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1 DE60126906T2 HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR EIN HALBLEITERBAUELEMENT
2 DE69736969T2 Verfahren zur Behandlung der Oberfläche von halbleitenden Substraten
3 DE60213086T2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON DIELEKTRISCHEN ZWISCHENSCHICHTEN MIT NIEDRIGER DIELEKTRIZITÄTSKONSTANTE FÜR BEOL-VERBINDUNGSLEITUNGEN MIT VERBESSERTER HAFTUNG UND NIEDRIGER FEHLERDICHTE
4 DE19952604B4 Vorrichtung zum Ausbilden eines Beschichtungsfilms
5 DE102005040325A1 Ausbesserung von Kohlenstoffverarmung in low-k dielektrischen Filmen
6 DE20320446U1 Aufspannvorrichtung zum Modulieren von Formen und Substraten
7 DE102004036747A1 Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit einer photoempfindlichen Polyimidschicht und einer entsprechend des Verfahrens hergestellten Vorrichtung
8 DE20122196U1 Schablone für Niederdruck-Mikro- und -Nanoprägelithographie bei Raumtemperatur
9 DE19857094B4 Verfahren zum Verringern/zum lokalen Verringern eines Resistmusters in einer Hableitervorrichtung
10 DE69524675T2 Poröses dielektrisches Material mit verbesserten Porenoberflächen für elektronische Anwendungen
11 DE69232212T2 Verfahren zum Herstellen isolierenden Films für Halbleitervorrichtung
12 DE19961103C2 Dielektrische Füllung von elektrischen Verdrahtungsebenen und Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Verdrahtung
13 DE69612265T2 Erzeugungsverfahren für Muster
14 DE19961103A1 Dielektrische Füllung von elektrischen Verdrahtungsebenen
15 DE19983214T1 Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung eines Halbleitersubstrats
16 DE19982177T1 Deposition eines Siloxan enthaltenden Polymeren
17 DE19919610A1 Verfahren zum In-Situ-Entfernen von Fotolack
18 DE19857064A1 Halbleiter-Anordnung und Verfahren zum Passivieren der Oberfläche eines Halbleitermaterials
19 DE19857094A1 Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung und dadurch hergestellte Halbleitervorrichtung
20 DE69130947T2 VERFAHREN ZUR BILDUNG EINES SILICIUMOXID-FILMES
21 DE69031460T2 Planarisierende Ablagerung aus Silsesquioxan-Copolymer
22 DE68927865T2 Verfahren zur Herstellung von aus monomolekularen Schichten aufgebauten Filmen unter Anwendung von Silanen, die Acetylen- bindungen enthalten
23 DE69118119T2 Verstärkung der Polyimidadhäsion an reaktiven Metallen
24 DE69117353T2 Verfahren zur schnellen thermischen Behandlung zur Erhaltung von Silikatglasbeschichtungen
25 DE69023958T2 Dielektrische Strukturen mit ätzbeständigem Material und Verfahren zum Herstellen derselben.
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