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1 DE10345496B4 Verfahren zum Bestimmen einer lateralen Position eines Substrats in einer lithographischen Belichtungseinrichtung
2 DE60033775T2 Lithographischer Apparat mit einem System zur Positionsdetektion
3 DE69535516T2 Gitter-Gitter interferometrisches Ausrichtungssystem
4 DE69133544T2 Vorrichtung zur Projektion eines Maskenmusters auf ein Substrat
5 DE60309524T2 Verfahren zur Ausrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
6 DE60124336T2 Bestimmung der Position einer Substrat-Ausrichtungsmarke
7 DE102006052015A1 Positionsmessvorrichtung und Positionsabweichungsmessverfahren
8 DE102005044375A1 Verfahren zur automatisierten Objektpositionierung in Systemen zur Maskeninspektion
9 DE60030374T2 Mehrkanaliges Ausrichtsystem unter Verwendung eines Interferenzgitters
10 DE60120000T2 Lithographischer Apparat mit System zur Bestimmung des Abbe-Abstandes
11 DE10329865B4 Verfahren zur Steuerung einer Abfolge von Meßschritten für die Justage eines Halbleiterwafers in einem Belichtungsapparat
12 DE102005005124A1 Belichtungsmaskeneinrichtung und Verfahren zur Ausrichtung einer Vielzahl von Substraten auf eine Belichtungsmaske
13 DE60113153T2 Verfahren zur Messung der Ausrichtung eines Substrats bezüglich einer Referenz-Ausrichtmarke
14 DE60113154T2 Lithographisches Herstellungsverfahren mit einem Überdeckungsmessverfahren
15 DE102004055037A1 Verfahren zum Auffinden von Justiermarken in einer ersten Strukturierungsebene eines Halbleiterwafers
16 DE60020620T2 Lithographischer Projektionsapparat
17 DE102004047624A1 Verfahren zur Korrektur der Überdeckungsgenauigkeit bei der photolithographischen Strukturierung eines Halbleiterwafers
18 DE102004047661A1 Verfahren zum Projizieren von Muster auf ein Halbleitersubstrat
19 DE102004063522A1 Verfahren zur Korrektur von strukturgrößenabhängigen Platzierungsfehlern bei der photolithographischen Projektion mittels eines Belichtungsapparats und dessen Verwendung
20 DE60013980T2 Verfahren zur Befestigung von mehreren Druckelementen auf einem zylindrischen Element
21 DE69733087T2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR SCHARFEINSTELLUNG EINER HALBLEITERSCHEIBE
22 DE102004027277A1 Verfahren zur Korrektur der Überdeckung mehrerer Schichten bei der photolithographischen Strukturierung mittels verschiedener Projektionsgeräte
23 DE10356966A1 Verfahren zum Erstellen einer Steueranweisung für ein Maskenschreibgerät
24 DE69828461T2 Verfahren und Apparat zur Herstellung einer Mikroanordnung
25 DE102004022239A1 Bearbeitungsvorrichtung zum Ausrichten und Stanzen von Druckplatten für Offset-Druckmaschinen
26 DE69827608T2 AUSRICHTUNGSVORRICHTUNG UND LITHOGRAPHISCHER APPARAT MIT EINER SOLCHEN VORRICHTUNG
27 DE69826641T2 AUSRICHTUNGSGERÄT MIT DREI IM WINKEL VON JEWEILS 120 GRAD ZUEINANDER STEHENDEN SPULEN, SOWIE HIERMIT AUSGERÜSTETES LITHOGRAPHISCHES GERÄT
28 DE60013901T2 PHOTOLITHOGRAPHISCHES VERFAHREN, MASKENROHLINGE UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
29 DE19919263B4 Bearbeitungsvorrichtung zum Zurichten von Druckplatten für Druckmaschinen
30 DE102004009173A1 Verfahren zur Kompensation der Verkürzung von Linienenden bei der Bildung von Linien auf einem Wafer
31 DE19510449B4 Retikel
32 DE10350708A1 Verfahren zur Bestimmung eines Translationsfehlers eines Waferscanners bei der photolithographischen Strukturierung eines Halbleiterwafers
33 DE69732011T2 Für Linienbreiten unempfindliche Detektion einer Ausrichtmarke auf einer Halbleiterscheibe
34 DE10345496A1 Verfahren zum Bestimmen einer lateralen Position eines Substrats in einer lithographischen Belichtungseinrichtung
35 DE10345466A1 Verfahren zur Erfassung von Plazierungsfehlern von Schaltungsmustern bei der Übertragung mittels einer Maske in Schichten eines Substrats eines Halbleiterwafers
36 DE10359200A1 Verfahren zur Reduzierung eines Überdeckungsfehlers sowie Meßmarke zur Durchführung des Verfahrens
37 DE69610288T3 POSITIONIERVORRICHTUNG MIT KRAFTANTRIEBSSYSTEM FÜR KOMPENSATION VON SCHWERPUNKTSVERSCHIEBUNGEN
38 DE19837037B4 Retikel, Belichtungsverfahren, Belichtungsgerät und Halbleitervorrichtung
39 DE10329865A1 Verfahren zur Steuerung einer Abfolge von Meßschritten für die Justage eines Halbleiterwafers in einem Belichtungsapparat
40 DE10323378B3 Maskenanordnung für lithografische Verfahren zum Strukturieren von Substraten
41 DE69730335T2 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Schaltkreises mittels Phasenverschiebung
42 DE102004014766A1 Verfahren zur Verzeichnungskorrektur in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
43 DE69727336T2 Einrichtung zur doppelseitigen Belichtung eines gedruckten Schaltkreises mit Masken
44 DE69817491T2 LITHOGRAPHISCHES BELICHTUNGSGERÄT MIT EINER AUSSERHALB DER BELICHTUNGSACHSE LIEGENDEN AUSRICHTUNGSVORRICHTUNG
45 DE69629087T2 POSITIONIERUNGSGERÄT MIT EINEM REFERENZRAHMEN FÜR EIN MESSSYSTEM
46 DE60002666T2 AUSRICHTVORRICHTUNG FÜR ZUSAMMENSETZUNG VON MIKROSYSTEMEN
47 DE19625669C2 Meßmarkenaufbau, Photomaske, Verfahren zum Bilden eines Meßmarkenaufbaues und Verfahren zum Reparieren eines Defektes
48 DE69527682T2 Belichtungsapparat und Belichtungsverfahren
49 DE69806666T2 Abstandsbelichtungsvorrichtung mit Vorrichtung zur Einstellung des Abstandes
50 DE19619280C2 Positionsdetektierverfahren mit der Beobachtung oder Überwachung von Positionsdetektiermarkierungen
51 DE69618301T2 Belichtungsvorrichtung und Verfahren zur Bewertung einer Ausrichtung
52 DE19948410A1 Elektronenstrahl-Lithographiesystem und Ausrichtungsverfahren
53 DE69707518T2 Mustersuchverfahren und Vorrichtung zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks
54 DE68929314T2 Vorrichtung zur Detektion der Positionsrelation zwischen zwei Objekten
55 DE69704998T2 AUSRICHTUNGSVORRICHTUNG UND LITHOGRAPHISCHER APPARAT MIT EINER SOLCHEN VORRICHTUNG
56 DE69520553T2 Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
57 DE69702151T2 Überlagerungsmessung mittels Korrelationsfunktion
58 DE68929270T2 Vorrichtung und Gerät zur Positionsdetektion
59 DE69610750T2 Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich einer anderen Maske und eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
60 DE69329611T2 Verfahren zur Registrierung mittels eines projizierenden optischen System, Belichtungsapparat zu dessen Durchführung und sowie Halbleiter-Herstellungsverfahren das diesen Belichtungsapparat verwendet
61 DE69608204T2 LITHOGRAPHISCHES GERÄT MIT EINEM SOWIE HORIZONTAL ALS AUCH VERTIKAL JUSTIERBAREN MASKENHALTER
62 DE69702286T2 Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
63 DE19925831A1 Verfahren zur Messung des Positionierungsfehlers von Strukturmustern
64 DE68929205T2 Vorrichtung und Verfahren zur Positionsdetektion
65 DE68929150T2 Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
66 DE69606620T2 STELLVORRICHTUNG MIT EINEM SCHWINGUNGSFREIEN OBJEKTTISCH
67 DE19859631A1 Verfahren zur Herstellung von großformatigen Verbund-Reliefdruckformen durch Laserpositionierung und anschließende Bebilderung mittels Laser
68 DE69605512T2 Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Projektionsbelichtungsapparat zur Durchführung des Verfahrens
69 DE69033048T2 System zur Positionsdetektion
70 DE19882173T1 System und Verfahren zum optischen Ausrichten von Filmen und Substraten, die in gedruckten Schaltungsplatten verwendet werden
71 DE69229647T2 Ausrichtverfahren
72 DE69603217T2 Apparat zur Projektionsbelichtung und Verfahren zur Herstellung einer Mikrovorrichtung unter Verwendung desselben
73 DE69324473T2 MASKE FÜR PHOTOLITHOGRAPHIE
74 DE69130783T2 Vorrichtung zur Projecktion eines Maskenmusters auf ein Substrat
75 DE69417171T2 Strahlungsquelle-Einheit zur Erzeugung eines Strahls mit zwei Polarisationsrichtungen und zwei Frequenzen
76 DE69228338T2 Ausrichtvorrichtung
77 DE19837037A1 Retikel, Belichtungsverfahren, Belichtungsgerät und Halbleitervorrichtung
78 DE69227540T2 Verfahren zur Positionierung eines Werkstückes in einem automatischen Belichtungsapparat
79 DE69129925T2 Kompaktes Ausrichtsystem für Maske und Halbleiterscheibe
80 DE69225915T2 Abbildungseinrichtung mit einer Vorrichtung zur Detektion eines Fokussierfehlers und/oder einer Verkantung
81 DE69318514T2 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Registermarkenmustern
82 DE69226217T2 Projektionsbelichtungsvorrichtung
83 DE69129732T2 Verfahren zur Positionsdetektion
84 DE69225659T2 Ausrichtmarken
85 DE69128771T2 Vorrichtung und Verfahren zur transversalen Positionsmessung für Nah-Abstand-Lithographiesysteme
86 DE69128667T2 Positionsbestimmungsmethode
87 DE69128164T2 Verfahren und Apparat zur Detektion von Lageabweichungen
88 DE69127479T2 Belichtungssystem
89 DE69220106T2 Druckvorrichtung für lichtempfindliches Material und Stellvorrichtung
90 DE69310231T2 Maskenausrichtung für Abstandslithographie unter Verwendung eines gespeicherten Videobildes
91 DE19545721A1 Verfahren zur Herstellung und Justierung von Mikrolinsen auf Faser- und Laser-Enden
92 DE69121258T2 Verfahren zur Detektion von Lageabweichungen
93 DE19625669A1 Übereinstimmungsgenauigkeitsmeßmarke, Verfahren zum Reparieren eines Defektes dieser Marke, Photomaske, Verfahren zur Herstellung der Photomaske und Verfahren zur Belichtung
94 DE19619280A1 Positionsdetektierverfahren mit der Beobachtung oder Überwachung von Positionsdetektiermarkierungen
95 DE68924024T2 Verfahren und Vorrichtung zur zweidimensionalen Positionsdetektion.
96 DE69020754T2 Doppelfokusdetektor unter Ausnutzung der chromatischen Aberration.
97 DE69017525T2 Registrierapparatur.
98 DE68920772T2 Optisches Ausrichtungssystem zum Gebrauch in der Photolithographie mit reduziertem, durch den Reflexionsgrad bedingten Fehler.
99 DE68920412T2 Schablone für eine Lochstanzmaschine.
100 DE69012874T2 Gerät zur Projektion eines Maskenmusters auf ein Substrat.
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