No Patent No Titel 1 DE69935938T2 Ein strahlungsempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von einem Muster damit 2 EP1860508 Zusammensetzung und Verfahren zum Entfernen von Fotolack 3 DE10304631B4 Lichtempfindliche Harzzusammensetzung vom Negativ-Typ 4 DE60219544T2 Methode zur Naheffekt-Korrektur mit teilweise strahlungsdurchlässigen, nicht aufgelösten Hilfsstrukturen 5 DE60034488T2 STRAHLUNGSEMPFINDLICHE COPOLYMERE, FOTORESISTZUSAMMENSETZUNGEN UND ZWEISCHICHTRESISTSYSTEME FÜR DEN TIEFEN UV-BEREICH 6 DE60219562T2 Lithographische Mustererzeugung unter Verwendung einer Maske mit gedämpften Phasenschiebern hoher Transmission und mehrfache Belichtung mit optimierter Kohärenz 7 EP1856577 POSITIVER TROCKENFILMFOTOLACK UND ZUSAMMENSETZUNG FÜR DESSEN HERSTELLUNG 8 DE102006030359A1 Verfahren zum Entwickeln eines Photolacks 9 EP1853973 VERFAHREN ZUM ENTFERNEN VON PHOTOLACK, ÄTZRÜCKSTÄNDEN UND KUPFEROXID VON SUBSTRATEN MIT KUPFER UND MATERIALIEN MIT NIEDRIGER DIELEKTRIZITÄTSKONSTANTE 10 DE60127788T2 Farbprüfen mittels Tintenstrahldruck 11 DE69609242T3 Fotopolymerisierbare Zusammensetzungen 12 DE60034515T2 Flachdruckplattenvorläufer und Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte 13 DE112005003399T5 Positivresist-Zusammensetzung und Verfahren zur Erzeugung eines Resistmusters 14 DE60034606T2 Lichtempfindliche Harzzusammensetzung für Flexodruckplatten 15 DE10345496B4 Verfahren zum Bestimmen einer lateralen Position eines Substrats in einer lithographischen Belichtungseinrichtung 16 EP1852744 LICHTEMPFINDLICHES LITHOGRAPHISCHES DRUCKPLATTENMATERIAL 17 DE10355573B4 Verfahren zum Erhöhen der Produktionsausbeute durch Steuern der Lithographie auf der Grundlage elektrischer Geschwindigkeitsdaten 18 DE102006027356A1 Lichtempfindliche Zusammensetzung, insbesondere Photolack 19 EP1708025 Lichtempfindliche Lithografiedruckform 20 EP1852743 Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichen Harzzusammensetzungen und dieses verwendende Reliefmuster 21 DE102007017803A1 Vorrichtung und Verfahren zur Korrektur einer Halbleiterelement-Maske 22 EP1850183 Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Entwicklung mit Dampfbehandlung 23 EP1849041 LITHOGRAPHISCHES VERFAHREN 24 DE60127021T2 Esterverbindungen, Polymere, Photoresistkompositionen und Mustererzeugungsverfahren 25 DE60312443T2 Stereolithographische Harze mit Hochtemperaturbeständig und mit höher Schlagzähigkeit 26 DE60310460T2 Verfahren und deren Maske zur Musterherstellung in einer Polymerschicht 27 DE102007021743A1 Masken und Verfahren zum Strukturieren 28 EP1849042 PROZESS ZUR HERSTELLUNG VON LITHOGRAPHISCHEN DRUCKPLATTEN 29 EP1847879 Verfahren zur Reinigung einer automatischen Bearbeitungsvorrichtung 30 EP1847878 LICHTEMPFINDLICHE ZUSAMMENSETZUNG ZUR ENTFERNUNG VON FLÜSSIGKEITEN 31 DE102006024741A1 Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Masken zur Herstellung einer Vorrichtung und Vorrichtung 32 EP1847880 Halogen-Sauerstoff-Säuren und Derivate davon enthaltende Zusammensetzung für die Reinigung mikroelektronischer Substrate 33 EP1664935 ABLÖS- UND REINIGUNGSZUSAMMENSETZUNGEN FÜR DIE MIKROELEKTRONIK 34 DE102007023581A1 Zusammensetzung zur Ausbildung eines Musters und in-plane-Druckverfahren unter Verwendung derselben 35 DE60126443T2 Polymere, Resistzusammensetzungen und Strukturierungsverfahren 36 EP1844367 ZUSAMMENSETZUNG ZUR ENTFERNUNG VON FOTOLACKRESTEN NACH DEM ÄTZEN UND ANTIREFLEXIONS-UNTERBESCHICHTUNGEN 37 DE60033775T2 Lithographischer Apparat mit einem System zur Positionsdetektion 38 EP1843207 Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Wafern 39 EP1843208 Photoresistentfernungsvorrichtung, Verfahren zum Recyclen des Photoresistentfernungsmittels und Verfahren zur Herstellung einer die Photoresistentfernungsvorrichtung verwendenden Dünnfilmtransistoranordnungstafel 40 DE112006000129T5 Verfahren zum Reparieren einer alternierenden Phasenverschiebungsmaske 41 DE60125755T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER FLEXODRUCKPLATTE 42 EP1657594 Verfahren zur Hydrophilierung von Siebruckschablonenträgern sowie Verfahren zur Entfernung von Schablonenmaterial von einem Siebdruckschablonenträger und Entschichtungsflüssigkeit hierfür 43 EP1840647 PHASENVERSCHIEBUNGSMASKE, PHASENVERSCHIEBUNGSMASKEN-HERSTELLUNGSVERFAHREN UND HALBLEITERELEMENT-HERSTELLUNGSVERFAHREN 44 DE102006058560A1 Verfahren zur Bildung hochaufgelöster Strukturen mit gewünschter Dicke oder hohem Aspektverhältnis mittels eines Trockenfilmresists 45 DE60218755T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON STRUKTUREN AUF NANOMASSSTAB IN LICHTAUSHÄRTBAREN ZUSAMMENSETZUNGEN MIT EINEM ELEKTRISCHEN FELD 46 DE60126736T2 STRAHLUNGSEMPFINDLICHE POLYSILAZAN-ZUSAMMENSETZUNG, DARAUS ERZEUGTE MUSTER SOWIE EIN VERFAHREN ZUR VERASCHUNG EINES ENTSPRECHENDEN BESCHICHTUNGSFILMS 47 EP1840659 Halogen-Sauerstoff-Säuren und Derivate davon enthaltende Zusammensetzung für die Reinigung mikroelektronischer Substrate 48 EP1837706 Resistzusammensetzung, Verfahren zur Formung einer Resiststruktur, Halbleiterbauelement und Herstellungsverfahren dafür 49 DE60311479T2 Vorrichtung zur Reinigung und Inspektion von Retikeln 50 EP1836535 WASSERFREIE, NICHT KORROSIVE MIKROELEKTRONISCHE REINIGUNGSZUSAMMENSETZUNGEN 51 DE10243742B4 Verfahren zur Strukturierung von Halbleitersubstraten unter Verwendung eines Fotoresists 52 DE60311746T2 Verfahren zur Herstellung eines Musters und Muster mit daran haftenden Substanzen 53 DE60312166T2 MASKE UND EIN DIESE MASKE BENUTZENDES HERSTELLUNGSVERFAHREN 54 DE102004010002B4 Maskenhalter zum Halten einer lithografischen Reflexionsmaske und Verfahren 55 EP1832932 REINIGUNGSFLÜSSIGKEIT FÜR DIE LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUM REINIGEN DAMIT 56 DE69934229T2 ZUSAMMENSETZUNG ZUR ENTSCHICHTUNG VON PHOTOLACK UND ORGANISCHEN MATERIALIEN VON SUBSTRATOBERFLÄCHEN 57 DE60032552T2 Verfahren zur Herstellung eines Farbbildes, das eine die anderen überlagernde Eigenschaft aufweist 58 DE10203839B4 Resist für die Fotolithografie mit reaktiven Gruppen für eine nachträgliche Modifikation der Resiststrukturen 59 DE60216882T2 Photomaske mit Vorrichtung zum Schutz vor Staub und Belichtungsmethode unter Verwendung dieser Photomaske 60 EP1828847 TRIDIMENSIONALE STRUKTUREN FÜR EINEN INKJET-DRUCKKOPF UND RELEVANTER HERSTELLUNGSPROZESS 61 DE102007010581A1 Testmuster und Verfahren zum Auswerten der Übertragungseigenschaften eines Testmusters 62 EP1828848 WASSERFREIE NICHT KORROSIVE MIKROELEKTRONISCHE REINIGUNGSVERBINDUNGEN MIT POLYMERISCHEN CORROSIONSINHIBITOREN 63 DE602004002598T2 Methode und Gerät zur Erstellung von optischen Näherungseffekt-Korrekturelementen für ein Maskenmuster in der optischen Lithographie 64 DE102006014298A1 Verfahren zur Herstellung von Strukturelementen in einem fotoempfindlichen Lack auf einem Substrat sowie Anordnung zur Durchführung eines thermischen Heizprozesses 65 EP1825328 LICHTEMPFINDLICHE HARZZUSAMMENSETZUNG UND LICHTEMPFINDLICHER TROCKENER FILM DURCH VERWENDUNG DAVON 66 DE60032190T2 Chemisch verstärkte, positiv arbeitende Resistzusammensetzung 67 DE4419237B4 Verfahren zur Entfernung eines eine Siliciumverbindung oder eine Germaiumverbindung enthaltenden Photoresists 68 DE19838148B4 Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen 69 DE60125539T2 Als Negativlack wirkende - chemisch verstärkte - Fotolack-Zusammensetzung 70 EP1820062 TROCKENFILM-FOTORESIST DES POSITIVTYPS UND ZUSAMMENSETZUNG ZU SEINER HERSTELLUNG 71 DE60217213T2 Methode zur Herstellung einer Fotomaske 72 DE69535516T2 Gitter-Gitter interferometrisches Ausrichtungssystem 73 EP1820063 TROCKENFILM-FOTORESIST DES POSITIVTYPS 74 EP1820064 STRAHLUNGSHÄRTBARE BESCHICHTUNGSMASSEN 75 DE60310498T2 Verfahren zur Reinigung durch Entfernung von Teilchen von Oberflächen, Reinigungsvorrichtung und lithographischer Projektionsapparat 76 DE60216794T2 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG ELLIPTISCHER UND ABGERUNDETER MUSTER MITTELS STRAHLFORMUNG 77 EP1818724 KORREKTURFLÜSSIGKEIT ZUR VERWENDUNG AUF LITHOGRAPHISCHEN DRUCKPLATTEN UND BILDKORREKTURVERFAHREN FÜR LITHOGRAPHISCHE DRUCKPLATTEN 78 DE60032378T2 KORREKTURMASKE MIT LICHT ABSORBIERENDEN PHASENVERSCHIEBUNGSZONEN 79 EP1816519 Neue Sulfoniumverbindung, diese enthaltende lichtempfindliche Zusammensetzung und Strukturbildungsverfahren unter Verwendung der lichtempfindlichen Zusammensetzung 80 EP1815297 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FLEXODRUCKFORMEN SOWIE DAZU GEEIGNETES FLEXODRUCKELEMENT 81 EP1815296 VERBINDUNG ZUR BESCHICHTUNG ÜBER EINEM FOTORESISTMUSTER 82 EP1813990 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER RESISTSTRUKTUR 83 EP1812825 DYNAMISCHER ENTWICKLUNGSPROZESS MIT EINER ENTIONISIERTEN WASSERLACHE 84 DE102005002533B4 Verfahren zum Erzeugen eines Abbildungsfehler vermeidenden Maskenlayouts für eine Maske 85 DE602004003379T2 LICHTEMPFINDLICHE HARZZUSAMMENSETZUNG, INKJET-AUFZEICHNUNGSKOPF MIT DER ZUSAMMENSETZUNG UND WIEDERGABEVERFAHREN DAFÜR 86 DE102005028489B4 Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Flachtafeldisplays 87 DE112005002819T5 Positivresist - Zusammensetzung und Verfahren zur Erzeugung eines Resist - Musters 88 DE69133544T2 Vorrichtung zur Projektion eines Maskenmusters auf ein Substrat 89 EP1810083 LICHTEMPFINDLICHE HARZZUSAMMENSETZUNG UND LICHTEMPFINDLICHER TROCKENFILM DURCH DEREN VERWENDUNG 90 DE60124377T2 EINRICHTUNG ZUM TRANSFERIEREN EINES MUSTERS AUF EIN OBJEKT 91 EP1811340 Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements damit 92 DE60030819T2 Analoger sowie digitaler Farbauszug 93 DE4426119B4 Photobildfähige Massen, enthaltend 1,2-dihalogenierte Ethane auf Schichtträgermaterial, zur Verbesserung des Druckbildes 94 EP1811335 FOTOMASKENROHLING, FOTOMASKE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DIESER 95 DE60309524T2 Verfahren zur Ausrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels 96 DE69933825T2 Chemisch verstärkte Positivresistzusammensetzung 97 DE102006046000A1 EUV Maskenblank und Verfahren zu dessen Herstellung 98 DE19910363B4 Positives, lichtempfindliches bebilderbares Element 99 DE60031429T2 METHODE ZUR BESTIMMUNG EINES MASKENSATZES ZUR HERSTELLUNG EINES INTEGRIERTEN SCHALTKREISES 100 DE60307017T2 Rohling für Halbton-Phasenschiebermaske, sowie Verfahren zu seiner Herstellung 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20  >> >|

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