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No Patent No Titel
1 DE102007017803A1 Vorrichtung und Verfahren zur Korrektur einer Halbleiterelement-Maske
2 DE102006024741A1 Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Masken zur Herstellung einer Vorrichtung und Vorrichtung
3 EP1840647 PHASENVERSCHIEBUNGSMASKE, PHASENVERSCHIEBUNGSMASKEN-HERSTELLUNGSVERFAHREN UND HALBLEITERELEMENT-HERSTELLUNGSVERFAHREN
4 EP1811335 FOTOMASKENROHLING, FOTOMASKE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DIESER
5 EP1801647 FOTOMASKEN-ROHLING UND FOTOMASKE
6 DE102004028849B4 Phasenschiebende Fotomaske für eine fotolithographische Abbildung und Verfahren zu deren Herstellung
7 EP1783546 HALBDURCHLÄSSIGER FILM, FOTOMASKENROHLING, FOTOMASKE UND VERFAHREN ZUM ENTWURF EINES HALBDURCHLÄSSIGEN FILMS
8 DE112005001588T5 Fotomaskenrohling, Fotomaskenherstellungsverfahren und Halbleiterbausteinherstellungsverfahren
9 EP1739481 PHASENVERSCHIEBUNGSMASKE DES LEVENSON-TYPS UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR
10 DE112005000548T5 Verfahren zur Unterstützung der Maskenherstellung, Verfahren zur Bereitstellung von Maskenrohlingen und Verfahren zur Handhabung von Maskenrohlingen
11 DE112004002782T5 Verfahren zum Herstellen eines Photomasken-Rohlings
12 DE102005030122A1 Photolithographische Maske und Verfahren zum Bilden eines Musters auf der Maske
13 DE102006027429A1 An einer Halbleitervorrichtung eine gleichmäßige kritische Abmessung vorsehende Photomaske und Verfahren zum Herstellen derselben
14 DE60304335T2 METHODE ZUR HERSTELLUNG EINER PHOTOMASKE UNTER EINSATZ EINER AMORPHEN KOHLENSTOFFSCHICHT
15 DE10206143B4 Reflektierender Maskenrohling und reflektierende Maske für EUV-Belichtung und Verfahren zum Herstellen der Maske
16 DE102006018074A1 Photomaske
17 DE102005008478B3 Verfahren zur Herstellung von sublithographischen Strukturen
18 DE102005002529A1 Verfahren zum Erzeugen eines Abbildungsfehler vermeidenden Maskenlayouts für eine Maske
19 DE102005002533A1 Verfahren zum Erzeugen eines Abbildungsfehler vermeidenden Maskenlayouts für eine Maske
20 DE102005005102B3 Photolithographische Maske
21 EP1650600 Fotomaskenrohling, Fotomaske und ihre Herstellungsmethode
22 EP1518150 METHODE ZUR HERSTELLUNG EINER PHOTOMASKE UNTER EINSATZ EINER AMORPHEN KOHLENSTOFFSCHICHT
23 EP1635217 PROZESS ZUR HERSTELLUNG EINES HALBLEITERBAUELEMENTS UND ZUR ERZEUGUNG VON MASKENSTRUKTURDATEN
24 DE102005025398A1 Maskenrohling, Herstellungsverfahren für eine Phasenänderungsmaske und Herstellungsverfahren für eine Form
25 EP1617287 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES MASKENROHLINGS
26 EP1615071 MASKENROHLING, MASKENROHLINGHERSTELLUNGSVERFAHREN, TRANSFERMASKENHERSTELLUNGSVERFAHREN UND HALBLEITERBAUELEMENTEHERSTELLUNGSVERFAHREN
27 DE102004038548A1 Verfahren zur Herstellung eines Maskenblank für photolithographische Anwendungen und Maskenblank
28 DE112004000566T5 Verfahren zum Herstellen eines Maskenrohlings und Verfahren zum Herstellen einer Maske
29 DE102005035769A1 EUV-Lithographiemaske mit magnetischem Kontrast und deren Herstellung
30 DE112004000591T5 Herstellungsverfahren für Photomaske und Photomaskenrohling
31 DE102005029499A1 Lithographische Maske und Herstellungsverfahren hierfür
32 DE102004031079A1 Reflexionsmaske, Verwendung der Reflexionsmaske und Verfahren zur Herstellung der Reflexionsmaske
33 DE102004028849A1 Phasenschiebende Fotomaske für eine fotolithographische Abbildung und Verfahren zu deren Herstellung
34 EP1602974 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON MASKEN SOWIE VORRICHTUNG ZUR MASKENZEICHNUNG
35 DE10344048A1 Herstellungsverfahren für eine Halbton-Phasenmaske
36 DE10392540T5 Verfahren zum Korrigieren einer Maske
37 EP1589373 BELICHTUNGSMASKE UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR UND BELICHTUNGSVERFAHREN
38 DE60020163T2 FOTOMASKE, VERFAHREN ZU IHRER HERSTELLUNG
39 EP1567915 MUSTERBILDENDE MATERIALIEN UND MUSTERBILDUNGSVERFAHREN UNTER VERWENDUNG DER MATERIALIEN
40 DE60019917T2 HALBTONPHASENSCHIEBERMASKE UND MASKENROHLING
41 DE10393430T5 Verfahren zur Korrektur eines Maskenmusters
42 DE60104765T2 Photomaskenrohling und Photomaske
43 DE102005002434A1 Absorbermaske für die lithographische Strukturierung von Beugungsgittern und Verfahren zu ihrer Herstellung
44 DE10393095T5 Lithografiemaskenrohling
45 EP1553446 MUSTERGRÖSSEKORREKTUREINRICHTUNG UND MUSTERGRÖSSEKORREKTURVERFAHREN
46 DE10393131T5 Verfahren zum Herstellen von Maskenrohlingen, Verfahren zum Herstellen von Transfermasken, Sputtertarget zum Herstellen von Maskenrohlingen
47 EP1542072 Verfahren zur Erzeugung eines Photomaskenlayouts
48 EP1542073 Strukturierungsverfahren
49 DE102004053563A1 Photomaske und Verfahren zum Bilden eines Musters
50 EP1526406 FOTOMASKE
51 DE10339888A1 Maske und Verfahren zur Durchführung eines Fotolithografieprozesses
52 EP1508070 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FOTOMASKEN FÜR DIE STRUKTURIERUNG VON HALBLEITERSUBSTRATEN DURCH OPTISCHE LITHOGRAFIE
53 DE102004035559A1 Verfahren zur Auswahl von Substraten für Fotomaskenrohlinge
54 DE102004026206A1 Belichtungsmaskensubstrat-Herstellungsverfahren, Belichtungsmasken-Herstellungsverfahren und Halbleitereinrichtungs-Herstellungsverfahren
55 DE102004035560A1 Substrat für Fotomaskenrohling, Fotomaskenrohling und Fotomaske
56 DE60104766T2 Halbton-Phasenschiebermaske sowie Maskenrohling
57 DE10316713A1 Verfahren zur Herstellung von Fotomasken mittels gepulsten Plasmen
58 EP1422562 RETIKEL UND VERFAHREN ZUR MESSUNG OPTISCHER EIGENSCHAFTEN
59 EP1410106 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OPTISCH BEBILDERTEN HOCHLEISTUNGSPHOTOMASKEN
60 EP1408373 PHOTOMASKE, VERFAHREN ZU IHRER HERSTELLUNG UND STRUKTURAUSBILDUNGSVERFAHREN MIT DER PHOTOMASKE
61 EP1390812 ORGANISCHE BODEN-ANTIREFLEXBESCHICHTUNG ZUR OPTISCHEN HOCHLEISTUNGS-MASKENHERSTELLUNGS-ABBILDUNG
62 EP1386198 IONENSTRAHLABLAGERUNGSPROZESS ZUR HERSTELLUNG BINÄRER PHOTOMASKENROHLINGE
63 DE4238441C2 Phasenschiebemaske und Verfahren zu deren Herstellung
64 DE10307518A1 Halbtonphasenschiebermaskenrohling, Halbtonphasenschiebermaske und Verfahren zu deren Herstellung
65 DE10158339A1 Verfahren zur Transmissionserhöhung an einer mit Ionenstrahlung reparierten Stelle auf einer Photomaske mittels thermischer Desorption
66 DE69622438T2 Phasenverschiebungsmaske und Verfahren zur Herstellung einer solchen Maske
67 DE10206143A1 Reflektierender Maskenrohling und reflektierende Maske für EUV-Belichtung und Verfahren zum Herstellen der Maske
68 DE69711929T2 VERFAHREN UND GERÄT ZUR ERZEUGUNG EINES MUSTERS AUF EINEM MIT FOTORESIST BESCHICHTETEN SUBSTRAT MITTELS FOKUSIERTEM LASERSTRAHL
69 DE10145151A1 Fotomaske mit einem Film, der aus einem Halbtonmaterial gebildet ist, Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske, und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
70 DE69523165T2 PHASENSCHIEBERMASKEN-ROHLING UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG
71 DE10144347A1 Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen von Phasenverschiebungsmaskenrohlingen
72 DE10082309T1 Phasenschieberfilm und Verfahren für denselben
73 DE69132444T2 Röntgenstrahlmaskenstruktur, Verfahren zur Herstellung und zur Röntgenstrahlbelichtung
74 DE10028644A1 Phasenschiebermaske und Phasenschiebermaskenrohling
75 DE19909187C1 Monokornmembranmaske
76 DE19747775C2 Röntgenstrahlenabsorber in einer Röntgenstrahlenmaske und Verfahren zur Herstellung desselben
77 DE69606979T2 Phasenverschiebungsmaske, Rohteil für eine solche Maske und Verfahren zur Herstellung einer solchen Maske
78 DE69229430T2 Röntgenstrahlmaske, Verfahren zu derer Herstellung und Belichtungsverfahren
79 DE69227137T2 Verfahren zur Herstellung einer Markierung
80 DE69410229T2 Maske zur Übertragung eines Musters auf eine halbleitende Anordnung und Herstellungsverfahren dafür
81 DE19747775A1 Röntgenstrahlenabsorber in einer Röntgenstrahlenmaske und Verfahren zur Herstellung desselben
82 DE19743554A1 Verfahren zum Herstellen einer Röntgenstrahlmaske
83 DE19708766A1 Lithographiemaske und Verfahren zur Herstellung derselben
84 DE69403462T2 DÜNNE FILMMASKE FÜR RÖTNGENSTRAHLLITHOGRAPHIE UND HERSTELLUNGSVERFAHREN
85 DE69124604T2 MASKE ZUR PHASENVERSCHIEBUNG
86 DE19644287A1 Phasenschiebende Maske und Verfahren zu ihrer Herstellung
87 DE19528329A1 Röntgenstrahlendurchlässiges Schichtmaterial, Verfahren zu seiner Herstellung sowie deren Verwendung
88 DE68926659T2 Photomaske und Herstellungsverfahren
89 DE19504434C1 Verfahren zur Herstellung siliziumhaltiger Masken
90 DE19527683A1 Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske für die Fertigung einer Halbleitervorrichtung
91 DE19508749A1 Verfahren zur Herstellung einer Phasenverschiebungsmaske
92 DE4434060A1 Phasenschiebermaske und Verfahren zum Reparieren eines Defekts einer Phasenschiebermaske
93 DE4420417A1 Verfahren zur Herstellung einer Maske zur Erzeugung eines Musters auf einem Halbleiterbauelement
94 DE4200647C2 Verfahren zur Herstellung einer Maske
95 DE4238441A1 Phasenschiebemaske und Verfahren zu deren Herstellung
96 DE4215489A1 Herstellungsverfahren für eine Phasenverschiebungsmaske
97 DE4200647A1 Verfahren zur Herstellung einer Maske
98 DE3236602C2 Verfahren zur Herstellung von Maskierplatten für verschiedene Farben
99 DE3045964C2 Verfahren zur Herstellung einer Lithographiemaske
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