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Cymer, Inc., San Diego, Calif., US - Patente
 
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No Patent No Titel
1 EP1854121 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR EUV-LICHTQUELLEN-ZIELMATERIAL-HANDHABUNG
2 EP1028502 Laser mit automatisierter Steuerung der Strahlqualität
3 DE60129532T2 ELEKTRISCHER ENTLADUNGSLASER MIT AKUSTISCHER CHIRP KORREKTUR
4 EP1831974 LINIENVERSCHMÄLERUNGSMODUL
5 EP1821377 Gasentladungslasersystem
6 DE60125398T2 INTELLIGENTER LASER MIT SCHNELLEM DEFORMIERBAREN GITTER
7 EP1256149 ELEKTRISCHER ENTLADUNGSLASER MIT AKUSTISCHER CHIRP KORREKTUR
8 DE60220166T2 LINIENVERSCHMÄLERUNGSEINHEIT MIT FLEXURALGITTERANBRINGUNG
9 EP1407521 LINIENVERSCHMÄLERUNGSEINHEIT MIT FLEXURALGITTERANBRINGUNG
10 EP1779481 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR REDUKTION DER AUSGANGSLICHTKOHÄRENZ EINES GASENTLADUNGSLASERS
11 DE69836861T2 PULSLASER MIT PULSENERGIEREGULATION
12 EP1766737 LASERAUSGANGSSTRAHL-WELLENFRONTTEILER ZUR BANDBREITENSPEKTRUMSSTEUERUNG
13 DE60032017T2 SCHMALBANDIGER LASER MIT BIDIREKTIONALER STRAHLERWEITERUNG
14 DE69835093T2 AERODYNAMISCHER KAMMERENTWURF FUR EXCIMERLASER HOHER PULSWIEDERHOLRATE
15 EP1754291 VERBESSERUNGEN VON GASENTLADUNGSLASER-KAMMERN
16 DE69933868T2 UNTERBRECHERSCHALTKREIS FÜR HOCHSPANNUNGSKABEL
17 EP0998773 PULSLASER MIT PULSENERGIEREGULATION
18 EP1741168 SCHMALBAND-GASENTLADUNGSLASERSYSTEM MIT SEHR HOHER WIEDERHOLUNGSRATE
19 EP1330859 INTELLIGENTER LASER MIT SCHNELLEM DEFORMIERBAREN GITTER
20 EP1730764 LPP-EUV-LICHTQUELLE
21 EP1730763 EUV-LICHTQUELLE
22 EP1726028 DURCH EINEN LASER MIT HOHER WIEDERHOLUNGSRATEN PRODUZIERTE PLASMA-EUV-LICHTQUELLE
23 EP1240694 SCHMALBANDIGER LASER MIT BIDIREKTIONALER STRAHLERWEITERUNG
24 EP1088377 UNTERBRECHERSCHALTKREIS FÜR HOCHSPANNUNGSKABEL
25 DE69835153T2 System zur Herstellung eines Halbleiter-Wafers unter Verwendung von zwei Energiedetektoren für einen Laser
26 EP1692750 LASERAUSGANGS-LICHTIMPULS-STRECKER
27 DE69834925T2 PULSENERGIESTEUERUNG FÜR EXCIMER-LASER
28 EP1008210 AERODYNAMISCHER KAMMERENTWURF FUR EXCIMERLASER HOHER PULSWIEDERHOLRATE
29 EP1019992 PULSENERGIESTEUERUNG FÜR EXCIMER-LASER
30 DE60025658T2 Diese Anmeldung betrifft Gitter und insbesondere bandbreitengesteuerte Gitter
31 EP1661216 ELEKTRODEN FÜR FLUORGAS-ENTLADUNGSLASER
32 DE60023963T2 Schmalbandiger UV Laser mit Justierlaser im sichtbaren Bereich
33 EP1649558 HALOGENGAS-ENTLADUNGSLASER-ELEKTRODEN
34 DE69832365T2 EXCIMER LASER MIT ERHÖHTER STABILITÄT DER SPEKTRALEN BANDBREITE UND DES LASERSTRAHLS
35 EP1649568 ANODEN FÜR FLUORGAS-ENTLADUNGSLASER
36 EP1649565 KATHODEN FÜR FLUORGAS-ENTLADUNGSLASER
37 EP1644945 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM KÜHLEN MAGNETISCHER SCHALTUNGSELEMENTE
38 DE60019953T2 LEISTUNGSPULSANORDNUNG MIT HOHER PULSRATE, KURZER ANSTIEGSZEIT UND NIEDRIGEM LECKSTROM
39 DE60014664T2 LEISTUNSPULSANORDNUNG MIT HOHER PULSRATE UND FLÜSSIGKEITSKÜHLUNG
40 DE69434100T2 VERFAHREN UND GERÄT ZUM WIEDERAUFFÜLLEN VON EXCIMER-LASERN MIT GAS
41 EP1602116 ENTLADUNGSPRODUKTIONS-PLASMA-EUV-LICHTQUELLE
42 EP1026538 Schmalbandiger UV Laser mit Justierlaser im sichtbaren Bereich
43 DE69825609T2 SCHMALBANDIGER EXCIMER-LASER MIT GASZUSATZ
44 DE60012453T2 F2-Laser mit Kontrolle des sichtbaren roten und IR-Bereichs
45 EP1540783 STEUERSYSTEM FÜR EINEN ZWEIKAMMER-GASENTLADUNGSLASER
46 EP1224717 LEISTUNGSPULSANORDNUNG MIT HOHER PULSRATE, KURZER ANSTIEGSZEIT UND NIEDRIGEM LECKSTROM
47 DE69827524T2 GEPULSTES STROMVERSORGUNGSSYSTEM MIT HOHER PULSRATE
48 EP1502335 AUTOMATISCHES GASREGELSYSTEM FÜR EINEN GASENTLADUNGSLASER
49 EP1502334 HOCHLEISTUNGSLASER FÜR DEN TIEFEN ULTRAVIOLETTBEREICH MIT LANGLEBIGER OPTIK
50 EP1040539 GEPULSTES STROMVERSORGUNGSSYSTEM MIT HOHER PULSRATE
51 DE60012420T2 Laser mit verringerter Linienbreite und Raumfilter
52 EP1203427 LEISTUNSPULSANORDNUNG MIT HOHER PULSRATE UND FLÜSSIGKEITSKÜHLUNG
53 EP1458066 F2-Zweikammerlasersystem mit Linienauswahl
54 EP1449284 ZEITSTEUERUNG FÜR EIN ZWEIKAMMER-GASENTLADUNGSLASERSYSTEM
55 DE69824021T2 SPEKTROMETER MIT MEHRFACHDURCHGANG
56 DE69917263T2 MAGNETISCHER MODULATOR MIT SPANNUNG- UND TEMPERATUR-TIMING-KOMPENSATIONSSCHALTUNG
57 EP1019994 SCHMALBANDIGER EXCIMER-LASER MIT GASZUSATZ
58 EP1054490 Laser mit verringerter Linienbreite und Raumfilter
59 EP1100167 F2-Laser mit Kontrolle des sichtbaren roten und IR-Bereichs
60 EP1438772 F2-ZWEIKAMMERLASERSYSTEM MIT LINIENAUSWAHL
61 EP1438774 SEHR SCHMALBANDIGES GASENTLADUNGSLASERSYSTEM MIT ZWEI KAMMERN UND HOHER WIEDERHOLUNGSRATE
62 EP1436866 LASER MIT HOHER WIEDERHOLUNGSRATE MIT VERBESSERTEN ELEKTRODEN
63 EP1430573 GASENTLADUNGSLASERSYSTEM MIT SECHS BIS ZEHN KHz ODER MEHR
64 EP1421653 LASERLITHOGRAPHIELICHTQUELLE MIT STRAHLABLIEFERUNG
65 EP1088376 MAGNETISCHER MODULATOR MIT SPANNUNG- UND TEMPERATUR-TIMING-KOMPENSATIONSSCHALTUNG
66 EP1412182 LASER-SPEKTRALTECHNIK FÜR LITHOGRAPHISCHE VERFAHREN
67 DE69819547T2 SCHMALBANDIGER EXCIMERLASER
68 DE69912522T2 Laserkammer mit keramischen Isolatoren, die mit dielektrischem Material beschichtet sind
69 EP1402605 GASENTLADUNGSLASER MIT HOHER WIEDERHOLUNGSRATE UND PRÄZISER IMPULSZEITSTEUERUNG
70 EP1391017 VIER-KHZ-GASENTLADUNGSLASERSYSTEM
71 DE69432438T2 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR KALIBRIERUNG EINES LASERWELLENLÄNGENKONTROLLMECHANISMUS
72 EP1386376 LASERSPEKTRALTECHNIK FÜR EINEN LITHOGRAPHISCHEN PROZESS
73 EP1386377 GASENTLADUNGSLASER MIT VERBESSERTEM STRAHLWEG
74 EP1386378 VERBESSERTER LÜFTER FÜR EINEN GASENTLADUNGSLASER
75 EP1382095 LASERWELLENLÄNGESTEUERUNGSEINHEIT MIT PIEZOELEKTRISCHEM TREIBER
76 EP1380000 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR SCHWINGUNGSKONTROLLE
77 DE69720309T2 Laser-Gas-Umwälzsystem
78 EP1378037 INJEKTION-SEEDED-F2-LASER MIT LINIENAUSWAHL UND DISKRIMINATION
79 EP1378036 INJEKTION-SEEDED-LASER MIT PRÄZISER ZEITSTEUERUNG
80 EP1378035 INJEKTION-SEEDED-F2-LAZER MIT VORINJIZIERTEM FILTER
81 EP1378038 INJEKTIONSKEIM-F2-LASER MIT WELLENLÄNGENSTEUERUNG
82 EP1373877 BASISSTABILISIERUNGSSYSTEM
83 EP1021856 SCHMALBANDIGER EXCIMERLASER
84 EP0963015 Laserkammer mit keramischen Isolatoren, die mit dielektrischem Material beschichtet sind
85 DE69907594T2 WELLENLÄNGENSYSTEM FÜR EINEN EXCIMERLASER
86 DE69813812T2 SEHR SCHMALBANDIGER LASER MIT INSTABILEM RESONATOR
87 EP1330860 ANODE MIT PORÖSER ISOLIERSCHICHT FÜR ENTLADUNGSLASER
88 EP1330861 AUSGEHEIZTE KUPFERLEGIERUNGSELEKTRODEN FÜR FLUORHALTIGE GASENTLADUNGSLASER
89 EP1323216 SEHR SCHMALBANDIGES GASENTLADUNGSLASERSYSTEM MIT ZWEI KAMMERN UND HOHER WIEDERHOLUNGSRATE
90 EP1310022 LASERWELLENLÄNGENSTEUEREINHEIT MIT PIEZOELEKTRISCHEM TREIBER
91 EP0992093 WELLENLÄNGENSYSTEM FÜR EINEN EXCIMERLASER
92 EP1305813 PLASMAFOKUS-LICHTQUELLE MIT AKTIVER UND PUFFER-GASSTEUERUNG
93 EP1303894 GASENTLADUNGSLASER MIT EXTREMER WIEDERHOLUNGSRATE MIT VERBESSERTEM GEBLÄSEMOTOR
94 EP1303892 F2 LITHOGRAPHIE LASER MIT INJEKTIONSSYNCHRONISIERUNG
95 EP0795120 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR KALIBRIERUNG EINES LASERWELLENLÄNGENKONTROLLMECHANISMUS
96 EP1297594 LANGLEBIGE ELEKTRODEN FUR GASENTLADUNGSLASER
97 EP1287592 GASENTLADUNGSLASER MIT EINER DIELEKTRISCHEN KLINGENELEKTRODE
98 EP1258060 SCHNELLES WELLENLÄNGENKORREKTURVERFAHREN FÜR EINEN LASER
99 EP1258059 BANDBREITENSTEUERTECHNIK FÜR EINEN LASER
100 EP1257924 PROZESSÜBERWACHUNGSSYSTEM FÜR LITHOGRAPHIELASER
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