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No Patent No Titel
1 EP1850183 Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Entwicklung mit Dampfbehandlung
2 EP1847879 Verfahren zur Reinigung einer automatischen Bearbeitungsvorrichtung
3 DE60125755T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER FLEXODRUCKPLATTE
4 EP1764654 Verfahren zur thermischen Entwicklung eines lichtempfindlichen Elements unter Verwendung eines Entwicklungsmediums mit Träger
5 EP1282838 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER FLEXODRUCKPLATTE
6 EP1720076 Verfahren zur thermischen Entwicklung eines lichtempfindlichen Elements unter Verwendung eines ausgerichteten Entwicklungsmediums
7 DE10225925B4 Ätzverfahren unter Verwendung einer Photolack-Ätzbarriere
8 DE10228774B4 Verfahren zum Bilden feiner Muster in Halbleiteranordnungen
9 EP1685447 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FLEXODRUCKFORMEN DURCH THERMISCHE ENTWICKLUNG
10 EP1674936 Verfahren und Vorrichtung für thermische Entwicklung mit strukturierter Tragfläche
11 EP1624344 Verfahren und Vorrichtung zur Thermischen Entwicklung mit einer nicht rotierenden Tragfläche für ein Entwicklungsmedium
12 EP1624343 Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Entwicklung mit einem Entwicklungsmediumentferner
13 DE10393277T5 System und Verfahren zum Entfernen von Material
14 EP1553456 Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Entwicklung mit einem entfernbaren Träger-Element
15 EP1526410 Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Entwicklung
16 DE102004029077A1 Vorrichtung und Verfahren zur Entfernung eines Photoresists von einem Substrat
17 EP1400857 Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen durch thermische Entwicklung
18 DE10241851A1 Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen durch thermische Entwicklung
19 DE10243159A1 Verfahren zum Bilden eines Photolack-Musters und Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung
20 DE10154966A1 Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
21 DE10225925A1 Ätzverfahren unter Verwendung einer Photolack-Ätzbarriere
22 DE10117488A1 Gasleitvorrichtung sowie Einrichtung und Verfahren zur Strukturierung oder Belichtung einer Oberfläche mit dieser Gasleitvorrichtung
23 DE19957928C2 Verfahren zur lokalen Hydrophobierung von hydrophilen Oberflächen
24 DE19957928A1 Verfahren zur lokalen Hydrophobierung von hydrophilen Oberflächen
25 DE69131704T2 Verfahren zur Herstellung von einer Flexodruckplatte
26 EP0847545 VERFAHREN ZUR VERBESSERUNG DES KONTRASTES BEI DER STRUKTURIERUNG VON 3-DIMENSIONALEN OBERFLÄCHEN
27 EP0468745 Verfahren zur Herstellung von einer Flexodruckplatte
28 EP0936506 Trockenverfahren zum Entwickeln und Entschichten von Photoresists
29 DE69129567T2 Vorrichtung für die Herstellung von flexographischen Druckplatten
30 DE69409897T2 Reaktivionenstrahlätzen von Gittern und gekreuzten Gitterstrukturen
31 EP0469735 Vorrichtung für die Herstellung von flexographischen Druckplatten
32 EP0644462 Reaktivionenstrahlätzen von Gittern und gekreuzten Gitterstrukturen
33 DE19628353A1 Verfahren zur Verbesserung des Kontrastes bei der Strukturierung von 3-dimensionalen Oberflächen
34 DE69028180T2 Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen Ätzen
35 EP0429270 Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen Ätzen
36 DE69208769T2 Hochauflösendes lithographisches Verfahren
37 EP0624263 VERFAHREN ZUR TROCKENENTWICKLUNG EINER SILIZIUMHALTIGEN ULTRAVIOLETT- UND/ODER ELEKTRONENSTRAHLEMPFINDLICHEN LACKSCHICHT
38 EP0525721 Hochauflösendes lithographisches Verfahren
39 DE3789986T2 Drei-Schichten-Resistverfahren für Photolithographie mit hohem Auflösungsvermögen.
40 EP0239488 Drei-Schichten-Resistverfahren für Photolithographie mit hohem Auflösungsvermögen.
41 DE4202651A1 Verfahren zur Trockenentwicklung einer siliziumhaltigen ultraviolett- und/oder elektronenstrahlempfindlichen Lackschicht
42 EP0197286 Trockenentwicklungsverfahren für Schutzlackfilme.
43 EP0166307 Verfahren zur Herstellung von Abhebeglasmasken auf Träger.
44 DE3501848C2 Verfahren zur Herstellung einer Ätzmaske durch Ionenstrahllithographie
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