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1 DE60128818T2 ANTIREFLEXIONSZUSAMMENSETZUNG
2 DE102004004865B4 Antireflexschicht, die mit einem Photoresist beschichtet ist, enthaltend Polymere auf der Basis von Zimtsäure für die 157 nm Photolithographie
3 DE102006002032A1 Fotoempfindliche Beschichtung zum Verstärken eines Kontrasts einer fotolithographischen Belichtung
4 DE112005002156T5 Leitfähiges lithographisches Polymer und Verfahren zur Herstellung von Vorrichtungen unter Verwendung desselben
5 DE60307045T2 Verfahren zur Herstellung einer bildverwendenden Minimum-Antireflektrierenden Bodenbeschichtungszusammensetzung
6 DE60212472T2 Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einer elektrisch leitenden Rückseitenbeschichtung
7 DE102005018737A1 Verfahren zum Übertragen von Strukturen von einer Fotomaske in eine Fotolackschicht
8 DE60026635T2 Zusammensetzung für eine Resistunterschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung
9 DE60207124T2 Zusammensetzung für eine reflexvermindernde Unterschicht für die Lithographie
10 DE19838847B4 Verfahren zum Vermindern der Intensität von während des Prozesses der Photolithographie auftretenden reflektierten Strahlen
11 DE102004024886A1 Photoaktiver Schichtstapel und Verfahren zum Aufbringen des photoaktiven Schichtstapels auf ein Substrat
12 DE60105523T2 Antireflektionsbeschichtungszusammensetzung
13 DE102004004865A1 Polymere auf der Basis von Zimtsäure als Antireflexschicht für die 157 nm Photolithographie
14 DE10343351A1 Substrat zum Tintenstrahldrucken und Verfahren zu dessen Herstellung
15 DE60105141T2 Verfahren zur Herstellung einer organischen Dünnschicht
16 DE60101953T2 Zusammensetzung für Antireflexionsbeschichtung und Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen
17 DE69914452T2 Bilderzeugendes Element zur Herstellung von lithographischen Druckplatten mit verringertem Abgleiten während des Druckvorganges
18 DE60007208T2 Reflexionsvermindernde Schicht zur Kontrolle von kritischen Dimensionen
19 DE69913067T2 Verfahren zur Herstellung eines Photolack-Reliefbilds
20 DE69727620T2 Zusammensetzungen für antireflektierende Beschichtungen
21 DE69819512T2 1-Vinylimidazol-Polymer oder -Copolymer enthaltende Deckschicht für lichtempfindliche Materialien
22 DE69726378T2 Gefärbte Photoresists sowie Methoden und Artikel, die diese umfassen
23 DE10218955B4 Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Schicht auf einem Halbleitersubstrat
24 DE10361273A1 Vorrichtung und Verfahren zum Verbessern der Resistlinienrauhheit bei der Bearbeitung von Halbleiterscheiben
25 DE69722773T2 SCHUTZÜBERZUG, NÜTZLICH ZU ERHÖHUNG DER WIDERSTANDSFAHIGKEIT EINES DRUCKPLATTENVORLÄUFERS GEGEN UMGEBUNGSFEUCHTIGKEIT
26 DE10330599A1 Verfahren zur Herstellung von Mikroelektronik-Strukturelementen durch Ausbilden von Durchmischungsschichten aus wasserlöslichen Harzen und Resistmaterialien
27 DE69813780T2 Schutzschicht für Farbprüffolien
28 DE10328610A1 Mikromuster erzeugendes Material, Verfahren zum Erzeugen von Mikromustern und Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung
29 DE10303511A1 Organische antireflektierende Beschichtungszusammensetzung und Verfahren zum Bilden von Fotolackmustern unter Verwendung derselben
30 DE10226971A1 Substrat mit strukturierter Oberfläche aus hydrophoben und hydrophilen Bereichen
31 DE10223997A1 Verfahren zur Herstellung von Fotomasken für die Strukturierung von Halbleitersubstraten durch optische Lithografie
32 DE69812021T2 Aufwickelbarer Trockenresistfilm
33 DE69906901T2 Zusammensetzung für eine Antireflexunterschicht für einen Photoresist und Verfahren zur Erzeugung eines Resistmusters
34 DE10218955A1 Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Schicht auf einem Halbleitersubstrat
35 DE69716827T2 Photoempfindliches Harzlaminat, Herstellungsverfahren dafür und Stapel davon
36 DE69715676T2 Fotoresistschichttragender Film
37 DE69715020T2 EINEN ARYLHYDRAZOFARBSTOFF ENTHALTENDE LICHTEMPFINDLICHE ZUSAMMENSETZUNG
38 DE10233399A1 Modulares, infrarotabtragbares graphisches Mehrzweckwerkzeug
39 DE69713777T2 POSITIV ARBEITENDE, 2,3-DINITRO-1-NAPHTHOL EHTHALTENDE PHOTORESISTZUSAMMENSETZUNG
40 DE69621750T2 Verfahren und Gerät zur Abscheidung einer Antireflexbeschichtung
41 DE69621173T2 Benzanthron als Polymerisierungsregler in fotopolymerisierbarer Zusammensetzung
42 DE10214092A1 Halbton-Phasenverschiebungsmasken-Rohling und Halbton-Phasenverschiebungsmaske
43 DE69710970T2 Photoresisttregerfolie aus Polyester und Photoresistlaminat
44 DE69232467T2 Antireflexionszusammensetzungen
45 DE69525642T2 FORMBESTÄNDIGE FLEXO-DRUCKPLATTEN
46 DE10110728A1 Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit elektrisch leitfähiger Rückseitenbeschichtung
47 DE10113926A1 Verfahren zur Herstellung von Flexodruckplatten mittels Lasergravur
48 DE10113927A1 Verfahren zur Herstellung von Reliefdruckplatten durch Lasergravur
49 DE69709874T2 WÄSSERIGE ANTIREFLEXBESCHICHTUNG FÜR PHOTORESISTZUSAMMNESETZUNGEN
50 DE69526308T2 Harzzusammensetzung für Stereolithographie
51 DE69707635T2 Zusammensetzung für Antireflexunterschichten und Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters damit
52 DE69708301T2 ANTIREFLEXBESCHICHTUNG FÜR PHOTORESISTZUSAMMENSETZUNGEN
53 DE69709140T2 ANTIREFLEXBESCHICHTUNG FÜR PHOTORESISTZUSAMMENSETZUNGEN
54 DE69708787T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FILMMUSTERN UNTER ANWENDUNG DER ABHEBETECHNOLOGIE
55 DE69033790T2 Photolackzusammensetzung
56 DE69706288T2 ANTIREFLEXIONS-UNTERBESCHICHTUNGEN DURCH BRECHUNGSINDEXMODIFIKATION MIT ANOMALER DISPERSION
57 DE69705466T2 Zusammensetzung für Antireflexionsbeschichtung
58 DE69704558T2 METALLIONENREDUZIERUNG VON AMINOAROMATISCHEN CHROMOPHONEN UND IHRE VERWENDUNG ZUR HERSTELLUNG VON ANTIREFLEXUNTERSCHICHTEN MIT GERINGEM GEHALT AN METALLIONEN FÜR PHOTORESISTE
59 DE69704368T2 ANTIREFLEXIONS-UNTERSCHICHTEN MIT ARYLHYDRAZO FARBSTOFF
60 DE69426123T2 Verfahren zur Verbesserung der Hydrophilie des Substrates für eine lithographische Druckplatte durch Behandlung mit Polyvinylphosphonsäurelösung
61 DE69610572T2 Zusammensetzung für reflexionsvermindernde Resistbeschichtung
62 DE69703283T2 LICHT-ABSORBIERENDE ANTIREFLEKTIONSSCHICHTEN MIT VERBESSERTER LEISTUNG DURCH BRECHUNGSINDEX-OPTIMIERUNG
63 DE69703264T2 Laminat aus einem Fotoresistschichtträger und einem Fotoresist
64 DE69518171T2 THERMISCH HÄRTBARE ANTIREFLEXIONS BESCHICHTUNGEN UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DERSELBEN
65 DE69608584T2 Chemisch verstärkte strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung
66 DE69702422T2 Grundbeschichtungszusammensetzung für photolithographischen Resist
67 DE69702566T2 Zusammensetzung für eine antireflektierende Beschichtung
68 DE69423641T2 REFLEXIONSVERMINDERNDE OBERFLÄCHENBESCHICHTUNGEN
69 DE19908529A1 Pigmentiertes und rückseitenbeschichtetes Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Offsetdruckplatten
70 DE19957347A1 Lichtempfindliches, fotografisches Silberhalogenidmaterial
71 DE19859216A1 Verfahren und Vorrichtung zum Aufrauhen eines Trägers für lichtempfindliche Schichten
72 DE69514171T2 Reflexvermindernde Schicht für die Mikrolithographie
73 DE19845041A1 Verfahren zur Erzeugung photostrukturierbarer Schichten mit Strukturgrößen im Mikrobereich
74 DE19944275A1 Tag/Nacht-Bildgebungs-Displaymaterial mit biaxial orientierter Polyolefinfolie
75 DE69326982T2 Verfahren zur Bildung eines Lackmusters unter Verwendung einer optimierten Antireflexionsschicht.
76 DE19944276A1 Transluzente Bildgebungs-Papierdisplaymaterialien mit biaxial orientierter Polyolefinfolie
77 DE19944283A1 Reflektives Bildgebungs-Displaymaterial mit biaxial orientierter Polyolefinfolie
78 DE19838847A1 Verfahren zum Vermindern der Intensität von während des Prozesses der Photolithographie auftretenden reflektierten Strahlen
79 DE69418576T2 Verfahren zur Herstellung eines Farbbildes
80 DE69323812T2 Reflexionsverhindernder Film und Verfahren zur Herstellung von Resistmustern
81 DE19743506A1 Mehrschichtelement zur Herstellung von Druck- oder Reliefformen
82 DE19743507A1 Mehrschichtelement zur Herstellung von Druck- oder Reliefformen
83 DE19739299A1 Weißlicht-unempfindliches, thermisch bebilderbares Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Offsetdruck
84 DE69129561T2 Verfahren zur Herstellung von Mustern
85 DE68928789T2 Druckplatte
86 DE69213482T2 Beschichtungszusammensetzung zum Herstellen von isolierenden Schichten und Masken
87 DE19748711A1 Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
88 DE69313797T2 Verfahren zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen unter Einsatz einer Maske
89 DE69220393T2 Doppelschichtige Metallisierungshaube für Photolithographie
90 DE69313132T2 METALLIONENREDUZIERUNG IN ANTIREFLEXUNTERSCHICHTEN FÜR PHOTORESIST
91 DE69310736T2 METALLIONENREDUZIERUNG IN ANTIREFLEXDECKSCHICHTEN FÜR PHOTORESISTS
92 DE69308570T2 FLEXODRUCKELEMENT MIT EINER DURCH IR-BESTRAHLUNG ABLATIVEN SCHICHT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER FLEXODRUCKPLATTEN
93 DE69214035T2 Reflexionsverminderde Überzüge
94 DE69400107T2 Im tiefen UV absorbierende Zusammensetzung und dessen Einsatz in der Herstellung von Mustern
95 DE68926143T2 Struktur zur Aufbringung eines Metallisationsmusters darauf und Verfahren zur Bildung einer solchen Struktur
96 DE19505748A1 Verfahren zur Anwendung eines Photoresists
97 DE19534709A1 Verfahren zur Herstellung eines farbigen Bildes
98 DE69112897T2 Resist-Zusammensetzung.
99 DE19522542A1 Lichtempfindliche lithographische Druckplatte
100 DE19500486A1 Lichtempfindliche lithographische Druckplatte, die kein Anfeuchtungswasser erfordert
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