE69829076T2 BESCHICHTETES SCHNEIDWERKZEUG AUS ZEMENTIERTEM KARBID UND VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN DESSELBEN MIT DIAMANT
5 DE69823495T2 BESCHICHTUNG EINES KARBIDVERBUNDKÖRPERS ODER EINES KARBIDENTHALTENDEN CERMETS MIT HARTEM MATERIAL
6 DE69902967T2 Präzisionsreplikation mittels chemischer Dampfphasenabscheidung
7 DE69710242T2 Verfahren zur Herstellung eines mit Diamant beschichteten Verbundkörpers
8 DE69331291T2 Verfahren zur Herstellung einer Sperrbeschichtung mittels plasmaunterstütztem CVD
9 DE69707707T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES DIAMANTBESCHICHTETEN GEGENSTANDES UND DABEI ERHALTENES PRODUKT
10 DE69802661T2 Methode zum Umformen einer Substratoberfläche
11 DE69330052T2 ULTRAHARTES FOLIENBESCHICHTETES MATERIAL UND DESSEN HERSTELLUNG
12 DE69610179T2 Verfahren zum Wiederaufbereiten eines Strangpress-Mundstücks zur Herstellung keramischer Wabenkörper
13 DE69425459T2 Substrat auf Keramikbasis und Verfahren zu dessen Herstellung
14 DE69516053T2 Erzeugung eines Diamantfilmes
15 DE69516555T2 Verfahren zur Verbesserung der Adhäsion im Fluorpolymerbeschichtungsverfahren
16 DE69327725T2 MIKROWELLENVORRICHTUNG FUER DIE BESCHICHTUNG VON DUENNEN FILMEN
17 DE69230401T2 CVD-VORRICHTUNG UND VERFAHREN MIT PRIMÄRSTRÖM
18 DE69602121T2 Mehrschichtsystem bestehend aus einer Diamantschicht, einer Zwischenschicht, und einem metallischen Substrat
19 DE69506865T2 NIEDERTEMPERATURHERSTELLUNG VON TiN FILMEN MITTELS PLASMA CVD
20 DE69410548T2 Wolfram Metallisierung des CVD-Diamantes
21 DE69600449T2 Verfahren zur Herstellung eines diamantbeschichteten Metallkörpers
22 DE69308970T2 Verfahren zur Vorbehandlung der Reaktionskammer und/oder des Substrates für die Selektive Auftragung des Wolframs
23 DE69308847T2 VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG VON WOLFRAM AUF TITANNITRID DURCH CVD OHNE SILAN
24 DE69206636T2 Herstellung von Strangpressdüsen für Wabenstruktur
25 DE69205320T2 CVD-Verfahren zum Herstellen einer Siliziumdiffusionsschicht und/oder Überzug auf der Oberfläche eines Metallsubstrates.
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