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No Patent No Titel
1 EP1856586 VORRICHTUNG ZUM ABGEBEN PRÄZISER FLUIDVOLUMEN
2 EP1854036 VERFAHREN UND VORRICHTUNGEN ZUM KONFIGURIEREN VON PLASMA-CLUSTER-WERKZEUGEN
3 EP1848597 VERFAHREN ZUR WIEDERHERSTELLUNG DER ÄTZRATE UND DER ÄTZEINHEITLICHKEIT BEI SILIZIUMELEKTRODENANORDNUNGEN
4 DE602005000450T2 Naher Fluidmeniskusverteiler
5 DE60127181T2 PROJIZIERTER KARDANISCHER ANTRIEBSPUNKT
6 DE69837112T2 VERFAHREN UND ZUSAMMENSETZUNG ZUR ENTFERNUNG VON PHOTORESIST IN DER HALBLEITERFERTIGUNG
7 EP1469971 MIT NUTEN VERSEHENE ROLLEN FÜR EIN LINEARES CMP-SYSTEM
8 EP1831807 AUF INTELLIGENTEN KOMPONENTEN BASIERENDE VERWALTUNGSTECHNIKEN IN EINEM SUBSTRAT-BEARBEITUNGSSYSTEM
9 EP1827871 VERFAHREN ZUM ENTFERNEN VON SCHWARZEM SILIZIUM UND SCHWARZEM SILIZIUMCARBID VON SILIZIUMFLÄCHEN UND SILIZIUMCARBIDELEKTRODEN FÜR PLASMABEHANDLUNGSVORRICHTUNGEN
10 DE60216427T2 Vorrichtung und Verfahren zur Ausrichtung der Fläche eines aktiven Halterrings mit der Fläche einer Halbleiterscheibe während dem chemisch-mechanischen Polieren
11 DE69934000T2 PLASMA-BEARBEITUNGS-KAMMER UND VERFAHREN ZUR KONTROLLE VON VERUNREINIGUNGEN
12 DE60127257T2 INTEGRIERTE ELEKTRONISCHE HARDWARE FÜR WAFERBEHANDLUNGS-STEUERUNG UND -DIAGNOSE
13 DE60121008T2 CHEMISCH-MECHANISCHE POLIERVORRICHTUNG MIT AKTIVIERUNG DER POLIERFLÜSSIGKEIT UND VERFAHREN ZU DEREN ANWENDUNG
14 EP1782461 SYSTEM UND VERFAHREN ZUM REINIGEN UND ÄTZEN EINES SUBSTRATS
15 DE69835032T2 VERBESSERTE METHODE EINE OXIDSCHICHT ZU ÄTZEN
16 EP1774542 PLASMAÄTZVERFAHREN FÜR ZWEISCHICHTIGEN FOTOLACK
17 EP1582269 Naher Fluidmeniskusverteiler
18 DE60029437T2 VERFAHREN ZUM REINIGEN EINES CHEMISCH-MECHANISCHEN POLIERKISSENS
19 EP1734574 Verfahren und Vorrichtung zum Transport eines Substrates unter Verwendung einer nichtnewtonischen Flüssigkeit
20 EP1698955 Verfahren zur dynamischen Ausrichtung von Substraten
21 DE60116148T2 SYSTEM ZUR ENDPUNKTBESTIMMUNG BEIM CHEMISCH-MECHANISCHEN POLIEREN
22 EP1181134 VERFAHREN ZUM REINIGEN EINES CHEMISCH-MECHANISCHEN POLIERKISSENS
23 EP1678480 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ÄTZENDPUNKTSNACHWEIS
24 DE69928289T2 ÄTZKAMMERN MIT PLASMA DICHTE UND GERINGER KONTAMINATION UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DERSELBEN
25 DE60114428T2 POLIERVORRICHTUNG UND POLIERVERFAHREN MIT POLIERDRUCKSTEUERUNG ALS FUNKTION DER ÜBERLAPPENDEN FLÄCHE ZWISCHEN DEM POLIERKOPF UND DER HALBLEITERSCHEIBE
26 EP1667850 VERFAHREN ZUM REINIGEN EINES SATZES VON STRUKTUREN AUS YTTRIUMOXID IN EINEM PLASMABEHANDLUNGSSYSTEM
27 DE69927840T2 VERFAHREN ZUM REINIGEN DER OBERFLÄCHEN VON DIELEKTRISCHEN POLYMERISCHEN HALBLEITERSCHEIBEN MIT NIEDRIGEM K-WERT
28 DE69734151T2 FESTSTOFFTEMPERATURGEREGELTER SUBSTRATHALTER
29 DE69926551T2 Verfahren und Vorrichtung zur Regelung des Druckes in Vakuumprozessoren
30 EP1639156 VORRICHTUNG UND VERFAHREN FÜR DIE ABSCHEIDUNG UND PLANARISIERUNG VON DÜNNFILMSCHICHTEN VON HALBLEITERSCHEIBEN
31 DE69831152T2 VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUR EINSTELLUNG DER PLASMAVORSPANNUNGSQUELLE BEI EINER BIPOLAREN ELEKTROSTATISCHEN HALTEPLATTE
32 DE69732918T2 Verfahren zum Auffüllen von Zwischenräumen mit INDUKTIV GEKOPPELTEm PLASMA-CVD
33 DE69829390T2 GASINJEKTIONS-SYSTEM FÜR PLASMA-BEHANDLUNGSVORRICHTUNG
34 EP1612298 Elektroplattierungskopf und Verfahren zu dessen Gebrauch
35 DE69634732T2 VERFAHREN ZUR REINIGUNG VON BÜRSTEN
36 DE69830374T2 Verfahren und Vorrichtung zum Polieren von Halbleiterscheiben
37 EP1311368 POLIERVORRICHTUNG UND POLIERVERFAHREN MIT POLIERDRUCKSTEUERUNG ALS FUNKTION DER ÜBERLAPPENDEN FLÄCHE ZWISCHEN DEM POLIERKOPF UND DER HALBLEITERSCHEIBE
38 DE69920453T2 ELEKTRODE FÜR PLASMABEHANDLUNGSVERFAHREN UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG UND ANWENDUNG DERSELBEN
39 EP1576362 SYSTEM, VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR DÜNNFILMSUBSTRAT-SIGNALTRENNUNG UNTER VERWENDUNG VON WIRBELSTRÖMEN
40 EP1570363 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR UMWANDLUNGVON STEIGUNG IN SCHWELLE FÜR DIE PROZESSZUSTAND BERWACHUNG UND ENDPUNKTDETEKTION
41 EP0992106 VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUR EINSTELLUNG DER PLASMAVORSPANNUNGSQUELLE BEI EINER BIPOLAREN ELEKTROSTATISCHEN HALTEPLATTE
42 DE60105061T2 BANDPOLIERVORRICHTUNG MIT DOPPELTEM HALTERING
43 EP1543316 AUF WIRBELSTRÖME BASIERENDE MESSUNGSFÄHIGKEITEN
44 EP1540327 METHODE UND SYSTEM ZUR DETEKTION UND LOKALISATION VON METALLRÜCKSTÄNDEN IN EINER SEQUENZ MULTIPLER SCHRITTE
45 DE69728683T2 VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG VON FLUOR-DOTIERTEN SILIZIUMDIOXIDSCHICHTEN
46 EP1497076 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ERWÄRMEN EINER POLIERSCHEIBE
47 EP1487611 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR DETEKTION VON ÜBERGÄNGE DER OBERFLÄCHENEIGENSCHAFTEN EINES WAFERS BEI DEM CHEMISCH-MECHANISCHEN POLIERVERFAHREN FÜR PROZESS-STATUS UND PROZESS-KONTROLLE
48 EP1483182 VERSTÄRKTER RIEMEN FÜR CHEMISCH-MECHANISCHES-PLANARISIEREN
49 DE69631258T2 Verfahren zum Entfernen von Verunreinigungen durch Bürsten
50 EP1455988 LUFTUNTERLAGE ZUR VORDER- UND HINTERKANTENSTEUERUNG
51 DE69913317T2 REINIGUNGS-/SCHWABBELEINHEIT FÜR HALBLEITERBEARBEITUNGSVORRICHTUNG
52 DE69908591T2 Vorrichtung zum Laden von Halbleiterscheiben
53 DE69814687T2 PLASMAVORRICHTUNG MIT EINEM MIT EINER SPANNUNGSQUELLE VERBUNDENEN METALLTEIL, DAS ZWISCHEN EINER RF-PLASMA-ANREGUNGSQUELLE UND DEM PLASMA ANGEORDNET IST
54 DE69907890T2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR DRUCKREGELUNG IN VAKUUMANLAGEN
55 DE69904826T2 IONENERGIEDÄMPFUNG
56 DE69718321T2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR TEMPERATURREGELUNG IN EINER PLASMA-BEHANDLUNGSKAMMER
57 DE69902665T2 NOCKENANORDNUNG ZUR POSITIONIERUNG VON BEGRENZUNGSRINGEN IN EINEM PLASMABEHANDLUNGSKAMMER
58 DE69903032T2 ANORDNUNG EINES FOKUSSIERENDEN RINGES ZUR BESEITIGUNG VON UNEINGESCHLOSSENEM PLASMA INNERHALB EINER PLASMABEHANDLUNGKAMMERS
59 DE69620037T2 VORRICHTUNG ZUR aBGABE VON ZWEI CHEMISCHEN PRODUKTEN DURCH EINE BÜRSTE
60 DE69130293T3 MINIMIERUNG DER PARTIKELERZEUGUNG IN CVD-REAKTOREN UND VERFAHREN
61 DE69520863T2 Scheibenhalter für Halbleiterscheiben-Poliermaschine
62 EP1112816 Polierkissen und Herstellungsverfahren
63 EP1091831 VERBESSERTES POLIERKISSEN MIT REDUZIERTER FEUCHTIGKEITSABSORPTION
64 DE69425582T2 DURCH TOPOLOGIE HERVORGERUFENE ERHÖHUNG DER PLASMADICHTE ZUR VERBESSERTEN HOMOGENITÄT BEIM ÄTZEN
65 EP0730532 DURCH TOPOLOGIE HERVORGERUFENE ERHÖHUNG DER PLASMADICHTE ZUR VERBESSERTEN HOMOGENITÄT BEIM ÄTZEN
66 DE69130293T2 MINIMIERUNG DER PARTIKELERZEUGUNG IN CVD-REAKTOREN UND VERFAHREN
67 DE3204312C2 Einschleusvorrichtung und Werkstückübergabevorrichtungen für diese
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