Patente IPC-Klasse G03F 7/20

No	Patent No	Titel
1	DE102006036488A1	Optisches System, insbesondere Projektionsobjektiv in der Mikrolithographie
2	DE102006036064A1	Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage mit Wellenlängen
3	DE102006034709A1	Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, mikrolithographisches Herstellungsverfahren für Bauelemente sowie mit diesem Verfahren hergestelltes Bauelement
4	DE102006034755A1	Optische Vorrichtung sowie Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung
5	DE602004006281T2	VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUR LITHOGRAPHIE DURCH EXTREM-ULTRAVIOLETTSTRAHLUNG
6	DE602006000087T2	Verfahren zur Herstellung von Mustern
7	DE102006022958A1	Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsverfahren und Verwendung eines Projektionsobjektivs
8	DE102006023876A1	Optische Abbildungseinrichtung
9	DE602004005210T2	VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON MUSTERN MIT GENEIGTEN FLANKEN MITTELS FOTOLITHOGRAPHIE
10	DE102007021649A1	Verfahren zur Korrektur von optischen Umgebungseffekten, optisches Filter und Verfahren zur Herstellung eines optischen Filters
11	DE102007022571A1	Belichtungssystem und Fotolithografiegerät
12	DE602004004468T2	Anordnung zum zweiseitigen Beleuchten einer gedruckten Schaltungsplatte und Vorrichtung mit wenigstens einer solchen Anordnung
13	DE602005000147T2	Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
14	DE102006011140A1	Prozesskontrollstreifen und Verfahren zur Aufzeichnung
15	DE102006001435A1	Vorrichtung zur Beleuchtung und Inspektion einer Oberfläche
16	DE102006054335A1	Verfahren zur Bestimmung einer Belichtungsdosis und Belichtungsvorrichtung
17	DE102006033447A1	System und Verfahren für die Photolithographie in der Halbleiterherstellung
18	DE102006040275A1	Ausrichtmarken für Lithografie mit polarisiertem Licht und Verfahren zur Verwendung derselben
19	DE602004003015T2	Verfahren und Gerät zur Herstellung einer Schutzschicht auf einem Spiegel
20	DE102006027787A1	Projektionsbelichtungsanlage und Betriebsmethode dieser
21	DE102006031807A1	Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Depolarisator
22	DE102006008708A1	Automatisierte Brennpunktrückkopplung für ein optisches Lithographiewerkzeug
23	DE602004000459T2	Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
24	DE112004001942T5	Kombinierte Musterung mit Gräben
25	DE202004017044U1	Leuchte zur Belichtung von Siebdruckschablonen, Offsetdruckplatten, Flexodruckplatten, Inkjet-Beschichtungen o.dgl. sowie Vorrichtung zur Belichtung

IPC
A	Täglicher Lebensbedarf
B	Arbeitsverfahren; Transportieren
C	Chemie; Hüttenwesen
D	Textilien; Papier
E	Bauwesen; Erdbohren; Bergbau
F	Maschinenbau; Beleuchtung; Heizung; Waffen; Sprengen
G	Physik
H	Elektrotechnik

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