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Patente IPC-Klasse G03F 7/32
 
PatentDe  


No Patent No Titel
1 EP1849042 PROZESS ZUR HERSTELLUNG VON LITHOGRAPHISCHEN DRUCKPLATTEN
2 DE4411176B4 Entwickler für PS-Platten und Ergänzungsflüssigkeiten für Entwickler
3 DE19853216B4 Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte und in demselben zu verwendende Behandlungslösung
4 DE19743540B4 Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte
5 DE10310168B4 Wässrige Entwicklerlösung für Offset-Druckplatten
6 DE10131667B4 Negativ Resistprozess mit simultaner Entwicklung und Silylierung
7 DE102005007615B3 Verfahren zur Herstellung von Lithographie-Druckplatten
8 DE60024244T2 Verfahren zur Herstellung einer Schablone, welche geeignet ist zur Herstellung von Metalllinien mit einer Breite im Submikrobereich
9 DE10026029B4 Verfahren zum Ablösen von Photoresistlacken
10 DE102004012191A1 Stabiler stark alkalischer Entwickler
11 DE69919051T2 Verwendung einer Lösung zum Entwickeln eines lichtempfindlichen Polyimidvorläufers und Methode zur Strukturierung
12 DE10310168A1 Wässrige Entwicklerlösung für Offset-Druckplatten
13 DE69817281T2 ENTWICKLER FÜR PHOTOEMPFINDLICHE HARZPLATTE
14 DE69909219T2 Entwicklung von strahlungsempfindlichen Gemischen
15 DE69905417T2 Wässrige Entwicklungslösungen für die Verminderung der Entwicklerrückstände
16 DE69905416T2 Wässrige Entwicklungslösungen für die Verminderung der Entwicklerrückstände
17 DE69430960T2 Entwickler für positiv arbeitenden Elektronenstrahlresist
18 DE19520741C2 Entwickler zur Verwendung im Offset-Druckverfahren
19 DE10131667A1 Negativ Resistprozess mit simultaner Entwicklung und Silylierung
20 DE69527494T2 Entwickler für ein lichtempfindliches lithographisches Druckmaterial
21 DE19755131C2 Lösung von Tetramethylammoniumhydroxid in Wasser und Verfahren zur Herstellung der Lösung
22 DE10103823A1 Entwicklerflüssigkeit enthaltend Dipropylenglycoldialkylether
23 DE69706396T2 Verfahren zur Bebilderung einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung
24 DE69704969T2 Verfahren zur Herstellung einer photoempfinflichen Kunstoffdruckplatte
25 DE10026029A1 Verfahren zum Ablösen von Photoresistlacken
26 DE69612656T2 VERFAHREN ZUR ENTWICKLUNG EINES POSITIV ARBEITENDEN FOTORESISTS UND ENTWICKLUNGSZUSAMMENSETZUNGEN DAFÜR
27 DE69231747T2 Verfahren und Entwickler zum Entwickeln von Flexodruckplatten
28 DE3915141C2 Entwicklerzusammensetzung für vorsensibilisierte Platten und Verfahren zu deren Entwicklung
29 DE69605207T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES TENSID MIT NIEDERINGEN METALLIONENGEHALT UND DARAUS HERGESTELLTE ENTWICKLERN
30 DE19951770A1 Verfahren zur Herstellung lithographischer Druckplatten
31 DE69325043T2 Lithographischer Entwickler und lithographisches Verfahren
32 DE19845605A1 Konzentrat und daraus hergestellter wäßriger Entwickler für bildmäßig bestrahlte Aufzeichnungsmaterialien
33 DE69321305T2 Wässerige Entwicklerlösung für Flachdruckplatten mit verbesserter Desensiblisierungsfähigkeit
34 DE19811331A1 Entwickler und Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen
35 DE19811330A1 Entwickler und Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen
36 DE19755131A1 Lösung von Tetramethylammoniumhydroxid in Wasser und Verfahren zur Herstellung der Lösung
37 DE69130919T2 Verfahren zum Entwickeln von vorsensibilisierten Platten in der Herstellung von lithographischen Druckplatten
38 DE19755295A1 Entwickler für bestrahlte, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien
39 DE19853216A1 Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte und in derselben zu verwendende Behandlungslösung
40 DE68928905T2 Muster-Herstellungsverfahren
41 DE19851247A1 Verfahren zur Erzeugung einer lithographischen Druckplatte
42 DE69321627T2 Lithographisches Verfahren
43 DE69032464T2 Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern
44 DE19815398A1 Verfahren zur Herstellung einer litographischen Druckplatte
45 DE69224406T2 Entwickler für lichtempfindliches Material
46 DE19644515A1 Amidosubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in photoempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten
47 DE69315046T2 Wässriger Entwickler für lithographische Druckplatten der zu einer verringerten Schlammbildung führt
48 DE69128378T2 Verfahren zum Entwickeln von Offsetdruckplatten sowie Entwicklungslösung dafür
49 DE19745776A1 Verfahren zur Behandlung lithographischer Druckplatten
50 DE3913183C2 Verwendung einer Entwicklerzusammensetzung zum Entwickeln von vorsensibilisierten Druckplatten
51 DE19743540A1 Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte
52 DE69127001T2 Verfahren zur Herstellung flexographischer Druckplatten mit photogehärteter Bildstruktur
53 DE69127958T2 Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
54 DE69308326T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES ENTWICKLERS MIT NIEDRIGEM METALLIONENGEHALT
55 DE69309013T2 Wässriger Entwickler für lithographische Druckplatten, der zu verbesserter Oleophilie führt
56 DE3927693C2 Entwicklerlösung für positiv wirkende strahlungsempfindliche Gemische
57 DE68926242T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FLEXOGRAPHISCHEN DRUCKRELIEFS
58 DE69024051T2 WÄSSRIGE ENTWICKLERLÖSUNG FÜR NEGATIV ARBEITENDE DRUCKPLATTEN.
59 DE69026140T2 Verfahren zum Entwickeln von Trockenflachdruckplatten
60 DE68925610T2 Entwickler für Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen
61 DE4445820A1 Verfahren zum Entwickeln bestrahlter, strahlungsempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien
62 DE69203824T2 Entwicklerlösungen für lithographische Druckelemente.
63 DE19520741A1 Entwickler zur Verwendung im Offset-Druckverfahren
64 DE68923844T2 Entwickler für Positiv-Photolacke.
65 DE4419166A1 Entwickler für Photoresistschichten
66 DE3828551C3 Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen
67 DE4411176A1 Entwickler für PS-Platten und Ergänzungsflüssigkeiten für Entwickler
68 DE69009269T2 Entwickler für lichtempfindliche Platten bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten und Verfahren zur Herstellung der Platten.
69 DE3908764C2 Entwickler für die Herstellung photopolymerisierter flexographischer Reliefdruckformen
70 DE3886971T2 Hochkontrastreicher Positiv-Photolack-Entwickler mit Alkanolamin.
71 DE4227868A1 Verfahren zur selektiven Auflösung von bestrahlten Homo- oder Copolyoxymethylenen
72 DE4211934A1 Wäßrige Entwicklerlösung für Offset-Druckplatten
73 DE4203781C1 Verfahren zum Herstellen eines Reliefbildes aus Polyimid
74 DE3223386C2 Verfahren zum Entwickeln von positiv-arbeitenden Reproduktionsschichten
75 DE4300576A1 Bilderzeugungsverfahren
76 DE4237427A1 Herstellung einer lithographischen Druckplatte
77 DE4226691A1 Bilderzeugungsverfahren
78 DE3543961C2 Verfahren zur Herstellung von Trockenoffsetdruckformen und Entwicklerlösung zur Verwendung in denselben
79 DE3723429C2 Entwicklerlösung für positivarbeitende photoresistlichtempfindliche Gemische
80 DE4114060A1 Lösemittelgemisch zur Entwicklung negativ arbeitender Aufzeichnungsschichten
81 DE3315118C2 Entwickler zur Herstellung von Reliefbildern
82 DE3807929C2 Verfahren zum Entwickeln von Flexodruckplatten
83 DE9203458U1 Behandlungsflüssigkeit für das gleichzeitige Entwickeln und Ätzen von Verbundschichten aus Photoresisten und Polyimiden
84 DE3152366C2 Verfahren zum Entwickeln positiver, lichtempfindlicher lithographischer Druckplatten
85 DE4039941A1 Wäßrige Entwicklerlösung und Verfahren zum Entwickeln von Photoresisten
86 DE4027299A1 Entwicklerzusammensetzung für bestrahlte, strahlungsempfindliche, positiv und negativ arbeitende sowie umkehrbare reprographische Schichten und Verfahren zur Entwicklung solcher Schichten
87 DE4027048A1 Entwickler für wässrig-alkalisch verarbeitbare Negativ-Fotoresiste und Verfahren für die Entwicklung von Fotoresisten, insbesondere zur Herstellung von Düsenplatten im MS-Verfahren
88 DE4126342A1 Verfahren zur Herstellung eines photographischen Elementes und Entwicklerlösung hierfür
89 DE4102254A1 Metallionenfreier Entwickler zur Hochkontrastentwicklung von Positivresists auf Naphthochinondiazid/Novolakbasis
90 DE4103586A1 Entwickler für eine PS-Platte, die kein Anfeuchtwasser erfordert
91 DE3941394A1 Wäßrige Entwicklerlösung und Verfahren zum Entwickeln von Photoresisten
92 DE3938108A1 Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter Entwickler für belichtete negativ arbeitende Reproduktionsschichten mit Deckschicht sowie Verfahren zur Herstellung von Druckformen
93 DE3938107A1 Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter Entwickler für belichtete negativ arbeitende Reproduktionsschichten sowie Verfahren zur Herstellung von Druckformen
94 DE3315395C2 Entwicklungslösung für lichtempfindliche Druckplatten und Verfahren zur Entwicklung derselben
95 DE3908764A1 Flüssige Zusammensetzung für die Reinigung einer Oberfläche von ihr anhaftenden polymeren Materialien
96 DE3828551C2 Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen
97 DE3039110C2 Entwicklergemisch für röntgen- oder elektronenstrahlempfindliche Lacke
98 DE3828551A1 Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen
99 DE3927693A1 Entwicklerlösung für positiv-arbeitende strahlenempfindliche Gemische
100 DE3827567A1 Wäßrige Entwicklerlösung für positiv arbeitende Photoresists
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