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1 DE102006018514A1 Vorrichtung und Verfahren zur Steuerung der Oberflächentemperatur eines Substrates in einer Prozesskammer
2 DE69932919T2 CVD-REAKTOR UND VERFAHREN ZUM BETRIEB DESSELBEN
3 DE102005056536A1 CVD-Reaktor mit widerstandsbeheiztem Suszeptor
4 DE102005048482A1 Verfahren zur Beschichtung von elektrisch isolierenden Oberflächen und beschichtetes Substrat
5 DE19581484B4 Vorrichtung zur Bildung von Dünnschichten
6 DE60024524T2 Verfahren und Vorrichtung zum Kühlen von einem CVI/CVD-Ofen
7 DE69533928T2 Kammer für CVD-Behandlungen
8 DE10341020B4 Verfahren zum Innenbeschichten von Hohlkörpern
9 DE60102669T2 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR EPITAKTISCHEN BEARBEITUNG EINES SUBSTRATS
10 DE10341020A1 Vorrichtung zum Innenbeschichten von Hohlkörpern
11 DE69608335T2 Reaktionskammer mit quasi heisser Wandung
12 DE69033417T2 EPITAXIALER REAKTOR HOHER KAPAZITÄT
13 DE19803487C1 Heizvorrichtung für eine Anlage zur chemischen Abscheidung aus der Gasphase
14 DE69030667T2 SENKRECHTES WÄRMEREAKTORSYSTEM
15 DE69123508T2 Vorrichtung zur Bearbeitung von Halbleiterscheiben
16 DE3938267C2 Vorrichtung zum Heizen von Substraten
17 DE69214811T2 INTEGRIERTER VERTEILERAPPARAT FÜR CHEMISCHEN DAMPF VON EINER NICHTGASFÖRMIGEN QUELLE FÜR DIE HALBLEITERHERSTELLUNG
18 DE3852642T2 HEIZSYSTEM FÜR REAKTIONSKAMMER EINER CHEMISCHEN DAMPFNIEDERSCHLAGSVORRICHTUNG.
19 DE69016633T2 CVD-Anlage und Verfahren zum Bilden einer Dünnschicht.
20 DE4335573A1 CVD-Verfahren zur Beschichtung und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
21 DE3938267A1 Vorrichtung zum Heizen von Substraten
22 DE3804805A1 CVD-Verfahren zum Niederschlagen einer Schicht auf einer Dünnschicht-Metallstruktur
23 DE3741672A1 Verfahren und Anordnung zur Oberflächenbehandlung von Substraten
24 DE3634129A1 Verfahren und Reaktor zum chemischen Aufdampfen
25 DE3634130A1 Vorrichtung und Verfahren für die chemische Dampfabscheidung
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