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No Patent No Titel
1 EP1837898 Verfahren für die Herstellung feiner Strukturen für Dünnschichttransistoren
2 EP1829088 ABHEBE-STRUKTURIERUNGSPROZESSE MIT ENERGETISCH STIMULIERTER LOKALER ENTFERNUNG VON FESTSTOFF-KONDENSIERTES-GAS-SCHICHTEN
3 EP1803148 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SUBMIKRONSTRUKTUREN
4 EP1794777 MASKENMATERIAL-UMSETZUNG
5 EP1789997 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN INTEGRIERTER SCHALTUNGEN MITTELS PITCH-MULTIPLIKATION
6 EP1444724 PHOTOLITHOGRAPHISCHES STRUKTURIERUNGSVERFAHREN MIT EINER DURCH EIN PLASMAVERFAHREN ABGESCHIEDENEN KOHLENSTOFF-HARTMASKENSCHICHT MIT DIAMANTARTIGER HÄRTE
7 DE69133534T2 Schichtstruktur mit Kontaktöffnung und Verfahren zur Herstellung derselben
8 EP1685588 VERFAHREN ZUM ABLAGERN VON MATERIALIEN AUF EINEM SUBSTRAT
9 EP1678748 MASKIERUNGSSTRUKTUR MIT EINER AMORPHEN KOHLENSTOFFSCHICHT
10 EP1668680 VERFAHREN ZUM ERZEUGEN EINER HARTMASKE UND HARTMASKEN-ANORDNUNG
11 EP1665347 TECHNIKEN ZUR STRUKTURIERUNG VON STRUKTURELEMENTEN IN HALBLEITERBAUELEMENTEN
12 EP1656693 MASKIERUNGSVERFAHREN
13 EP1576657 VERFAHREN ZUR VERRINGERUNG DER MUSTERDEFORMATION UND DES FOTORESIST-POISONING BEI DER HERSTELLUNG VON HALBLEITERBAUELEMENTEN
14 EP1456870 RESISTLOSES LITHOGRAPHIEVERFAHREN ZUR HERSTELLUNG FEINER STRUKTUREN
15 EP1466351 VERFAHREN ZUR MASKIERUNG EINER AUSNEHMUNG EINER STRUKTUR MIT EINEM GROSSEN ASPEKTVERHÄLTNIS
16 EP1446829 PHOTOLITHOGRAPHISCHES VERFAHREN ZUM AUSBILDEN EINER STRUKTUR IN EINEM HALBLEITERSUBSTRAT
17 DE69531472T2 Mustererzeugung in der Herstellung von mikroelektronischen Anordnungen
18 DE69712478T2 EINE BILDUMKEHRTECHNIK ZU AUSBILDUNG KLEINER STRUKTUREN IN INTEGRIERTEN SCHALTKREISEN
19 DE69426747T2 Verfahren zur Herstellung des Gates eines Transistors
20 DE69120729T2 Herstellungsverfahren für ein Dünnschichtmuster mit trapezförmigem Querschnitt
21 DE69119871T2 Verfahren zum Ätzen von Schichten mit vorgegebener Tiefe in integrierten Schaltungen
22 DE69025916T2 HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR EINE HALBLEITERVORRICHTUNG
23 DE68925398T2 Ausbilden eines vorgeschriebenen Musters auf einer Schicht eines Halbleiterelements
24 DE68919549T2 Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung.
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