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1 DE60126736T2 STRAHLUNGSEMPFINDLICHE POLYSILAZAN-ZUSAMMENSETZUNG, DARAUS ERZEUGTE MUSTER SOWIE EIN VERFAHREN ZUR VERASCHUNG EINES ENTSPRECHENDEN BESCHICHTUNGSFILMS
2 EP1828847 TRIDIMENSIONALE STRUKTUREN FÜR EINEN INKJET-DRUCKKOPF UND RELEVANTER HERSTELLUNGSPROZESS
3 DE102006014298A1 Verfahren zur Herstellung von Strukturelementen in einem fotoempfindlichen Lack auf einem Substrat sowie Anordnung zur Durchführung eines thermischen Heizprozesses
4 DE4419237B4 Verfahren zur Entfernung eines eine Siliciumverbindung oder eine Germaiumverbindung enthaltenden Photoresists
5 DE102006049920A1 Härtung eines Lacks nach dessen Bestrahlung
6 EP1239332 STRAHLUNGSEMPFINDLICHE POLYSILAZAN-ZUSAMMENSETZUNG, DARAUS ERZEUGTE MUSTER SOWIE EIN VERFAHREN ZUR VERASCHUNG EINES ENTSPRECHENDEN BESCHICHTUNGSFILMS
7 EP1719020 PROZESS ZUR HERSTELLUNG EINER POLYMERISCHEN ENTLASTUNGSSTRUKTUR
8 DE10054121B4 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
9 DE19825039B4 Verfahren zum Strukturieren eines chemisch verstärkten Photoresists
10 DE102004022016B4 Verfahren zur Bildung eines Musters in einer Schicht auf einem Halbleitersubstrat
11 DE102004022016A1 Verfahren zur Bildung eines Musters in einer Schicht auf einem Halbleitersubstrat
12 EP1546813 WENIG SILIZIUM ABGEBENDER RESIST FÜR DIE ZWEISCHICHTLITHOGRAPHIE
13 EP1542077 PROZESS ZUR VERHINDERUNG VON ENTWICKLUNGSDEFEKTEN UND ZUSAMMENSETZUNG ZUR VERWENDUNG DABEI
14 EP1542078 ZUSAMMENSETZUNG FUR ANTIREFLEXBESCHICHTUNGEN UND VERFAHREN ZUR BILDUNG EINER STRUKTUR
15 EP1537455 LITHOGRAPHISCHES VERFAHREN FÜR KLEINLINIENDRUCK
16 DE60104003T2 VERWENDUNG VON KURZZEITTEMPEROFEN FÜR EIN PHOTORESIST-EINBRENNVERFAHREN
17 DE10035430B4 Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Behandlung einer Fotolackschicht auf einem Schaltungssubstrat, insbesondere Halbleiterwafer
18 EP1282839 VERWENDUNG VON KURZZEITTEMPEROFEN FÜR EIN PHOTORESIST-EINBRENNVERFAHREN
19 DE10036183B4 Verfahren und Gerät zum Erhitzen eines Wafers und Verfahren und Gerät zum Ausheizen eines Photoresistfilms auf einem Wafer
20 DE69627983T2 VERWENDUNG EINER FLÜSSIGKEIT ZUR HERSTELLUNG EINER TROCKENFLACHDRUCKPLATTE
21 EP1388760 Verfahren zur Verarbeitung eines lichtempfindlichen Flachdruckplatten-Vorläufers
22 DE3856553T2 Wärmebehandlungsverfahren zum Erleichtern der Entfernung eines positiven Photoresists mit Entschichtungslösungen
23 EP1338923 VERFAHREN ZUR MUSTERBILDUNG UND BEHANDLUNGSMITTEL ZUR VERWENDUNG DARIN
24 EP0803778 VERWENDUNG EINER FLÜSSIGKEIT ZUR HERSTELLUNG EINER TROCKENFLACHDRUCKPLATTE
25 EP1306726 PROZESS UND MATERIAL ZUR VERHINDERUNG VON ENTWICKLUNGSDEFEKTEN
26 DE3811859C2 Verfahren zur Herstellung von Abbildungen
27 EP0846984 Wärmebehandlungsverfahren zum Erleichtern der Entfernung eines positiven Photoresists mit Entschichtungslösungen
28 EP1273973 Methode zur Anpassung der Temperatur in einem Photoresistverfahren
29 EP1238313 GERÄT UND VERFAHREN ZUM ENTWICKELN VON RESISTMUSTERN
30 DE10206364A1 Lichtempfindliche Zusammensetzung und lichtempfindliche Lithografiedruckplatte
31 DE69802019T2 Vorrichtung und Verfahren zum Einbrennen
32 DE10035430A1 Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Behandlung einer Fotolackschicht auf einem Schaltungssubstrat, insbesondere Halbleiterwafer
33 EP0854390 Vorrichtung und Verfahren zum Einbrennen
34 EP1122611 Verfahren zur Reduzierung der Oberflächendefekte eines Resistmusters
35 DE69703094T2 THERMISCHES VERARBEITUNGSVERFAHREN VON POSITIVER PHOTORESIST-ZUSAMMENSETZUNG
36 DE20020394U1 Vorrichtung zur thermischen Behandlung einer Fotolackschicht auf einem Schaltungssubstrat, insbesondere Halbleiterwafer
37 DE4312812C2 Verfahren und Anordnung zur Endpunkt-Bestimmung von Silylierungs-Prozessen belichteter Lacke für Maskierungen
38 DE10019282A1 Verfahren zur Erzeugung einer feinen Struktur in einem Halbleitersubstrat und Resistzusammensetzung hierfür
39 EP0885410 THERMISCHES VERARBEITUNGSVERFAHREN VON POSITIVER PHOTORESIST-ZUSAMMENSETZUNG
40 DE69701233T2 Heizgerät und Wärmeentwicklungssystem
41 EP0794464 Heizgerät und Wärmeentwicklungssystem
42 EP0451311 Verfahren zur Erzeugung einer Resiststruktur
43 DE19825039A1 Verfahren zum Strukturieren eines chemisch verstärkten Photoresists
44 DE69319517T2 Verfahren zur chemischen Modifikation einer Oberfläche gemäss einem Muster
45 EP0797792 PHOTOLITHOGRAPHISCHE STRUKTURERZEUGUNG
46 EP0781424 PHOTOLITHOGRAPHISCHE STRUKTURERZEUGUNG
47 DE3588185T2 Verfahren zur Herstellung von gemusterten Photoschutzlackschichten
48 DE69404902T2 Abbildungstechnik zur Herstellung von durch lithographische Verfahren erhaltenen Vorrichtungen
49 EP0587231 Verfahren zur chemischen Modifikation einer Oberfläche gemäss einem Muster
50 EP0359342 Verfahren zur Herstellung von gemusterten Photoschutzlackschichten
51 DE19729441A1 Verfahren zur Bilderzeugung
52 EP0628879 Abbildungstechnik zur Herstellung von durch lithographische Verfahren erhaltenen Vorrichtungen
53 DE68927989T2 Bilderzeugungsverfahren
54 EP0354536 Bilderzeugungsverfahren
55 EP0480287 Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern
56 EP0394740 Trockenentwickelbares Resistsystem
57 DE4134161C2 Verfahren und Gerät zur Nachbehandlung von Druckformen
58 EP0450486 Nachbehandlungsgerät für Druckplatten
59 DE19614372A1 Verfahren und Vorrichtung zur Wärmebehandlung einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte
60 DE68926480T2 Hochdruck-Photolack Siliconisierungsverfahren und Vorrichtung
61 EP0492256 Photolithographische Strukturerzeugung
62 EP0359221 Hochdruck-Photolack Siliconisierungsverfahren und Vorrichtung
63 DE69022911T2 Schutzlackerzeugungsverfahren durch Grenzflächensilylierung.
64 EP0432609 Verfahren zur Herstellung negativer Kopien.
65 EP0410268 Schutzlackerzeugungsverfahren durch Grenzflächensilylierung.
66 DE4410505C2 Verfahren zum Herstellen eines Reliefbildes im Submikrometerbereich
67 DE4410505A1 Verfahren zum Herstellen eines Reliefbildes im Submikrometerbereich
68 DE4332108C1 Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern
69 DE4419237A1 Verfahren zur Entfernung eines Photoresists mit einer Siliciumverbindung oder einer Germaniumverbindung
70 EP0546696 Lithographisches Verfahren für piezoelektrische Filme.
71 EP0515212 Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters.
72 DE3420284C2 Verfahren zur Behandlung von lichtempfindlichen Flachdruckplatten
73 EP0487794 Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern.
74 DE4033294A1 Verfahren zur fotolithographischen Herstellung von Strukturen auf einem Träger
75 DE4011023A1 Nachbehandlungsgerät für Druckplatten
76 DE3940911A1 Verfahren zur Herstellung negativer Kopien
77 EP0291670 Verfahren zur Gasphasensilylierung von Photoresisten.
78 EP0412326 Methode lithographique a haute resolution pour la fabrication de circuits integres monolitiques.
79 EP0370486 Hochtemperatur-Reaktionsverfahren.
80 EP0366937 Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen und Anwendung.
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