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No Patent No Titel
1 EP1843207 Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Wafern
2 DE102006058560A1 Verfahren zur Bildung hochaufgelöster Strukturen mit gewünschter Dicke oder hohem Aspektverhältnis mittels eines Trockenfilmresists
3 EP1837706 Resistzusammensetzung, Verfahren zur Formung einer Resiststruktur, Halbleiterbauelement und Herstellungsverfahren dafür
4 EP1818724 KORREKTURFLÜSSIGKEIT ZUR VERWENDUNG AUF LITHOGRAPHISCHEN DRUCKPLATTEN UND BILDKORREKTURVERFAHREN FÜR LITHOGRAPHISCHE DRUCKPLATTEN
5 EP1815296 VERBINDUNG ZUR BESCHICHTUNG ÜBER EINEM FOTORESISTMUSTER
6 EP1815297 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FLEXODRUCKFORMEN SOWIE DAZU GEEIGNETES FLEXODRUCKELEMENT
7 EP1804125 VERFAHREN ZUR FEINSTRUKTUR-BILDUNG
8 DE10138103B4 Verfahren zum Strukturieren einer Fotolackschicht auf einem Halbleitersubstrat
9 EP1791028 MIKROSTRUKTUR-ERZEUGUNGSMATERIAL, VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER MIKRORESISTSTRUKTUR UND ELEKTRONISCHES BAUELEMENT
10 DE10133256B4 Verfahren zur Herstellung von leitfähigen oder halbleitenden strukturierten Polymeren
11 DE10147953B4 CARL für Bioelektronik: Substratanbindung über isolierende Schicht
12 DE10147954B4 CARL für Bioelektronik: Substratanbindung über leitfähige Schicht
13 DE10131489B4 Negativ Resistprozess mit simultaner Entwicklung und chemischer Nachverstärkung von Resiststrukturen
14 EP1757989 WASSERLÖSLICHE HARZZUSAMMENSETZUNG UND VERFAHREN ZUR BILDUNG EINER STRUKTUR DAMIT
15 EP1757990 HARZZUSAMMENSETZUNG ZUR BILDUNG EINER FEINSTRUKTUR UND VERFAHREN ZUR BILDUNG EINER FEINSTRUKTUR
16 EP1757988 Resistmusterverdickungszusammensetzung, Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters, und Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
17 DE10153496B4 Verfahren zur Aromatisierung und Cycloaliphatisierung von Fotoresists im UV-Bereich
18 DE19525554B4 Vorrichtung zur Trocknung photopolymerer Druckplatten
19 EP1693709 Verdickungsmaterial für Resiststruktur und Verfahren zur Resiststrukturbildung sowie Halbleiterbauelement und Herstellungsverfahren dafür
20 EP1688797 Strukturbildungsverfahren
21 EP1682943 VERBESSERUNGEN IN BEZUG AUF DRUCKPLATTENÖFEN
22 DE102004041610B4 Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte
23 DE102004052267B3 Verfahren zum Ausbilden einer Lithografiemaske
24 DE102004060223A1 Verfahren zum Bestimmen einer Verteilung einer Komponente in einem Volumen eines Photolacks nach einem Nachbackprozess
25 EP1653286 MATERIAL ZUR BILDUNG EINER FEINEN STRUKTUR UND VERFAHREN ZUR BILDUNG EINER FEINEN STRUKTUR DAMIT
26 EP1653287 MIKROSTRUKTUR-BILDUNGSMATERIAL UND VERFAHREN ZUR MIKROSTRUKTUR-BILDUNG
27 DE102004055449A1 Verfahren und Vorrichtung zum thermischen Behandeln von Substraten
28 DE102005004392A1 Resistmuster-Verdickungsmaterial und Verfahren zum Ausbilden von Resistmustern, und Halbleitervorrichtung und Prozess zur Herstellung derselben
29 DE10153497B4 Verfahren zur Silylierung von Fotoresists im UV-Bereich
30 DE102004042300A1 Lithographieverfahren zur Herstellung hochaufgelöster Fotoresiststrukturen durch Wärmebestrahlung
31 DE102004041942B3 Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte
32 DE102004041610A1 Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte
33 DE10208786B4 Verfahren zur Modifikation von Resiststrukturen und Resistschichten aus wässriger Phase
34 EP1610184 Resistmusterverdickungszusammensetzung, Verfahren zu dessen Herstellung, Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
35 DE10131488B4 Verfahren zur chemischen Nachverstärkung von Photoresists im UV-Bereich
36 DE10131144B4 Verstärkung von Resiststrukturen aus fluorierten Resistpolymeren durch strukturelles Aufwachsen der Strukturen mittels gezieltem chemischem Anbinden von fluorierten Oligomeren
37 EP1602983 WASSERLÖSLICHE HARZZUSAMMENSETZUNG, VERFAHREN ZUR MUSTERBILDUNG UND VERFAHREN ZUR INSPEKTION DES BESTÄNDIGEN MUSTERS
38 EP1600820 Verfahren zum Bearbeiten eines lichtempfindlichen Flachdruckplatten-Materials
39 EP1596253 PROZESS ZUR HERSTELLUNG EINER WASSERENTWICKLUNGS-DRUCKPLATTE FÜR RELIEFDRUCK
40 EP1588220 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM BEHANDELN VON BILDERZEUGUNGSMATERIALIEN
41 DE102004063610A1 Verfahren zur Entfernung eines Fotofarblacks
42 EP1542079 BESCHICHTUNGSBILDEMITTEL ZUR VERRINGERUNG DER MUSTERABMESSUNG UND VERFAHREN ZUR BILDUNG EINES FEINEN MUSTERS DAMIT
43 DE60106229T2 OZON-VERSTÄRKTES SILYLIERUNGSVERFAHREN ZUR ERHÖHUNG DES ÄTZWIDERSTANDS VON DÜNNEN RESISTSCHICHTEN
44 DE102004029007A1 Verfahren zum Entwickeln eines Fotolackmaterials und Halbleiteranordnung
45 EP1489463 Verfahren zur Verkleinerung des Musters in einer Photoresistschicht
46 EP1489464 Verfahren zur Verkleinerung des Musters in einer Photoresistschicht
47 DE10297123T5 Bebilderte Elemente und Verfahren zu ihrer Herstellung
48 DE10361384A1 Strukturübertragung bei der Bauelementeherstellung
49 DE10208786A1 Verfahren zur Modifikation von Resiststrukturen und Resistschichten aus wässriger Phase
50 DE69904094T2 Oberflächenschutzmittel für eine lithographische Druckplatte
51 DE10153497A1 Verfahren zur Silylierung von Fotoresists im UV-Bereich
52 DE10153310A1 Photolithographisches Strukturierungsverfahren mit einer durch ein plasmaunterstützes Abscheideeverfahren hergestellten Kohlenstoff-Hartmaskenschicht diamantartiger Härte
53 DE10153496A1 Verfahren zur Aromatisierung und Cycloaliphatisierung von Fotoresists im UV-Bereich
54 DE10147954A1 CALR für Bioelektronik: Substratanbindung über leitfähige Schicht
55 DE10147953A1 CARL für Bioelektronik: Substratanbindung über isolierende Schicht
56 DE10131144A1 Verstärkung von Resiststrukturen aus fluorierten Resistpolymeren durch strukturelles Aufwachsen der Strukturen mittels gezieltem chemischem Anbinden von fluorierten Oligomeren
57 DE10138103A1 Verfahren zum Strukturieren einer Fotolackschicht auf einem Halbleitersubstrat
58 DE10133256A1 Verfahren zur Herstellung von leitfähigen oder halbleidenden strukturierten Polymeren
59 DE10131489A1 Negativ Resistprozess mit simultaner Entwicklung und chemischer Nachverstärkung von Resiststrukturen
60 DE10129577A1 Silylierverfahren für Fotoresists im UV-Bereich
61 DE69429791T2 Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters sowie ein Oxidationsmittel enthaltender Photoresist
62 DE10049831A1 Photoresist-Strippermittel und Verfahren zum Strippen von Photoresistaufträgen unter Verwendung des Mittels
63 DE69701131T2 FARBFILTER
64 DE19925416A1 Halbleitervorrichtungsherstellungssystem und Verfahren zum Ausbilden von Halbleitervorrichtungsmustern unter Verwendung des Gleichen und Fotolack zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen dadurch
65 DE19536474C2 Reinigungsverfahren für ein zu strukturierendes, beschichtetes Werkstück
66 DE19721524A1 Verfahren zur Herstellung eines Prägezylinders
67 DE4200038C2 Verfahren zum Aushärten einer entwickelten Photolackschicht
68 DE69031748T2 Plasmabehandlung mit Metallmasken-Integration
69 DE4216888C2 Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
70 DE69406631T2 Verfahren zum Behandeln einer Flachdruckplatte, die kein Feuchtwasser erfordert
71 DE69031143T2 Methode zum Ätzen von Polyimiden und resultierenden passivierten Strukturen
72 DE19709393A1 Verfahren zum Behandeln der Plattenoberfläche einer lithografischen Druckplatte
73 DE19536474A1 Reinigungsverfahren für ein zu strukturierendes, beschichtetes Werkstück
74 DE19525554A1 Vorrichtung zur Trocknung photopolymerer Druckplatten
75 DE19504433A1 Verfahren zur Herstellung oder Verbesserung berandeter Fotolackschichten
76 DE69023874T2 Allgemeine Ätz-Stoppschichten aus Salzen von polyamischer Säure für reaktives ionisches Ätzen.
77 DE19525777A1 Farbstofflösung für eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte, die keine Anfeuchtungslösung benötigt
78 DE19512776A1 Verfahren zum Bilden feiner Muster
79 DE4231104C2 Vorrichtung zur Nachbehandlung von photopolymerisierten Druckformen
80 DE29511336U1 Vorrichtung zur Trocknung photopolymerer Druckplatten
81 DE4041409C2 Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
82 DE4133742C2 Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
83 DE3704067C2 Verfahren zum Herstellen einer klebfreien Oberfläche auf einem Reliefbild
84 DE3419217C2 Verfahren und Vorrichtung zum Härten von strukturierten Reliefbildern
85 DE4231104A1 Vorrichtung zur Nachbehandlung von photopolymerisierbaren Druckplatten
86 DE4322494A1 Behandlungsvorrichtung für lichtempfindliche lithographische Druckplatten
87 DE68908361T2 Behandlungsverfahren für Lichtempfindliche Elemente.
88 DE3740709C2 Verfahren zum Korrigieren von entwickelten Silberbildern auf Offsetdruckformen
89 DE3705896C2 Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern auf Schichtträgern und dafür geeignete Spüllösung
90 DE3842481C2 Verfahren zur Herstellung einer Röntgenstrahlmaske
91 DE4117126A1 Verfahren zur Herstellung abriebfester Druckplatten und Photoresiste
92 DE4200038A1 Verfahren und Vorrichtung zum Brennen einer Photolackschicht
93 DE4041409A1 Verfahren zur Strukturerzeugung
94 DE4004511A1 Vorrichtung zum Einbrennen von lichtempfindlichen Schichten während der Herstellung von Druckformen
95 DE3336431C2 Verfahren zur Erzeugung von Farbbildern und dafür geeignetes lichtempfindliches Material
96 DE3904780A1 Verfahren zur Herstellung von photopolymerisierten Reliefdruckplatten mit klebfreier Oberfläche
97 DE3841854A1 Verfahren zur Herstellung einer ozonresistenten Flexodruckform
98 DE3723402C2 Verfahren zum Spülen eines Schichtträgers
99 DE3328923C2 Druckklischee für Tampondruckmaschinen
100 DE3931530A1 Nicht-trocknendes Nachbehandlungsmittel
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