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1 DE60034488T2 STRAHLUNGSEMPFINDLICHE COPOLYMERE, FOTORESISTZUSAMMENSETZUNGEN UND ZWEISCHICHTRESISTSYSTEME FÜR DEN TIEFEN UV-BEREICH
2 DE102006027356A1 Lichtempfindliche Zusammensetzung, insbesondere Photolack
3 DE69933825T2 Chemisch verstärkte Positivresistzusammensetzung
4 DE60030923T2 Oniumsalze, Fotosäure erzeugende Substanzen für Fotoresistzusammensetzungen, und Strukturierungsverfahren
5 DE60029481T2 PHOTOINITIATORSYSTEM MIT ACYLPHOSPHINOXIDINITIATOREN
6 DE60122148T2 PHOTORESISTZUSAMMENSETZUNG MIT EINER WASSLÖSLICHEN FOTOSÄURE ERZEUGENDEN SUBSTANZ
7 DE60212189T2 MULTIPHOTONEN-PHOTOSENSIBILISIERUNGSSYSTEM
8 DE69932995T2 Lichtempfindliche Harzzusammensetzung
9 DE60029875T2 Mittel zur Verringerung des Substrateinflusses eines Resists
10 DE60029857T2 Lichtempfindliche Zusammensetzung und 1,3-dihydro-1-oxo-2H-Indenderivat
11 DE69736024T2 Strahlungsempfindliche Kunststoffzusammensetzung
12 DE69832751T2 Verfahren zur Verringerung der Einfluss des Substrats auf einem Resist
13 DE112004001868T5 Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen, wässrigen, entwickelbaren Beschichtungszusammensetzung
14 DE60206294T2 POLYCYCLISCHE DERIVATE ZUR VERÄNDERUNG DER OPTISCHEN EIGENSCHAFTEN UND ÄTZBESTÄNDIGKEITSEIGNENSCHAFTEN
15 DE60204711T2 WÄSSRIG ENTWICKELBARE, LICHTEMPFINDLICHE DICKSCHICHTBILDAUFZEICHNUNGSZUSAMMENSETZUNGEN ZUR HERSTELLUNG VON SCHWARZEN ELEKTRODEN
16 DE102005021346A1 Schaltbare Schicht und Verfahren zum Umschalten der Schicht
17 DE69827211T2 Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung
18 DE69827882T2 Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
19 DE102004009536A1 Verfahren zur Herstellung und Strukturierung eines lichtempfindlichen, hochviskosen, chemisch verstärkten, wässrig-alkalisch entwickelbaren Positiv-Photoresists
20 DE102004037042A1 Verfahren zum Herstellen eines Farbfilterarray-Substrats
21 DE69729541T2 Verwendung eines Lösungsmittelgemisches zur Walzenbeschichtung einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung
22 DE69915928T2 Diazodisulfonverbindung und strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung
23 DE69728366T2 Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung
24 DE69821049T2 Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung
25 DE69818935T2 Durch Wärme unterstützte photoempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Anwendung dieser Zusammensetzung zur Erzeugung feiner Leiterbahnen
26 DE60100930T2 Resistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen
27 DE69910335T2 Zusammensetzung für ein Silber enthaltendes, lichtempfindliches, leitendes Band und das damit behandelte Band
28 DE69911558T2 FOTOEMPFINDLICHE ZUSAMMENSETZUNG FÜR SCHWARZMATRIX UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DER ZUSAMMENSETZUNG
29 DE69812475T2 Photoresistzusammensetzung
30 DE69721019T2 ALKYLSULFONYLOXIME FÜR I-LINE-PHOTORESISTS HOHER AUFLÖSUNG UND EMPFINDLICHKEIT
31 DE69905994T2 Positiv arbeitende Photoresist-Zusammensetzung mit chemischem Verstärkungseffekt
32 DE69905959T2 Lichtempfindliche Harzzusammensetzung
33 DE69905424T2 Positiv arbeitende lichtempfindliche Harzzusammensetzung
34 DE69813113T2 Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung
35 DE69718118T2 Positiv arbeitende photoempfindliche Zusammensetzung
36 DE69626898T2 Strahlungsempfindliche Zusammensetzung
37 DE69807602T2 Resistzusammensetzungen
38 DE69622249T2 Chemisch verstärkte Photoresistzusammensetzung
39 DE69712253T2 Positiv-arbeitende fotoempfindliche Zusammensetzung
40 DE69711802T2 Eine Dipyridylverbindung enthaltender positiver Photolack
41 DE69712988T2 Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung
42 DE69711433T2 VERFAHREN ZUR VERRINGERUNG METALLIONEN-VERUNREINIGUNGEN IN EIN POLARES LÖSUNSMITTEL ENTHALTENDEN PHOTORESISTZUSAMMENSETZUNGEN DURCH IONENAUSTAUSCH
43 DE69525883T2 Positiv-photoresistzusammensetzung
44 DE69901282T2 Lichtempfindliche Flachdruckplatte
45 DE69803117T2 Positiv arbeitende Resistzusammensetzung
46 DE69804538T2 Bildaufzeichnungsmaterial und Bildaufzeichnungsverfahren
47 DE69710692T2 Negativ arbeitende chemisch vertärkte Photoresistzusammensetzung
48 DE69616847T2 Lichtempfindliches Resistmaterial und Verfahren zur Herstellung von Vorrichtung unter Benutzung des lichtempfindlichen Resistmaterials
49 DE69708229T2 Muster-Herstellungsverfahren
50 DE69706773T2 Positiv arbeitende, bilderzeugende Zusammensetzung
51 DE69615360T2 STABILISATOREN FÜR LICHTEMPFINDLICHE SÄURESPENDERZUSAMMENSETZUNGEN
52 DE69618501T2 Verfahren zur Herstellung eines Musters
53 DE69232042T2 Positiv-arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung
54 DE69707325T2 Bilderzeugungsmaterial und Verfahren
55 DE69705980T2 Positiv-arbeitende fotoempfindliche Zusammensetzung
56 DE69703902T2 Strahlungsempfindliche Zusammensetzung
57 DE69610639T2 WASSERFREIE DRUCKPLATTEN
58 DE69702571T2 Lichtempfindliche, wässerig entwickelbare Dickschichtzusammensetzung unter Verwendung von Polyvinylpyrrolidon
59 DE69425398T2 Ein Resolharz und ein Novolakharz enthaltende strahlungsempfindliche Zusammensetzung und ihre Verwendung in Druckplatten
60 DE69610256T2 Chemisch verstärkte Positiv-Resistzusammensetzung
61 DE69610161T2 Positiv arbeitende Fotoresistzusammensetzung
62 DE69132296T2 Fotoempfindliche Harzzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines leitfähigen Musters
63 DE69702828T2 Hochauflösender positiv-arbeitender Trockenphotolackfilm
64 DE69800164T2 Positiv-arbeitende photoempfindliche Zusammensetzung
65 DE68929206T2 Lithographisches Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
66 DE69422319T2 Positiv arbeitende Resistmaterialien mit besonderen Oniumsalzen
67 DE69605821T2 LÖSEMITTELSYSTEM FÜR POSITIV-ARBEITENDE PHOTORESISTE
68 DE69800033T2 Strahlungsempfindliches Resistmaterial und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Benutzung des strahlungsempfindlichen Resistmaterials
69 DE69700864T2 Negativ arbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial
70 DE69605381T2 Fotoresistzusammensetzung
71 DE69510519T2 Positiv-arbeitende fotoempfindliche Zusammensetzung
72 DE69418826T2 Zusammensetzungen zur Herstellung strukturierter Farbbilder und deren Anwendung
73 DE69324640T2 Photoempfindliches dielektrisches Schichtmaterial und untereinander verbundene Mehrschichtschaltungen
74 DE69324942T2 Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und Verfahren
75 DE69228584T2 Positiv-arbeitendes Resistmaterial
76 DE69506999T2 Strahlungsempfindliche Zusammensetzung
77 DE69509188T2 Verfahren zur Herstellung von Verbindungen, die in einer positiv arbeitenden, chemisch verstärkten Resistzusammensetzung verwendet werden
78 DE69416814T2 Wässrige Emulsionsphotoresiste mit nichtionischen Fluorkohlenwasserstoffenthaltenden oberflächenaktiven Substanzen
79 DE69323828T2 Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Mikrobildern
80 DE69323574T2 Photopolymerisierbare Druckplatten
81 DE69320241T2 Chemisch amplifizierte Resistzusammensetzung
82 DE69320468T2 PHOTORESISTS MIT EINEM NIEDRIGEM GRAD METALLIONEN
83 DE68928823T2 Strahlungsempfindliche, positiv arbeitende Resistzusammensetzung
84 DE69130003T2 Negative lichtempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Bildung eines Photolackmusters
85 DE69226920T2 Lichtempfindliche Zusammensetzung
86 DE69226604T2 Photoelektrochemisches Abbildungssystem
87 DE69410212T2 Lithographische Druckplatten
88 DE69031783T2 Bildaufzeichnungsmaterial und Bildaufzeichnungsverfahren damit
89 DE69128143T2 PHOTOEMPFINDLICHE HARZZUSAMMENSETZUNG UND PHOTOEMPFINDLICHE ELEMENTSTRUKTUR
90 DE69408193T2 Verwendung einer fotoempflindlichen Zusammensetzung zur Herstellung einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
91 DE69316495T2 Verwendung einer positiv arbeitenden vorsensibilisierten Druckplatte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
92 DE69405479T2 Resistmaterialien
93 DE69310763T2 Dampfabscheidungsverfahren
94 DE69308408T2 Negativ-arbeitendes Schutzlackmaterial und Verfahren zur Herstellung von Mustern
95 DE68925244T2 Verfahren zur Herstellung von Fotolackstrukturen unter Verwendung eines chemisch verstärkten und metallisierten Materials
96 DE69021119T2 Bildherstellungsverfahren mittels einer elektrisch leitfähigen Zusammensetzung.
97 DE68919573T2 Verfahren und Zusammensetzung für Resistsilylierung.
98 DE68918177T2 Feinstruktur-Herstellungsverfahren.
99 DE68913082T2 Lichtempfindliche, semi-wässrig entwickelbare, keramische Beschichtungszusammensetzung.
100 DE68912212T2 Lichtempfindliche wässerig entwickelbare, keramische Beschichtungszusammensetzung.
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